CN203807547U - 一种蒸镀装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型实施例提供了一种蒸镀装置，涉及显示技术领域的制造设备，可使金属掩模板与待蒸镀基板紧密贴合，从而在子像素单元蒸镀时形成正确的图案，在此基础上，可使作用于金属掩膜板的磁场均匀，避免由于磁场不均而对上述图案造成影响。该蒸镀装置包括：蒸镀腔室、设置于蒸镀腔室内的蒸镀源、掩模板支撑架和基板支撑架，掩模板支撑架用于承载金属掩模板，基板支撑架用于承载待蒸镀基板，且金属掩模板设置于蒸镀源和待蒸镀基板之间；还包括：设置于蒸镀腔室内的吸附装置，包括：设置于待蒸镀基板远离金属掩模板一侧的多个呈矩阵排列的磁块，和用于调节每个磁块上下移动的牵引装置。用于OLED显示器制造过程中的蒸镀工艺。
Description
技术领域
本实用新型涉及显示技术领域的制造设备，尤其涉及一种蒸镀装置。
背景技术
有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode，简称OLED)是一种有机薄膜电致发光器件，其具有易形成柔性结构、视角宽等优点；因此，利用有机发光二极管的显示技术已成为一种重要的显示技术。
OLED的全彩显示一般包括R(红)G(绿)B(蓝)子像素独立发光、或白光OLED结合彩色滤光膜等方式。其中，RGB子像素独立发光是目前采用最多的彩色模式，其是利用子像素单元中的有机发光材料独立发光。
目前，有机发光材料层一般都是通过对有机材料进行真空蒸发镀膜形成。其中，对于RGB子像素独立发光的OLED，由于每个RGB子像素单元采用不同的有机发光材料，因而RGB子像素单元的有机发光层需要分别进行蒸镀，在此过程中一般采用金属掩模板，使其开口区域与子像素区域对准来在不同子像素区域蒸镀不同颜色的发光材料。
然而，由于金属掩模板比较薄，一般只有几十微米厚，很容易发生形变，因而在实际使用中不可避免的会导致其与待蒸镀基板贴合的不紧，从而使得在蒸镀有机发光材料时，不能形成正确的图案。
实用新型内容
本实用新型的实施例提供一种蒸镀装置，可使金属掩模板与待蒸镀基板紧密贴合，从而在子像素单元蒸镀时形成正确的图案；在此基础上，可使作用于金属掩膜板的磁场均匀，避免由于磁场不均而对上述图案造成影响。
为达到上述目的，本实用新型的实施例采用如下技术方案：
本实用新型实施例提供了一种蒸镀装置，包括：蒸镀腔室、设置于蒸镀腔室内的蒸镀源、掩模板支撑架和基板支撑架，所述掩模板支撑架用于承载金属掩模板，所述基板支撑架用于承载待蒸镀基板，且所述金属掩模板设置于所述蒸镀源和所述待蒸镀基板之间；所述蒸镀装置还包括：设置于所述蒸镀腔室内的吸附装置；
其中，所述吸附装置包括：设置于所述待蒸镀基板远离所述金属掩模板一侧的多个呈矩阵排列的磁块，以及用于调节每个所述磁块相对所述待蒸镀基板上下移动的牵引装置。
可选的，所述牵引装置包括设置于所述磁块上方、且与所述磁块一一对应的多个调节棒；其中，一个所述调节棒与对应的一个所述磁块连接，用于带动所述磁块上下移动。
进一步可选的，所述调节棒的表面具有螺纹；所述磁块相对所述调节棒的表面具有螺孔，所述螺孔与所述调节棒表面的螺纹相吻合。
进一步可选的，所述牵引装置还包括固定所述调节棒的固定板；其中，所述固定板具有与所述调节棒对应个数的贯穿孔，且所述贯穿孔的表面具有两个相对的凹槽；所述调节棒穿过所述贯穿孔，且在所述调节棒的高度方向上，所述调节棒的表面具有多对弹性凸起，每对凸起与位于所述贯穿孔表面的所述凹槽相匹配。
进一步可选的，所述固定板通过与固定在所述蒸镀腔室上底面的升降机构连接，所述升降机构用于带动所述固定板上下移动。
可选的，所述牵引装置还包括控制任一个所述调节棒上下移动的控制器。
基于上述，可选的，所述蒸镀装置还包括设置于所述蒸镀腔室侧壁上的伸缩支撑架，所述伸缩支撑架沿垂直所述蒸镀腔室侧壁的方向伸缩。
进一步可选的，所述蒸镀装置还包括设置于所述蒸镀腔室外侧且与所述伸缩支撑架相连的驱动装置；其中，所述驱动装置用于控制所述伸缩支撑架的伸缩。
可选的，所述吸附装置还包括用于承载所述磁块的磁块支撑板；
所述磁块支撑板包括多个活动块，任一个所述活动块的表面积大于与所述活动块接触的所述磁块的表面积；所述牵引装置牵引多个任一个所述活动块相对所述待蒸镀基板上下移动。
进一步可选的，所述牵引装置包括设置于每个所述活动块四个角的牵引棒以及与所述牵引棒连接的控制装置，用于带动所述活动块上下移动。
本实用新型实施例提供了一种蒸镀装置，包括：蒸镀腔室、设置于蒸镀腔室内的蒸镀源、掩模板支撑架和基板支撑架，所述掩模板支撑架用于承载金属掩模板，所述基板支撑架用于承载待蒸镀基板，且所述金属掩模板设置于所述蒸镀源和所述待蒸镀基板之间；所述蒸镀装置还包括：设置于所述蒸镀腔室内的吸附装置；其中，所述吸附装置包括：设置于所述待蒸镀基板远离所述金属掩模板一侧的多个呈矩阵排列的磁块，以及用于调节每个所述磁块相对所述待蒸镀基板上下移动的牵引装置。
通过设置于所述待蒸镀基板远离所述金属掩模板一侧的多个磁块产生的磁场，可以使所述金属掩模板与位于其上方的待蒸镀基板紧密贴合，从而在子像素单元蒸镀时形成正确的图案；在此基础上，通过所述牵引装置对每个磁块相对所述待蒸镀基板的高度进行控制，可以使所有磁块的磁场趋于一致，避免由于磁场不均使所述金属掩模板发生形变，从而对上述图案造成影响。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型实施例提供的一种蒸镀装置的结构示意图一；
图2为本实用新型实施例提供的包括调节棒的牵引装置的结构示意图；
图3为本实用新型实施例提供的调节棒与磁块连接的结构示意图；
图4为本实用新型实施例提供的包括调节棒和固定板的牵引装置的结构示意图；
图5为本实用新型实施例提供的一种蒸镀装置的结构示意图二；
图6为本实用新型实施例提供的一种蒸镀装置的结构示意图三；
图7为本实用新型实施例提供的一种蒸镀装置的结构示意图四；
图8为本实用新型实施例提供的包括磁场支撑块、磁块和牵引装置的吸附装置的结构示意图。
附图标记：
01-蒸镀装置；10-蒸镀腔室；20-蒸镀源；30-掩模板支撑架；40-基板支撑架；50-金属掩模板；60-待蒸镀基板；701-磁块；702-牵引装置；702a-调节棒；702b-固定板；702a1-凸起；702b1-贯穿孔；702c-牵引棒；703-升降机构；80-伸缩支撑架；90-驱动装置；100-磁块支撑板；100a-活动块。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
本实用新型实施例提供了一种蒸镀装置01，如图1所示，该蒸镀装置01包括：蒸镀腔室10、设置于蒸镀腔室内的蒸镀源20、掩模板支撑架30和基板支撑架40，所述掩模板支撑架30用于承载金属掩模板50，所述基板支撑架40用于承载待蒸镀基板60，且所述金属掩模板50设置于所述蒸镀源20和所述待蒸镀基板60之间；进一步，所述蒸镀装置01还包括：设置于所述蒸镀腔室10内的吸附装置。
其中，所述吸附装置包括：设置于所述待蒸镀基板60远离所述金属掩模板50一侧的多个呈矩阵排列的磁块701，以及用于调节每个所述磁块相对所述待蒸镀基板60上下移动的牵引装置702。
在待蒸镀基板60远离所述金属掩模板50的一侧设置磁块701的目的，是通过磁块产生的磁场使所述金属掩模板50与位于其上方的待蒸镀基板60紧密贴合。设置所述牵引装置的目的，是因为当这些磁块701处于同一个水平面时，有可能会出现磁场不均的情况，因此，通过所述牵引装置调整各个磁块701相对所述待蒸镀基板60的距离，便可以改变这些磁块701的磁场大小，从而使所有磁块701的磁场趋于一致，避免由于磁场不均使所述金属掩模板50发生形变，从而避免对蒸镀图案造成影响。
所述蒸镀源20设置于所述蒸镀腔室10的下部，且用于输出蒸镀材料，例如红色发光材料、绿色发光材料、蓝色发光材料。当然，对于OLED显示器的每个子像素单元来说，除包括发光层外，其一般还包括设置于阳极和发光层之间的空穴传输层、设置于阴极和发光层之间的电子传输层；此外，还可以包括设置于阳极和空穴传输层之间的空穴注入层、设置于阴极和电子传输层之间的电子注入层等；这些功能层均可以通过所述蒸镀源20输出相应的材料进行蒸镀而得到相应的图案。
所述基板支撑架40设置于所述蒸镀腔室10的上部，所述待蒸镀基板60的边缘位于所述基板支撑架40上；其中，所述待蒸镀基板60可以包括玻璃衬底基板，以及设置在所述玻璃衬底基板上的且位于每个子像素单元的薄膜晶体管等，具体根据所要形成显示器的功能而定。蒸镀好的基板或待蒸镀基板通过设置于蒸镀腔室10侧壁的上的开口进行交换，该开口可以通过活门进行开闭。
所述掩模板支撑架30设置于所述基板支撑架40的下方，金属掩膜板50的边缘位于所述掩模板支撑架40上。
需要说明的是，第一，不对控制每个磁块701移动的牵引装置的结构和位置进行限定，只需能使每个磁块701灵活的上下移动即可。
其中，可以先使所有磁块701处于同一个水平面上，即所有磁块701到待蒸镀基板60的距离相等；在此基础上，可以先通过磁力计测量每个磁块701的磁场大小，得到一个初始磁场大小分布，根据测得的结果和设定的基准值，分别调整大于基准值或小于基准值的所述磁块701距离待蒸镀基板60的距离；其中，若测得的结果小于基准值，则可以调小该磁块701到待蒸镀基板60的距离，若测得的结果大于基准值，则可以调大该磁块701到待蒸镀基板60的距离。
第二，所有磁块701优选为大小相等。
第三，本实用新型所有实施例的附图均示意性的绘示出与实用新型点有关的结构，对于与实用新型点无关的结构不进行绘示或仅绘示出部分。
本实用新型实施例提供了一种蒸镀装置01，包括：蒸镀腔室10、设置于蒸镀腔室内的蒸镀源20、掩模板支撑架30和基板支撑架40，所述掩模板支撑架30用于承载金属掩模板50，所述基板支撑架40用于承载待蒸镀基板60，且所述金属掩模板50设置于所述蒸镀源20和所述待蒸镀基板60之间；进一步，所述蒸镀装置01还包括：设置于所述蒸镀腔室10内的吸附装置。其中，所述吸附装置包括：设置于所述待蒸镀基板60远离所述金属掩模板50一侧的多个呈矩阵排列的磁块701，以及用于调节每个所述磁块相对所述待蒸镀基板60上下移动的牵引装置702。
通过设置于所述待蒸镀基板60远离所述金属掩模板50一侧的多个磁块701产生的磁场，可以使所述金属掩模板50与位于其上方的待蒸镀基板60紧密贴合，从而在子像素单元蒸镀时形成正确的图案；在此基础上，通过所述牵引装置对每个磁块701相对所述待蒸镀基板60的高度进行控制，可以使所有磁块701的磁场趋于一致，避免由于磁场不均使所述金属掩模板50发生形变，从而对上述图案造成影响。
可选的，如图2所示，所述牵引装置702包括设置于所述磁块701上方、且与所述磁块701一一对应的多个调节棒702a。
其中，一个所述调节棒702a与对应的一个所述磁块701连接，用于带动所述磁块701上下移动。
这里，多个调节棒702a的长度优选为相同；同时，可以设置所述多个调节棒702a的初始状态处于同一高度，且与所述多个调节棒702a连接的所有磁块701也处于相同的高度，这样才可以根据测量得到的初始磁场大小分布，有选择的通过相应的调节棒701来调节高于或低于基准值的磁块701的高度，而等于基准值的磁块701高度则无需进行调节。
例如：磁块701的个数为27行5列，当所有磁块701处于同一高度时，通过磁力计测量前10行的磁块701的磁场大小如下表所示：
在此情况下，当设定基准磁场大小为80T时，便可以通过调节棒701来调节大于80T和小于80T的各磁块701相对所述待蒸镀基板60的距离，以使所有磁块的磁场大小趋于80T。
基于上述描述，所述牵引装置还可以包括控制任一个所述调节棒702a上下移动的控制器。即：通过控制器施加在所述调节棒702a上的外力，可以带动调节棒702a相对所述待蒸镀基板60上下移动，从而达到移动与所述调节棒702a连接的磁块701的目的。
进一步可选的，如图3所示，所述调节棒702a的表面具有螺纹；所述磁块701相对所述调节棒702a的表面具有螺孔，所述螺孔与所述调节棒702a表面的螺纹相吻合。
这样，通过旋转每个调节棒702a，便可以很方便的将所述调节棒702a与对应的所述磁块701连接起来。其中，在所述调节棒702a的长度相同且高度一致的情况下，可以控制每个调节棒702a旋转相同的圈数，便可以使每个磁块701也处于相同的高度，在此基础上，若要调整某个磁块701的高度时，直接使该调节棒702a上升或下降一定高度即可。
进一步可选的，如图4所示，所述牵引装置702还包括固定所述调节棒702a的固定板702b。
其中，所述固定板702b具有与所述调节棒702a对应个数的贯穿孔702b1，且所述贯穿孔702b1的表面具有两个相对的凹槽；所述调节棒702a穿过所述贯穿孔702b1，且在所述调节棒702a的高度方向上，所述调节棒702a的表面具有多对弹性凸起702a1，每对凸起702a1与位于所述贯穿孔702b1表面的所述凹槽相匹配。
这样，通过所述贯穿孔702b1上的凹槽，以及所述调节棒702a上的凸起702a1，可以使所述调节棒702a固定在所述固定板702b上，而不会发生左右漂移。在此基础上，由于所述凸起702a1为弹性，当通过外力推拉所述调节棒702a时，原来位于所述凹槽内的一对凸起702a1便可以随着外力的作用相对所述凹槽向上或向下移动，当所述调节棒702a移动到一定位置时，可以通过与凹槽处于同一位置的另一对凸起702a1来固定此时调节棒702a的位置。
需要说明的是，这里的弹性凸起702a1的一部分可以嵌入所述调节棒702a内，并且当遇到外力挤压时，所述弹性凸起702a1可以被挤压进所述调节棒702a内，从而保证调节棒702a可以相对固定板702b的贯穿孔702b1移动。
进一步可选的，如图5所示，所述固定板702b通过与固定在所述蒸镀腔室10上底面的升降机构703连接，所述升降机构703用于带动所述固定板702b上下移动。
通过所述升降机构703可以带动所述固定板702b处于一个合适的位置，以使与固定在所述固定板702b上的调节棒702a连接的所有磁块701处于合适的初始位置。在此基础上，通过调整调节棒702a的高度来调节所述磁块701的高度。
基于上述的描述，如图6所示，所述蒸镀装置01还包括设置于所述蒸镀腔室10侧壁上的伸缩支撑架80，所述伸缩支撑架80沿垂直所述蒸镀腔室10侧壁的方向伸缩。
这样，在需要将磁块从调节棒702a上分离或需要替换磁块701时，通过控制所述伸缩支撑架80到达相应的位置，来承载所述磁块701。然后可以通过设置在伸缩支撑架80与蒸镀腔室10接触位置处的开口，便可以直接将这些磁块701运送出蒸镀腔室10外。
其中，该开口可以通过活门进行开闭。
进一步可选的，如图7所示，所述蒸镀装置01还包括设置于所述蒸镀腔室10外侧且与所述伸缩支撑架80相连的驱动装置90；其中，所述驱动装置90用于控制所述伸缩支撑架80的伸缩。
可选的，所述吸附装置还可以包括用于承载所述磁块701的磁块支撑板100；其中，如图8所示，所述磁块支撑板100包括多个活动块100a，任一个所述活动块100a的表面积大于与所述活动块接触的所述磁块701的表面积；在此情况下，所述牵引装置702牵引任一个所述活动块100a相对所述待蒸镀基板60上下移动。
这样，当所有活动块100a处于同一水平位置时，通过测量该状态下所有磁块701的磁场大小，得到初始磁场大小分布，然后有选择的通过牵引装置702对每个活动块100a的控制，来调节高于或低于基准值的磁块701的高度，而等于基准值的磁块701高度则无需进行调节。
进一步的，参考图8所示，所述牵引装置702包括设置于每个所述活动块100a四个角的牵引棒702c，用于带动所述活动块100a上下移动。
在此基础上，所述蒸镀装置01还可以包括与所述牵引棒702c连接的控制装置，以控制所述牵引棒702c的移动。
这样，当某个磁块701的高度需要调节时，通过控制与该磁块701接触的活动块100a的四个角处的牵引棒702c，便可以通过所述活动块100a的移动来带动所述磁块701进行上下移动。
以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
Claims (10)
1.一种蒸镀装置，包括：蒸镀腔室、设置于蒸镀腔室内的蒸镀源、掩模板支撑架和基板支撑架，所述掩模板支撑架用于承载金属掩模板，所述基板支撑架用于承载待蒸镀基板，且所述金属掩模板设置于所述蒸镀源和所述待蒸镀基板之间；其特征在于，所述蒸镀装置还包括：设置于所述蒸镀腔室内的吸附装置；
其中，所述吸附装置包括：设置于所述待蒸镀基板远离所述金属掩模板一侧的多个呈矩阵排列的磁块，以及用于调节每个所述磁块相对所述待蒸镀基板上下移动的牵引装置。
2.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，所述牵引装置包括设置于所述磁块上方、且与所述磁块一一对应的多个调节棒；
其中，一个所述调节棒与对应的一个所述磁块连接，用于带动所述磁块上下移动。
3.根据权利要求2所述的蒸镀装置，其特征在于，所述调节棒的表面具有螺纹；
所述磁块相对所述调节棒的表面具有螺孔，所述螺孔与所述调节棒表面的螺纹相吻合。
4.根据权利要求3所述的蒸镀装置，其特征在于，所述牵引装置还包括固定所述调节棒的固定板；
其中，所述固定板具有与所述调节棒对应个数的贯穿孔，且所述贯穿孔的表面具有两个相对的凹槽；所述调节棒穿过所述贯穿孔，且在所述调节棒的高度方向上，所述调节棒的表面具有多对弹性凸起，每对凸起与位于所述贯穿孔表面的所述凹槽相匹配。
5.根据权利要求4所述的蒸镀装置，其特征在于，所述固定板通过与固定在所述蒸镀腔室上底面的升降机构连接，所述升降机构用于带动所述固定板上下移动。
6.根据权利要求2所述的蒸镀装置，其特征在于，所述牵引装置还包括控制任一个所述调节棒上下移动的控制器。
7.根据权利要求2至6任一项所述的蒸镀装置，其特征在于，所述蒸镀装置还包括设置于所述蒸镀腔室侧壁上的伸缩支撑架，所述伸缩支撑架沿垂直所述蒸镀腔室侧壁的方向伸缩。
8.根据权利要求7所述的蒸镀装置，其特征在于，所述蒸镀装置还包括设置于所述蒸镀腔室外侧且与所述伸缩支撑架相连的驱动装置；其中，所述驱动装置用于控制所述伸缩支撑架的伸缩。
9.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于，所述吸附装置还包括用于承载所述磁块的磁块支撑板；
所述磁块支撑板包括多个活动块，任一个所述活动块的表面积大于与所述活动块接触的所述磁块的表面积；
所述牵引装置牵引任一个所述活动块相对所述待蒸镀基板上下移动。
10.根据权利要求9所述的蒸镀装置，其特征在于，所述牵引装置包括设置于每个所述活动块四个角的牵引棒，用于带动所述活动块上下移动。
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Cited By (9)
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