CN207052608U - 一种显示基板及显示装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型实施例提供了一种显示基板及显示装置，涉及显示技术领域，当有机发光层沉积在像素界定层的镂空部分内时，该像素界定层侧边特定角度的设计可削弱有机发光层受重力作用滑动堆积在镂空部分边角处的程度，以提高有机发光层沉积的厚度均匀，进一步提高显示基板的显示品质。该显示基板包括衬底基板；设置在衬底基板上方的像素界定层；该像素界定层包括多个间隔开的镂空部分；沿垂直于衬底基板的方向，镂空部分的截面图形包括平行于衬底基板的相对设置的第一边与第二边、连接第一边与第二边的两个侧边；第一边大于第二边，且第二边位于衬底基板与第一边之间；侧边与第二边的延长线的夹角为第一夹角，第一夹角大于20°且小于35°。
Description
技术领域
本实用新型涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示基板及显示装置。
背景技术
AMOLED显示器(Active Matrix Organic Light-Emitting Display，有源有机电致发光显示)相对于传统的液晶显示器具有自发光、反应快、视角广、亮度高、色彩艳、轻薄等优点，具有广阔的市场应用。AMOLED显示器的核心结构之一为OLED器件，利用具有镂空部分的像素界定层来限定像素的发光区域。
如图1所示，为现有技术的AMOLED显示器的结构示意图。驱动OLED器件的薄膜晶体管(Thin Film Transistor，简称为TFT，图中即标记为TFT)形成在衬底基板1上，衬底基板1上还形成有隔离TFT的栅极与半导体层的栅极绝缘层2、隔离TFT的栅极与源极、漏极的层间绝缘层3，TFT上形成有覆盖的钝化层4，钝化层4上形成有露出TFT的漏极的过孔，OLED器件的阳极51形成在钝化层4上并通过前述的过孔与漏极电性连通，像素界定层6位于钝化层4和阳极51上，并且像素界定层6的镂空部分61(即开口)暴露出部分阳极51，OLED器件的有机发光层52沉积在阳极51上，OLED器件的阴极53覆盖有机发光层52和像素界定层6。
然而，由于有机发光层52通常采用蒸镀、旋涂或喷墨打印的方式沉积在像素界定层6的镂空部分61内，参考图1所示，由于像素界定层6的侧边与基板表面的夹角(图中标记为δ)较大，即像素界定层6的镂空部分61的坡度较陡峭，受重力作用，有机发光层52在沉积过程中容易堆积在镂空部分61的边角处(如图中虚线部分所示)，使得有机发光层52在像素界定层6与阳极51的边界处的厚度大于有机发光层52在阳极51中心区域的厚度，导致中心区域发光较亮，像素界定层6与阳极51的边界处发光较暗，造成OLED器件亮度不均匀，影响显示品质。
实用新型内容
鉴于此，为解决现有技术的问题，本实用新型的实施例提供一种显示基板及显示装置，当有机发光层沉积在像素界定层的镂空部分内时，该像素界定层侧边特定角度的设计可削弱有机发光层受重力作用滑动堆积在镂空部分边角处的程度，以提高有机发光层沉积的厚度均匀，进一步提高显示基板的显示品质。
为达到上述目的，本实用新型的实施例采用如下技术方案：
第一方面、本实用新型实施例提供了一种显示基板，包括衬底基板；所述显示基板还包括设置在所述衬底基板上方的像素界定层；所述像素界定层包括多个间隔开的镂空部分；沿垂直于所述衬底基板的方向，所述镂空部分的截面图形包括：平行于所述衬底基板的相对设置的第一边与第二边、连接所述第一边与所述第二边的两个侧边；其中，所述第一边大于所述第二边，且所述第二边位于所述衬底基板与所述第一边之间；所述侧边与所述第二边的延长线的夹角为第一夹角，所述第一夹角大于20°且小于35°。
优选的，所述第一夹角大于23°且小于30°。
优选的，所述显示基板划分有多个发光区域，所述像素界定层的所述镂空部分与所述发光区域一一对应。
优选的，所述像素界定层的厚度为1.0～3.0μm。
优选的，所述显示基板还包括：设置在所述衬底基板上的驱动单元；覆盖所述驱动单元的钝化层；设置在所述钝化层上的多个间隔开的阳极，且所述镂空部分对应于所述阳极的部分区域；设置在所述镂空部分内的有机发光层；覆盖所述有机发光层与所述像素界定层的阴极。
第二方面、本实用新型实施例提供了一种显示基板，包括衬底基板；所述显示基板还包括设置在所述衬底基板上方的像素界定层；所述像素界定层包括多个间隔开的镂空部分；沿垂直于所述衬底基板的方向，所述镂空部分的截面图形包括：平行于所述衬底基板的相对设置的第一边与第二边、连接所述第一边与所述第二边的两个劣弧形的侧边；其中，所述第一边大于所述第二边，且所述第二边位于所述衬底基板与所述第一边之间；所述侧边包括：与所述第一边相连的第一端点、与所述第二边相连的第二端点；所述第一端点与所述第二端点的连线与所述第二边的延长线的夹角为第二夹角，所述第二夹角大于20°；所述侧边上任意一点的切线与所述第二边的延长线的夹角为第三夹角，所述第三夹角小于35°。
优选的，所述第二夹角大于23°，且所述第三夹角小于30°。
优选的，所述侧边凹陷于所述第一边与所述第二边相对的区域内；或者，所述侧边凸出于所述第一边与所述第二边相对的区域内。
优选的，所述显示基板划分有多个发光区域，所述像素界定层的所述镂空部分与所述发光区域一一对应。
优选的，所述像素界定层的厚度为1.0～3.0μm。
优选的，所述显示基板还包括：设置在所述衬底基板上的驱动单元；覆盖所述驱动单元的钝化层；设置在所述钝化层上的多个间隔开的阳极，且所述镂空部分对应于所述阳极的部分区域；设置在所述镂空部分内的有机发光层；覆盖所述有机发光层与所述像素界定层的阴极。
第三方面、本实用新型实施例提供了一种显示基板，包括衬底基板；所述显示基板还包括设置在所述衬底基板上方的像素界定层；所述像素界定层包括：多个间隔开的镂空部分和设置在所述镂空部分内部的至少一层台阶；沿垂直于所述衬底基板的方向，所述镂空部分的截面图形包括：平行于所述衬底基板的相对设置的第一边与第二边连接所述第一边与所述第二边的两个折线形的侧边；其中，所述第一边大于所述第二边，且所述第二边位于所述衬底基板与所述第一边之间；所述侧边包括：平行于所述衬底基板的至少一段第一线段和至少两段第二线段；所述第二线段与所述第一边的延长线的夹角均为第四夹角，各所述第四夹角均大于20°且小于35°。
优选的，各所述第四夹角均大于23°且小于30°。
优选的，同一个所述侧边中的各所述第二线段相互平行。
优选的，所述显示基板划分有多个发光区域，所述像素界定层的所述镂空部分与所述发光区域一一对应。
优选的，所述像素界定层的厚度为1.0～3.0μm。
优选的，所述显示基板还包括：设置在所述衬底基板上的驱动单元；覆盖所述驱动单元的钝化层；设置在所述钝化层上的多个间隔开的阳极，且所述镂空部分对应于所述阳极的部分区域；设置在所述镂空部分内的有机发光层；覆盖所述有机发光层与所述像素界定层的阴极。
第四方面、本实用新型实施例提供了一种显示装置，包括所述的显示基板。
基于此，通过本实用新型实施例提供的上述显示基板，当有机发光层沉积在像素界定层的镂空部分内时，该像素界定层侧边特定角度的设计可削弱有机发光层受重力作用滑动堆积在镂空部分边角处的程度，以提高有机发光层沉积的厚度均匀，进一步提高显示基板的显示品质。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为现有技术提供的一种AMOLED显示器的剖面结构示意图；
图2为本实用新型实施例1提供的一种显示基板的剖面结构示意图一；
图3为本实用新型实施例1提供的一种显示基板的剖面结构示意图二；
图4为本实用新型实施例2提供的一种显示基板的剖面结构示意图一；
图5为本实用新型实施例2提供的一种显示基板的剖面结构示意图二；
图6为本实用新型实施例2提供的一种显示基板的剖面结构示意图三；
图7为本实用新型实施例3提供的一种显示基板的剖面结构示意图一；
图8为本实用新型实施例3提供的一种显示基板的剖面结构示意图二。
附图标记：
1-衬底基板；2-栅极绝缘层；3-层间绝缘层；4-钝化层；51-阳极；52-有机发光层；53-阴极；6-像素界定层；61-镂空部分；a-第一边；b-第二边；c-侧边；c1-第一线段；c2-第二线段。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
需要指出的是，除非另有定义，本实用新型实施例中所使用的所有术语(包括技术和科学术语)具有与本实用新型所属领域的普通技术人员共同理解的相同含义。还应当理解，诸如在通常字典里定义的那些术语应当被解释为具有与它们在相关技术的上下文中的含义相一致的含义，而不应用理想化或极度形式化的意义来解释，除非这里明确地这样定义。
例如，本实用新型专利申请说明书以及权利要求书中所使用的术语“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，仅是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“上/上方”、“下/下方”等指示的方位或位置关系的术语为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于说明本实用新型的技术方案的简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
实施例1
如图2所示，本实用新型实施例提供一种显示基板，包括衬底基板1、设置在衬底基板1上方的像素界定层6；像素界定层6包括多个间隔开的镂空部分61(图中仅示意出一个)；沿垂直于衬底基板1的方向，镂空部分61的截面图形包括：平行于衬底基板1的相对设置的第一边a与第二边b、连接第一边a与第二边b的两个侧边c；其中，第一边a大于第二边b，且第二边b位于衬底基板1与第一边a之间；侧边c与第二边b的延长线的夹角为第一夹角(图中标记为θ1)，第一夹角θ1大于20°且小于35°。
需要说明的是，第一、像素界定层6只要位于衬底基板1上方即可，二者之间还可以设置其他结构层。
第二、上述第一夹角θ1小于35°时，受重力作用下有机发光层的滑动作用较小，可以使有机发光层沉积在镂空部分61内的厚度均匀。考虑到对于具有一定面积的像素界定层6而言，当镂空部分61的数量确定后，其镂空部分61的侧边c的角度越小，镂空部分61(即对应于显示基板的像素区)的有效发光面积会越小，因此考虑到像素界定层6应用于显示基板后的像素发光面积要求，上述第一夹角θ1在小于35°的同时还需大于20°。
上述第一夹角θ1进一步优选为大于23°且小于30°。
第三、在满足侧边c与第二边b的延长线的第一夹角θ1大于20°且小于35°的前提下，针对任一个镂空部分61，由于镂空部分61为一个立体区域，其沿垂直于衬底基板1的方向的截面有多个，各截面图形中的每个侧边c与第二边b的延长线的第一夹角θ1可以相同也可以不同。考虑到简化工艺，可以将任一个镂空部分61的各截面图形中的每个侧边c与第二边b的延长线的第一夹角θ1均设定为同一数值。
针对同一个截面内的不同的镂空部分61，每个镂空部分61的截面图形中的每个侧边c与第二边b的延长线的第一夹角θ1可以相同也可以不同。考虑到简化工艺，可以将每个镂空部分61的截面图形中的每个侧边c与第二边b的延长线的第一夹角θ1设定为同一数值。在上述基础上进一步的，如图3所示，上述显示基板划分有多个发光区域，参考图2所示的像素界定层6的镂空部分61与发光区域一一对应。
上述显示基板具体为阵列基板，参考图3所示，上述显示基板还包括：设置在衬底基板1上的驱动单元(图中标记为TFT)；覆盖驱动单元TFT的钝化层4；TFT的栅极与半导体层通过栅极绝缘层2隔离开，TFT的栅极与源极、漏极通过层间绝缘层3隔离开。上述显示基板还可包括有设置在钝化层4上的平坦层(图中未示意出)。上述显示基板还包括：设置在钝化层4上的多个间隔开的阳极51，且前述的像素界定层6的镂空部分61对应于阳极51的部分区域；设置在镂空部分61内的有机发光层52；覆盖有机发光层52与像素界定层6的阴极53。
这里，由于第一边a大于第二边b，且第二边b位于衬底基板1与第一边a之间，故第一边a必然为镂空部分61的截面图形中远离衬底基板1的上边，相对的第二边b必然为镂空部分61的截面图形中靠近衬底基板1的下边，即镂空部分61的截面图形为一个倒梯形。
其中，考虑到沉积的有机发光层52需要具有一定厚度，故像素界定层6的厚度例如可以为1.0～3.0μm，从而为有机发光层52提供一定深度的沉积空间。
实施例2
如图4或图5所示，本实用新型实施例提供一种显示基板，包括衬底基板1、设置在衬底基板1上方的像素界定层6；像素界定层6包括多个间隔开的镂空部分61(图中仅示意出一个)；沿垂直于衬底基板1的方向，镂空部分61的截面图形包括：平行于衬底基板1的相对设置的第一边a与第二边b、连接第一边a与第二边b的两个劣弧形的侧边c；其中，第一边a大于第二边b，且第二边b位于衬底基板1与第一边a之间；侧边c包括：与第一边a相连的第一端点(图中标记为A)、与第二边b相连的第二端点(图中标记为B)；第一端点A与第二端点B的连线与第二边b的延长线的夹角为第二夹角(图中标记为θ2)，第二夹角θ2大于20°；侧边c上任意一点的切线与第二边b的延长线的夹角为第三夹角(图中标记为θ3)，第三夹角θ3小于35°。
需要说明的是，第一、像素界定层6只要位于衬底基板1上方即可，二者之间还可以设置其他结构层。
第二、由于像素界定层6通常采用光阻树脂材料，采用曝光显影方式形成像素界定层6的镂空部分61，像素界定层6的侧边并不是完美的直线，而是呈现一个曲线状的劣弧(即所对圆心角小于180°的圆弧)。劣弧上两端点与第二边b的延长线的第二夹角θ2大于20°，劣弧上任意一点的切线与第二边b的延长线的第三夹角θ3小于35°，以使得受重力作用下有机发光层在镂空部分61的侧边上滑动作用较小，可以使有机发光层沉积在镂空部分61内的厚度均匀。
上述第二夹角θ2进一步优选为大于23°，且上述第三夹角θ3进一步优选为小于30°。
第三、在满足劣弧上两端点与第二边b的延长线的第二夹角θ2大于20°，劣弧上任意一点的切线与第二边b的延长线的第三夹角θ3小于35°的前提下，针对任一个镂空部分61，由于镂空部分61为一个立体区域，沿垂直于衬底基板1的方向的截面有多个，各截面图形中的每个侧边c端点的连线与第二边b的延长线的第二夹角θ2可以相同也可以不同，各截面图形中的每个侧边c上任意一点的切线与第二边b的延长线的第三夹角θ3可以相同也可以不同。考虑到简化工艺，可以将任一个镂空部分61的各截面图形中的每个侧边c端点的连线与第二边b的延长线的第二夹角θ2设定为同一数值，将任一个镂空部分61的各截面图形中的每个侧边c上任意一点的切线与第二边b的延长线的第三夹角θ3设定为同一数值。
针对同一个截面内的不同的镂空部分61，每个镂空部分61的截面图形中的每个侧边c与第二边b的延长线的第二夹角θ2可以相同也可以不同，每个镂空部分61的截面图形中的每个侧边c上任意一点的切线与第二边b的延长线的第三夹角θ3可以相同也可以不同。考虑到简化工艺，可以将每个镂空部分61的截面图形中的每个侧边c与第二边b的延长线的第二夹角θ2设定为同一数值，将每个镂空部分61的截面图形中的每个侧边c上任意一点的切线与第二边b的延长线的第三夹角θ3设定为同一数值。
第四、参考图4所示，侧边c可以凹陷于第一边a与第二边b相对的区域内，即相对于镂空部分61而言向内凹陷，劣弧两端点的连线位于镂空部分61之外。
反之，参考图5所示，侧边c也可以凸出于第一边a与第二边b相对的区域内，即相对于镂空部分61而言向外凸出，劣弧两端点的连线位于镂空部分61之内。
在上述基础上进一步的，如图6所示，上述显示基板划分有多个发光区域，参考图4或图5所示的像素界定层6的镂空部分61与发光区域一一对应。
上述显示基板具体为阵列基板，参考图6所示，该显示基板包括：设置在衬底基板1上的驱动单元(图中标记为TFT)；覆盖驱动单元TFT的钝化层4；TFT的栅极与半导体层通过栅极绝缘层2隔离开，TFT的栅极与源极、漏极通过层间绝缘层3隔离开。上述显示基板还可包括有设置在钝化层4上的平坦层(图中未示意出)。上述显示基板还包括：设置在钝化层4上的多个间隔开的阳极51，且前述的像素界定层6的镂空部分61对应于阳极51的部分区域；设置在镂空部分61内的有机发光层52；覆盖有机发光层52与像素界定层6的阴极53。
这里，上述图6中仅以前述图4中示例出的镂空部分61呈向内凹陷的像素界定层6为例进行说明，对于图5所示的镂空部分61呈向外凸出的像素界定层6同样适用，此处不再赘述。其中，由于第一边a大于第二边b，且第二边b位于衬底基板1与第一边a之间，故第一边a必然为镂空部分61的截面图形中远离衬底基板1的上边，相对的第二边b必然为镂空部分61的截面图形中靠近衬底基板1的下边，即镂空部分61的截面图形为一个侧边呈凹陷的劣弧或凸出的劣弧的倒梯形。
其中，考虑到沉积的有机发光层52需要具有一定厚度，故像素界定层6的厚度例如可以为1.0～3.0μm，从而为有机发光层52提供一定深度的沉积空间。
实施例3
如图7所示，本实用新型实施例提供一种显示基板，包括衬底基板1、设置在衬底基板1上的像素界定层6；像素界定层6包括多个间隔开的镂空部分61(图中仅示意出一个)和设置在镂空部分61内部的至少一层台阶；沿垂直于衬底基板1的方向，镂空部分61的截面图形包括：平行于衬底基板1的相对设置的第一边a与第二边b、连接第一边a与第二边b的两个折线形的侧边c；其中，第一边a大于第二边b，且第二边b位于衬底基板1与第一边a之间；该侧边c包括：平行于衬底基板1的至少一段第一线段c1和至少两段第二线段c2；第二线段c2与第二边b的延长线的夹角均为第四夹角(图中标记为θ4)，各第四夹角θ4均大于20°且小于35°。
需要说明的是，第一、像素界定层6只要位于衬底基板1上方即可，二者之间还可以设置其他结构层。
第二、参考图7所示，本实用新型实施例仅以上述镂空部分61内部的台阶数为一个，即在镂空部分61的截面图形中，侧边c包括：平行于层面的一段第一线段c1，即台阶的截面(呈现为一段线段)和两段第二线段c2为例进行说明，本实用新型实施例对台阶的数量不作限定，可根据镂空部分61的尺寸和削弱有机发光层滑动的效果灵活设计具体的台阶数量。
在上述像素界定层6的镂空部分61内形成OLED器件的有机发光层时，有机发光层有部分区域可设置在台阶上，向镂空部分61内部伸出的台阶可减缓有机发光层受重力下滑堆积的程度，使OLED器件的阳极和像素界定层6的边缘处的有机发光层厚度与阳极中心区的有机发光层厚度均匀，进一步提高显示质量。
第三、第四夹角θ4小于35°时，受重力作用下有机发光层的滑动作用较小，可以使有机发光层沉积在镂空部分61内的厚度均匀。考虑到对于具有一定面积的像素界定层6而言，当镂空部分61的数量确定后，其镂空部分61的侧边c的第二线段c2的角度越小，镂空部分61(即对应于显示基板的像素区)的有效发光面积会越小，因此考虑到像素界定层6应用于显示基板后的像素发光面积要求，上述第四夹角θ4在小于35°的同时还需大于20°。上述各第四夹角θ4进一步优选为大于23°且小于30°。
第四、在满足侧边c中的第二线段c2与第二边b的延长线的第四夹角θ4大于20°且小于35°的前提下，针对任一个镂空部分61，每个侧边c中的每个第二线段c2与第二边b的延长线的第四夹角θ4可以相同也可以不同。考虑到简化工艺，可以将任一个镂空部分61的每个侧边c中的每个第二线段c2与第二边b的延长线的第四夹角θ4设定为同一数值，即同一侧边c中的各第二线段c2相互平行。
针对任一个镂空部分61，于镂空部分61为一个立体区域，沿垂直于衬底基板1的方向的截面有多个，各截面图形中的每个侧边c中的第二线段c2与第二边b的延长线的第四夹角θ4可以相同也可以不同。考虑到简化工艺，可以将任一个镂空部分61的各截面图形中的每个侧边c中的每个第二线段c2与第二边b的延长线的第四夹角θ4设定为同一数值。
针对同一个截面内的不同的镂空部分61，每个镂空部分61的截面图形中的每个侧边c中的每个第二线段c2与第二边b的延长线的第四夹角θ4可以相同也可以不同。考虑到简化工艺，可以将每个镂空部分61的截面图形中的每个侧边c中的每个第二线段c2与第二边b的延长线的第四夹角θ4设定为同一数值。
在上述基础上进一步的，如图8所示，上述显示基板划分有多个发光区域，参考图7所示的像素界定层6的镂空部分61与发光区域一一对应。
上述显示基板具体为阵列基板，参考图8所示，该显示基板包括：设置在衬底基板1上的驱动单元(图中标记为TFT)；覆盖驱动单元TFT的钝化层4；TFT的栅极与半导体层通过栅极绝缘层2隔离开，TFT的栅极与源极、漏极通过层间绝缘层3隔离开。上述显示基板还可包括有设置在钝化层4上的平坦层(图中未示意出)。上述显示基板还包括：设置在钝化层4上的多个间隔开的阳极51，且前述的像素界定层6的镂空部分61对应于阳极51的部分区域；设置在镂空部分61内的有机发光层52；覆盖有机发光层52与像素界定层6的阴极53。
有机发光层52的有部分区域位于镂空部分61内的台阶上，台阶可减缓有机发光层52受重力下滑堆积的程度，使OLED器件的阳极51和像素界定层6的边缘处的有机发光层52厚度与阳极51的中心区的有机发光层52厚度均匀，进一步提高显示质量。
这里，由于第一边a大于第二边b，台阶位于镂空部分61内部，且第二边b位于衬底基板1与第一边a之间，故第一边a必然为镂空部分61的截面图形中远离衬底基板1的上边，相对的第二边b必然为镂空部分61的截面图形中靠近衬底基板1的下边，即镂空部分61的截面图形为一个侧边具有台阶的倒梯形。
其中，考虑到沉积的有机发光层52需要具有一定厚度，故像素界定层6的厚度例如可以为1.0～3.0μm，以为有机发光层52提供一定深度的沉积空间。
在上述各实施例中，上述显示基板上还包括有与TFT的栅极同层设置的栅线、栅线走线；与TFT的源极和漏极同层设置的数据线、数据线走线。其中，包括有栅线、TFT的栅极以及栅线走线的图案层、包括有数据线、TFT的源极和漏极以及数据线走线的图案层可以采用Cu(铜)、Al(铝)、Mo(钼)、Ti(钛)、Cr(铬)以及W(钨)等金属单质材料构成，也可以采用这些材料的合金构成。上述各图案层的具体结构可以是单层结构，也可以采用多层结构，如层叠设计的Mo\Al\Mo、Ti\Cu\Ti以及Mo\Ti\Cu等结构。
TFT具体可以为非晶硅TFT、多晶硅TFT、或氧化物半导体TFT，其结构可以为顶栅型或底栅型。
其中，在一些TFT结构中，栅极可以为栅线的一部分(即没有从栅线上延伸出的独立的栅极图案)；源极可以为数据线的一部分(即没有从数据线上延伸出的独立的源极图案)，本实用新型实施例对涉及TFT具体结构不作限定，可沿用现有技术中的各种TFT结构，或根据上述显示基板的具体结构要求灵活选择TFT的种类和/或结构。
栅极绝缘层2可以采用氮化硅或氧化硅材料构成，其具体结构可以是单层结构，也可以是多层结构，例如层叠设计的氧化硅\氮化硅。
覆盖TFT的钝化层4可以采用氮化硅或氧化硅材料构成，其结构可以是单层结构，也可以是多层结构，例如层叠设计的氧化硅\氮化硅。
平坦层(上述附图中未示意出)可以采用树脂材料构成。
阳极51具体可采用ITO(Indium Tin Oxide、氧化铟锡)、IZO(Indium Zinc Oxide、氧化铟锌)以及FTO(Fluorine-Doped Tin Oxide、氟掺杂二氧化锡)等透明金属氧化物导电材料构成；也可以采用上述透明金属氧化物导电材料与金属材料(例如银Ag)的多层叠结构，例如由ITO\Ag\ITO三层制备而成。
阴极53可以采用铝(Al)和/或银(Ag)等金属材料构成，其结构可以为单层或多层叠结构。
在上述基础上，本实用新型实施例还提供了一种显示装置，包括上述各实施例所述的显示基板。上述显示装置具体可以是OLED显示装置，可以为OLED显示器、OLED电视、数码相框、手机、平板电脑、数码相框、导航仪等具有任何显示功能的产品或者部件。
以上所述，仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此，本实用新型的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
Claims (18)
1.一种显示基板，包括衬底基板；其特征在于，所述显示基板还包括设置在所述衬底基板上方的像素界定层；所述像素界定层包括多个间隔开的镂空部分；沿垂直于所述衬底基板的方向，所述镂空部分的截面图形包括：平行于所述衬底基板的相对设置的第一边与第二边、连接所述第一边与所述第二边的两个侧边；其中，所述第一边大于所述第二边，且所述第二边位于所述衬底基板与所述第一边之间；所述侧边与所述第二边的延长线的夹角为第一夹角，所述第一夹角大于20°且小于35°。
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第一夹角大于23°且小于30°。
3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板划分有多个发光区域，所述像素界定层的所述镂空部分与所述发光区域一一对应。
4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述像素界定层的厚度为1.0～3.0μm。
5.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括：
设置在所述衬底基板上的驱动单元；
覆盖所述驱动单元的钝化层；
设置在所述钝化层上的多个间隔开的阳极，且所述镂空部分对应于所述阳极的部分区域；
设置在所述镂空部分内的有机发光层；
覆盖所述有机发光层与所述像素界定层的阴极。
6.一种显示基板，包括衬底基板；其特征在于，所述显示基板还包括设置在所述衬底基板上方的像素界定层；所述像素界定层包括多个间隔开的镂空部分；沿垂直于所述衬底基板的方向，所述镂空部分的截面图形包括：平行于所述衬底基板的相对设置的第一边与第二边、连接所述第一边与所述第二边的两个劣弧形的侧边；其中，所述第一边大于所述第二边，且所述第二边位于所述衬底基板与所述第一边之间；所述侧边包括：与所述第一边相连的第一端点、与所述第二边相连的第二端点；所述第一端点与所述第二端点的连线与所述第二边的延长线的夹角为第二夹角，所述第二夹角大于20°；所述侧边上任意一点的切线与所述第二边的延长线的夹角为第三夹角，所述第三夹角小于35°。
7.根据权利要求6所述的显示基板，其特征在于，所述第二夹角大于23°，且所述第三夹角小于30°。
8.根据权利要求6所述的显示基板，其特征在于，
所述侧边凹陷于所述第一边与所述第二边相对的区域内；
或者，
所述侧边凸出于所述第一边与所述第二边相对的区域内。
9.根据权利要求6所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板划分有多个发光区域，所述像素界定层的所述镂空部分与所述发光区域一一对应。
10.根据权利要求6所述的显示基板，其特征在于，所述像素界定层的厚度为1.0～3.0μm。
11.根据权利要求6所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括：
设置在所述衬底基板上的驱动单元；
覆盖所述驱动单元的钝化层；
设置在所述钝化层上的多个间隔开的阳极，且所述镂空部分对应于所述阳极的部分区域；
设置在所述镂空部分内的有机发光层；
覆盖所述有机发光层与所述像素界定层的阴极。
12.一种显示基板，包括衬底基板；其特征在于，所述显示基板还包括设置在所述衬底基板上方的像素界定层；所述像素界定层包括：多个间隔开的镂空部分和设置在所述镂空部分内部的至少一层台阶；沿垂直于所述衬底基板的方向，所述镂空部分的截面图形包括：平行于所述衬底基板的相对设置的第一边与第二边连接所述第一边与所述第二边的两个折线形的侧边；其中，所述第一边大于所述第二边，且所述第二边位于所述衬底基板与所述第一边之间；所述侧边包括：平行于所述衬底基板的至少一段第一线段和至少两段第二线段；所述第二线段与所述第一边的延长线的夹角均为第四夹角，各所述第四夹角均大于20°且小于35°。
13.根据权利要求12所述的显示基板，其特征在于，各所述第四夹角均大于23°且小于30°。
14.根据权利要求12所述的显示基板，其特征在于，同一个所述侧边中的各所述第二线段相互平行。
15.根据权利要求12所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板划分有多个发光区域，所述像素界定层的所述镂空部分与所述发光区域一一对应。
16.根据权利要求12所述的显示基板，其特征在于，所述像素界定层的厚度为1.0～3.0μm。
17.根据权利要求12所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括：
设置在所述衬底基板上的驱动单元；
覆盖所述驱动单元的钝化层；
设置在所述钝化层上的多个间隔开的阳极，且所述镂空部分对应于所述阳极的部分区域；
设置在所述镂空部分内的有机发光层；
覆盖所述有机发光层与所述像素界定层的阴极。
18.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1至5任一项、或6至11任一项、或12至17任一项所述的显示基板。
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