CN206594453U - 处理盒 - Google Patents
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Abstract
处理盒包括:显影单元;鼓单元;推压构件;和导电构件。显影单元包括显影辊。鼓单元包括感光鼓。显影单元能相对于鼓单元绕沿着显影辊延伸的枢转轴线枢转地移动。推压构件被构造成将显影辊朝向感光鼓推压。导电构件被设置在显影单元处且被构造成对显影辊施加电压。导电构件由导电树脂制成。导电构件包括接触部,接触部被构造成接触被设置在成像设备处的电触点。枢转轴线和接触部之间限定第一距离。枢转轴线和推压构件之间限定第二距离。第一距离小于第二距离。
Description
技术领域
本实用新型涉及处理盒,该处理盒包括:显影单元,该显影单元设有显影辊;和鼓单元,该鼓单元设有感光鼓。
背景技术
传统上已知包括显影单元和鼓单元的处理盒。显影单元被附接至鼓单元,以便能够相对于鼓单元绕规定枢转轴线枢转地移动。在日本专利申请公开特开2013-134299中公开了一种这样的处理盒。在这种处理盒中,随着显影单元相对于鼓单元的枢转移动,被设置在显影单元处的显影辊能够与被设置在鼓单元处的感光鼓分离和接触。
在这种类型的处理盒中,设置导电构件用于将电压施加给显影辊。导电构件的一部分暴露于外部。导电构件的暴露部分用作显影电极。被设置在成像设备的主壳体中的电极与暴露部接触。已经在实际产品中使用这种构造。此外,在这种构造中,弹簧被设置在显影电极和显影单元的枢转轴线之间,用于将显影辊朝向感光鼓推压。
然而,在上述构造中,显影电极被设置在离显影单元的枢转轴线比弹簧离显影单元的枢转轴线远的位置处。为了当显影单元在接触位置和分离位置之间枢转地移动时防止显影电极从主壳体的电极移位,需要显影电极增加它的在显影单元的移动方向上的尺寸。由于显影电极的尺寸的增加,处理盒也在尺寸上增长。
实用新型内容
鉴于上述,本实用新型的目的是提供一种处理盒,在该处理盒中,显影单元被附接至鼓单元,以便能够相对于鼓单元绕规定枢转轴线枢转地移动,处理盒设有小型化的显影电极(接触部)。
为了达到以上和其它目的,本实用新型提供一种处理盒,该处理盒包括:显影单元;鼓单元;推压构件;和导电构件。显影单元包括显影辊。鼓单元包括感光鼓。显影单元被安装至鼓单元,以便能相对于鼓单元绕沿着显影辊延伸的枢转轴线枢转地移动。推压构件被构造成将显影辊朝向感光鼓推压。导电构件被设置在显影单元处且被构造成对显影辊施加电压。导电构件由导电树脂制成。导电构件包括接触部,接触部被构造成接触被设置在成像设备处的电触点。枢转轴线和接触部之间限定第一距离。枢转轴线和推压构件之间限定第二距离。第一距离小于第二距离。
优选地,所述枢转轴线在枢转轴线方向上延伸,并且在所述枢转轴线方向上观察时,所述接触部位于所述枢转轴线和所述推压构件之间。
优选地,所述显影单元能够相对于所述鼓单元在枢转方向上枢转地移动,所述接触部具有在所述枢转方向上的长度,并且所述推压构件包括螺旋弹簧,所述螺旋弹簧具有螺旋部,所述螺旋部具有比所述接触部的所述长度大的长度。
优选地,所述接触部在所述枢转方向上的长度在从5mm至12mm的范围内。
优选地,所述接触部在所述枢转方向上的长度在从6mm至10mm的范围内。
优选地,所述接触部在所述枢转方向上的长度在从7mm至9mm的范围内。
优选地,所述枢转轴线在枢转轴线方向上延伸,并且当在所述枢转轴线方向上观察时,所述推压构件延伸成与经过所述显影辊的旋转轴线及所述枢转轴线的直线交叉。
优选地,所述推压构件具有被附接至所述鼓单元的一个端部和被附接至所述显影单元的另一个端部。
优选地,所述鼓单元具有定位沟槽,所述定位沟槽能够与被设置在抽屉处的定位突起接合,所述抽屉被构造成被从所述主壳体的内部的第一位置抽出至所述主壳体的外部的第二位置。
优选地,所述鼓单元包括一对侧框架,所述一对侧框架可旋转地支撑所述感光鼓,所述一对侧框架还可枢转地移动地支撑所述显影单元,所述一对侧框架中的至少一个侧框架具有第一端部和第二端部,所述第一端部和所述感光鼓的旋转轴线被设置在所述显影辊的旋转轴线的两个相反侧上,所述第二端部和所述显影辊的所述旋转轴线被设置在所述感光鼓的所述旋转轴线的两个相反侧上,并且从所述第一端部至所述定位沟槽的距离小于从所述定位沟槽至所述显影辊的所述旋转轴线的距离。
优选地,所述第二端部具有定位表面,所述定位表面用于在与所述抽屉接触时相对于所述抽屉定位所述侧框架。
优选地,从所述推压构件的所述一个端部至所述显影辊的旋转轴线的距离小于从所述定位沟槽至所述显影辊的所述旋转轴线的距离。
优选地,所述定位沟槽和所述感光鼓被设置在经过所述接触部的中心和所述枢转轴线的直线的两个相反侧上。
优选地,所述枢转轴线在枢转轴线方向上延伸,并且所述接触部具有与所述枢转轴线方向垂直的垂直表面,所述垂直表面暴露于外部。
优选地,所述显影单元还包括供应辊,所述供应辊被构造成将显影剂供应至所述显影辊,并且所述导电构件与所述供应辊接触。
优选地,第一距离在从7mm至12mm的范围内。
优选地,第一距离在从8mm至11mm的范围内。
附图说明
从结合附图的如下说明将明白实施例的特定特征和优点以及其它目标,其中:
图1是彩色打印机的示意剖视图,该彩色打印机设有根据一个实施例的多个处理盒;
图2是彩色打印机的示意局部剖视图,示出从彩色打印机的主壳体抽出抽屉的状态;
图3是处理盒的示意剖视图;
图4是在枢转轴线方向上观察时处理盒的示意侧视图,其中处理盒的显影单元在第三位置中;
图5是在该枢转轴线方向上观察时处理盒的示意侧视图,其中显影单元在第四位置中;并且
图6是处理盒的解释图,用于示出处理盒的部分和部件以及它们之间的位置关系。
具体实施方式
将参考附图描述根据一个实施例的作为成像设备的示例的彩色打印机1,其中同样的部分和部件由相同附图标记标示,以避免重复说明。
在如下说明中,将基于使用彩色打印机1的用户的视角定义与彩色打印机1相关的方向。更具体地,图1中的右侧将被称为彩色打印机1的前侧,而图1中的左侧将被称为彩色打印机1的后侧。此外,图1中的近侧将被称为彩色打印机1的左侧,而图1中的远侧将被称为彩色打印机1的右侧。此外,图1中的顶侧将被称为彩色打印机1的顶侧,而图1中的底侧将被称为彩色打印机1的底侧。图1中的顶-底方向将被称为竖直方向。
如图1中所示,彩色打印机1包括:主壳体2;用于供应纸片材P的片材供应单元3;以及用于在从片材供应单元3供应的片材P上形成图像的成像单元4。
主壳体2在其前侧上形成有开口2A(图2)。主壳体2包括用于覆盖和暴露开口2A的前盖21。
片材供应单元3被设置在主壳体2中,且被设置在主壳体2的下部处。片材供应单元3包括片材盘31和片材供应机构32。片材供应机构32被构造成将片材盘31中容纳的片材P供应至成像单元4。
成像单元4包括:扫描单元5;多个(该实施例中是四个)处理盒PC;皮带单元9;和定影装置10。
扫描单元5被设置在主壳体2的上部处。扫描单元5包括激光发射部(未示出)、多面镜(未示出)、透镜(未示出)和反射镜(未示出)。扫描单元5被构造成用激光束照射感光鼓71,使得感光鼓71的表面受到激光束的扫描。
所述四个处理盒PC被设置在扫描单元5的下方。所述四个处理盒PC被设置在抽屉80中,且在前后方向上彼此并置。
所述四个处理盒PC中的每一个包括显影单元60和鼓单元70。显影单元60包括显影辊61、供应辊62和调色剂室63。鼓单元70包括感光鼓71、充电辊72和清洁器73。
抽屉80支撑所述四个处理盒PC,使得处理盒PC能够从抽屉80拆卸和附接到抽屉80。抽屉80包括:用于支撑所述多个处理盒PC的主框架81;以及从主框架81的前壁突出的把手部82。能够通过主壳体2的开口2A将抽屉80从主壳体2的内部的第一位置(即图1中所示的位置)抽出至主壳体2的外部的第二位置(即,图2中所示的位置)。
如图2中所示,主框架81具有:一对左和右侧壁81A;以大体矩形棱柱形状形成的多个(该实施例中是八个)第一定位突起83;以及以大体圆柱形状形成的多个(该实施例中是八个)第二定位突起84。第一定位突起83和第二定位突起84从侧壁81A在左右方向上向内突出。更具体地,四个第一定位突起83和四个第二定位突起84从左侧壁81A向右突出,而其余四个第一定位突起83和其余四个第二定位突起84从右侧壁81A向左突出。
回到图1,皮带单元9被设置在所述四个处理盒PC的下方。皮带单元9包括中间转印皮带91;多个(该实施例中是四个)主转印辊92;副转印辊93;驱动辊94;和从动辊95。中间转印皮带91是无端皮带。
中间转印皮带91被定位成与四个感光鼓71面对。中间转印皮带91能够通过驱动辊94在图1中的顺时针方向上循环地移动。
每一个主转印辊92与中间转印皮带91的内周表面接触。每一个主转印辊92与对应的感光鼓71协作地夹压中间转印皮带91。副转印辊93与驱动辊94协作地夹压中间转印皮带91。
定影装置10被设置在副转印辊93的上方。定影装置10包括加热辊11和压力辊12。
在如上所述构造的成像单元4中,每一个充电辊72对对应的感光鼓71的表面施加电荷。扫描单元5暴露每一个感光鼓71的表面,从而基于图像数据在感光鼓71的表面上形成静电潜像。
随后,每一个显影辊61对在对应的感光鼓71上形成的静电潜像供应调色剂。作为结果,感光鼓71在它的表面上携带调色剂图像。
在每一个感光鼓71上形成的调色剂图像由被施加转印偏压的对应的主转印辊92转印到中间转印皮带91上。随着被供应至成像单元4的片材P在中间转印皮带91和副转印辊93之间穿过,被转印到中间转印皮带91上的调色剂图像由被施加转印偏压的副转印辊93转印到片材P上。
调色剂图像被转印到的片材P被输送至定影装置10。定影装置10将调色剂图像热定影至片材P。调色剂图像被热定影到的片材P被排出辊R排出主壳体2,且被堆叠在排出盘22上。
接着,将详细描述处理盒PC的构造。
如图3中所示,鼓单元70进一步包括两个侧框架74(仅一个被示出)和用于连接侧框架74的连接框架75。
侧框架74被分别设置在感光鼓74的轴向端部处。侧框架74可旋转地支撑感光鼓71。每一个侧框架74具有用于可枢转移动地支撑显影单元60的支撑沟槽74A。支撑沟槽74A被形成在侧框架74的内表面中。更具体地,支撑沟槽74A从侧框架74的内表面在左右方向上向外凹进。
显影单元60被附接至侧框架74,以便能够绕规定枢转轴线CL枢转地移动。显影单元60包括壳体64,用于在该壳体64中容纳调色剂。壳体64位于侧框架74之间。壳体64包括两个侧壁64A(仅一个被示出)和两个轴部65。所述两个侧壁64A分别构成壳体64的左壁和右壁。轴部65以柱形形状形成。轴部65分别从侧壁64A在感光鼓71的轴向方向上向外突出。轴部65分别被可旋转地支撑在侧框架74的支撑沟槽74A中。轴部65在轴向方向上对准,并且轴部65的中心用作枢转轴线CL。枢转轴线CL在轴向方向上线性地延伸。
以下,枢转轴线CL的延伸方向将被称为枢转轴线方向。此外,与枢转轴线方向垂直并且其中显影辊61与感光鼓71面对的方向将被称为第一垂直方向。此外,与枢转轴线方向及第一垂直方向垂直的方向将被称为第二垂直方向。第一垂直方向与抽屉80的移动方向重合。
显影单元60能够移动至图4中所示的第三位置且能够移动至图5中所示的第四位置。在第三位置中,显影辊61与对应的感光鼓71接触。在第四位置中,显影辊61与对应的感光鼓71分离,即,显影辊61不与对应的感光鼓71接触。
顺便提及,在非接触显影方法中,当显影单元60在第三位置中时,显影辊61可以稍微与对应的感光鼓71分离。在这种情况下,当显影单元60在第四位置中时,与第三位置相比,显影辊61与对应的感光鼓71分离较远。
如图4中所示,侧框架74具有第一端部E1,该第一端部E1构成侧框架74在第一垂直方向上的一个端部。即,第一端部E1构成侧框架74的后端部。此外,侧框架74具有第二端部E2,该第二端部E2构成侧框架74在第一垂直方向上的另一个端部。即,第二端部E2构成侧框架74的前端部。
第一端部E1和感光鼓71的旋转轴线被设置在显影辊61的旋转轴线的在第一垂直方向上的两个相反侧上。
第一端部E1包括第一部E11、第二部E12和第三部E13。
第一部E11构成第一端部E1在第二垂直方向上的一个端部,并且位于第一端部E1在第二垂直方向上的一侧上。即,第一部E11构成第一端部E1的上部。第二部E12构成第一端部E1在第二垂直方向上的另一个端部,并且第二部E12位于相对于第一部E11而言在第二垂直方向上的另一侧上。即,第二部E12构成第一端部E1的下部,并且第二部E12位于第一部E11的下方。此外,在第一垂直方向上,第二部E12被定位得离第二端部E2比第一部E11离第二端部E2近。第三部E13将第一部E11连接至第二部E12。
第二端部E2和显影辊61的旋转轴线被设置在感光鼓71的旋转轴线的在第一垂直方向上的两个相反侧上。
第二端部E2包括第四部E21、第五部E22和第六部E23。
第四部E21构成第二端部E2在第二垂直方向上的一个端部,并且第四部E21位于第二端部E2在第二垂直方向上的一侧上。即,第四部E21构成第二端部E2的上部。第五部E22构成第二端部E2在第二垂直方向上的另一个端部,并且第五部E22位于相对于第四部E21而言在第二垂直方向上的另一侧上。即,第五部E22构成第二端部E2的下部,并且第五部E22位于第四部E21的下方。此外,在第一垂直方向上,第五部E22被定位得离第一端部E1比第四部E21离第一端部E1近。第六部E23将第四部E21连接至第五部E22。
第五部E22用作定位表面,该定位表面用于当接触抽屉80的第一定位突起83时在第一垂直方向上相对于抽屉80定位侧框架74。第六部E23也用作定位表面,该定位表面用于当接触抽屉80的第一定位突起83时在第二垂直方向上相对于抽屉80定位侧框架74。
侧框架74也具有能够与抽屉80的第二定位突起84接合的定位沟槽74B。在该定位沟槽74B的在枢转轴线方向上的外侧上以及定位沟槽74B的在第二垂直方向上的另一侧上,定位沟槽74B开口。换言之,定位沟槽74B具有面向左右方向上的外方且面向下的开口。定位沟槽74B具有端部E3,该端部E3限定定位沟槽74B在第二垂直方向上的一端,并且端部E3位于定位沟槽74B在第二垂直方向上的一侧上。即,端部E3构成定位沟槽74B的上端部。端部E3在横截面中被形成为大体V形。
定位沟槽74B的V形端部E3与第二定位突起84接合,并且第五部E22和第六部E23与第一定位突起83接合,由此将侧框架74相对于抽屉80在第一垂直方向和第二垂直方向上定位。
注意,在所述两个侧框架74中的至少一个侧框架74处设置第一端部E1、第二端部E2和定位沟槽74B。即,可以在所述两个侧框架74中的仅一个侧框架74处设置第一端部E1、第二端部E2和定位沟槽74B。替换地,可以在所述两个侧框架74两者处都设置第一端部E1、第二端部E2和定位沟槽74B。
所述两个侧框架74中的一个侧框架74具有:在枢转轴线方向上穿透侧框架74的通孔74C;以及第一附接销74D,作为推压构件的示例的张力螺旋弹簧SP(后述)的第一附接部SP2被附接到该第一附接销74D。通孔74C位于枢转轴线CL和定位沟槽74B之间。第一附接销74D位于通孔74C和感光鼓71的旋转轴线之间。第一附接销74D从侧框架74的外表面在枢转轴线方向上突出。换句话说,第一附接销74D从侧框架74的左右外表面在左右方向上向外突出。
显影单元60进一步包括:导电构件66,用于将电压施加至显影辊61和供应辊62;和第二附接销67,张力螺旋弹簧SP的第二附接部SP3被附接至该第二附接销67。导电构件66和第二附接销67位于壳体64在枢转轴线方向上的一侧上。更具体地,导电构件66和第二附接销67被设置在一个侧壁64A的左右外表面处。导电构件66和第二附接销67通过在侧框架74中形成的通孔74C暴露于外部。
导电构件66由导电树脂制成。导电构件66包括轴支撑部66A和接触部66B。轴支撑部66A可旋转地支撑显影辊61的金属轴和供应辊62的金属轴。即,轴支撑部66A与显影辊61的轴及供应辊62的轴接触。轴支撑部66A例如通过嵌件模制被固定至壳体64。顺便提及,壳体64由非导电树脂制成。
接触部66B是能够接触被设置在主壳体2中的主壳体侧电极(未示出)的电极。该主壳体侧电极用作电触点。接触部66B具有与枢转轴线方向垂直的垂直表面B1。垂直表面B1通过通孔74C暴露于外部。此外,抽屉80的侧壁81A具有开口或狭缝(未示出),接触部66B通过该开口或狭缝暴露于外部,用于接触主壳体侧电极。当在枢转轴线方向上观察时,接触部66B位于枢转轴线CL和张力螺旋弹簧SP之间。
接触部66B具有在显影单元60的枢转方向上伸长的大体卵形形状。更具体地,接触部66B具有由彼此平行地延伸的两条直线、连接所述两条直线的一端的半圆以及连接所述两条直线的另一端的半圆形成的外周形状。注意,接触部66B在枢转方向上的长度(即接触部66B在伸长方向上的长度)可以等于或大于5mm且等于或小于12mm。替换地,接触部65B在枢转方向(伸长方向)上的长度可以等于或大于6mm且等于或小于10mm。仍然替换地,接触部66B在枢转方向(伸长方向)上的长度可以等于或大于7mm且等于或小于9mm。
每一个处理盒PC包括用于将显影辊61朝向对应的感光鼓71推压的张力螺旋弹簧SP。张力螺旋弹簧SP包括螺旋部SP1、第一附接部SP2和第二附接部SP3。第一附接部SP2和第二附接部SP3具有环形状。螺旋部SP1的长度大于接触部66B在伸长方向上的长度。第一附接部SP2被连接至螺旋部SP1的一个端部,而第二附接部SP3被连接至螺旋部SP1的另一个端部。
接着,将参考图6详细描述处理盒PC的部分和部件的布局。
如图6中所示,从枢转轴线CL至接触部66B的距离L1(最短距离)小于从枢转轴线CL至张力螺旋弹簧SP的距离L2(最短距离)。注意,从枢转轴线CL至接触部66B的距离L1可以等于或大于7mm且等于或小于12mm。替换地,从枢转轴线CL至接触部66B的距离L1可以等于或大于8mm且等于或小于11mm。
当在枢转轴线方向上观察时,张力螺旋弹簧SP延伸成与经过显影辊61的旋转轴线及枢转轴线CL的直线LA交叉。从构成张力螺旋弹簧SP的一个端部的第一附接部SP2至显影辊61的旋转轴线的距离L3小于从显影辊61的旋转轴线至定位沟槽74B的距离L4。
从侧框架74的第一端部E1至定位沟槽74B的距离L5小于从显影辊61的旋转轴线至定位沟槽74B的距离L4。当在枢转轴线方向上观察时,定位沟槽74B和感光鼓71被设置在经过接触部66B的中心(形心)及枢转轴线CL的直线LB的两个相反侧上。
接着,将描述当处理盒PC被附接至抽屉80时以及当执行成像操作时处理盒PC和抽屉80的部分和部件的操作。
当如图2中所示将处理盒PC附接至抽屉80时,侧框架74的第二端部E2(第五部E22和第六部E23)与抽屉80的第一定位突起83接合,并且如图4中所示,侧框架74的定位沟槽74B与抽屉80的第二定位突起84接合。在侧框架74中,在与相对于定位沟槽74B在第一垂直方向上与第二端部E2相反地定位的第一端部E1相邻的位置处,形成定位沟槽74B。因而,从定位沟槽74B至第二端部E2的距离比从定位沟槽74B至第一端部E1的距离大。与从定位沟槽74B至第二端部E2的距离小的情况相比,这种构造能够可靠地增强处理盒PC相对于抽屉80的定位。
当执行单色成像操作时,容纳黑色调色剂的显影单元60被放置在图4中所示的第三位置上。此时,接触部65B与主壳体侧电极(未示出)接触。当电压被施加给显影辊61和供应辊62时,供应辊62上携带的调色剂能够被可靠地供应给显影辊61。此外,显影辊61上携带的调色剂能够被可靠地供应给在感光鼓71上形成的静电潜像。
此外,当执行单色成像操作时,容纳非黑色调色剂的显影单元60被放置在图5中所示的第四位置上。此时,接触部66B被设置在离对应的感光鼓71比图4中的位置离对应的感光鼓71远的位置处。注意,甚至在第四位置中,接触部66B也与主壳体侧电极接触。因此,与每次显影辊61与对应的感光鼓71分离时主壳体侧电极都与接触部66B分离的情况相比,主壳体2的构造能够被简化。此外,在该实施例中,当显影单元60在第三位置中和第四位置中时,主壳体侧电极与该接触部66B接触。因此,这种构造能够防止主壳体侧电极被卡在被设置在处理盒PC的侧表面处的处理盒PC的部件上。
根据以上实施例,处理盒PC提供下列操作优点。
从接触部66B至枢转轴线CL的距离L1小于从枢转轴线CL至张力螺旋弹簧SP的距离L2。因而,随着显影单元60的枢转移动的接触部66B的移动范围能够被最小化。相应地,能够将接触部66B在伸长方向上的尺寸(即考虑到与接触该接触部66B的主壳体侧电极的关系的尺寸)制作得较小。
当在枢转轴线方向上观察时,接触部66B被设置在枢轴轴线CL和张力螺旋弹簧SP之间。因而,能够在不使处理盒PC的构造复杂化的情况下设置张力螺旋弹簧SP和接触部66B。
从侧框架74的第一端部E1至定位沟槽74B的距离L5小于从定位沟槽74B至显影辊61的旋转轴线的距离L4。这种构造允许定位沟槽74B被定位为与第一端部E1相邻。作为结果,被定位为与第一端部E1相邻的定位沟槽74B能够容易地与第二定位突起84接合。因此,能够容易地执行用于相对于抽屉80定位处理盒PC的操作。
能够将从被设置成与第一端部E1相邻的定位沟槽74B至用作定位表面的第五部E22和第六部E23的距离制作得较大。因此,能够实现处理盒PC相对于抽屉80的精确定位。
可想到对以上实施例的各种变型。
在该实施例中,张力螺旋弹簧SP被例示为推压构件。然而,扭转弹簧、片弹簧和压缩螺旋弹簧可以可用于推压构件。
在该实施例中,彩色打印机1被例示为成像设备。然而,复印机和多功能外设可以可用于成像设备。
虽然已经参考本实用新型的实施例详细地作了说明,但是本领域技术人员将显而易见:在不偏离本实用新型的范围的情况下,可以在本实用新型中作出许多变型和变体。
Claims (17)
1.一种处理盒,其特征在于所述处理盒包括:
显影单元,所述显影单元包括显影辊;
鼓单元,所述鼓单元包括感光鼓,所述显影单元被安装至所述鼓单元,以便能够相对于所述鼓单元绕沿着所述显影辊延伸的枢转轴线枢转地移动;
推压构件,所述推压构件被构造成将所述显影辊朝向所述感光鼓推压;和
导电构件,所述导电构件被设置在所述显影单元处,并且所述导电构件被构造成对所述显影辊施加电压,所述导电构件由导电树脂制成,所述导电构件包括接触部,所述接触部被构造成接触被设置在成像设备处的电触点,所述枢转轴线和所述接触部之间限定第一距离,所述枢转轴线和所述推压构件之间限定第二距离,所述第一距离小于所述第二距离。
2.根据权利要求1所述的处理盒,其特征在于所述枢转轴线在枢转轴线方向上延伸,并且
其中在所述枢转轴线方向上观察时,所述接触部位于所述枢转轴线和所述推压构件之间。
3.根据权利要求1所述的处理盒,其特征在于所述显影单元能够相对于所述鼓单元在枢转方向上枢转地移动,
其中所述接触部具有在所述枢转方向上的长度,并且
其中所述推压构件包括螺旋弹簧,所述螺旋弹簧具有螺旋部,所述螺旋部具有比所述接触部的所述长度大的长度。
4.根据权利要求3所述的处理盒,其特征在于所述接触部在所述枢转方向上的长度在从5mm至12mm的范围内。
5.根据权利要求4所述的处理盒,其特征在于所述接触部在所述枢转方向上的长度在从6mm至10mm的范围内。
6.根据权利要求5所述的处理盒,其特征在于所述接触部在所述枢转方向上的长度在7mm至9mm的范围内。
7.根据权利要求1所述的处理盒,其特征在于所述枢转轴线在枢转轴线方向上延伸,并且
其中当在所述枢转轴线方向上观察时,所述推压构件延伸成与经过所述显影辊的旋转轴线及所述枢转轴线的直线交叉。
8.根据权利要求1所述的处理盒,其特征在于所述推压构件具有被附接至所述鼓单元的一个端部和被附接至所述显影单元的另一个端部。
9.根据权利要求8所述的处理盒,其特征在于所述鼓单元具有定位沟槽,所述定位沟槽能够与被设置在抽屉处的定位突起接合,所述抽屉被构造成被从所述成像设备的内部的第一位置抽出至所述成像设备的外部的第二位置。
10.根据权利要求9所述的处理盒,其特征在于所述鼓单元包括一对侧框架,所述一对侧框架可旋转地支撑所述感光鼓,所述一对侧框架还可枢转地移动地支撑所述显影单元,所述一对侧框架中的至少一个侧框架具有第一端部和第二端部,所述第一端部和所述感光鼓的旋转轴线被设置在所述显影辊的旋转轴线的两个相反侧上,所述第二端部和所述显影辊的所述旋转轴线被设置在所述感光鼓的所述旋转轴线的两个相反侧上,并且
其中从所述第一端部至所述定位沟槽的距离小于从所述定位沟槽至所述显影辊的所述旋转轴线的距离。
11.根据权利要求10所述的处理盒,其特征在于所述第二端部具有定位表面,所述定位表面用于在与所述抽屉接触时相对于所述抽屉定位所述侧框架。
12.根据权利要求9所述的处理盒,其特征在于从所述推压构件的所述一个端部至所述显影辊的旋转轴线的距离小于从所述定位沟槽至所述显影辊的所述旋转轴线的距离。
13.根据权利要求9所述的处理盒,其特征在于所述定位沟槽和所述感光鼓被设置在经过所述接触部的中心和所述枢转轴线的直线的两个相反侧上。
14.根据权利要求1所述的处理盒,其特征在于所述枢转轴线在枢转轴线方向上延伸,并且
其中所述接触部具有与所述枢转轴线方向垂直的垂直表面,所述垂直表面暴露于外部。
15.根据权利要求1所述的处理盒,其特征在于所述显影单元还包括供应辊,所述供应辊被构造成将显影剂供应至所述显影辊,并且
其中所述导电构件与所述供应辊接触。
16.根据权利要求1所述的处理盒,其特征在于所述第一距离在从7mm至12mm的范围内。
17.根据权利要求16所述的处理盒,其特征在于所述第一距离在从8mm至11mm的范围内。
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