CN202989277U - 一种连续卧式磁控溅射设备的基片传送装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种连续卧式磁控溅射设备的基片传送装置，属于磁控溅射设备技术领域。解决如何实现机械自动从基片架上取放基片，而不需要手工取放的问题。传送装置包括水平传送机构和升降机构,其特征在于所述传送装置的水平传送机构包括基片传送机构和两套平行排列的基片架传送机构,且基片架传送机构的两端均装有升降系统,该升降系统内设有分别运送基片架和基片的升降机构，基片升降机构通过基片架中间的镂空处托起基片，送至基片水平传送机构上。本实用新型真正实现了基片自动传送，不需要手工上下基片，提高产品质量，提高生产效率，降低劳动强度和生产成本。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种连续卧式磁控溅射设备的基片传送装置，尤其涉及一种适用于硅基薄膜太阳能电池生产的连续卧式磁控溅射设备的基片传送装置，属于磁控溅射设备技术领域。
背景技术
目前连续卧式磁控溅射设备的基板传送装置主要采用两种模式：一种模式采用滚轮传输基片，基片直接放置在传输滚轮上进行输送，采用此种模式的设备与上下游传输设备容易集成，可以使生产高度地自动化。但在此种模式中因基片直接在滚轮上传送，基片的底部没有被完全遮蔽到，因此在磁控溅射沉积过程中，容易发生等离子体的绕射现象，造成在基片的背面边缘部分也被沉积生长有膜层，此种现象会造成硅基薄膜太阳能电池的性能不良；另一种模式采用基片架传输基片，如中国专利ZL201120460791.8《一种真空镀膜用基片水平输送装置》和ZL201120472491.1《连续式真空镀膜设备输送装置》都将基板首先放入基片架上，基片架载着基片进入磁控溅射腔室，因基片背面与基片架相接触，基片背面被完全遮蔽住，避免了等离子体的绕射现象，但此种模式中需要人工对基片架上的基片进行取放，这样既降低生产效率，也大大的增强了工人的劳动强度，生产成本高。
发明内容
针对现有技术的不足，本实用新型的目的是设计一种连续卧式磁控溅射设备的基片传送装置，特别是在硅基薄膜太阳能电池的磁控溅射生产过程中，既能解决连续镀膜设备中存在的绕射问题，同时解决如何实现机械自动从基片架上取放基片，而不需要手工取放的问题。
为实现以上目的，本实用新型采用的技术方案是：一种连续卧式磁控溅射设备的基片传送装置，包括水平传送机构和升降机构,其主要技术特点是传送装置的水平传送机构包括基片传送机构和两套平行排列的基片架传送机构,且基片架传送机构的两端均装有升降系统, 该升降系统内设有分别运送基片架和基片的升降机构，基片升降机构通过基片架的中间镂空处托起基片，送至基片水平传送机构上。
基片升降机构安装在基片架升降机构上，基片升降机构相对于基片架升降机构做上下运动。
基片架升降机构包括基片架传送滚轮、电机以及安装在支架上的气缸和导杆，所述气缸和导杆上装有框架，基片架传送滚轮安装在框架上端，气缸推动框架沿导杆运动，带动基片架上下运动，且基片架由基片架传送滚轮运送到基片架水平传送机构上。
基片升降机构包括托架、气缸、基片传送滚轮和电机，气缸安装在基片架升降机构的框架下端，托架位于基片架升降机构的框架内侧并安装在气缸上，基片传送滚轮装在托架上端，基片传送滚轮和托架由气缸推动做上下运动，基片传送滚轮输送基片至基片水平传送机构上。
基片架传送滚轮为U形轮。基片架为内凹形，在其底面有导向杆，基片放入基片架的内凹面，导向杆位于基片架传送滚轮的U形槽内。
两套平行排列的基片架传送机构为上下两层循环水平传送机构。
基片传送机构分别位于升降系统外侧的前端和末端，并高于基片架水平传送机构
积极效果：本实用新型设计的连续卧式磁控溅射设备的基片传送装置,其基片升降机构可以相对于基片架升降机构做上下运动，并通过基片架开有的镂空孔处将基片托起后，再通过基片传送滚轮实现基片在连续卧式磁控溅射设备和基片水平传送机构之间的自动传送，不需要手工上下基片，提高产品质量，提高生产效率，降低劳动强度和生产成本。基片背面被基片架遮蔽住，避免了等离子体的绕射现象。
附图说明
图1：本实用新型的外部剖面结构示意图。
图2：本实用新型升降机构的立面剖视结构示意图。
图3：本实用新型升降机构的俯视结构示意图。
图4：本实用新型基片架的结构示意图。
图中：1、基片水平传送机构，2、基片架水平传送机构，3、基片架升降机构，301、支架，302、气缸I，303、导杆，304、框架，305、基片架传送滚轮，306、滚轮电机I，4、基片升降机构，401、托架，402、气缸II，403、基片传送滚轮，404滚轮电机II，5、基片架，501、导向杆，6、基片。
具体实施方式
一种连续卧式磁控溅射设备的基片传送装置，主要包括：基片架水平传送机构、升降机构、基片水平传送机构和基片架，基片架水平传送机构为上下两层循环传送机构，升降机构位于基片架水平机构外侧的前端和末端，基片水平传送机构位于升降机构外侧的前端和末端，并高于基片架水平传送机构的上层传送机构，升降机构包括基片架升降机构和基片升降机构，基片升降机构安装在基片架升降机构上，基片架为中间镂空平板，基片升降机构可通过镂空处将基片托起，并将基片送到基片水平传送机构上。
基片架升降机构主要包括：支架、气缸、导杆、框架、基片架传送滚轮和滚轮电机，气缸和导杆安装在支架上，框架安装在气缸和导杆上，基片架传送滚轮安装在框架上端，气缸推动框架沿导杆上下运动，框架带动基片架传送滚轮上下运动，使得基片架传送滚轮上的基片架上下运动，基片架传送滚轮在滚轮电机带动下将基片架送到基片架水平传送机构上。
基片升降机构主要包括：托架、气缸、基片传送滚轮和滚轮电机，气缸安装在基片架升降机构的框架下端，托架位于基片架升降机构的框架内侧并安装在气缸上，基片传送滚轮安装在托架上端，气缸可随基片架升降机构的框架上下运动，同时托架又可在气缸的推动下上下运动，使得基片传送滚轮上下运动，基片传送滚轮在滚轮电机的带动下将基片送到基片水平传送机构上。
基片架传送滚轮为U形轮。基片架为内凹形，在其底面有导向杆，基片放入基片架的内凹面，导向杆位于基片架传送滚轮的U形槽内，使得基片架不会跑偏。
本实施例中，见图1至图4，基片架升降机构3位于位于基片架水平传送机构2外侧的前端和末端，基片水平传送机构1位于基片架升降机构3外侧的前端和末端，基片升降机构4位于基片架升降机构3的内部，基片架升降机构3主要由支架301、气缸I302、导杆303、框架304、基片架传送滚轮305和滚轮电机I306组成，气缸I302和导杆303安装在支架301上，框架304安装在气缸I302和导杆303上，基片架传送滚轮305安装在框架304上端，气缸I302推动动框架304沿导杆303上下运动，框架304又带动基片架传送滚轮305上下运动，使得基片架传送滚轮305上的基片架5可以上下运动，基片架传送滚轮305在滚轮电机I306的带动下将基片架5送到基片架水平传送机构2上，基片升降机构4主要由托架401、气缸402、基片传送滚轮403和滚轮电机II404组成，气缸402固定安装在基片架升降机构3的框架304的下端，托架401位于基片架升降机构3的框架304内侧并安装在气缸402上，基片传送滚轮403安装在托架401上端，气缸402可随基片架升降机构3的框架304上下运动，同时托架401又可在气缸II402的推动下上下运动，使得基片传送滚轮403上下运动，基片传送滚轮403在滚轮电机II404的带动下将基片6送到基片水平传送机构1上。
工作时，基片架5放置在基片架传送滚轮305上，导向杆501位于基片架传送滚轮305的U形槽内，基片架水平传送机构2将下层空的基片架5送到前端的处于下位的基片架升降机构3上，基片架传送滚轮305在滚轮电机I306带动下将基片架5送到位后停止，气缸I302上升使基片架5沿导杆303向上提升，将基片架5提升到基片架水平传送机构2的上层位置，此时基片升降机构4开始上升，使得基片传送滚轮403从基片架5的镂空处伸出到和基片水平传送机构1一样的高度，基片水平传送机构1将载有的基片6送到基片传送滚轮403上并在滚轮电机II404带动下到位停止，基片升降机构4开始下降，将基片6放到基片架5的凹槽内后，并继续下降到原始位置停止，此时，基片架传送滚轮305开始运转，将装有基片6的基片架5送至基片架水平传送机构2上，基片架水平传送机构2转动，带动装有基片6的基片架5送入到磁控溅射沉积内，沉积后带动装有基片6的基片架5被送到末端的升起的基片架升降机构3上的基片架传送滚轮305上，基片架到位停止后基片升降机构4开始上升，使得基片传送滚轮403从基片架5的镂空处将基片6顶起，基片传送滚轮403开始运转，将基片送到末端的基片水平传送机构1上，将基片传送到下一个工序上，基片升降机构4开始下降，同时基片架升降机构3也开始下降，使得基片架5到达基片架水平传送机构2的下层位置，基片架传送滚轮305在滚轮电机I306带动下将基片架5送到下层位置后停止，完成一个循环。
Claims (8)
1. 一种连续卧式磁控溅射设备的基片传送装置，包括水平传送机构和升降机构,其特征在于所述传送装置的水平传送机构包括基片传送机构和两套平行排列的基片架传送机构,且基片架传送机构的两端均装有升降系统, 该升降系统内设有分别运送基片架和基片的升降机构，基片升降机构通过基片架中间的镂空处托起基片，送至基片水平传送机构上。
2. 根据权利要求1所述的连续卧式磁控溅射设备的基片传送装置，其特征在于所述基片升降机构安装在基片架升降机构上，基片升降机构相对于基片架升降机构做上下运动。
3. 根据权利要求1或2所述的连续卧式磁控溅射设备的基片传送装置，其特征在于所述基片架升降机构包括基片架传送滚轮、电机以及安装在支架上的气缸和导杆，所述气缸和导杆上装有框架，基片架传送滚轮安装在框架上端，气缸推动框架沿导杆运动，带动基片架上下运动，且基片架由基片架传送滚轮运送到基片架水平传送机构上。
4. 根据权利要求3所述的连续卧式磁控溅射设备的基片传送装置，其特征在于所述基片升降机构包括托架、气缸、基片传送滚轮和电机，气缸安装在基片架升降机构的框架下端，托架位于基片架升降机构的框架内侧并安装在气缸上，基片传送滚轮装在托架上端，基片传送滚轮和托架由气缸推动做上下运动，基片传送滚轮输送基片至基片水平传送机构上。
5. 根据权利要求3所述的连续卧式磁控溅射设备的基片传送装置，其特征在于所述基片架传送滚轮为U形轮。
6. 根据权利要求5所述的连续卧式磁控溅射设备的基片传送装置，其特征在于所述基片架为内凹形，在其底面有导向杆，基片放入基片架的内凹面，导向杆位于基片架传送滚轮的U形槽内。
7. 根据权利要求1所述的连续卧式磁控溅射设备的基片传送装置，其特征在于所述两套平行排列的基片架传送机构为上下两层循环水平传送机构。
8. 根据权利要求1所述的连续卧式磁控溅射设备的基片传送装置，其特征在于所述基片传送机构位于升降系统外侧的前端和末端，并高于基片架水平传送机构。
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