CN107267951A - 一种卧式连续溅射双面镀膜设备 - Google Patents

一种卧式连续溅射双面镀膜设备 Download PDF

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Abstract

本发明涉及薄膜镀膜产品技术领域,具体公开卧式连续溅射双面镀膜设备,包括机架,安装在机架上的若干镀膜前预处理真空室、镀膜真空室和若干镀膜后处理真空室,以及对各真空室进行抽真空的抽气机组,还包括镀膜夹具托板和输送镀膜夹具托板的输送装置,所述镀膜真空室内上下均对称地设有一对平面溅射靶,所述镀膜真空室内设有带动镀膜夹具托板做往复运动的传动机构,所述传动机构包括安装在镀膜真空室两端部的同步传动轴和左右两侧的传动支架,两同步传动轴同一侧的端部之间通过传动副连接,所述镀膜夹具托板的左右两侧对应地连接在传动副上由传动副带动其运动。该镀膜设备能同时对待镀膜工件进行双面镀膜,镀膜效率高,镀膜产品均匀性好。

Description

一种卧式连续溅射双面镀膜设备
技术领域
本发明涉及镀膜产品技术领域,特别涉及一种卧式连续溅射双面镀膜设备。
背景技术
现有技术中,镀膜设备主要用于电子元件的镀膜,目前常用的卧式镀膜设备,由于其传动结构的设置,使得真空室内的空腔有限,因此,其大多只能进行单面镀膜,镀膜生产效率低,且镀膜的均匀性不高。
为此,有人研发了发明名称为:一种双体双面真空镀膜设备,专利申请号为201410022033.6,该真空镀膜设备包括镀膜室、真空系统和电控系统,镀膜室为两个,镀膜室均包括外筒体与置于外筒体内部的内筒体,内筒体与外筒体之间的密闭空间为镀膜区,内筒体、外筒体相对的侧面上均设有离子发射装置。该镀膜设备两个独立的镀膜室可对待镀工件同时实现双面镀膜,大大提高生产效率;采用内外筒体结构的镀膜室有效减小镀膜室的空闲容积,降低真空泵的功耗。但是该种镀膜设备需要有两个镀膜室,且对镀膜室进行特别的设计,因此,真空镀膜设备本身占据空间较大,不便于在现有的真空腔室进行改造,制作成本高,不便于推广应用。
因此,研发一种占据空间小,能有效提高镀膜生产效率,镀膜产品均匀性好的卧式连续溅射双面镀膜设备迫在眉睫。
发明内容
本发明的目的是克服上述现有技术的不足,提供一种卧式连续溅射双面镀膜设备,该镀膜设备能同时对待镀膜工件进行双面镀膜,镀膜效率高,镀膜产品均匀性好。
为了达到上述技术目的,本发明是按照以下技术方案予以实现的:
本发明所述的一种卧式连续溅射双面镀膜设备,包括机架,从左至右依次安装在机架上的若干镀膜前预处理真空室、镀膜真空室和若干镀膜后处理真空室,以及对各真空室进行抽真空的抽气机组,还包括用于安装镀膜夹具的镀膜夹具托板和输送镀膜夹具托板的输送装置,所述镀膜真空室内上下均对称地设有一对平面溅射靶,所述镀膜真空室内设有带动镀膜夹具托板做往复运动的传动机构,所述传动机构包括安装在镀膜真空室两端部的同步传动轴和左右两侧的传动支架,两同步传动轴同一侧的端部之间通过传动副连接,所述镀膜夹具托板的左右两侧对应地连接在传动副上由传动副带动其运动。
作为上述技术的进一步改进,所述传动副为链轮链条传动副,其中,链轮对应安装在同步传动轴的两端部,所述镀膜夹具托板的左右两侧对应连接在左右两侧的链条上。
作为上述技术的更进一步改进,所述镀膜前预处理真空室、镀膜真空室和镀膜后处理真空室之间都是通过阀门隔断设计,各真空室的传动支架的外侧上均固定安装有到位行程开关机构。
作为上述技术的更进一步改进,所述到位行程开关机构包括行程开关本体及连接在行程开关本体上的触发杆,所述触发杆的末端安装有轴承,该轴承与镀膜夹具托板抵触接触,能有效减少摩擦,使动作灵敏;此外将该行程开关安装在传动固定板的外侧,所以基本上不受到热量辐射,可确保能在很高的工作温度下,正常稳定地动作,可靠地指示镀膜夹具托板的位置。
在本发明中,为了确保链条与待镀膜工件之间是水平直线传动,所述链条的下方均对应设有链条限位托板。
在本发明中,为了确保链条的运行性能,保证其能在高温环境下的可靠传动,所述链条的两侧均设有上防污隔板和下防污隔板。
在本发明中,所传动支架上安装有限位导轮,具有较好的链条运行限位作用。
在本发明中,由于放置有待镀膜工件的镀膜夹具托板重量较大,为了方便进料和回料,所述输送镀膜夹具托板的输送装置为托板自动回转装置,其能方便地从设备的一侧回转一周后返回至设备的同一侧。
在本发明中,为了使设备整体布局美观,各抽气机组置于真空室的同一侧,且抽气机组的主泵为分子泵,这样使得抽真空的抽气速稳定,而设置在镀膜室两端的真空室,可以使镀膜室内的气压呈平行的梯度均匀分布,获得很好的膜厚均匀性能。
在本发明中,所述两电气柜机组对应地排布于设备的两侧边,极大地节约材料与占地空间,同时减少了真空机组的功率,节约能源。
在本发明中,所述电控系统安装于机架上,操作控制方便。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:
(1)本发明所述的镀膜设备,通过链轮链条传动副带动安装有待镀膜工件的镀膜夹具托板直线连续运动,通过上下两对平面溅射靶对待镀膜工件的两面同时镀膜,镀膜效率大大提高,镀膜速度快,镀膜产品的均匀性能高;
(2)本发明中,将到位行程开关机构进行改进,增加了触发杆及触发杆末端部的轴承,极大减少摩擦产生的热,此外,由于行程开关结构安装在外传动架上,热辐射少,确保其能较高的耐热性能,使得到位行程开关机构能在较高的温度(可达到280度)的环境下正常工作,可靠性能好。
附图说明
图1是本发明所述的卧式连续溅射双面镀膜设备的前侧视图;
图2是本发明所述的卧式连续溅射双面镀膜设备的俯视图;
图3是本发明中镀膜真空室主视图;
图4是本发明中镀膜真空室俯视图;
图5是上述图3中A处放大示意图;
图6是上述图3中B处放大示意图;
图7是上述图4中C处放大示意图。
具体实施方式
如图1至图5所示,本发明所述的一种卧式连续溅射双面镀膜设备,包括机架1,从左至右依次安装在机架1上的若干镀膜前预处理真空室2、镀膜真空室3和若干镀膜后处理真空室4,以及对各真空室进行抽真空的抽气机组5,还包括用于安装镀膜夹具的镀膜夹具托板6和输送镀膜夹具托板6的输送装置7,所述镀膜真空室3内上下均对称地设有一对平面溅射靶8,所述镀膜真空室3内设有带动镀膜夹具托板6做往复运动的传动机构,所述传动机构包括安装在镀膜真空室3两端部的同步传动轴9和左右两侧的传动支架10,两同步传动轴9同一侧的端部之间通过传动副连接,所述镀膜夹具托板6的左右两侧对应地连接在传动副上由传动副带动其运动。
如图4所示,所述传动副为链轮链条传动副,包括链轮11和链条12,其中,链轮11对应安装在同步传动轴9的两端部,所述镀膜夹具托板6的左右两侧对应连接在左右两侧的链条12上。此外,为了确保链条12与待镀膜工件30之间是水平直线传动,所述链条12的下方均对应设有链条限位托板21;为了确保链条的运行性能,保证其能在高温环境下的可靠传动,所述链条12的两侧均设有上防污隔板22和下防污隔板23。此外,为了确保链条运行时的位置,所传动支架10上安装有限位导轮24,具有较好的链条12运行限位作用。
所述镀膜前预处理真空室2、镀膜真空室3和镀膜后处理真空室4之间都是通过阀门20隔断设计,各真空室的传动支架的外侧上均固定安装有到位行程开关机构。
以下以安装在镀膜真空室3内的行程开关机构进行具体说明:
如图4、图6、图7所示,所述到位行程开关机构包括行程开关本体13及连接在行程开关本体13上的触发杆14,所述触发杆14的末端安装有轴承15,当镀膜夹板托板6到位时,该轴承15与镀膜夹具托板6抵触接触,能有效减少摩擦,使动作灵敏;此外将该行程开关机构安装在传动支架10的外侧,所以基本上不受到热量辐射,可确保能在很高的工作温度下,正常稳定地动作,可靠地指示镀膜夹具托板6的位置。
在本发明中,由于放置有待镀膜工件30的镀膜夹具托板6重量较大,为了方便进料和回料,所述输送镀膜夹具托板6的输送装置7为托板自动回转装置,其能方便地从设备的一侧上料点回转一周后返回至设备的上料点位置,便于操作工人的工作。
在本发明中,为了使设备整体布局美观,各抽气机组5置于真空室的同一侧,且抽气机组5的主泵为分子泵,这样使得抽真空的抽气速稳定,而设置在镀膜室两端的真空室,可以使镀膜室内的气压呈平行的梯度均匀分布,获得很好的膜厚均匀性能。
在本发明中,所述两电气柜机组40对应地排布于设备的两侧边,极大地节约材料与占地空间,同时减少了真空机组的功率,节约能源;所述电控系统50安装于机架1上,操作控制方便。
以下具体说明本发明所述的卧式连续溅射双面镀膜设备的工作过程:
(1)首先,如图1所示,在设备左侧O处对镀膜夹具托板6上料,随着托板自动回转装置的输送,镀膜夹具托板6带着待镀膜工件30依次经过镀膜前预处理真空室2,到达至镀膜真空室3时,链轮链条传动副运动带动镀膜夹具托板6水平向前后运动,在镀膜夹具托板6上下方的平面溅射靶8对待镀膜工件30进行溅射镀膜;
(2)接着,溅射镀膜完毕,托板自动回转装置输送镀膜夹具托板6至镀膜后处理真空室4内进行处理;
(3)最后,镀膜后处理完毕,托板自动回转装置5带动镀膜夹具托板6从设备的一侧上升并往回水平运动,再下降至原始上料位置O处进行出料,至此,整个镀膜输送过程完毕。
本发明并不局限于上述实施方式,凡是对本发明的各种改动或变型不脱离本发明的精神和范围,倘若这些改动和变型属于本发明的权利要求和等同技术范围之内,则本发明也意味着包含这些改动和变型。

Claims (11)

1.一种卧式连续溅射双面镀膜设备,包括机架,从左至右依次安装在机架上的若干镀膜前预处理真空室、镀膜真空室和若干镀膜后处理真空室,以及对各真空室进行抽真空的抽气机组,还包括用于安装镀膜夹具的镀膜夹具托板和输送镀膜夹具托板的输送装置,其特征在于:所述镀膜真空室内上下均对称地设有一对平面溅射靶,所述镀膜真空室内设有带动镀膜夹具托板做往复运动的传动机构,所述传动机构包括安装在镀膜真空室两端部的同步传动轴和左右两侧的传动支架,两同步传动轴同一侧的端部之间通过传动副连接,所述镀膜夹具托板的左右两侧对应地连接在传动副上由传动副带动其运动。
2.根据权利要求1所述的卧式连续溅射双面镀膜设备,其特征在于:所述传动副为链轮链条传动副,其中,链轮对应安装在同步传动轴的两端部,所述镀膜夹具托板的左右两侧对应连接在左右两侧的链条上。
3.根据权利要求1所述的卧式连续溅射双面镀膜设备,其特征在于:所述镀膜前预处理真空室、镀膜真空室和镀膜后处理真空室之间都是通过阀门隔断设计,各真空室的传动支架的外侧上均固定安装有到位行程开关机构。
4.根据权利要求3所述的卧式连续溅射双面镀膜设备,其特征在于所述到位行程开关机构包括行程开关本体及连接在行程开关本体上的触发杆,所述触发杆的末端安装有轴承,该轴承与镀膜夹具托板抵触接触。
5.根据权利要求1至4任一项所述的卧式连续溅射双面镀膜设备,其特征在于:所述链条的下方均对应设有链条限位托板。
6.根据权利要求5所述的卧式连续溅射双面镀膜设备,其特征在于:所述链条的两侧均设有上防污隔板和下防污隔板。
7.根据权利要求1所述的卧式连续溅射双面镀膜设备,其特征在于:所传动支架上安装有限位导轮。
8.根据权利要求1所述的卧式连续溅射双面镀膜设备,其特征在于:所述输送镀膜夹具托板的输送装置为托板自动回转装置,其从设备的一侧进料口回转一周后返回至设备的同一侧进料口后出料。
9.根据权利要求1所述的卧式连续溅射双面镀膜设备,其特征在于:所述抽气机组置于真空室的同一侧,且抽气机组的主泵为分子泵,且主泵对应设置在镀膜室两端的真空室内。
10.根据权利要求1所述的卧式连续溅射双面镀膜设备,其特征在于:还包括两电气机组,该两电气柜机组对应地排布于设备的两侧边。
11.根据权利要求1所述的卧式连续溅射双面镀膜设备,其特征在于:所述机架上还安装有电控系统。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108909330A (zh) * 2018-07-27 2018-11-30 珠海市运泰利自动化设备有限公司 一种高兼容性可移动式抽真空设备
CN111020523A (zh) * 2019-12-12 2020-04-17 安徽顺彤包装材料有限公司 一种环保型包装镀膜机及其使用方法
CN111485218A (zh) * 2020-04-22 2020-08-04 广东生波尔光电技术有限公司 特种工件辅助镀膜的自动控制系统
CN112708867A (zh) * 2020-12-31 2021-04-27 广东谛思纳为新材料科技有限公司 一种往复镀膜设备及镀膜方法
CN114481061A (zh) * 2021-12-26 2022-05-13 凯盛科技股份有限公司蚌埠华益分公司 一种玻璃连续ito镀膜设备和工艺

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20090027805A (ko) * 2007-09-13 2009-03-18 (주)정보마이다스 산화물 코팅방식을 적용한 진공증착 시스템
CN102534539A (zh) * 2011-12-31 2012-07-04 肇庆市腾胜真空技术工程有限公司 双片或双面镀膜系统
CN202989277U (zh) * 2012-11-26 2013-06-12 深圳市创益科技发展有限公司 一种连续卧式磁控溅射设备的基片传送装置
CN104741315A (zh) * 2015-03-31 2015-07-01 红安县老君眉茶场 一种滚筒式杀青叶风选机

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20090027805A (ko) * 2007-09-13 2009-03-18 (주)정보마이다스 산화물 코팅방식을 적용한 진공증착 시스템
CN102534539A (zh) * 2011-12-31 2012-07-04 肇庆市腾胜真空技术工程有限公司 双片或双面镀膜系统
CN202989277U (zh) * 2012-11-26 2013-06-12 深圳市创益科技发展有限公司 一种连续卧式磁控溅射设备的基片传送装置
CN104741315A (zh) * 2015-03-31 2015-07-01 红安县老君眉茶场 一种滚筒式杀青叶风选机

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108909330A (zh) * 2018-07-27 2018-11-30 珠海市运泰利自动化设备有限公司 一种高兼容性可移动式抽真空设备
CN108909330B (zh) * 2018-07-27 2024-01-09 珠海市运泰利自动化设备有限公司 一种高兼容性可移动式抽真空设备
CN111020523A (zh) * 2019-12-12 2020-04-17 安徽顺彤包装材料有限公司 一种环保型包装镀膜机及其使用方法
CN111485218A (zh) * 2020-04-22 2020-08-04 广东生波尔光电技术有限公司 特种工件辅助镀膜的自动控制系统
CN112708867A (zh) * 2020-12-31 2021-04-27 广东谛思纳为新材料科技有限公司 一种往复镀膜设备及镀膜方法
CN114481061A (zh) * 2021-12-26 2022-05-13 凯盛科技股份有限公司蚌埠华益分公司 一种玻璃连续ito镀膜设备和工艺
CN114481061B (zh) * 2021-12-26 2023-10-27 凯盛科技股份有限公司蚌埠华益分公司 一种玻璃连续ito镀膜设备

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