CN114481061B - 一种玻璃连续ito镀膜设备 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种玻璃连续ITO镀膜设备和工艺，包括连续型镀膜舱，所述连续型镀膜舱中部设置有镀膜室，所述连续型镀膜舱两侧的舱室沿镀膜室左右两侧呈对称式排布，所述连续型镀膜舱两端均开设有内外相通的基片装取门槽，所述基片架进入真空过渡舱后将两侧的基片架配合槽进行封堵，若干所述负压孔通过管道与外部设置的负压泵连通，本发明的转运架在连续型镀膜舱内部实现循环转运，在转运过程中转运架通过进出真空过渡舱从而实现转运架在负压的连续型镀膜舱与外环境之间进行切换，减小了气体抽取时间，同时两侧均作为对侧基片的取片位置，又作为新基片的上片位置，从而在一个闭环循环中实现了两次镀膜，相较于传统的镀膜方式，大大提高了镀膜效率。
Description
技术领域
本发明涉及磁控溅射镀膜装置技术领域，具体为一种玻璃连续ITO镀膜设备。
背景技术
现有技术中公开号为“CN102206806B”的一种生产平板太阳能吸热镀膜板的方法，采用大面积金属片作为基片，载片架两面均可挂金属基片，在真空室外的减速机拖动传送机构带动载片架直线行进，载片架连续匀速依次进入连续镀膜室内的磁控溅射靶与相应的溅射腔室内，溅射腔室内两面均布置有磁控溅射靶，可同时对载片架两面的金属基片依次沉积太阳能吸热功能膜中的红外光反射层/吸热功能层/减反射层等膜层，该装置还提供了生产平板太阳能吸热镀膜板的立式镀膜装置，包括载片架、前真空锁定室、前保持室、前缓冲区、连续镀膜室、后缓冲区、后保持室和后锁定室，生产效率比卧式镀膜装置提高一倍，具有吸收率高、发射率低的优点。
但是上述该生产平板太阳能吸热镀膜板的方法所采用的设备在使用过程中仍然存在较为明显的缺陷：1、上述装置及现有技术中的连续型镀膜设备，均通过进出连续镀膜舱室的基片架进行镀膜，在镀膜过程中，基片架进出连续型镀膜舱，并在外部转运设备的输送下完成循环转运，但该种基片架转运方式使得进出连续性镀膜舱过程中均需进行长时间的内外气压过渡，从而造成基片架进出时间过长而耽误生产效率；2、上述装置采用外部转运方式，在转运过程中基片架通过外环境进行循环转运，从而造成了处于外环境中的基片架无法进行镀膜的问题，进而大大延误了镀膜效率。
发明内容
本发明的目的在于提供一种玻璃连续ITO镀膜设备，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：
一种玻璃连续ITO镀膜设备，包括连续型镀膜舱，所述连续型镀膜舱中部设置有镀膜室，所述连续型镀膜舱两侧的舱室沿镀膜室左右两侧呈对称式排布，所述连续型镀膜舱两端均开设有内外相通的基片装取门槽，两侧的所述基片装取门槽内均固定安装有真空过渡舱，所述连续型镀膜舱内部设置有若干输送链轮，若干所述输送链轮上设置有首尾相连且穿过两侧真空过渡舱的链条输送带与基片架，所述链条输送带及基片架在输送链轮的转动下在连续型镀膜舱内作往复循环移动；
两侧的所述真空过渡舱侧边从内至外分别开设有贯通的基片架配合槽以及气动启闭挡板插入槽，所述基片架通过穿设入基片架配合槽的链条输送带进出真空过渡舱，所述基片架进入真空过渡舱后将两侧的基片架配合槽进行封堵，两侧的所述连续型镀膜舱侧边还开设有气动板活动槽，所述气动板活动槽内均固定安装有气动推杆，所述气动推杆的伸缩臂上均固定连接有密封启闭挡板，两侧的所述密封启闭挡板伸缩进入真空过渡舱内用以将气动启闭挡板插入槽进行封闭，所述基片架配合槽和气动启闭挡板插入槽之间的真空过渡舱侧边还开设有若干负压孔，若干所述负压孔通过管道与外部设置的负压泵连通，两侧的所述真空过渡舱内侧还活动设置有密封配合板，所述密封配合板用于抵靠真空过渡舱位于连续型镀膜舱的内侧；
两侧的所述基片架同步进出真空过渡舱，所述密封启闭挡板与密封配合板交替工作用以将真空过渡舱的内外两侧进行封闭。
优选的，所述镀膜室前后两侧的内侧壁均安装有镀膜靶材。
优选的，所述镀膜室两侧的连续型镀膜舱内由近及远分别设置有加热室、过渡室和进出片室。
优选的，若干所述输送链轮两两对应分布于连续型镀膜舱内部两侧，所述连续型镀膜舱内部还设置有贯穿多个舱室的基片架导槽，所述基片架滑行设置于基片架导槽上部。
优选的，所述基片架竖直方向上设置有若干层基片隔间，若干所述基片隔间的上下两侧均设置有一对基片装配弹片。
优选的，所述密封配合板上开设有第一密封槽，所述第一密封槽内设置有第一密封胶圈，所述真空过渡舱与第一密封胶圈抵靠一侧开设有配合密封槽，所述基片架两侧开设有第二密封槽，两侧的所述第二密封槽内设置有第二密封胶圈，两侧的所述第二密封胶圈抵靠在基片架配合槽两侧。
优选的，两侧的所述密封配合板通过电动液压伸缩缸驱动，所述密封配合板抵靠一侧的真空过渡舱上还活动设置有若干挤压块，若干所述挤压块远离密封配合板一端均连接在同一密封框上，所述密封框设置于基片架配合槽侧边，所述密封框远离挤压块一侧活动抵靠在基片架一侧。
优选的，若干所述挤压块与真空过渡舱之间设置有挤压弹簧。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：
1、本发明的转运架在连续型镀膜舱内部实现循环转运，在转运过程中转运架通过进出真空过渡舱从而实现转运架在负压的连续型镀膜舱与外环境之间进行切换，由于真空过渡舱体积较小，因此气体抽取时间减少，从而实现了快速的负压环境与大气环境的切换；
2、本发明的连续型镀膜舱沿镀膜室两侧对称分布，且转运架位于连续型镀膜舱内，因此该连续型镀膜舱改变了现有技术中基片从一侧进入并从另一侧取出的单向镀膜缺陷，两侧均作为对侧基片的取片位置，同时又作为新基片的上片位置，从而在一个闭环循环中实现了两次镀膜，相较于传统的镀膜方式，大大提高了镀膜效率。
本发明的转运架在连续型镀膜舱内部实现循环转运，在转运过程中转运架通过进出真空过渡舱从而实现转运架在负压的连续型镀膜舱与外环境之间进行切换，减小了气体抽取时间，同时两侧均作为对侧基片的取片位置，又作为新基片的上片位置，从而在一个闭环循环中实现了两次镀膜，相较于传统的镀膜方式，大大提高了镀膜效率。
附图说明
图1为本发明的整体结构俯视示意图；
图2为本发明的真空过渡舱结构立体示意图；
图3为本发明的真空过渡舱剖视示意图；
图4为本发明的A区域放大结构示意图；
图5为本发明的B区域放大结构示意图；
图6为本发明的C区域放大结构示意图。
图中：1连续型镀膜舱、2镀膜室、3基片装取门槽、4真空过渡舱、5输送链轮、6链条输送带、7基片架、8基片架配合槽、9气动板活动槽、10气动推杆、11密封启闭挡板、12气动启闭挡板插入槽、13负压孔、14负压泵、15密封配合板、16镀膜靶材、17加热室、18过渡室、19进出片室、20基片架导槽、21基片隔间、22基片装配弹片、23第一密封槽、24第一密封胶圈、25配合密封槽、26第二密封槽、28电动液压伸缩缸、29挤压块、30密封框、31挤压弹簧。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例：
请参阅图1-6，本发明提供一种技术方案：
实施例一：
一种玻璃连续ITO镀膜设备，包括连续型镀膜舱1，连续型镀膜舱1中部设置有镀膜室2，连续型镀膜舱1两侧的舱室沿镀膜室2左右两侧呈对称式排布，连续型镀膜舱1两端均开设有内外相通的基片装取门槽3，两侧的基片装取门槽3内均固定安装有真空过渡舱4，连续型镀膜舱1内部设置有若干输送链轮5，若干输送链轮5上设置有首尾相连且穿过两侧真空过渡舱4的链条输送带6与基片架7，链条输送带6及基片架7在输送链轮5的转动下在连续型镀膜舱1内作往复循环移动；
连续型镀膜舱1内部为磁控溅射提供真空环境，从而便于靶材均匀附着在基片表面，连续型镀膜舱1中部设置有镀膜室2，通过镀膜室2进行靶材的轰击，连续型镀膜舱1两侧的舱室沿镀膜室2左右两侧呈对称式排布，通过对称式设置，使得两侧均能进行同步的镀膜操作，真空过渡舱4用于使得进入其内部的基片架7处于内部真空环境或外部大气环境，链条输送带6与基片架7首尾相连，且基片架7上开设有与输送链轮5齿距一直的齿槽，通过输送链轮5带轮的旋转带动基片架7及链条输送带6实现往复旋转；
两侧的真空过渡舱4侧边从内至外分别开设有贯通的基片架配合槽8以及气动启闭挡板插入槽12，基片架7通过穿设入基片架配合槽8的链条输送带6进出真空过渡舱4，基片架7进入真空过渡舱4后将两侧的基片架配合槽8进行封堵，两侧的连续型镀膜舱1侧边还开设有气动板活动槽9，气动板活动槽9内均固定安装有气动推杆10，气动推杆10的伸缩臂上均固定连接有密封启闭挡板11，两侧的密封启闭挡板11伸缩进入真空过渡舱4内用以将气动启闭挡板插入槽12进行封闭，基片架配合槽8和气动启闭挡板插入槽12之间的真空过渡舱4侧边还开设有若干负压孔13，若干负压孔13通过管道与外部设置的负压泵14连通，两侧的真空过渡舱4内侧还活动设置有密封配合板15，密封配合板15用于抵靠真空过渡舱4位于连续型镀膜舱1的内侧；
基片架配合槽8用于供基片架7通过，当基片架7进入基片架配合槽8内时，同时将基片架配合槽8进行封闭，气动启闭挡板插入槽12用于供密封启闭挡板11进入，当密封启闭挡板11进入气动启闭挡板插入槽12后用于将其进行封闭，真空过渡舱4内侧还活动设置有密封配合板15，通过密封配合板15将真空过渡舱4内侧进行抵靠，从而将基片架7与内部的真空环境进行隔离，通过密封配合板15和密封启闭挡板11的交替封闭，从而使得位于真空过渡舱4内部的基片架7交替处于真空环境和大气环境状态，进而完成基片架7上基片的装载或镀膜操作，通过负压泵14经负压孔13将真空过渡舱4内部的气体抽出，从而使得处于大气环境的真空过渡舱4向真空环境进行过程，在此过程中，通过密封启闭挡板11以及密封配合板15的封闭从而使得真空过渡舱4内部接近连续型镀膜舱1内部的气压状态，当抽气完成后通过打开密封配合板15从而实现真空过渡舱4与内部连续型镀膜舱1内部压力的平衡；
实施例二：
在该实施例中，镀膜室2前后两侧的内侧壁均安装有镀膜靶材16，通过磁控溅射的方式将镀膜靶材16轰击游离于镀膜室2内部，并通过沉积的方式附着在基片表面。
实施例三：
在该实施例中，镀膜室2两侧的连续型镀膜舱1内由近及远分别设置有加热室17、过渡室18和进出片室19，通过对称式设置，使得基片架7在一个循环中能够进行两侧镀膜过程，从而提高了镀膜效率。
实施例四：
在该实施例中，若干输送链轮5两两对应分布于连续型镀膜舱1内部两侧，连续型镀膜舱1内部还设置有贯穿多个舱室的基片架导槽20，基片架7滑行设置于基片架导槽20上部，通过基片架导槽20对基片架7的滑行提供支撑。
实施例五：
在该实施例中，基片架7竖直方向上设置有若干层基片隔间21，若干基片隔间21的上下两侧均设置有一对基片装配弹片22，通过将基片卡设在装配弹片22上从而实现基片的安装。
实施例六：
在该实施例中，密封配合板15上开设有第一密封槽23，第一密封槽23内设置有第一密封胶圈24，真空过渡舱4与第一密封胶圈24抵靠一侧开设有配合密封槽25，基片架7两侧开设有第二密封槽26，两侧的第二密封槽26内设置有第二密封胶圈，两侧的第二密封胶圈抵靠在基片架配合槽8两侧，通过密封配合板15上第一密封胶圈24的设置，当密封配合板15抵靠在真空过渡舱4一侧时，能够进一步保证装置的密封性，同时，通过在基片架7两侧设置第二密封胶圈，同样能够实现基片架7进入基片架配合槽8内的密封性
实施例七：
在该实施例中，两侧的密封配合板15通过电动液压伸缩缸28驱动，密封配合板15抵靠一侧的真空过渡舱4上还活动设置有若干挤压块29，若干挤压块29远离密封配合板15一端均连接在同一密封框30上，密封框30设置于基片架配合槽8侧边，密封框30远离挤压块29一侧活动抵靠在基片架7一侧，进一步的，当密封配合板15与真空过渡舱4抵靠接触时，密封配合板15挤压带动挤压块29移动，挤压块29移动带动密封框30向基片架7一侧进行移动，从而将基片架7进行挤压，进一步保证了基片架7的密封性，挤压块29与真空过渡舱4之间设置有挤压弹簧31，挤压弹簧31用于在无外力作用下将挤压块29向远离真空过渡舱4一侧进行移动。
工作原理：
该装置在运转过程中，基片架7在输送链轮5的工作下在连续型镀膜舱1内进行循环移动，此时两侧的密封启闭挡板11进入真空过渡舱4内的气动启闭挡板插入槽12内，此时真空过渡舱4处于真空环境中，随着两侧的基片架7进入基片架配合槽8内时，此时密封配合板15在电动液压伸缩缸28的推动下向真空过渡舱4一侧进行移动，从而将真空过渡舱4内侧进封闭，配合基片架7将基片架配合槽8两侧进行封闭，此时输送链轮5停止工作，气动推杆10带动密封启闭挡板11脱离气动启闭挡板插入槽12进入气动板活动槽9内，此时真空过渡舱4处于大气环境中，基片架7暴露于外部大气环境中，两侧的工作人员同步取下基片隔间21上的镀膜基片，并同步将新的待镀膜基片放置于基片隔间21内，基片的装卸工作完成后，密封启闭挡板11再次封闭气动启闭挡板插入槽12，此时负压泵14工作通过负压孔13将真空过渡舱4内部气体抽出，当气体抽取完成后，密封配合板15脱离真空过渡舱4一侧进行移动，此时真空过渡舱4与连续型镀膜舱1内部的真空环境连通，输送链轮5在外置电机的工作下再次旋转工作，使得基片架7脱离真空过渡舱4，从而向镀膜室2一侧进行移动，待后端的基片架7再次进入真空过渡舱4时，重复上述操作，即可实现基片的连续型镀膜。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (8)
1.一种玻璃连续ITO镀膜设备，包括连续型镀膜舱(1)，其特征在于：所述连续型镀膜舱(1)中部设置有镀膜室(2)，所述连续型镀膜舱(1)两侧的舱室沿镀膜室(2)左右两侧呈对称式排布，所述连续型镀膜舱(1)两端均开设有内外相通的基片装取门槽(3)，两侧的所述基片装取门槽(3)内均固定安装有真空过渡舱(4)，所述连续型镀膜舱(1)内部设置有若干输送链轮(5)，若干所述输送链轮(5)上设置有首尾相连且穿过两侧真空过渡舱(4)的链条输送带(6)与基片架(7)，所述链条输送带(6)及基片架(7)在输送链轮(5)的转动下在连续型镀膜舱(1)内作往复循环移动；
两侧的所述真空过渡舱(4)侧边从内至外分别开设有贯通的基片架配合槽(8)以及气动启闭挡板插入槽(12)，所述基片架(7)通过穿设入基片架配合槽(8)的链条输送带(6)进出真空过渡舱(4)，所述基片架(7)进入真空过渡舱(4)后将两侧的基片架配合槽(8)进行封堵，两侧的所述连续型镀膜舱(1)侧边还开设有气动板活动槽(9)，所述气动板活动槽(9)内均固定安装有气动推杆(10)，所述气动推杆(10)的伸缩臂上均固定连接有密封启闭挡板(11)，两侧的所述密封启闭挡板(11)伸缩进入真空过渡舱(4)内用以将气动启闭挡板插入槽(12)进行封闭，所述基片架配合槽(8)和气动启闭挡板插入槽(12)之间的真空过渡舱(4)侧边还开设有若干负压孔(13)，若干所述负压孔(13)通过管道与外部设置的负压泵(14)连通，两侧的所述真空过渡舱(4)内侧还活动设置有密封配合板(15)，所述密封配合板(15)用于抵靠真空过渡舱(4)位于连续型镀膜舱(1)的内侧；
两侧的所述基片架(7)同步进出真空过渡舱(4)，所述密封启闭挡板(11)与密封配合板(15)交替工作用以将真空过渡舱(4)的内外两侧进行封闭。
2.根据权利要求1所述的一种玻璃连续ITO镀膜设备，其特征在于：所述镀膜室(2)前后两侧的内侧壁均安装有镀膜靶材(16)。
3.根据权利要求2所述的一种玻璃连续ITO镀膜设备，其特征在于：所述镀膜室(2)两侧的连续型镀膜舱(1)内由近及远分别设置有加热室(17)、过渡室(18)和进出片室(19)。
4.根据权利要求3所述的一种玻璃连续ITO镀膜设备，其特征在于：若干所述输送链轮(5)两两对应分布于连续型镀膜舱(1)内部两侧，所述连续型镀膜舱(1)内部还设置有贯穿多个舱室的基片架导槽(20)，所述基片架(7)滑行设置于基片架导槽(20)上部。
5.根据权利要求3所述的一种玻璃连续ITO镀膜设备，其特征在于：所述基片架(7)竖直方向上设置有若干层基片隔间(21)，若干所述基片隔间(21)的上下两侧均设置有一对基片装配弹片(22)。
6.根据权利要求4或5所述的一种玻璃连续ITO镀膜设备，其特征在于：所述密封配合板(15)上开设有第一密封槽(23)，所述第一密封槽(23)内设置有第一密封胶圈(24)，所述真空过渡舱(4)与第一密封胶圈(24)抵靠一侧开设有配合密封槽(25)，所述基片架(7)两侧开设有第二密封槽(26)，两侧的所述第二密封槽(26)内设置有第二密封胶圈，两侧的所述第二密封胶圈抵靠在基片架配合槽(8)两侧。
7.根据权利要求6所述的一种玻璃连续ITO镀膜设备，其特征在于：两侧的所述密封配合板(15)通过电动液压伸缩缸(28)驱动，所述密封配合板(15)抵靠一侧的真空过渡舱(4)上还活动设置有若干挤压块(29)，若干所述挤压块(29)远离密封配合板(15)一端均连接在同一密封框(30)上，所述密封框(30)设置于基片架配合槽(8)侧边，所述密封框(30)远离挤压块(29)一侧活动抵靠在基片架(7)一侧。
8.根据权利要求7所述的一种玻璃连续ITO镀膜设备，其特征在于：若干所述挤压块(29)与真空过渡舱(4)之间设置有挤压弹簧(31)。
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