CN116623143B - 挂架收发系统及连续镀膜生产线 - Google Patents
挂架收发系统及连续镀膜生产线 Download PDFInfo
- Publication number
- CN116623143B CN116623143B CN202310907354.3A CN202310907354A CN116623143B CN 116623143 B CN116623143 B CN 116623143B CN 202310907354 A CN202310907354 A CN 202310907354A CN 116623143 B CN116623143 B CN 116623143B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- platform
- hanger
- coating
- receiving
- transmitting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 129
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 128
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 16
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 121
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims abstract description 84
- 238000013519 translation Methods 0.000 claims abstract description 65
- 239000000872 buffer Substances 0.000 claims description 26
- 239000007888 film coating Substances 0.000 claims description 20
- 238000009501 film coating Methods 0.000 claims description 20
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 18
- 238000013461 design Methods 0.000 claims description 9
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 claims description 9
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 claims description 7
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 claims description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 description 15
- 230000008569 process Effects 0.000 description 12
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 9
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 description 2
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 230000033764 rhythmic process Effects 0.000 description 1
- 230000007306 turnover Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/50—Substrate holders
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/568—Transferring the substrates through a series of coating stations
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Spray Control Apparatus (AREA)
Abstract
本申请涉及一种挂架收发系统及连续镀膜生产线,所述挂架收发系统包括:收发平台,以及至少一个挂架平台;挂架平台在使用时平行于收发平台放置;挂架平台上排列承载多个挂架,收发平台上设有平移平台;平移平台沿着平行方向进行运动,将传动结构对准挂架平台上任意位置处的挂架或者对准基片进出口位置;平移平台上设有传动结构;传动结构将装载未镀膜基片的挂架从挂架平台上取出,并且平移运动至基片进出口位置,将挂架推入镀膜连续线中;以及将装载已镀膜基片的挂架从镀膜连续线中取出,并且平移运动至挂架平台的指定位置,将挂架推入挂架平台中。该技术方案,应用于连续镀膜生产线,能够简化挂架收发结构,降低设备占地面积,降低了设备成本。
Description
技术领域
本申请涉及镀膜技术领域,尤其是涉及一种挂架收发系统及连续镀膜生产线。
背景技术
日用玻璃和电子玻璃是玻璃行业的重要产品,特别是电子玻璃是电子信息产业的基础原材料,包括柔性玻璃基板和大尺寸OLED玻璃及有关封装材料等属于高端玻璃,未来需求将大幅度增长,而镀膜技术在玻璃行业的应用范围也将日益提升。
对于面积较大的整块玻璃来说,如建筑行业的玻璃幕墙,光电、光热行业的玻璃盖板,大尺寸液晶显示器的投射版板等,或者是由大尺寸玻璃剪裁得到的手机、智能手表、光学仪器等设备使用的小尺寸玻璃,使用镀膜技术对表面进行镀膜都是非常重要的。对于大尺寸玻璃表面膜层的镀膜技术,主要是以连续镀膜生产线为主,常见的连续镀膜生产线,按照工艺流程,绝大部分结构包括:进料腔、预处理腔、镀膜腔、后处理腔和出料腔,可根据工艺需求或成本要求在上述几个腔室的结构和工艺顺序上进行适当调整。
目前,大部分连续生产线为大块面板单面镀膜,为了保证工艺效果,会增加镀膜腔室个数以增加有效镀膜时间,或是在每个镀膜腔中间插放一个缓冲腔,导致成本增加,且真空漏点也会增多,虽然增设密封阀一类的密封结构保证腔室之间的真空互不干扰,但是又会增加成本。部分连续镀膜线因上述或其他原因导致结构较长,为了利用这“短板”,会在其旁边增设一个相同长度的挂架回送平台用于装卸基片,此回送线路和镀膜线路首位相接成一个环形线路或平行线路,这种方式也会增加传动结构,装配、调试难度增加,且此结构无法适应基片双面镀膜需求,环形线路会增加内圈溅射靶的靶材运送难度,平行线路需要增加垂直距离,增大所需占地,也增加了两线路之间传递困难程度。而且,对于基片的双面镀膜需求,多数连续镀膜线采用的是将同一基片正反面两次送入方法,然而对于多样性的工艺要求,这种技术方案不仅增加了设备长度,还将镀膜时间翻倍,对产量和市场的匹配都表现不足。且双面连续线在传送方向只有一侧有溅射靶,增加了腔室个数和设备成本;有些连续镀膜线虽然在两侧安装溅射靶对实现双面镀膜需求,但在用于单面镀膜时,无法避免对另一侧溅射靶的污染问题。
常规的立式镀膜连续线的挂架收发设备,往往是基于环形运动路线依次进入镀膜腔室,这种挂架收发设备占用面积较大、成本高,且出片节奏容易受到外部因素影响;特别对于双面镀膜连续线,一般还需要增加类似环形的设备结构,导致设备结构过长,撞片几率高,影响了镀膜效率。
发明内容
本申请的目的旨在解决上述的技术缺陷之一,提供一种挂架收发系统及连续镀膜生产线,降低生产线的设备结构复杂度和设备占地空间,提升镀膜效率。
一种挂架收发系统,包括:收发平台,以及至少一个挂架平台;其中,所述收发平台设置在镀膜连续线的基片进出口位置前;
所述挂架平台上排列承载多个挂架,所述挂架用于放置待镀膜的基片,所述挂架从挂架平台侧面平移进出挂架平台;
所述收发平台上设有平移平台,所述平移平台上设有传动结构;
所述平移平台沿着收发平台平行方向进行往复运动,将所述传动结构对准所述挂架平台上任意位置处的挂架或者对准所述基片进出口位置;
所述传动结构将装载未镀膜基片的挂架从挂架平台上取出,并且平移运动至所述基片进出口位置,将所述挂架推入所述镀膜连续线中;以及将装载已镀膜基片的挂架从镀膜连续线中取出,并且平移运动至所述挂架平台的指定位置,将所述挂架推入所述挂架平台中。
在一个实施例中,所述收发平台还设有平台底座以及导轨;其中,所述导轨沿着长度方向设置在平台底座上,所述平移平台安装在所述导轨上,并在导轨上进行平移运动。
在一个实施例中,所述平移平台上设有支撑架;其中,所述支撑架上部设有夹持组件,用于固定需要移动的挂架;所述传动结构设于支撑架下部。
在一个实施例中,所述挂架平台为移动式设计;其中,所述挂架平台放置待镀膜的基片,并移动至收发平台一侧并平行于收发平台进行放置。
在一个实施例中,所述挂架平台下部安装有导轨阵列,用于支撑挂架的底部;
所述挂架平台上部安装用于侧向支撑的轴承阵列,用于支撑挂架的上端;
所述挂架平台的每个挂架位置的两侧安装位置传感器,用于检测挂架是否就位。
在一个实施例中,所述收发平台包括第一收发平台和至少一个第二收发平台;其中,所述第一收发平台设置在镀膜连续线的基片进出口位置前;所述第二收发平台位于第一收发平台两端,且形成垂直于第一收发平台平行方向放置;
所述第二收发平台平行放置有第二挂架平台;
所述第一收发平台从第二收发平台传入装载未镀膜基片的挂架,并且运送至所述基片进出口位置,将挂架推入所述镀膜连续线中,或者所述第一收发平台从镀膜连续线中取出装载已镀膜基片的挂架,将所述挂架传递至第二收发平台,第二收发平台运送至所述第二挂架平台的指定位置,将所述挂架推入所述第二挂架平台中。
在一个实施例中,所述第一收发平台上设有第一平移平台、第一旋转平台以及第一传动结构,其中,所述第一传动结构通过第一旋转平台安装到第一平移平台上;
所述第二收发平台上设有第二平移平台及第二传动结构;
所述第一平移平台沿着平行方向进行运动,所述第一传动结构从第二传动结构上传入装载未镀膜基片的挂架,并且平移运动至所述基片进出口位置,通过所述第一旋转平台转动90°后将挂架推入所述镀膜连续线中,或者所述第一传动结构从镀膜连续线中取出装载已镀膜基片的挂架,通过所述第一旋转平台转动90°后平移运动至所述第二收发平台,将所述挂架传递至第二传动结构;
所述第二平移平台在所述第二收发平台上沿着平行方向进行运动,所述第二传动结构将装载未镀膜基片的挂架从第二挂架平台上取出,并且平移运动至所述第一收发平台的端部位置,将所述挂架传递给第一传动结构;或者所述第二传动结构从第一传动结构传入装载已镀膜基片的挂架,并且平移运动至所述挂架平台的指定位置,将所述挂架推入所述挂架平台中。
在一个实施例中,所述第一收发平台还放置有第一挂架平台;
所述第一传动结构将装载未镀膜基片的挂架从第一挂架平台上取出,并且平移运动至所述基片进出口位置,将所述挂架推入所述镀膜连续线中;或者所述第一传动结构将装载已镀膜基片的挂架从镀膜连续线中取出,并且平移运动至所述第一挂架平台的指定位置,将所述挂架推入所述第一挂架平台中。
在一个实施例中,所述挂架上设置有识别码,所述收发平台上还设有扫描仪和薄膜检测仪;
所述收发平台还连接至镀膜控制系统,在镀膜控制系统控制下沿着平行方向进行运动以及传送挂架;
所述扫描仪用于扫描挂架上的识别码并传输至镀膜控制系统;所述薄膜检测仪用于检测已镀膜基片的薄膜参数并传输至镀膜控制系统;
所述镀膜控制系统根据识别码控制收发平台查找装载未镀膜基片的挂架在挂架平台中的位置,以及根据薄膜参数将已镀膜基片的挂架推入所述挂架平台中指定位置。
上述挂架收发系统的技术方案,设计了收发平台以及挂架平台,挂架平台为移动式设计,在使用时平行于收发平台放置;挂架平台上排列承载多个放置待镀膜的基片的挂架;收发平台上设有平移平台及传动结构;平移平台沿着平行方向进行运动,将传动结构对准挂架平台上任意位置处的挂架或者对准基片进出口位置;传动结构可以将装载未镀膜基片的挂架从挂架平台上取出并送入镀膜连续线中,以及将装载已镀膜基片的挂架从镀膜连续线中取出送回到挂架平台中。该技术方案,能够简化挂架收发结构,降低设备占地面积,适用于单面或者双面的镀膜连续线上使用,降低了设备成本。
进一步的,收发平台可以采用第一收发平台和至少一个第二收发平台组合设计,便于对挂架收发系统的收发能力进行扩展,设备空间占用少,可以根据场地实际情况进行不同组合使用,改造成本低。
进一步的,在收发平台上设置扫描仪和薄膜检测仪,连接镀膜控制系统,在镀膜控制系统控制下进行收发基片,并且能够根据挂架识别码实现对基片的精细化管理,而且还可以根据薄膜参数对已镀膜基片的挂架进行分类分区存放,从而提升了产品镀膜控制管理效率。
一种连续镀膜生产线,包括:挂架收发系统,依次设于连续线上的缓冲平台、第一处理腔室、镀膜腔室、第二处理腔室以及回送腔室;所述连续线包括并行的去程线和回程线;所述挂架由挂架收发系统发送进入去程线并由挂架收发系统从回程线上回收;
所述第一处理腔室,用于对所述挂架上承载的基片进行镀膜前的预处理或者进行镀膜后的后处理;
所述镀膜腔室两侧分别设置溅射靶,用于对所述挂架承载的基片进行镀膜;
所述第二处理腔室,用于对所述挂架承载的基片进行镀膜后的后处理或者进行镀膜前的预处理;
所述回送腔室,用于将所述挂架从去程线末端移动至回程线的首端;其中,所述挂架通过回程线运行至缓冲平台,并返回至挂架收发系统。
上述连续镀膜生产线的技术方案,能够简化挂架收发结构,降低设备占地面积,适用于单面或者双面的镀膜连续线上使用,降低了设备成本,提升镀膜效果;针对于现有连续线镀膜系统的改进,解决了镀膜连续线结构过长的问题,降低了单线镀膜的连续线长度,降低设备成本和占用空间,提高镀膜效果,满足当前市场需求。
本申请附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出,这些将从下面的描述中变得明显,或通过本申请的实践了解到。
附图说明
本申请上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解,其中:
图1是一个实施示例的连续线镀膜系统的结构示意图;
图2是一个示例的挂架收发系统立体结构示意图;
图3是一个示例的收发平台结构示意图;
图4是另一个示例的挂架收发系统立体结构示意图;
图5是一个示例的第一收发平台结构立体图;
图6是一个示例的第一收发平台结构截面图;
图7是一个实施例的第一处理腔室结构示意图。
具体实施方式
下面详细描述本申请的实施例,所述实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,仅用于解释本申请,而不能解释为对本申请的限制。
本技术领域技术人员可以理解,除非特意声明,这里使用的单数形式“一”、“一个”、“所述”和“该”也可包括复数形式。应该进一步理解的是,本申请的说明书中使用的措辞“包括”是指存在所述特征、整数、步骤、操作,但是并不排除存在或添加一个或多个其他特征、整数、步骤、操作。
本技术领域技术人员可以理解,除非另外定义,这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语),具有与本申请所属领域中的普通技术人员的一般理解相同的意义。还应该理解的是,诸如通用字典中定义的那些术语,应该被理解为具有与现有技术的上下文中的意义一致的意义,并且除非像这里一样被特定定义,否则不会用理想化或过于正式的含义来解释。
本申请的技术方案,主要是针对于现有连续线镀膜系统的收发系统进行改进,参考如图1所示,图1是一个实施示例的连续线镀膜系统的结构示意图,该生产线连续线包括:挂架收发系统10,依次以及设于连续线上的缓冲平台21、第一处理腔室22、镀膜腔室23、第二处理腔室24以及回送腔室25;所述连续线包括并行的去程线和回程线;连续线上设有导轨,分别内置在缓冲平台21、第一处理腔室22、镀膜腔室23、第二处理腔室24以及回送腔室25中;如图示,去程线的首端和回程线的末端在挂架收发系统10前,去程线的末端和回程线的首端在回送腔室25内;该连续线镀膜系统,可以减少镀膜系统的长度,降低设备成本和占用空间,同时提升镀膜效率,满足当前市场需求对于生产厂商的高效的工艺要求。
下面阐述本申请的挂架收发系统的实施例。本实施例的挂架收发系统可以应用于各种镀膜连续线上,包括但不限于本申请实施例所提供的连续镀膜生产线,特此声明。
如图2所示,图2是一个示例的挂架收发系统立体结构示意图,该挂架收发系统10包括:收发平台11,以及至少一个挂架平台12;其中,收发平台11设置在镀膜连续线的基片进出口位置前,如放置在镀膜连续线的缓冲平台21前面;挂架平台12可以为移动式设计,在使用时,挂架平台12平行于收发平台11放置;挂架平台12上排列承载多个挂架01,挂架01用于放置待镀膜的基片,挂架01可以从挂架平台12侧面平移进出挂架平台12。
收发平台11上设有平移平台111,平移平台111上设有传动结构112;传动结构112跟随平移平台111沿着平行方向进行往复平移运动。
平移平台111在收发平台11上移动,将传动结构112对准挂架平台12上任意位置处的挂架01或者对准基片进出口位置。传动结构112将装载未镀膜基片的挂架01从挂架平台12上取出,并且平移运动至镀膜连续线的基片进出口位置,将挂架01推入镀膜连续线中;同时将装载已镀膜基片的挂架01从镀膜连续线中取出,并且平移运动至挂架平台12的指定位置,将挂架01推入挂架平台12中。
示例性的,在镀膜过程中,基片在清洗间完成清洁后装载在挂架01上,然后将挂架01放置于挂架平台12上,一般情况下,每个挂架平台12可以容纳30个挂架01;然后将挂架平台12放置在与收发平台11平行位置;在去程线上,收发平台11按特定顺序从挂架平台12通过传动结构112取出装载未镀膜基片的挂架01,由平移平台111移动至缓冲平台21对准去程线,再由传动结构112将挂架01按节拍依次进入去程线进行镀膜。在回程线上,缓冲平台21对返回的挂架01进行缓冲停留,平移平台111移动至缓冲平台21对准回程线,由传动结构112将装载已镀膜基片的挂架01取回,然后由平移平台111将其移动至挂架平台12对准指定的空缺位置,再由传动结构112将挂架01推入挂架平台12中,在基片镀膜完成后,将挂架平台12移动回至下一个工序间卸下所有基片,然后再转移至安装室装上未镀膜基片,如此一个生产轮回完成。
在一个实施例中,参考图3,图3是一个示例的收发平台结构示意图,收发平台11还设有平台底座113以及导轨114;其中导轨114沿着长度方向设置在平台底座113上,平移平台111安装在导轨114上,并在导轨114上进行平移运动。进一步的,平移平台111上还设有支撑架115;其中支撑架115上部设有夹持组件115a,用于固定需要移动的挂架01;传动结构112设于支撑架115下部。
示例性的,收发平台11主要结构可以包括可往复移动的平移平台111、传动结构112、支撑架115及夹持组件115a;其中,平移平台111下可以包括脚轮与脚座,用于移动或定位;平移平台111由第一驱动电机141进行驱动,使得平移平台111可以沿着导轨114往复移动;传动结构112可以采用V形导轨并由第二驱动电机142进行控制驱动;支撑架115采用三立柱式结构,其中上部的夹持组件115a采用磁导向机构组,磁导向机构组的进出位置可以安装位置传感器,用于检测挂架01是否开始送入或完全送出,从而控制第二驱动电机142启停。
在一个实施例中,挂架平台12可以自带脚轮与脚座,便于移动或定位,挂架平台12中下部可以安装V形的导轨阵列121,分别配合支撑各个挂架01底部,挂架平台12上部还可以安装用于侧向支撑的轴承阵列122,可以支撑每个挂架01上端的摩擦导杆,进一步的,在每个挂架01位置的两侧还可以安装位置传感器,用于检测挂架01是否就位。
如上述实施例的收发平台11和挂架平台12,在使用时,可以将收发平台11放置在缓冲平台21前,然后每个挂架平台12在装载未镀膜基片之后,移动到收发平台11一侧平行放置,然后进行取出未镀膜基片和装入已镀膜基片的操作。例如,将1号挂架01位、收发平台11的起始接收点位和缓冲平台21接收位对齐于一条直线上,收发平台11依次传递来自挂架平台12的挂架01并将其送入缓冲平台21,同时根据节拍将承载已镀膜基片的挂架01接收到挂架平台12,送回其在挂架平台12上原来的1号挂架01位置。
上述挂架收发系统的技术方案,设计了收发平台11以及挂架平台12,挂架平台12为移动式设计,在使用时平行于收发平台11放置;挂架平台12上排列承载多个放置待镀膜的基片的挂架01;收发平台11上设有平移平台111及传动结构112;平移平台111沿着平行方向进行运动,将传动结构112对准挂架平台12上任意位置处的挂架01或者移动到缓冲平台21前对准基片进出口位置;传动结构112可以将装载未镀膜基片的挂架01从挂架平台12上取出并送入镀膜连续线中,将装载已镀膜基片的挂架01从镀膜连续线中取出送回到挂架平台12中。该技术方案,能够简化挂架收发结构,降低设备占地面积,适用于单面或者双面的镀膜连续线上使用,降低了设备成本。
在一个实施例中,如图3,挂架01上还可以设置有识别码,收发平台11上还设有扫描仪116和薄膜检测仪117;收发平台11及扫描仪116和薄膜检测仪117还连接至镀膜控制系统03,在镀膜控制系统03控制下沿着平行方向进行运动以及传送挂架01;扫描仪116用于扫描挂架01上的识别码并传输至镀膜控制系统03;薄膜检测仪117用于检测已镀膜基片的薄膜参数并传输至镀膜控制系统03;镀膜控制系统03根据识别码控制收发平台11查找装载未镀膜基片的挂架01在挂架平台12中的位置,以及根据薄膜参数将已镀膜基片的挂架01推入挂架平台12中指定位置。
在收发平台11上设置扫描仪116和薄膜检测仪117,连接镀膜控制系统03,在镀膜控制系统03控制下进行收发基片,并且能够根据挂架01上的识别码实现对每一个基片进行精细化管理,而且还可以根据薄膜参数对已镀膜基片的挂架进行分类分区存放,比如,通过检测得到不同镀膜质量的基片,然后将质量相近的放入到同一个挂架平台12上,或者放置在挂架平台12的某个特定区域上,当从挂架01上卸载基片时,可以实现快速分类卸载,从而提升了产品镀膜控制管理效率。
为了进一步提升挂架收发系统的空间利用率,同时提升挂架收发效率,挂架收发系统可以采用多种结构设计的收发平台方案。
在一个实施例中,如图4所示,图4是另一个示例的挂架收发系统立体结构示意图,对于收发平台11,其可以包括第一收发平台11a和至少一个第二收发平台11b;其中,第一收发平台11a设置在镀膜连续线的基片进出口位置前;第二收发平台11b位于第一收发平台11a两端位置上,如图中所示是在两端均设置了第二收发平台11b,且形成垂直于第一收发平台11a平行方向放置。
第一收发平台11a上设有第一平移平台111a、第一旋转平台103a以及第一传动结构112a,其中,第一传动结构112a通过第一旋转平台103a安装到第一平移平台111a上;第二收发平台11b上设有第二平移平台111b及第二传动结构112a;第二收发平台11b平行放置有挂架平台12。
第一平移平台111a沿着平行方向进行运动,第一传动结构112a从第二传动结构112b上传入装载未镀膜基片的挂架01,并且平移运动至基片进出口位置,即对准缓冲平台21位置,通过第一旋转平台103a转动90°后将挂架01推入镀膜连续线中,或者第一传动结构112a从镀膜连续线中取出装载已镀膜基片的挂架01,通过第一旋转平台103a转动90°后平移运动至第二收发平台11b,将挂架01传递至第二传动结构112b。
第二平移平台111b在第二收发平台11b上沿着平行方向进行运动,第二传动结构112b将装载未镀膜基片的挂架01从第二挂架平台12b上取出,并且平移运动至第一收发平台11a的端部位置,将挂架01传递给第一传动结构112a;或者第二传动结构112b从第一传动结构112a传入装载已镀膜基片的挂架01,并且平移运动至第二挂架平台12b的指定位置,将挂架01推入挂架平台12中。
在一个实施例中,参考图5和图6,图5是一个示例的第一收发平台结构立体图,图6是一个示例的第一收发平台结构截面图,对于第一旋转平台103a,其是安装在平移平台111a上,而第一平移平台111a坐落在第一收发平台11a的平台底座的轨道上,收发平台11a可以设置一个旋转机构161和第三驱动电机143,旋转机构161安装在止推轴承上,并由固定件拉进,第三驱动电机143安装在旋转机构161上,第三驱动电机143上安装有齿轮并与第一平移平台111a上的固定齿轮啮合,通过齿轮传动驱动旋转机构161进行定轴旋转,转动时第三驱动电机143随旋转机构161一并转动,从而实现旋转第一平移平台111a及第一传动结构112a的目的。另外,对于第一收发平台11a其也可以设置扫描仪116和薄膜检测仪117连接到镀膜控制系统03进行控制。对于第二收发平台11b的结构,可以参考图2至图3的收发平台结构示意图,在此不再赘述。
如上述实施例的挂架收发系统,在生产过程中,对于挂架01的发送,当挂架01就位后,第一挂架平台12a运动到零点位置并触发位置开关,收到反馈信号后,第一平移平台111a移动至第一收发平台11a的一端,到达限定位置后,第一旋转平台103a驱动电机开始转动,将第一旋转平台103a逆时针旋转90°,使传动结构112a的V型轨道对准第二收发平台11b的第二传动结构112b的V型轨道,然后第一传动结构112a和第二传动结构112b同时同向转动传动轮,将挂架01由第二收发平台11b转移至第一收发平台11a,挂架01在收发平台11a的第一传动结构112a上就位后,第一旋转平台103a逆顺针旋转90°,第一平移平台111a再平移至缓冲平台21,使第一传动结构112a的轨道重合于缓冲平台21的去程线的轨道,然后第一传动结构112a和缓冲平台21的轨道轮同时驱动,将挂架01送出,自此,挂架01的发送工序完成。
对于挂架01的接收,第一收发平台11a的第一平移平台111a平移至第一传动结构112a的轨道重合于缓冲平台21的回程轨道,然后第一传动结构112a和缓冲平台21的轨道轮同时驱动,将挂架01接回,到达限定位置后,第一平移平台111a再移动至第一收发平台11a的一端,到达限定位置后,第一旋转平台103a驱动电机开始转动,将第一旋转平台103a逆时针旋转90°,使第一传动结构112a的V型轨道对准第二收发平台11b的第二传动结构112b的V型轨道,然后第一传动结构112a和第二传动结构112b同时同向转动传动轮,将挂架01由第一收发平台11a转移至第二收发平台11b,挂架01在第二收发平台11b的第二传动结构112b上就位后,第二平移平台111b平行移动到与其平行放置的第二挂架平台12b的挂架01对应序号位置,放回挂架01,自此,一个挂架01的回收工序完成。
在一个实施例中,如图4所示,第一收发平台11a除了与第二收发平台11b传递挂架01之外,第一收发平台11a也平行放置有第一挂架平台12a;因此,第一传动结构112a还可以将装载未镀膜基片的挂架01从第一挂架平台12a上取出,并且平移运动至基片进出口位置,将挂架01推入镀膜连续线中;或者第一传动结构112a将装载已镀膜基片的挂架01从镀膜连续线中取出,并且平移运动至第一挂架平台12a的指定位置,将挂架01推入挂架平台12中,在使用过程中,第一旋转平台103a无需转动;如图中可见,可以同时扩展至三个挂架平台12进行使用,实际应用中,则可以根据需求从任意的挂架平台12上取出挂架01以及将挂架01送回到任意的挂架平台12上。
上述实施例的技术方案,收发平台11可以采用第一收发平台11a和至少一个第二收发平台11b的组合设计,收发平台11a可以接收来自第一挂架平台12a的挂架01,也可以接收来自第二挂架平台12b的挂架01,便于对挂架收发系统的收发能力进行扩展,设备空间占用少,可以根据场地实际情况进行不同组合使用,改造成本低。
下面阐述连续镀膜生产线的实施例。
参考图1,该生产线主要包括:挂架收发系统10,依次设于连续线上的缓冲平台21、第一处理腔室22、镀膜腔室23、第二处理腔室24以及回送腔室25;连续线包括并行的去程线和回程线;连续线上设有导轨,分别内置在缓冲平台21、第一处理腔室22、镀膜腔室23、第二处理腔室24以及回送腔室25中;如图示,去程线的首端和回程线的末端在挂架收发系统10前,去程线的末端和回程线的首端在回送腔室04回送腔室25内。
挂架收发系统10配置了多个挂架01,用于放置镀膜的基片;对于挂架01,其是运行在连续线的导轨上,用于放置镀膜的基片,并从挂架收发系统10进入去程线;其中,对于连续线上的导轨,可以采用V形导轨机构,挂架01可以在V形导轨上进行运动,通过结构简洁挂架01来承载基片,相对于“环形线”装载基片,也可以减少占地面积与成本。
对于缓冲平台21,其是用于对连续线与挂架收发系统10之间的挂架01进行节拍缓冲作用。
对于第一处理腔室22,其是用于对挂架01上承载的基片进行镀膜前的预处理或者进行镀膜后的后处理;在此处,镀膜前的预处理主要是挂架01及其基片从挂架收发系统10进入到去程线上的缓冲、抽真空以及进入到镀膜腔室23前的加热处理,镀膜后的后处理主要是挂架01及其基片进入回送腔室25前的降温处理。
参考图7所示,图7是一个实施例的第一处理腔室结构示意图,可以包括:依次设于连续线上的常压腔室222、抽气腔室223A以及第一加热腔室224A;以及设于回程线上的第二冷却腔室224B、升压腔室223B;其中抽气腔室223A与升压腔室223B相对设置,并通过隔板分隔,第一加热腔室224A与第二冷却腔室224B相对设置,并通过壁板分隔。
对于镀膜腔室23,其是用于通过溅射镀膜方式对挂架01承载的基片进行溅射镀膜;其中,镀膜腔室23内部设有隔板将腔室分为去程线和回程线两个部分,隔板两侧的腔室外侧多个竖直平行放置的溅射靶231,上述结构的镀膜腔室23,可以对基片进行单面镀膜,通过两侧的溅射靶231阵列,将镀膜连续线增长了一倍,减掉了同等溅射效果多腔室的成本,同时也可以满足双面镀膜的结构要求,中间的隔板严格分隔去程线和回程线两条进出连续线,避免了相对设置的溅射靶231空之间的相互污染,提升镀膜效果。
如图1,对于第二处理腔室24,其是用于对挂架01承载的基片进行镀膜后的后处理或者进行镀膜前的预处理;在此处,镀膜后的后处理主要是在去程线上对挂架01及其基片离开镀膜腔室23之后的降温处理,以及在回程线上对再次进入镀膜腔室23的挂架01及其基片的加热处理。
第二处理腔室24可以包括设在去程线上的第一后处理腔室241A和设在回程线上的第二预处理腔室241B;其中第一后处理腔室241A与第二预处理腔室241B通过隔板进行分隔。
对于回送腔室25,用于将挂架01从去程线末端移动至回程线的首端,如果是双面镀膜,则直接进行平移,如果是单面镀膜,则需要将挂架01旋转180°,由此延长镀膜连续线,降低设备成本,减少占地空间。
如上述实施例的技术方案,通过设计了并行的去程线和回程线,挂架01可以承载基片由挂架收发系统10进入连续线或者从连续线上回收;能够简化挂架收发结构,降低设备占地面积,适用于单面或者双面的镀膜连续线上使用,降低了设备成本,提升镀膜效果;针对于现有连续线镀膜系统的改进,解决了镀膜连续线结构过长的问题,降低了单线镀膜的连续线长度,降低设备成本和占用空间,提高镀膜效果,满足当前市场需求。
以上所述仅是本申请的部分实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本申请原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本申请的保护范围。
Claims (9)
1.一种挂架收发系统,其特征在于,包括:收发平台,以及至少一个挂架平台;其中,所述收发平台设置在镀膜连续线的基片进出口位置前;
所述挂架平台上排列承载多个挂架,所述挂架用于放置待镀膜的基片,所述挂架从挂架平台侧面平移进出挂架平台;所述挂架平台为移动式设计;其中,所述挂架平台放置待镀膜的基片,并移动至收发平台一侧并平行于收发平台进行放置;
所述收发平台上设有平移平台,所述平移平台上设有传动结构;
所述平移平台沿着收发平台平行方向进行往复运动,将所述传动结构对准所述挂架平台上任意位置处的挂架或者对准所述基片进出口位置;
所述传动结构将装载未镀膜基片的挂架从挂架平台上取出,并且平移运动至所述基片进出口位置,将所述挂架推入所述镀膜连续线中;以及将装载已镀膜基片的挂架从镀膜连续线中取出,并且平移运动至所述挂架平台的指定位置,将所述挂架推入所述挂架平台中。
2.根据权利要求1所述的挂架收发系统,其特征在于,所述收发平台还设有平台底座以及导轨;其中,所述导轨沿着长度方向设置在平台底座上,所述平移平台安装在所述导轨上,并在导轨上进行平移运动。
3.根据权利要求2所述的挂架收发系统,其特征在于,所述平移平台上设有支撑架;其中,所述支撑架上部设有夹持组件,用于固定需要移动的挂架;所述传动结构设于支撑架下部。
4.根据权利要求1所述的挂架收发系统,其特征在于,所述挂架平台下部安装有导轨阵列,用于支撑挂架的底部;
所述挂架平台上部安装用于侧向支撑的轴承阵列,用于支撑挂架的上端;
所述挂架平台的每个挂架位置的两侧安装位置传感器,用于检测挂架是否就位。
5.根据权利要求1所述的挂架收发系统,其特征在于,所述收发平台包括第一收发平台和至少一个第二收发平台;其中,所述第一收发平台设置在镀膜连续线的基片进出口位置前;所述第二收发平台位于第一收发平台两端,且形成垂直于第一收发平台平行方向放置;
所述第二收发平台平行放置有第二挂架平台;
所述第一收发平台从第二收发平台传入装载未镀膜基片的挂架,并且运送至所述基片进出口位置,将挂架推入所述镀膜连续线中,或者所述第一收发平台从镀膜连续线中取出装载已镀膜基片的挂架,将所述挂架传递至第二收发平台,第二收发平台运送至所述第二挂架平台的指定位置,将所述挂架推入所述第二挂架平台中。
6.根据权利要求5所述的挂架收发系统,其特征在于,所述第一收发平台上设有第一平移平台、第一旋转平台以及第一传动结构,其中,所述第一传动结构通过第一旋转平台安装到第一平移平台上;
所述第二收发平台上设有第二平移平台及第二传动结构;
所述第一平移平台沿着平行方向进行运动,所述第一传动结构从第二传动结构上传入装载未镀膜基片的挂架,并且平移运动至所述基片进出口位置,通过所述第一旋转平台转动90°后将挂架推入所述镀膜连续线中,或者所述第一传动结构从镀膜连续线中取出装载已镀膜基片的挂架,通过所述第一旋转平台转动90°后平移运动至所述第二收发平台,将所述挂架传递至第二传动结构;
所述第二平移平台在所述第二收发平台上沿着平行方向进行运动,所述第二传动结构将装载未镀膜基片的挂架从第二挂架平台上取出,并且平移运动至所述第一收发平台的端部位置,将所述挂架传递给第一传动结构;或者所述第二传动结构从第一传动结构传入装载已镀膜基片的挂架,并且平移运动至所述第二挂架平台的指定位置,将所述挂架推入所述第二挂架平台中。
7.根据权利要求6所述的挂架收发系统,其特征在于,所述第一收发平台还放置有第一挂架平台;
所述第一传动结构将装载未镀膜基片的挂架从第一挂架平台上取出,并且平移运动至所述基片进出口位置,将所述挂架推入所述镀膜连续线中;或者所述第一传动结构将装载已镀膜基片的挂架从镀膜连续线中取出,并且平移运动至所述第一挂架平台的指定位置,将所述挂架推入所述第一挂架平台中。
8.根据权利要求1所述的挂架收发系统,其特征在于,所述挂架上设置有识别码,所述收发平台上还设有扫描仪和薄膜检测仪;
所述收发平台还连接至镀膜控制系统,在镀膜控制系统控制下沿着平行方向进行运动以及传送挂架;
所述扫描仪用于扫描挂架上的识别码并传输至镀膜控制系统;所述薄膜检测仪用于检测已镀膜基片的薄膜参数并传输至镀膜控制系统;
所述镀膜控制系统根据识别码控制收发平台查找装载未镀膜基片的挂架在挂架平台中的位置,以及根据薄膜参数将已镀膜基片的挂架推入所述挂架平台中指定位置。
9.一种连续镀膜生产线,其特征在于,包括:权利要求1-8任一项所述的挂架收发系统,依次设于连续线上的缓冲平台、第一处理腔室、镀膜腔室、第二处理腔室以及回送腔室;所述连续线包括并行的去程线和回程线;所述挂架由挂架收发系统发送进入去程线并由挂架收发系统从回程线上回收;
所述第一处理腔室,用于对所述挂架上承载的基片进行镀膜前的预处理或者进行镀膜后的后处理;
所述镀膜腔室两侧分别设置溅射靶,用于对所述挂架承载的基片进行镀膜;
所述第二处理腔室,用于对所述挂架承载的基片进行镀膜后的后处理或者进行镀膜前的预处理;
所述回送腔室,用于将所述挂架从去程线末端移动至回程线的首端;其中,所述挂架通过回程线运行至缓冲平台,并返回至挂架收发系统。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202310907354.3A CN116623143B (zh) | 2023-07-24 | 2023-07-24 | 挂架收发系统及连续镀膜生产线 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202310907354.3A CN116623143B (zh) | 2023-07-24 | 2023-07-24 | 挂架收发系统及连续镀膜生产线 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN116623143A CN116623143A (zh) | 2023-08-22 |
CN116623143B true CN116623143B (zh) | 2023-11-10 |
Family
ID=87590639
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202310907354.3A Active CN116623143B (zh) | 2023-07-24 | 2023-07-24 | 挂架收发系统及连续镀膜生产线 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN116623143B (zh) |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20120055355A (ko) * | 2010-11-23 | 2012-05-31 | 엘지디스플레이 주식회사 | 인라인 스퍼터링 시스템 |
CN107904572A (zh) * | 2017-12-19 | 2018-04-13 | 江苏微导纳米装备科技有限公司 | 一种原子层沉积自动镀膜装置 |
CN111471965A (zh) * | 2020-04-30 | 2020-07-31 | 苏州迈正科技有限公司 | 传送载板、真空镀膜设备及真空镀膜方法 |
CN215922896U (zh) * | 2021-08-11 | 2022-03-01 | 秦川 | 一种用于真空镀膜设备自动上下料的料仓 |
CN114481061A (zh) * | 2021-12-26 | 2022-05-13 | 凯盛科技股份有限公司蚌埠华益分公司 | 一种玻璃连续ito镀膜设备和工艺 |
WO2022151644A1 (zh) * | 2021-01-18 | 2022-07-21 | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 | 一种离子束镀膜设备及其镀膜方法 |
CN116167390A (zh) * | 2023-02-28 | 2023-05-26 | 广东利元亨智能装备股份有限公司 | 载板识别方法和pvd镀膜设备 |
-
2023
- 2023-07-24 CN CN202310907354.3A patent/CN116623143B/zh active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20120055355A (ko) * | 2010-11-23 | 2012-05-31 | 엘지디스플레이 주식회사 | 인라인 스퍼터링 시스템 |
CN107904572A (zh) * | 2017-12-19 | 2018-04-13 | 江苏微导纳米装备科技有限公司 | 一种原子层沉积自动镀膜装置 |
CN111471965A (zh) * | 2020-04-30 | 2020-07-31 | 苏州迈正科技有限公司 | 传送载板、真空镀膜设备及真空镀膜方法 |
WO2022151644A1 (zh) * | 2021-01-18 | 2022-07-21 | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 | 一种离子束镀膜设备及其镀膜方法 |
CN215922896U (zh) * | 2021-08-11 | 2022-03-01 | 秦川 | 一种用于真空镀膜设备自动上下料的料仓 |
CN114481061A (zh) * | 2021-12-26 | 2022-05-13 | 凯盛科技股份有限公司蚌埠华益分公司 | 一种玻璃连续ito镀膜设备和工艺 |
CN116167390A (zh) * | 2023-02-28 | 2023-05-26 | 广东利元亨智能装备股份有限公司 | 载板识别方法和pvd镀膜设备 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN116623143A (zh) | 2023-08-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN101085522B (zh) | 承接和转移玻璃底板的设备和方法 | |
US20050129489A1 (en) | Load lock and load lock chamber using the same | |
CN116623143B (zh) | 挂架收发系统及连续镀膜生产线 | |
CN100534266C (zh) | 电子零件安装装置 | |
CN210314473U (zh) | 一种真空镀膜机的基板搬送系统 | |
CN101875465A (zh) | 一种无绳循环多轿厢电梯及其循环系统 | |
CN103208441A (zh) | 真空处理装置 | |
WO2007033257A2 (en) | Methods and apparatus for a band to band transfer module | |
CN111889318A (zh) | 一种手机摄像头模组的单通道贴合组装设备 | |
CN111354668B (zh) | 硅片传输系统及方法 | |
CN105600449A (zh) | 基板传送装置及其传送方法 | |
WO2021045335A1 (ko) | 테이블 캔시머 | |
KR20080072538A (ko) | 프로세스 챔버, 인라인 코팅 장치 및 기판 처리 방법 | |
WO2020119227A1 (zh) | 传送装置及刻蚀设备 | |
CN212263753U (zh) | 一种手机摄像头模组的单通道贴合组装设备 | |
CN117305772A (zh) | 一种单腔多层膜蒸镀系统及方法 | |
CN115407432B (zh) | 一种真空镀膜系统 | |
CN208240622U (zh) | 用于装载及卸载基板的负载锁定腔室和直列基板处理系统 | |
CN116497339A (zh) | 一种兼具3d异型工件公自转的自动连续式真空镀膜产线 | |
CN109823879A (zh) | 进纸装置及包括该进纸装置的办公设备 | |
CN109809119A (zh) | 一种生产线步进传送装置及传送方法 | |
JPH1024911A (ja) | ラベル貼付装置 | |
CN201272825Y (zh) | 一种双端多室真空镀膜装置 | |
CN210514344U (zh) | 一种样本架进样装置和样本分析系统 | |
CN209987527U (zh) | 电池片印刷装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |