CN220202034U - 一种往返式真空镀膜装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种往返式真空镀膜装置，该装置包括真空室、以及用于承载和传输工件的转架传输机构；所述真空室包括多个腔室，所述多个腔室为顺序相连的进料室、加热室、清洗室、过渡室、镀膜室、冷却室、出料室，所述相邻的腔室之间通过真空挡板阀相连，在每个腔室的室壁上安装有分子泵。本实用新型中的多个腔室及镀膜室是独立并通过真空挡板阀相连的，可根据工件产品的需要灵活设置镀膜室的个数及不同靶材和不同镀膜方式的镀膜室，以及通过调整转架运转方式可实现依次成膜方式或往返式多次成膜方式，从而可以选择最佳方式进行镀膜，尤其对于两面均需镀膜的工件，镀膜效率更是得到大幅度提高。
Description
技术领域
本实用新型涉及真空镀膜技术领域，尤其涉及一种往返式真空镀膜装置。
背景技术
现有的连续真空镀膜装置是在一个真空镀膜室里通过挡板隔离并利用不同方式来镀不同的膜层，例如在一个可用阴极电弧离子镀膜以及不同材料的磁控溅射等方式进行镀膜的多功能连续镀膜装置中，在不做阴极电弧离子镀时，可做磁控溅射镀膜。在做阴极电弧离子镀时，磁控溅射靶要隔离防护，否则很容易靶材受到污染，所以操作繁琐，且即使挡板把磁控溅射靶保护起来也很难做到靶材不受到任何污染，因此镀膜质量很难保证。
实用新型内容
本实用新型的目的在于针对现有真空镀膜装置存在的上述问题，提供一种能大大提高镀膜效率、并且保证镀膜质量的一种往返式真空镀膜装置。
为了解决上述问题，本实用新型提供的一种往返式真空镀膜装置如下：
一种往返式真空镀膜装置，包括真空室、以及用于承载和传输工件的转架传输机构；所述真空室包括多个腔室，所述多个腔室为顺序相连的进料室、加热室、清洗室、过渡室、镀膜室、冷却室、出料室，所述相邻的腔室之间通过真空挡板阀相连，在每个腔室的室壁上安装有分子泵；所述转架传输机构包括轨道、转架驱动、光电检测装置、链条、限位装置、夹具板、门。
进一步地，所述镀膜室设有一至多个，在每个所述镀膜室之后均设有一个或多个过渡室，所述多个过渡室由真空挡板阀连接。
进一步地，所述清洗室内设有一个或多个离子源。
进一步地，所述轨道，在所述每个腔室内的传输方向上设有一组链轮和一组传动轴，安装所述传动轴的固定板固定在每个腔室的室壁上，所述夹具板载于所述传动轴上，所述链轮与链轮之间通过所述链条啮合；所述转架驱动，设有联轴器、固定板和驱动电机；所述光电检测装置，设有检测固定座、光电开关、玻璃、屏蔽罩；所述限位装置，设有固定块、导向块、轴承；所述夹具板，设有固定板、金属框架；在所述进料室的前端和所述出料室的后端设有所述门，用于工件进出；所述门设有铰链、压板及密封胶圈。
进一步地，每个所述腔室的室壁上设有一个转架驱动固定孔。
进一步地，每个所述腔室的室壁上设有一至多个光电检测装置。
进一步地，每个所述腔室的室壁上设有一至多个限位装置。
本实用新型的技术效果在于：本实用新型中的多个真空室及镀膜室是独立并通过真空挡板阀相连的，可根据工件产品的需要灵活设置镀膜室的个数及不同靶材和不同镀膜方式的镀膜室，以及通过调整转架运转方式可实现依次成膜方式或镀膜室往返式多次成膜方式，从而可以选择最佳方式进行镀膜。本实用新型结构设计合理，生产功效高，能够实现工件上第一层、第二层或多层复合膜的连续制备，尤其对于两面均需镀膜的工件，镀膜效率更是得到大幅度提高。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是实施例转架传输机构的主视图。
图2是实施例转架传输机构的剖视图。
图3是实施例转架传输机构的俯视视图。
图4是实施例往返式真空镀膜装置的示意图。
图中，进料室1、加热室2、清洗室3、第一过渡室41、第二过渡室42、第一镀膜室51、第三过渡室43、第四过渡室44、第二镀膜室52、冷却室6、出料室7、真空挡板阀8、分子泵9、轨道10、转架驱动11、光电检测装置12、链条13、限位装置14、夹具板15、门16。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整的描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
参见图1、图2、图3和图4，本实施例的往返式真空镀膜装置包括真空室以及用于承载和传输工件的转架传输机构；所述真空室包括多个腔室，所述多个腔室为顺序相连的进料室1、加热室2、清洗室3、镀膜室、冷却室6、出料室7，所述镀膜室设有一个或多个，优选地，本实施例中的镀膜室包括第一镀膜室51和第二镀膜室52；在每个腔室的室壁上安装有分子泵9；转架传输机构包括轨道10、转架驱动11、光电检测装置12、链条13、限位装置14、夹具板15、门16。
优选地，在每个所述镀膜室之后均设有一个或多个过渡室，所述多个过渡室依次相接并由真空挡板阀8连接。所述过渡室包括第一过渡室41、第二过渡室42、第三过渡室43、第四过渡室44。
进一步地，所述清洗室内设有一个或多个离子源。
进一步地，所述轨道10，在所述每个腔室内在传输方向上设有一组链轮和一组传动轴，安装传动轴的第一固定板固定在每个腔室的室壁上，所述夹具板15载于传动轴上，所述链轮与链轮之间通过所述链条13啮合；所述转架驱动11，设有联轴器、第二固定板和驱动电机；所述光电检测装置12，设有检测固定座、光电开关、玻璃、屏蔽罩；所述限位装置14，设有固定块、导向块、轴承；所述夹具板15，设有固定板、金属框架；在所述进料室1的前端和所述出料室7的后端设有所述门16，用于工件进出往返式真空镀膜装置。所述门16设有铰链、压板及密封胶圈。
进一步地，每个所述腔室的室壁上设有一个转架驱动11固定孔。
进一步地，每个所述腔室的室壁上设有一至多个光电检测装置12。
进一步地，每个所述腔室的室壁上设有一至多个限位装置14。
进一步地，每个所述腔室的室壁上安装有分子泵9，所述分子泵9用于维持每一所述腔室的真空压强在一定的真空状态，所述分子泵9的结构属现有成熟技术；在所述清洗室3内设有离子源；所述过渡室设在所述镀膜室前面和后面，起到缓冲作用。
本实用新型的技术效果在于：本实用新型中的多个真空室及镀膜室是独立并通过真空挡板阀相连的，可根据工件产品的需要灵活设置镀膜室的个数及不同靶材和不同镀膜方式的镀膜室，以及通过调整转架运转方式可实现依次成膜方式或单一镀膜室往返式多次成膜方式，从而可以选择最佳方式进行镀膜。本实用新型结构设计合理，生产功效高，能够实现工件上第一层、第二层或多层复合膜的连续制备，尤其对于两面均需镀膜的工件，镀膜效率更是得到大幅度提高。
本实施例的工作过程及原理简述如下，如图1至图3所示：当置于所述夹具板15上的工件进入所述进料室1后，所述进料室1中安装的所述分子泵9开始工作进行抽气，抽气到一定压强后，所述进料室1与所述加热室2之间的所述真空档板阀8打开，所述进料室1中的所述夹具板15承载着工件沿着所述轨道10进入所述加热室2以给工件进行预加热，同时开启所述加热室2室壁上安装的所述分子泵9以将所述加热室2中真空度提高到所需压强。当所述加热室2中的温度达到设定要求后，开启所述清洗室3中的离子源，启动所述清洗室3中的所述转架驱动11，所述传动齿轮带动所述夹具板15承载工件经过离子源工作区域，对工件进行离子清洗从而保证后续镀膜质量。第一种镀膜模式工件经离子源清洗后通过所述清洗室3与所述第一过渡室41，进入所述第二过渡室42，所述第一过渡室41与所述第二过渡室42之间布置有所述真空挡板阀8，从所述第二过渡室42进入所述第一镀膜室51进行镀膜，所述夹具板15在所述镀膜室51中的传输速度可根据被镀工件对膜厚的要求进行调节。然后所述夹具板15承载在所述第一镀膜室51中完成镀膜的工件进入所述第三过渡室43。然后所述夹具板15将承载工件依次进入所述第二镀膜室52和所述第四过渡室44，所述夹具板15将承载工件继续进入所述第二镀膜室52。最后完成镀膜的工件被传送到所述冷却室6进行冷却，然后开启所述冷却室6与所述出料室7之间的所述真真空挡板阀8，所述夹具板15承载工件进入所述出料室7以备取片以上镀膜模式为一次性通过所有镀膜室即可完成。第二种镀膜模式对于其他膜层要求膜层厚度更厚时，一次通过无法满足要求，通常可以以下方法调整工件经离子源清洗后通过所述清洗室3与所述第一过渡室41，进入所述第二过渡室42，从所述第二过渡室42进入所述第一镀膜室51进行镀膜，然后所述夹具板15承载在所述第一镀膜室51中完成第一次镀膜的工件进入所述第三过渡室43；如果需要第二次镀膜，所述夹具板15反方向运动，从所述第三过渡室43进入所述第一镀膜室51镀膜，再进入所述第二过渡室42完成所述第二次镀膜，所述夹具板15往返经过所述镀膜室完成工件膜厚要求，然后所述夹具板15将承载工件依次进入所述第二镀膜室52和所述第四过渡室44，所述夹具板15将承载工件继续进入所述第二镀膜室52。整个镀膜工艺过程根据各种膜层要求再不同镀膜室及相邻的过渡室往返运动可随机设定实施。最后完成镀膜的工件被传送到所述冷却室6进行冷却，然后开启冷所述却室6与所述出料室7之间的所述真空挡板阀8，所述夹具板15承载工件进入所述出料室7以备取片。
本实用新型中镀膜室设有一至多个，根据需要及工艺要求进行安装，在每个镀膜室之后均设有一个过渡室，它们依次相接并由真空挡板阀连接。每个镀膜室可以选用磁控溅射、离子电弧蒸发等物理气相沉积技术的一种或多种方式完成一层或多层膜的制备。
需要说明的是，本实用新型中离子源属选用件，根据需要可以不用，也可以使用一个或多个。
应当理解的是，本实用新型并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构，并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本实用新型的范围仅由所附的权利要求来限制。
Claims (7)
1.一种往返式真空镀膜装置，其特征在于，包括真空室、以及用于承载和传输工件的转架传输机构；所述真空室包括多个腔室，所述多个腔室为顺序相连的进料室、加热室、清洗室、过渡室、镀膜室、冷却室、出料室，所述相邻的腔室之间通过真空挡板阀相连，在每个腔室的室壁上安装有分子泵；所述转架传输机构包括轨道、转架驱动、光电检测装置、链条、限位装置、夹具板、门。
2.根据权利要求1所述的一种往返式真空镀膜装置，其特征在于,所述镀膜室设有一个或多个，在每个所述镀膜室之后均设有一个或多个过渡室，所述多个过渡室由真空挡板阀连接。
3.根据权利要求1所述的一种往返式真空镀膜装置，其特征在于,所述清洗室内设有一个或多个离子源。
4.根据权利要求1所述的一种往返式真空镀膜装置，其特征在于,所述轨道，在所述每个腔室内的传输方向上设有一组链轮和一组传动轴，安装所述传动轴的第一固定板固定在每个腔室的室壁上，所述夹具板载于所述传动轴上，所述链轮与链轮之间通过所述链条啮合；所述转架驱动，设有联轴器、第二固定板和驱动电机；所述光电检测装置，设有检测固定座、光电开关、玻璃、屏蔽罩；所述限位装置，设有固定块、导向块、轴承；所述夹具板，设有固定板、金属框架；在所述进料室的前端和所述出料室的后端设有所述门，用于工件进出；所述门设有铰链、压板及密封胶圈。
5.根据权利要求1或2所述的一种往返式真空镀膜装置，其特征在于,每个所述腔室的室壁上设有一个转架驱动固定孔。
6.根据权利要求1或2所述的一种往返式真空镀膜装置，其特征在于,每个所述腔室的室壁上设有一至多个光电检测装置。
7.根据权利要求1或2所述的一种往返式真空镀膜装置，其特征在于,每个所述腔室的室壁上设有一至多个限位装置。
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| CN202223113667.1U CN220202034U (zh) | 2022-11-22 | 2022-11-22 | 一种往返式真空镀膜装置 |
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| CN (1) | CN220202034U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN117845175A (zh) * | 2023-12-21 | 2024-04-09 | 北京中科科美科技股份有限公司 | 一种周期性多层膜制备系统 |
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2022
- 2022-11-22 CN CN202223113667.1U patent/CN220202034U/zh active Active
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