CN202162174U - 一种手工硅片清洗机 - Google Patents

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黄钦
王平
李晓华
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Abstract

一种手工硅片清洗机，具有机架，所述机架上嵌有超声槽、酸洗槽和两个漂洗槽，所述的超声槽、酸洗槽和两个漂洗槽的槽底设有出水管道，槽口上方设有进水管道，所述超声槽内设有至少一个热电偶。本实用新型采用手工硅片清洗机能够有效去除有机物和金属离子，减少了污染，提高了转换效率；在机架上方设有与酸洗槽和两个漂洗槽对应的时间控制器和温度控制器，可以设定对应槽的工作的时间、温度。

Description

一种手工硅片清洗机
技术领域
本实用新型涉及硅片制造领域，特别涉及一种手工硅片清洗机。
背景技术
现有技术的硅片生产过程中，一般直接将硅片表面的印刷浆料用有机溶剂去除，待溶剂挥发后直接印刷。这种做法会导致硅片污染较为严重，电性能参数受到严重影响。因此需要寻求一种新的清洗印刷浆料污染的硅片的设备。
实用新型内容
本实用新型的目的是克服现有技术存在的缺陷，提供一种减少污染的手工硅片清洗机。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种手工硅片清洗机，具有机架，所述机架上嵌有超声槽、酸洗槽和两个漂洗槽，所述的超声槽、酸洗槽和两个漂洗槽的槽底设有出水管道，槽口上方设有进水管道，所述超声槽内设有至少一个热电偶。
上述技术方案所述机架上方设有与超声槽对应的超声发生器。
上述技术方案所述机架上方设有与酸洗槽和两个漂洗槽对应的时间控制器和温度控制器。
本实用新型的有益效果：
(1)本实用新型采用手工硅片清洗机能够有效去除有机物和金属离子，减少了污染，提高了转换效率。
(2)本实用新型所述机架上方设有与酸洗槽和两个漂洗槽对应的时间控制器和温度控制器，可以设定对应槽的工作的时间、温度。
附图说明
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。
图1是本实用新型的结构示意图。
图中1.机架，11.酸洗槽，12.超声槽，121.热电偶，13.漂洗槽，14.出水管道，15.进水管道，16.超声发生器，17.时间控制器，18.温度控制器。
具体实施方式
下面将结合附图对本实用新型进行进一步描述。
如图1所示的一种手工硅片清洗机，具有机架1，机架1上嵌有超声槽12、酸洗槽11和两个漂洗槽13，超声槽12、酸洗槽11和两个漂洗槽13的槽底设有出水管道14，槽口上方设有进水管道15，超声槽12内设有2个热电偶121，机架1上方设有与超声槽12对应的超声发生器16，以及与酸洗槽11和两个漂洗槽13对应的时间控制器17和温度控制器18。
操作时，超声槽12、酸洗槽11和两个漂洗槽13均可以自由进水、出水，超声槽12可以加热，去除硅片表面的有机杂质，后进入第一个漂洗槽13，洗净硅片表面残留的超声液，酸洗槽11可以去除硅片上带有的金属离子，后进入第二个漂洗槽13，洗净硅片表面的酸洗液，与酸洗槽11和两个漂洗槽13对应的时间控制器17和温度控制器18，可以设定对应槽的工作的时间、温度。
应当理解，以上所描述的具体实施例仅用于解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。由本实用新型的精神所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本实用新型的保护范围之中。

Claims (3)

1.一种手工硅片清洗机，具有机架(1)，所述机架(1)上嵌有超声槽(12)、酸洗槽(11)和两个漂洗槽(13)，所述的超声槽(12)、酸洗槽(11)和两个漂洗槽(13)的槽底设有出水管道(14)，槽口上方设有进水管道(15)，其特征在于：所述超声槽(12)内设有至少一个热电偶(121)。
2.根据权利要求1所述的手工硅片清洗机，其特征在于：所述机架(1)上方设有与超声槽(12)对应的超声发生器(16)。
3.根据权利要求1所述的手工硅片清洗机，其特征在于：所述机架(1)上方设有与酸洗槽(11)和两个漂洗槽(13)对应的时间控制器(17)和温度控制器(18)。
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