CN1974235A - 在基材表面形成激光图案的真空镀膜设备、方法及制成品 - Google Patents

Abstract

一种利用在基材表面形成激光图案的真空镀膜设备、方法及制成品，主要是将聚碳酸酯基材或压克力基材放入真空镀膜设备中，将氧化硅及氧化钛蒸镀在基材表面形成镀膜层，再将已蒸镀完成的基材，以印刷方式布设图样层在基材另一表面，并在镀膜层上布设一颜色层；由上述方法所完成的产品，当基材透过光线照射，因镀膜层将光线折射，而会呈现不同的色彩变化及光影折射的视觉效果。

Description

在基材表面形成激光图案的真空镀膜设备、方法及制成品

技术领域

本发明是有关一种在基材表面形成激光图案的真空镀膜设备、方法及制成品，特别是指一种将氧化硅及氧化钛蒸镀在压克力基材或聚碳酸酯基材上，上述基材表面布设氧化硅或氧化钛薄膜，使得光线透过该薄膜而可呈现激光光影效果，得以使基材表面展现一良好的视觉效果。

背景技术

按，现在市场竞争激烈，为了因应消费者的口味，手机制造商纷纷推出外型更炫、更加时尚的手机，来迎合消费者，

除了在外型的设计下工夫外，更以金属材质来取代传统塑料材质作为制造手机的主要原料，不仅在手机外壳上可见到金属质感，甚至连手机按键字体印刷也以掺有金属成分的油墨进行印刷作业。

部份手机制造商更不惜成本，直接以金属原料加工切削出薄薄的按键字体黏贴在手机面板，使其更能增添手机整体视感。

以上述两种加工方式，使得手机观看起来更加具有新奇的视觉效果，但其仍具有下列数项缺失：

在印刷油墨内掺杂金属成分，虽能使印刷后呈现出金属观感，但现行全球环保法规修改目益严格，许多有害环境及人体的金属成分已经不能使用，且在回收时，此类手机内含金属成分非常不易回收，故采此制作方式有其缺点。

直接以金属打造薄片黏贴在面板上，其制造成本非常高昂，而且现在手机越做越轻薄，经由切削加工做出的金属字体需要更加轻薄，使得加工成本更加高昂，增加整体成本支出。

又，金属具有阻隔讯号或干涉讯号的缺失，如用在通讯产品上，会造成通讯产品的通话质量不良，而有其缺失之处。

虽以上述方式制成的手机，使整体质感更加具有价值，但仍具有上列所述的缺点，故，现用技术仍具有需改进的缺失。

发明内容

本发明的主要目的，旨在提供一种在基材表面形成激光图案的真空镀膜设备、方法及制成品，由该制程方法产生的生成物可达到良好的视觉效果。

本发明的次一目的，旨在提供一种在基材表面形成激光图案的真空镀膜设备、方法及制成品，通过光线在镀膜层上折射，而可形成炫丽的激光图案效果。

本发明的另一目的，旨在提供一种在基材表面形成激光图案的真空镀膜设备、方法及制成品，基材表面由蒸镀方式镀上镀膜层，而可达到保护基材的目的。

为达上述的目的，本发明在基材表面形成激光图案的真空镀膜设备、方法及制成品，其包含以下步骤：

(1)将基材放置在真空蒸镀设备内，进行蒸镀作业；

(2)以氧化硅及氧化钛为蒸镀源多重蒸镀，使基材表面形成一镀膜层；

(3)再将上述基材另一表面布设一图样层；

(4)在基材的镀膜层上印刷一颜色层。

本发明所述基材为聚碳酸酯材质。

本发明所述基材为压克力材质。

本发明所述蒸镀源为氧化硅及氧化钛，以多重蒸镀将其披覆在基材表面形成镀膜层。

本发明所述氧化硅及氧化钛以设定的顺序及厚度予以披覆。

本发明所述氧化硅及氧化钛以两者交叉多层披覆。

本发明一种在基材表面形成激光图案的真空镀膜设备、方法及制成品，该生成物包括：一基材；

在上述基材一表面形成镀膜层；

在上述基材令一表面布设图样层；以及

在上述基材镀膜层印刷颜色层。

本发明所述基材为聚碳酸酯材质。

本发明所述基材为压克力材质。

本发明所述镀膜层是以氧化硅及氧化钛以多重蒸镀将及披覆在基材表面。

本发明所述氧化硅及氧化钛以设定的顺序及厚度予以披覆。

本发明所述氧化硅及氧化钛以两者交叉多层披覆。

本发明所产生的技术效果是：由上述方法所完成的产品，当基材透过光线照射，因镀膜层将光线折射，而会呈现不同的色彩变化及光影折射的视觉效果。

附图说明

图1是本发明制造方法的流程示意图；

图2是本发明蒸镀机台的蒸镀示意图；以及

图3是经由本发明制程方法制成的基材侧视剖视图。

主要组件符号说明

10..真空蒸镀机台

11..真空腔室

12..加热器

13..蒸镀源

20..基材

21..镀膜层

22..图样层

23..颜色层

具体实施方式

为便于能更进一步对本发明的构造、使用及其特征有更深一层，明确、详实的认识与了解，现举出较佳的实施例，配合附图详细说明如下：

在较佳实施例中，所述基材材质为聚碳酸酯，是将基材夹置在真空蒸镀设备的夹具内，以离子披覆方式依序在基材表面布设镀膜层，将氧化硅及氧化钛蒸镀在基材表面，调整氧化硅及氧化钛的厚度以及先后层次顺序，通过氧化硅及氧化钛组合，可呈现不同的光影效果。

在理想实施例中，该基材材质为压克力材质，利用真空蒸镀设备将氧化硅及氧化钛蒸镀披覆在基材表面上，镀膜层是由氧化硅及氧化钛依不同层次及厚度形成，再将蒸镀完成的基材以印刷设备布设图样层及颜色层，以获得一视觉效果良好的生成物。

上述氧化硅为低折射率，氧化钛为高折射率，依照所要达成的激光光影效果，可控制两者蒸镀在基材表面的排列及厚度，有助在获得不同视觉的呈现。

又，图样层是可为饼图样、方形图样、菱形及螺旋形图样，由不同图样的呈现，得以交织不同的观看感，且光线通过镀膜层折射搭配图样层而形成不同的视觉观感。

同时，在镀膜层另一面布设一颜色层，该颜色层可为不同的油墨颜色，以此增加基材的颜色观感。

首先请参阅附图1至3附图所示，本发明是一种在基材表面形成激光图案的真空镀膜设备、方法及制成品，首先先将基材20夹置在真空蒸镀机台10内，将真空腔室11内的空气抽离，加热器12将蒸镀源13加热汽化形成离子状态，高温蒸发慢慢披覆在基材20表面，渐渐形成镀膜层21在基材20上，如此即完成基材20表面镀膜层21的披覆作业。

其中，上述蒸镀源13是为氧化硅及氧化钛。

再者，将上述蒸镀完成的基材20，放置在印刷设备，在基材20另一表面印刷图样层22。

再在镀膜层21上涂布颜色层23，便可完成本发明的产品。在较佳实施例中，本发明是为一种利用真空蒸镀设备在基材表面形成激光图案效果的方法及其生成物，其包含以下步骤：

(a)将基材20放置在真空蒸镀设备内，进行蒸镀作业；

(b)以氧化硅及氧化钛多重蒸镀，在基材20表面形成镀膜层21；

(c)再将上述基材20另表面布设图样层22；

(d)在基材20镀膜层21另表面印刷颜色层23。

其中，基材20材质为聚碳酸酯，通过上述将氧化硅及氧化钛蒸镀披覆在基材20表面，在基材20表面形成一镀膜层21。

在理想实施例中，基材20材质可为压克力，而以真空蒸镀设备将氧化硅及氧化钛汽化附着在基材20表面。

请再参第2及3图所示，蒸镀过程中，为了使基材20在蒸镀完成后能够呈现不同视觉效果，在蒸镀源13的选择上，以氧化硅及氧化钛来做搭配组合，在蒸镀过程中，调整氧化硅及氧化钛披覆的先后顺序及披覆厚度，而可获得不同视觉效果的基材20。

上述镀膜层21是由氧化硅及氧化钛搭配组合，因氧化硅折射率低，氧化钛折射率高，故可依照想呈现的色彩，可先披覆适当厚度的氧化硅再披覆氧化钛，将两者交叉多层披覆形成镀膜层21。

并将已完成的基材20，再由印刷方式，在基材20未镀膜的表面布设图样层22，该图样层22可为饼图样排列、方形图样排列或其它不同的图样呈现，又该图样层22是可保护基材20免在刮伤。

经由上述程序处理完成后，接着，将基材20镀膜层21以印刷设备涂布一颜色层23，该颜色层23是由各式不同颜色的油墨印刷上去。

本发明利用真空蒸镀设备将氧化硅及氧化钛汽化成离子披覆在基材20表面，通过控制氧化硅及氧化钛的披覆顺序以及厚度，使得光线穿透该基材20能够呈现炫丽的激光效果，并在基材20上布设一图样层22，从任何角度观看该基材20时，镀膜层21及图样层22通过光线穿透，能够呈现出不同的视觉观感，并可在镀膜层21另面涂布颜色层23，而更能增添色彩，使基材20由任何角度观看时，皆能呈现独特的新奇观感。

由本发明的步骤所制成的生成物，可再经过加工手续，将基材20应用在如手机按键面板的相关产品上，通过其它加压方式，将基材20制成手机外壳，使手机在完成后，因基材20具有镀膜层21，透过光线照射而可产生炫丽的光影效果，使手机观看起来更加炫丽夺人，并再透过图样层22及颜色层23的布设，使得从任一角度观看皆有不同的图案效果，并搭配镀膜层21呈现出独特的视觉观感。

惟以上所述者，仅为本发明的较佳实施例而已，当不能以此限定本发明实施的范围，即大凡依本发明申请专利范围及发明说明书内容所作的简单的等效变化与修饰，皆仍应含括在本发明申请专利范围内。

Claims (12)

1.一种在基材表面形成激光图案的真空镀膜设备、方法及制成品，其特征在于：包含以下步骤：

(a)将基材放置在真空蒸镀设备内，进行蒸镀作业；

(b)以蒸镀源进行多重蒸镀，在上述基材一表面形成镀膜层；

(c)在上述基材另一表面布设图样层；

(d)在上述基材镀膜层印刷颜色层。

2.根据权利要求1所述的在基材表面形成激光图案的真空镀膜设备、方法及制成品，其特征在于：所述基材为聚碳酸酯材质。

3.根据权利要求1所述的在基材表面形成激光图案的真空镀膜设备、方法及制成品，其特征在于：所述基材为压克力材质。

4.根据权利要求1所述的在基材表面形成激光图案的真空镀膜设备、方法及制成品，其特征在于：所述蒸镀源为氧化硅及氧化钛，以多重蒸镀将其披覆在基材表面形成镀膜层。

5.根据权利要求4所述的在基材表面形成激光图案的真空镀膜设备、方法及制成品，其特征在于：所述氧化硅及氧化钛以设定的顺序及厚度予以披覆。

6.根据权利要求4所述的在基材表面形成激光图案的真空镀膜设备、方法及制成品，其特征在于：所述氧化硅及氧化钛以两者交叉多层披覆。

7.一种在基材表面形成激光图案的真空镀膜设备、方法及制成品，其特征在于：该生成物包括：一基材；

在上述基材一表面形成镀膜层；

在上述基材另一表面布设图样层；

在上述基材镀膜层印刷颜色层。

8.根据权利要求7所述的在基材表面形成激光图案的真空镀膜设备、方法及制成品，其特征在于：所述基材为聚碳酸酯材质。

9.根据权利要求7所述的在基材表面形成激光图案的真空镀膜设备、方法及制成品，其特征在于：所述基材为压克力材质。

10.如申请专利范围第7项所述的在基材表面形成激光图案的真空镀膜设备、方法及制成品，其特征在于：所述镀膜层是以氧化硅及氧化钛以多重蒸镀将及披覆在基材表面。

11.根据权利要求10所述的在基材表面形成激光图案的真空镀膜设备、方法及制成品，其特征在于：所述氧化硅及氧化钛以设定的顺序及厚度予以披覆。

12.根据权利要求10所述的在基材表面形成激光图案的真空镀膜设备、方法及制成品，其特征在于：所述氧化硅及氧化钛以两者交叉多层披覆。

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