CN112921274A - 一种高性能滤光片生产加工工艺方法 - Google Patents

一种高性能滤光片生产加工工艺方法 Download PDF

Info

Publication number
CN112921274A
CN112921274A CN202110073748.4A CN202110073748A CN112921274A CN 112921274 A CN112921274 A CN 112921274A CN 202110073748 A CN202110073748 A CN 202110073748A CN 112921274 A CN112921274 A CN 112921274A
Authority
CN
China
Prior art keywords
substrate
adopting
selecting
coating
static electricity
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202110073748.4A
Other languages
English (en)
Inventor
增田清志
增田博志
王立新
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Suzhou Keihin Optech Corp
Original Assignee
Suzhou Keihin Optech Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Suzhou Keihin Optech Corp filed Critical Suzhou Keihin Optech Corp
Priority to CN202110073748.4A priority Critical patent/CN112921274A/zh
Publication of CN112921274A publication Critical patent/CN112921274A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/10—Glass or silica
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B29D11/00634—Production of filters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
    • C23C14/021—Cleaning or etching treatments
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08—Oxides
    • C23C14/083—Oxides of refractory metals or yttrium
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/28—Interference filters
    • G02B5/285—Interference filters comprising deposited thin solid films

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Ophthalmology & Optometry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

本发明公开了一种高性能滤光片生产加工工艺方法，包括以下步骤：S1：基板的选择：选择树脂薄膜材料作为基板；S2：基板的切割处理：采用冲压设备进行冲压成型；S3：镀膜材料的选择：选择氧化硅和氧化钛作为镀膜材料；S4：将基板使用离子风枪进行表面惰性气体除静电吹淋清洁；S5：镀膜工装夹具的处理：镀膜工装夹具在装夹镀膜基板前进行高温烘烤和离子除静电处理；S6：真空蒸镀处理：采用表面真空IAD辅助蒸镀；S7：分光性能检验：采用双光束测定方式对半成品的波长进行测定，将合格产品和不合格产品分类存放。本发明，工艺流程设计精炼高效，生产出的产品滤光性能好，品质稳定。

Description

一种高性能滤光片生产加工工艺方法
技术领域
本发明涉及滤光片生产技术领域，具体是一种高性能滤光片生产加工工艺方法。
背景技术
滤光片的种类繁多，不同的滤光片有不同的用途。滤光片产品主要按光谱波段、光谱特性、应用特点等方式分类。按照光谱波段分，可分为紫外滤光片、可见滤光片、红外滤光片；按照光谱特性分，可分为带通滤光片、截止滤光片、分光滤光片、中性密度滤光片、反射滤光片。带通型即选定波段的光通过，通道以外的光截止，短波通型即短于选定波长的光通过，长于该波长的光截止，长波通型即长于选定波长的光通过，短语该波长的光截止。滤光片应用广泛，可广泛应用于投影仪、数码相机、电脑手机摄像头、扫描器、医疗设备、特殊光学仪器等民用和军用光学系统中。但传统滤光片生产工艺设计不合理。
发明内容
本发明的目的在于提供一种高性能滤光片生产加工工艺方法，以解决现有技术中的问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种高性能滤光片生产加工工艺方法，包括以下步骤：
S1：基板的选择：选择树脂薄膜材料作为基板；
S2：基板的切割处理：采用冲压设备进行冲压成型；
S3：镀膜材料的选择：选择氧化硅和铬作为镀膜材料；
S4：将基板和镀膜材料进行表面惰性气体除静电吹淋清洁；
S5：镀膜工装夹具的处理：镀膜工装夹具在装夹镀膜基板前进行高温烘烤和离子除静电处理；
S6：真空蒸镀处理：采用表面真空IAD辅助蒸镀；
S7：分光性能检验：采用双光束测定方式对半成品的波长进行测定，将合格产品和不合格产品分类存放；
S8：使用外观自动检查设备对S7合格产品进行外观检测，保存记录外观不良出在产品的相对坐标信息；
S9：自动冲压移片设备根据S8坐标信息反向定位，按照规格尺寸在良品区域冲压并吸取移片重新排布；
S10：排布后产品包装存放。
优选的，所述步骤S1中基板的厚度小于0.11mm。
优选的，所述步骤S4中基板的清洁采用离子风枪惰性气体除静电吹淋清洁。
优选的，所述步骤S5中镀膜工装夹具采用对夹式装夹治具。
优选的，所述步骤S6中将基板一侧交替蒸镀氧化硅和氧化钛，交替蒸镀的层数为20-40层；；再重复上述操作，将基板另一侧交替蒸镀氧化硅和氧化钛，交替蒸镀的层数为20-40层。
优选的，所述步骤S6中真空蒸镀的温度为120-140℃。
与现有技术相比，本发明的有益效果是：将树脂材料的基板进行冲压成型，可获得较小的基板，且冲压效果好；将基板和镀膜材料进行表面惰性气体除静电吹淋，可除去基板和镀膜材料的静电，避免影响镀膜；工艺流程设计精炼高效，可生产出面积小、厚度薄的高精度产品；生产出的产品滤光性能好，品质稳定。
附图说明
附图用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本发明的实施例一起用于解释本发明，并不构成对本发明的限制。在附图中：
图1为本发明的结构示意图。
具体实施方式
为使本发明实施方式的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施方式中的附图，对本发明实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施方式是本发明一部分实施方式，而不是全部的实施方式。基于本发明中的实施方式，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本发明保护的范围。因此，以下对在附图中提供的本发明的实施方式的详细描述并非旨在限制要求保护的本发明的范围，而是仅仅表示本发明的选定实施方式。基于本发明中的实施方式，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本发明保护的范围。
请参阅图1，本发明实施例中，一种高性能滤光片生产加工工艺方法，包括以下步骤：
S1：基板的选择：选择树脂薄膜材料作为基板；
S2：基板的切割处理：采用冲压设备进行冲压成型；
S3：镀膜材料的选择：选择氧化硅和铬作为镀膜材料；
S4：将基板和镀膜材料进行表面惰性气体除静电吹淋清洁；
S5：镀膜工装夹具的处理：镀膜工装夹具在装夹镀膜基板前进行高温烘烤和离子除静电处理；
S6：真空蒸镀处理：采用表面真空IAD辅助蒸镀；
S7：分光性能检验：采用双光束测定方式对半成品的波长进行测定，将合格产品和不合格产品分类存放；
S8：使用外观自动检查设备对S7合格产品进行外观检测，保存记录外观不良出在产品的相对坐标信息；
S9：自动冲压移片设备根据S8坐标信息反向定位，按照规格尺寸在良品区域冲压并吸取移片重新排布；
S10：排布后产品包装存放。
优选的，所述步骤S1中基板的厚度小于0.11mm。
优选的，所述步骤S4中基板的清洁采用离子风枪惰性气体除静电吹淋清洁。
优选的，所述步骤S5中镀膜工装夹具采用对夹式装夹治具。
优选的，所述步骤S6中将基板一侧交替蒸镀氧化硅和氧化钛，交替蒸镀的层数为20-40层；；再重复上述操作，将基板另一侧交替蒸镀氧化硅和氧化钛，交替蒸镀的层数为20-40层。
优选的，所述步骤S6中真空蒸镀的温度为120-140℃。
本发明的工作原理是：选择树脂薄膜材料作为基板；基板的切割处理：采用冲压设备进行冲压成型；镀膜材料的选择：选择氧化硅和铬作为镀膜材料；将基板和镀膜材料进行表面惰性气体除静电吹淋清洁；镀膜工装夹具的处理：镀膜工装夹具在装夹镀膜基板前进行高温烘烤和离子除静电处理；真空蒸镀处理：采用表面真空IAD辅助蒸镀；分光性能检验：采用双光束测定方式对半成品的波长进行测定，将合格产品和不合格产品分类存放；使用外观自动检查设备对合格产品进行外观检测，保存记录外观不良出在产品的相对坐标信息；自动冲压移片设备根据坐标信息反向定位，按照规格尺寸在良品区域冲压并吸取移片重新排布；排布后产品包装存放。
最后应说明的是：以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种高性能滤光片生产加工工艺方法，其特征在于：包括以下步骤：
S1：基板的选择：选择树脂薄膜材料作为基板；
S2：基板的切割处理：采用冲压设备进行冲压成型；
S3：镀膜材料的选择：选择氧化硅和铬作为镀膜材料；
S4：将基板和镀膜材料进行表面惰性气体除静电吹淋清洁；
S5：镀膜工装夹具的处理：镀膜工装夹具在装夹镀膜基板前进行高温烘烤和离子除静电处理；
S6：真空蒸镀处理：采用表面真空IAD辅助蒸镀；
S7：分光性能检验：采用双光束测定方式对半成品的波长进行测定，将合格产品和不合格产品分类存放；
S8：使用外观自动检查设备对S7合格产品进行外观检测，保存记录外观不良出在产品的相对坐标信息；
S9：自动冲压移片设备根据S8坐标信息反向定位，按照规格尺寸在良品区域冲压并吸取移片重新排布；
S10：排布后产品包装存放。
2.根据权利要求1所述的一种高性能滤光片生产加工工艺方法，其特征在于：所述步骤S1中基板的厚度小于等于0.11mm。
3.根据权利要求1所述的一种高性能滤光片生产加工工艺方法，其特征在于：所述步骤S4中基板的清洁采用离子风枪惰性气体除静电吹淋清洁。
4.根据权利要求1所述的一种高性能滤光片生产加工工艺方法，其特征在于：所述步骤S5中镀膜工装夹具采用对夹式装夹治具。
5.根据权利要求1所述的一种高性能滤光片生产加工工艺方法，其特征在于：所述步骤S6中将基板一侧交替蒸镀氧化硅和氧化钛，交替蒸镀的层数为20-40层；；再重复上述操作，将基板另一侧交替蒸镀氧化硅和氧化钛，交替蒸镀的层数为20-40层。
6.根据权利要求1所述的一种高性能滤光片生产加工工艺方法，其特征在于：所述步骤S6中真空蒸镀的温度为120-140℃。
CN202110073748.4A 2021-01-20 2021-01-20 一种高性能滤光片生产加工工艺方法 Pending CN112921274A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202110073748.4A CN112921274A (zh) 2021-01-20 2021-01-20 一种高性能滤光片生产加工工艺方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN202110073748.4A CN112921274A (zh) 2021-01-20 2021-01-20 一种高性能滤光片生产加工工艺方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN112921274A true CN112921274A (zh) 2021-06-08

Family

ID=76164080

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202110073748.4A Pending CN112921274A (zh) 2021-01-20 2021-01-20 一种高性能滤光片生产加工工艺方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN112921274A (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115921863A (zh) * 2022-12-12 2023-04-07 巨玻固能(苏州)薄膜材料有限公司 镀膜材料、复合氧化物薄膜、制备方法及光学产品

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1974235A (zh) * 2006-12-27 2007-06-06 淮杰企业有限公司 在基材表面形成激光图案的真空镀膜设备、方法及制成品
CN103266300A (zh) * 2013-05-27 2013-08-28 南昌欧菲光电技术有限公司 滤光片的制备方法、滤光片及摄像头模组
CN204028389U (zh) * 2014-08-27 2014-12-17 南京施密特光学仪器有限公司 一种自清洁超宽带增透膜镜片
CN107502865A (zh) * 2017-08-22 2017-12-22 苏州京浜光电科技股份有限公司 一种广角摄像模组用滤光片的制作方法
CN111378951A (zh) * 2020-04-24 2020-07-07 肇庆市科润真空设备有限公司 基于磁控溅射和电子枪蒸发的卷绕式光学镀膜装置及方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1974235A (zh) * 2006-12-27 2007-06-06 淮杰企业有限公司 在基材表面形成激光图案的真空镀膜设备、方法及制成品
CN103266300A (zh) * 2013-05-27 2013-08-28 南昌欧菲光电技术有限公司 滤光片的制备方法、滤光片及摄像头模组
CN204028389U (zh) * 2014-08-27 2014-12-17 南京施密特光学仪器有限公司 一种自清洁超宽带增透膜镜片
CN107502865A (zh) * 2017-08-22 2017-12-22 苏州京浜光电科技股份有限公司 一种广角摄像模组用滤光片的制作方法
CN111378951A (zh) * 2020-04-24 2020-07-07 肇庆市科润真空设备有限公司 基于磁控溅射和电子枪蒸发的卷绕式光学镀膜装置及方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115921863A (zh) * 2022-12-12 2023-04-07 巨玻固能(苏州)薄膜材料有限公司 镀膜材料、复合氧化物薄膜、制备方法及光学产品
CN115921863B (zh) * 2022-12-12 2023-10-27 巨玻固能(苏州)薄膜材料有限公司 镀膜材料、复合氧化物薄膜、制备方法及光学产品

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN108169832B (zh) 一种2.75~2.95μm透过中波红外滤光片及其制备方法
JP6312241B2 (ja) 透明基板
CN109655954A (zh) 滤光片及其制备方法、指纹识别模组及电子设备
WO2004029676A1 (ja) 赤外カットフィルタ付レンズ及びその製造方法並びに小型カメラ
CN109143440B (zh) 3.50～3.90μm中波红外微型滤光片及其制备方法
CN112921274A (zh) 一种高性能滤光片生产加工工艺方法
CN105137514A (zh) 4．2～4．45μm透过中波红外滤光片及制备方法
CN111061001A (zh) 一种480～580nm透过可见光滤光片及制备方法
CN103245992A (zh) 1.55～1.75μm透过短波红外滤光片及制备方法
JP2024059726A (ja) マルチスペクトルフィルタアレイ上の不透明開口マスクとしてのフォトレジスト
CN102023330A (zh) 遮光元件阵列、遮光元件阵列制造方法及镜头模组阵列
CN107783218B (zh) 一种深紫外带通滤光片及其制备方法
US20090303615A1 (en) Ir cut-off filter coated lens array and method for manufacturing same
CN111638572B (zh) 一种3D结构光940nm窄带滤光片及其制备方法
CN110673320B (zh) 多通道滤光片、制备方法及荧光显微镜成像系统
CN102236114B (zh) 遮光元件、遮光元件的制造方法及镜头模组
JP2009122469A (ja) 非球面光学部品及びその製造装置並びにそれに用いるマスクの設計方法
US6918673B2 (en) Protective optical filter assembly
CN212321887U (zh) 一种窄带陷波负性滤光片
CN107703574A (zh) 一种多通道集成滤光片的制造方法
US20090297838A1 (en) Ultraviolet solar simulation filter device and method of manufacture
CN113484946A (zh) 一种球面镜窄带滤光片及其制备方法
US20140273459A1 (en) Systems and Methods for a Narrow Band High Transmittance Interference Filter
CN216210007U (zh) 一种中心波长为350±3nm超窄带滤光片
CN112859225A (zh) 中红外集成双通道滤光片的制备方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination