CN1887812A - 一种用于内墙砖坯体的化妆釉及制备和检测方法 - Google Patents
一种用于内墙砖坯体的化妆釉及制备和检测方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN1887812A CN1887812A CNA2006100365538A CN200610036553A CN1887812A CN 1887812 A CN1887812 A CN 1887812A CN A2006100365538 A CNA2006100365538 A CN A2006100365538A CN 200610036553 A CN200610036553 A CN 200610036553A CN 1887812 A CN1887812 A CN 1887812A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- glaze
- frit
- weight part
- cosmetic
- base substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000005034 decoration Methods 0.000 title abstract 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 title description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 22
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 claims abstract description 21
- 239000011707 mineral Substances 0.000 claims abstract description 21
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 21
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 18
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims abstract description 14
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims abstract description 13
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims abstract description 13
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 10
- 239000004927 clay Substances 0.000 claims abstract description 10
- 239000004575 stone Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 5
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 238000000498 ball milling Methods 0.000 claims abstract description 4
- 239000011449 brick Substances 0.000 claims description 22
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 claims description 22
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 12
- RBTBFTRPCNLSDE-UHFFFAOYSA-N 3,7-bis(dimethylamino)phenothiazin-5-ium Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC2=[S+]C3=CC(N(C)C)=CC=C3N=C21 RBTBFTRPCNLSDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 6
- 229960000907 methylthioninium chloride Drugs 0.000 claims description 6
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims description 5
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010427 ball clay Substances 0.000 claims description 4
- AYJRCSIUFZENHW-DEQYMQKBSA-L barium(2+);oxomethanediolate Chemical compound [Ba+2].[O-][14C]([O-])=O AYJRCSIUFZENHW-DEQYMQKBSA-L 0.000 claims description 4
- FPAFDBFIGPHWGO-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxomagnesium;hydrate Chemical compound O.[Mg]=O.[Mg]=O.[Mg]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O FPAFDBFIGPHWGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000010433 feldspar Substances 0.000 claims description 4
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000012467 final product Substances 0.000 claims description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 3
- 229940099259 vaseline Drugs 0.000 claims description 3
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 abstract description 19
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N Li2O Inorganic materials [Li+].[Li+].[O-2] FUJCRWPEOMXPAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N Na2O Inorganic materials [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M dilithium;hydroxide Chemical compound [Li+].[Li+].[OH-] XUCJHNOBJLKZNU-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 abstract 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 210000003298 dental enamel Anatomy 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 238000004031 devitrification Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000012216 screening Methods 0.000 description 2
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
- C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/083—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound
- C03C3/085—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal
- C03C3/087—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing aluminium oxide or an iron compound containing an oxide of a divalent metal containing calcium oxide, e.g. common sheet or container glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
- C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
- C03C3/093—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium containing zinc or zirconium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/097—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing phosphorus, niobium or tantalum
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
本发明公开了一种用于内墙砖坯体的化妆釉及制备方法和耐透(渗)水效果的测试方法，其特征在于：由60～20％重量份的矿物原料如粘土或球粘土或煅烧粘土、硅酸锆、瓷石粉或陶石粉、石英粉、碳酸钡、氧化铝粉、长石粉和烧滑石粉等及40～80％重量份的含钛熔块构成，配合料具有如下组分和配比：0.5～10重量份Li2O/Na2O/K2O、3～15重量份CaO、0.5～3.5重量份MgO、55～80重量份SiO2、5～25重量份Al2O3、0.5～10重量份B2O3、2.0～15重量份ZrO2、0～10重量份P2O5、2～15重量份TiO2、2～15重量份BaO。其制备步骤是，首先制备钛熔块；其次将钛熔块直接与矿物原料配成的混合物按使用比例配合即可，或将钛熔块先球磨成100～200目粉状，然后与其他粉状矿物原料按配方混合均匀即可。本发明的化妆釉具有保持瓷砖铺贴后的艺术美观等优点。
Description
技术领域
本发明涉及陶瓷制品的原料及其制备方法和瓷砖釉面检测方法，更具体地说是涉及一种用于内墙砖坯体的化妆釉及制备方法，以及一种陶瓷内墙砖产品釉面耐透(渗)水效果的检测方法。
背景技术
目前，一般陶瓷内墙砖铺贴前，先需用水浸泡一定时间，再铺贴到墙上，这样通常铺贴后会在砖体釉面上产生不均匀的水浸的痕迹，从而使得铺贴后瓷砖釉面看上去会产生难看的色差，陶瓷内墙砖铺贴后在砖体釉面上产生不均匀的水浸痕迹的原因通常有两种，一是水直接透过化妆釉层到达面釉底下，导致砖体釉面出现水迹；二是水虽然未透过化妆釉层到达面釉底下，但水的痕迹透过化妆釉层及面釉层，导致砖体釉面出现水浸痕迹。针对这一问题的解决方案，还没有检索到相关专利。另外，针对瓷砖釉面是否具备耐透(渗)水效果，目前各瓷砖生产厂家也还没有统一的检测方法和评判标准。
发明内容
本发明的目的是为了解决上述之不足，而提供一种用于内墙砖坯体的耐水浸渍而不会在瓷砖釉面产生水浸痕迹的化妆釉及制备方法，本发明的另一目的还需要在于提供一种陶瓷内墙砖产品釉面耐透(渗)水效果的检测方法。
本发明是通过如下技术方案来实现上述目的的：它是利用目前在所有乳浊相的中遮蔽效果和失透效果最好的二氧化钛来制备钛乳浊熔块，然后利用该熔块根据陶瓷厂的烧成条件来搭配部分矿物原料或其它熔块及粘土配制成瓷砖化妆釉层，一方面让化妆釉层烧后达到完全不吸水，使水不能透过化妆釉层到达面釉底下，另一方面，化妆釉层因钛乳浊熔块所具有的遮蔽效果和失透效果，可以使得水的痕迹无法透过化妆釉层及面釉层，从而使瓷砖釉面达到完全不透水效果。
本发明采用的具体技术解决方案如下：
一种用于内墙砖坯体的化妆釉，由矿物原料如粘土或球粘土或煅烧粘土、硅酸锆、瓷石粉或陶石粉、石英粉、碳酸钡、氧化铝粉、长石粉和烧滑石粉等及含钛熔块构成，使用时的组分和配比为：40～80重量份含钛熔块、60～20重量份由上述矿物原料按一定组成配成的混合物。
其中矿物原料配成的混合物的组分和配比为：0～10重量份的Li2O/Na2O/K2O、0～10重量份的MgO、50～80重量份的SiO2、5～25重量份的Al2O3、2.0～15重量份的ZrO2、0～15重量份的BaO。
其中含钛熔块，膨胀系数为190～230，由如下组分和配比组成：2.0～10重量份Li2O/Na2O/K2O、5～18重量份CaO、0～5重量份MgO、50～75重量份SiO2、3～12重量份Al2O3、0～10重量份B2O3、0～12重量份ZrO2、0～10重量份P2O5、3～18重量份TiO2、0～3.0重量份BaO。
一种用于内墙砖坯体的化妆釉制备方法，其制备步骤是，首先制备钛熔块，按上述钛熔块配方配料，置于混合机内混合均匀，送至熔块熔制窑炉内，经过1380℃～1600℃熔制成熔融玻璃状，再经水淬成玻璃粒状或片状，然后将钛熔块直接与其他粉状矿物原料按配方配合使用；或将钛熔块先球磨成100～200目粉状，再与其他粉状矿物原料按配方配合，经使用者放入球磨机内研磨到一定的细度后即可使用。
同时，针对瓷砖产品釉面耐透(渗)水效果的检测，本发明提供的检测方式为：将一直径30mm大小、高度30mm的塑料圆筒置于砖坯背面，并使用橡皮泥或凡士林将其周边密封，然后从开口处注入1g/500ml浓度的甲基蓝水溶液，液面高为30mm，静置一定时间后，倒出甲基蓝水溶液，目视观察砖坯釉面，看是否有痕迹出现。评判方式及标准为：按以上方式测试，静置时间为30分钟，釉面无任何痕迹，即为合格。
本发明采用上述技术解决方案所能达到的有益效果是：
本发明产品制作的陶质内墙砖，经过水浸铺贴到墙上，从砖体釉面上看不出水浸痕迹，从而保持瓷砖的艺术美观。
具体实施方式
本发明的用于内墙砖坯体的化妆釉，由矿物原料如粘土或球粘土或煅烧粘土、硅酸锆、瓷石粉或陶石粉、石英粉、碳酸钡、氧化铝粉、长石粉和烧滑石粉等及含钛熔块构成，使用时的组分和配比为：60重量份含钛熔块、40重量份由上述矿物原料按上述组成配成的混合物。
以上组成中，矿物原料配成的混合物的组分和配比为：5重量份的Li2O/Na2O/K2O、3重量份的MgO、60重量份的SiO2、10重量份的Al2O3、5重量份的ZrO2、6重量份的BaO。
以上组成中，含钛熔块的膨胀系数为170～260，由如下组分配比组成，2.0重量份K2O、5重量份CaO、0.5重量份MgO、67重量份SiO2、10重量份Al2O3、5重量份B2O3、4重量份ZrO2、3重量份P2O5、5重量份TiO2、1.5重量份BaO。
其制备步骤是，首先制备钛熔块，按上述钛熔块配方配料，置于搅拌机内混合均匀，输送至熔块熔制窑炉内，经过1380℃～1600℃熔制成熔玻璃状，再经水淬成玻璃粒状或片状；其次将钛熔块球磨成100～200目粉状，然后与其他粉状矿物原料按配方配料后，在搅拌机内混合均匀即可。
本发明还有另外一种实施方式，由矿物原料如粘土或球粘土或煅烧粘土、硅酸锆、瓷石粉或陶石粉、石英粉、碳酸钡、氧化铝粉、长石粉和烧滑石粉等及含钛熔块构成，使用时的组分和配比为：70重量份含钛熔块、30重量份由上述矿物原料按一定组成配成的混合物。
以上组成中，矿物原料配成的混合物的组分和配比为：3重量份的Li2O/Na2O/K2O、7重量份的MgO、65重量份的SiO2、5重量份的Al2O3、10重量份的ZrO2、8重量份的BaO。
以上组成中，含钛熔块的膨胀系数为170～260，由如下组分配比组成，4重量份Na2O、6重量份CaO、0.3重量份MgO、60重量份SiO2、6重量份Al2O3、4重量份B2O3、4重量份ZrO2、5重量份P2O5、14重量份TiO2、1.7重量份BaO。
其制备方法如上所述。
使用时，将本发明的化妆釉对适量水，置于球磨机内球磨成要求细度的釉浆，然后将该釉浆涂布于瓷砖坯表面，再在其表面涂布陶瓷面釉，经过一般瓷砖生产工艺进行加彩、干燥、经过1000～1160℃、30～120分钟快速烧成即可成瓷砖。
使用本发明的化妆釉的瓷砖产品，其釉面耐透(渗)水效果的检测方式为：将一直径30mm大小、高度30mm的塑料圆筒置于砖坯背面，并使用橡皮泥或凡士林将其周边密封，然后从开口处注入1g/500ml浓度的甲基蓝水溶液，液面高为30mm，静置一定时间后，倒出甲基蓝水溶液，目视观察砖坯釉面，看是否有痕迹出现。评判方式及标准为：按以上方式测试，静置时间为30分钟，釉面无任何痕迹，即为合格。
Claims (6)
1、一种用于内墙砖坯体的化妆釉，其特征在于，它由矿物原料及含钛熔块构成，其组分和配比为(重量份)：40～80含钛熔块、60～20由矿物原料按一定组成配成的混合物；该矿物原料包含有粘土或球粘土或煅烧粘土、硅酸锆、瓷石粉或陶石粉、石英粉、碳酸钡、氧化铝粉、长石粉和烧滑石粉。
2、根据权利要求1所述的一种用于内墙砖坯体的化妆釉，其特征在于，所述矿物原料的组分和配比为(重量份)：Li2O/Na2O/K2O 0～10、MgO 0～10、SiO2 50～80、Al2O3 5～25、ZrO2 2.0～15、BaO 0～15。
3、根据权利要求1所述的一种用于内墙砖坯体的化妆釉，其特征在于，所述含钛熔块的膨胀系数为190～230，由如下组分和配比组成(重量份)：Li2O/Na2O/K2O 2.0～10、CaO 5～18、MgO 0～5、SiO2 50～75、Al2O3 3～12、B2O3 0～10、ZrO2 0～12、P2O5 0～10、TiO2 3～18、BaO 0～3.0。
4、一种制备权利要求1-3任一项所述用于内墙砖坯体的化妆釉的制备方法，其特征在于，该制备方法具体步骤为：
a、首先制备含钛熔块，将组成含钛熔块的组份配方配料，置于混合机内混合均匀，送至熔块熔制窑炉内，经过1380℃～1600℃熔制成熔融玻璃状，经水淬成玻璃粒状或片状；
b、其次将钛熔块直接与矿物原料配成的混合物按重量份为(40～80)∶(60～20)比例配合即可。
5、根据权利要求4所述的用于内墙砖坯体的化妆釉的制备方法，其特征在于，所述第b步骤中，可将钛熔块先球磨成100～200目粉状，然后与其他粉状矿物原料配方配料，在搅拌机内混合均匀即可。
6、一种测试权利要求1-3任一项用于内墙砖坯体的化妆釉面的耐透(渗)水效果的方法，其特征在于，该测试方法具体步骤为：将一直径30mm大小、高度30mm的塑料圆筒置于砖坯背面，并使用橡皮泥或凡士林将其周边密封，然后从开口处注入1g/500ml浓度的甲基蓝水溶液，液面高为30mm，静置一定时间后，倒出甲基蓝水溶液，目视观察砖坯釉面，看是否有痕迹出现。评判方式及标准为：按以上方式测试，静置时间为30分钟，釉面无任何痕迹，即为合格。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CNB2006100365538A CN100408517C (zh) | 2006-07-18 | 2006-07-18 | 一种用于内墙砖坯体的化妆釉及制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CNB2006100365538A CN100408517C (zh) | 2006-07-18 | 2006-07-18 | 一种用于内墙砖坯体的化妆釉及制备方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN1887812A true CN1887812A (zh) | 2007-01-03 |
| CN100408517C CN100408517C (zh) | 2008-08-06 |
Family
ID=37577092
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CNB2006100365538A Expired - Fee Related CN100408517C (zh) | 2006-07-18 | 2006-07-18 | 一种用于内墙砖坯体的化妆釉及制备方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN100408517C (zh) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101786905A (zh) * | 2010-03-23 | 2010-07-28 | 咸阳天隆玻璃制品有限公司 | 高铝高始熔温度陶瓷配釉用熔块 |
| CN101875540A (zh) * | 2010-03-26 | 2010-11-03 | 许庆华 | 红色凹凸棒橡皮泥及其生产方法 |
| CN102584344A (zh) * | 2012-01-19 | 2012-07-18 | 星谊精密陶瓷科技（昆山）有限公司 | 不渗水底釉及其制备方法 |
| CN103351179A (zh) * | 2013-07-15 | 2013-10-16 | 卡罗比亚釉料（昆山）有限公司 | 新型印刷釉料及其生产方法 |
| CN103570380A (zh) * | 2013-11-14 | 2014-02-12 | 广东三水大鸿制釉有限公司 | 一种耐磨止滑釉及其制备方法及耐磨止滑砖的制备方法 |
| CN106699235A (zh) * | 2016-12-15 | 2017-05-24 | 景德镇景浮宫陶瓷文化有限公司 | 一种可持续释放负离子的陶瓷艺术薄板画制作方法 |
| CN110482861A (zh) * | 2019-09-16 | 2019-11-22 | 陕西理工大学 | 钒钛磁铁矿尾矿制备陶瓷熔块釉的方法 |
| CN112390533A (zh) * | 2020-11-25 | 2021-02-23 | 珠海市斗门区旭日陶瓷有限公司 | 一种高光砖及其生产工艺 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101665346B (zh) * | 2009-09-14 | 2012-06-20 | 佛山红狮陶瓷有限公司 | 一种具有金属光泽的陶瓷砖生产方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5537418A (en) * | 1978-09-02 | 1980-03-15 | Nippon Fueroo Kk | Silver-luster glaze |
| CN1031518A (zh) * | 1987-08-22 | 1989-03-08 | 国家建筑材料工业局山东工业陶瓷研究设计院 | 釉面砖用钛乳白釉 |
| KR910005051B1 (ko) * | 1988-12-05 | 1991-07-22 | 박영식 | 유약 조성물 |
-
2006
- 2006-07-18 CN CNB2006100365538A patent/CN100408517C/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101786905A (zh) * | 2010-03-23 | 2010-07-28 | 咸阳天隆玻璃制品有限公司 | 高铝高始熔温度陶瓷配釉用熔块 |
| CN101875540A (zh) * | 2010-03-26 | 2010-11-03 | 许庆华 | 红色凹凸棒橡皮泥及其生产方法 |
| CN101875540B (zh) * | 2010-03-26 | 2011-09-21 | 许庆华 | 红色凹凸棒橡皮泥及其生产方法 |
| CN102584344A (zh) * | 2012-01-19 | 2012-07-18 | 星谊精密陶瓷科技（昆山）有限公司 | 不渗水底釉及其制备方法 |
| CN103351179A (zh) * | 2013-07-15 | 2013-10-16 | 卡罗比亚釉料（昆山）有限公司 | 新型印刷釉料及其生产方法 |
| CN103351179B (zh) * | 2013-07-15 | 2016-01-27 | 卡罗比亚釉料（昆山）有限公司 | 印刷釉料及其生产方法 |
| CN103570380A (zh) * | 2013-11-14 | 2014-02-12 | 广东三水大鸿制釉有限公司 | 一种耐磨止滑釉及其制备方法及耐磨止滑砖的制备方法 |
| CN103570380B (zh) * | 2013-11-14 | 2014-10-01 | 广东三水大鸿制釉有限公司 | 一种耐磨止滑釉及其制备方法及耐磨止滑砖的制备方法 |
| CN106699235A (zh) * | 2016-12-15 | 2017-05-24 | 景德镇景浮宫陶瓷文化有限公司 | 一种可持续释放负离子的陶瓷艺术薄板画制作方法 |
| CN106699235B (zh) * | 2016-12-15 | 2019-11-08 | 景德镇景浮宫陶瓷文化有限公司 | 一种可持续释放负离子的陶瓷艺术薄板画制作方法 |
| CN110482861A (zh) * | 2019-09-16 | 2019-11-22 | 陕西理工大学 | 钒钛磁铁矿尾矿制备陶瓷熔块釉的方法 |
| CN112390533A (zh) * | 2020-11-25 | 2021-02-23 | 珠海市斗门区旭日陶瓷有限公司 | 一种高光砖及其生产工艺 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN100408517C (zh) | 2008-08-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN100372813C (zh) | 一种用于瓷砖表面有窑变釉面效果的釉料 | |
| CN100408517C (zh) | 一种用于内墙砖坯体的化妆釉及制备方法 | |
| CN100408516C (zh) | 一种用于瓷砖坯釉一次压成形生产的干式釉料及制备方法 | |
| CN107129150A (zh) | 一种高耐磨陶瓷釉面砖及其制备方法 | |
| US7892997B2 (en) | Glaze compositions | |
| CN101580342B (zh) | 一种自洁抗菌陶瓷釉及其制备方法与陶瓷产品 | |
| CN1765836B (zh) | 一种具有金属质感的陶瓷用釉料制备方法 | |
| Wang et al. | Clustering of zircon in raw glaze and its influence on optical properties of opaque glaze | |
| CN115304276B (zh) | 一种复合釉层、陶瓷板及其制备方法 | |
| CN1843995A (zh) | 抗菌搪瓷及其制备方法 | |
| BRPI0802190B1 (pt) | Composição de esmalte metálico e respectivo uso | |
| CN101200345A (zh) | 晶彩陶瓷、晶彩玻璃,晶彩彩饰层的复合材料及其工艺方法 | |
| CN107098588A (zh) | 一种透明微晶玻璃釉及其制备方法和应用 | |
| US11807577B2 (en) | Super-wear-resistant diamond glaze, ceramic tile and preparation method thereof | |
| CN110818262A (zh) | 一种双层花釉及其产品的制备方法 | |
| US5976999A (en) | Unleaded transparent vitreous ceramic compositions | |
| CN106746649A (zh) | 高温亮光嫩黄釉及其陶瓷制品和制备方法 | |
| CN101857463A (zh) | 一种陶瓷釉料及其制备方法 | |
| EP1453767A1 (en) | Night glow glaze for ceramics | |
| JP3034015B2 (ja) | 着色釉粒を用いた陶磁器製品の製造方法 | |
| CN101941837A (zh) | 微粉抛光砖 | |
| Dakhai et al. | Types and compositions of crystalline glazes: A review | |
| CN100383087C (zh) | 无铅、无砷粉彩颜料玻璃白的制备方法及其所制得的玻璃白产品 | |
| CN102515533A (zh) | 一种碱硅酸盐玻璃熔块、锆乳浊釉及其制备方法 | |
| CN1023698C (zh) | 一种用含钛炉渣制备陶瓷釉的配方 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20080806 |
|
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |