CN1863585A - 处理废气的方法和装置 - Google Patents

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Abstract

一种处理废气的装置，它具有一个预处理部分(1)，用于从废气中除去粉末成分、水溶性成分和水解成分中的至少一个，所述废气含有氟化合物和CO中的至少一个；一个加热氧化分解部分(2)，用于进行所述氟化合物和CO中的至少一个的加热氧化分解，以净化所述废气。该装置具有一个后处理部分(4)，用于后处理由加热氧化分解所产生的酸性气体如HF。

Description

处理废气的方法和装置
技术领域
本发明涉及一种处理废气的方法和装置，特别是涉及一种高效净化废气的方法和装置，所述废气含有氟化合物和一氧化碳气体(CO)，其是在半导体制造过程如半导体制造装置内表面的干洗过程或不同类型的膜如氧化膜的蚀刻过程中排出的。
背景技术
在半导体制造过程如蚀刻过程或化学气相沉积(CVD)过程中，氟化合物如氢氟酸碳(例如CHF3)或全氟化物(例如CF4、C2F6、C3F8、C4F8、C5F8、C4F6、SF6和NF3)已经用于该系统中。有时，CO、NH3或O2可用在半导体制造装置中。从使用氟化合物、CO或NH3的半导体装置排出的废气中包括一些有害成分如CO、NH3、SiF4、F2、COF2、C5F8、C4F6或NF3。该废气还包括无害但影响全球变暖的氟化合物。因此，当从使用氟化合物或CO的半导体制造装置中排出的废气进入周围大气时，必须净化或解毒包含在废气中的有害气体以及分解导致全球变暖的气体。
在处理包含在废气中的有害气体(SiF4、F2、COF2、C5F8、C4F6或NF3)的传统方法中，有害成分由一吸附剂如人造沸石来吸附。然而，在该传统方法中，CO或全氟化合物(PFC)不能从废气中除去。此外，所述吸附剂必须周期性地被更换，从而导致运行成本增加。
一种湿式洗涤器已被用于洗涤或净化废气，以从废气中除去水溶性气体和水解气体如SiF4、F2或NH3。然而，这样的湿式洗涤器不能除去非水溶性气体，如CO和PFC。
在从废气中除去CO的传统方法中，用氧化催化剂和氧气将CO氧化成CO2。然而，在该传统的方法中，PFC不能通过通过分解除去。如果一种酸性气体如SiF4或F2或PFC与氧化催化剂接触，那么酸性气体或PFC将使氧化催化剂中毒，从而降低其CO氧化能力。因此，氧化催化剂必须周期性地更换。
当上述吸附、湿式洗涤和氧化的传统方法互相结合时，其能够同时处理废气中的有害气体和CO。然而，这些处理必须定期更换部件，从而导致运行成本的增加。而且，用上述结合方法仍然不能将PFC从废气中除去。
已经有人建议一种利用不同类型的催化剂分解PFC以从废气中除去PFC的方法。然而，如果催化剂失效，那么有害成分如CO、C5F8和C4F6可能在催化剂失效后立即排到周围大气中去。也有人已经建议一种通过燃烧处理PFC的方法。然而，取决于燃烧的情况，NOx或CO可能作为副产品气体而产生。由于该方法需要燃料如H2、天然气(城市煤气)或丙烷气，其必须提供用于供应该燃料的设备。此外，需要通过一复杂的过程来控制该操作过程。也有人建议一种通过加热氧化来分解PFC的方法。然而，为了分解未必可能被分解的PFC(例如CF4)，应当将废气加热至1400℃或更高的高温。在此情况下，施加在系统中的材料和加热器上的负荷变得相当大。
已经有人建议了一种方法，在该方法中，将NH3、低饱和烃气体、或低不饱和烃气体加入到废气中，在没有自由氧气的情况下通过加热氧化来分解PFC。然而，从未提出在具有共存氧气的情况下加热氧化分解PFC的方法。此外，也有人建议一种用水(H2O)中的等离子体来分解PFC的方法。然而，当PFC分解时，将产生有害气体如CO或HF，也将产生热NOx气体。因此，有必要提供一种单独的废气处理装置，以用于处理废气和热NOx气体。
发明内容
本发明在考虑到上述缺陷的基础上提出。因此，本发明的一个目的是提供一种用于处理废气的方法和装置，其能够同时并高效地处理氟化合物和CO，能够降低制造成本、运行成本以及装置材料上的负荷，并不会排出任何有害气体。
根据本发明的第一方面，提供了一种处理废气的方法，该废气含有氟化合物和CO中的至少一个，该方法包括：从所述废气中除去粉末成分、水溶性成分和水解成分中的至少一个；然后将O2和H2O加入所述废气中；随后加热所述废气，以分解或氧化废气中的氟化合物和CO中的至少一个；以及从已分解或氧化的废气中除去在氟化合物分解时产生的酸性气体。优选地，所述废气应被加热到700至900℃的温度。
根据本发明的一个优选方面，该方法还包括通过催化反应分解废气的步骤。
根据本发明的一个优选方面，通过利用吸附剂吸附或气液接触将粉末成分、水溶性成分和水解成分中的至少一个从废气中除去。
根据本发明的一个优选方面，通过利用吸附剂吸附或气液接触将酸性气体从废气中除去。
根据本发明的第二方面，提供一种处理废气的方法，该废气含有氟化合物和CO中的至少一个，该方法包括：将O2和H2O加入所述废气中；加热所述废气至700至900℃的温度，以净化废气中的CO、具有4个或更多碳原子的氟化合物、氢氟酸碳和NF3中的至少一个。
根据本发明的第三方面，提供一种用于处理废气的装置，所述废气含有氟化合物和CO中的至少一个，该装置包括：一第一处理部分，用于从废气中除去粉末成分、水溶性成分和水解成分中的至少一个；一加热氧化分解部分，用于进行所述氟化合物和CO中的至少一个的加热氧化分解，以净化该废气；一氧气供应源，用于将氧气供应给所述加热氧化分解部分；一水供应源，用于将水供应给所述加热氧化分解部分；以及一个第二处理部分，用于除去加热氧化分解后的废气中的酸性气体。
根据本发明的一个优选方面，该装置还包括一个催化反应部分，用于通过催化反应来分解废气。
根据本发明，通过吸附或气液接触能够将有害气体如SiF4或F2从废气中除去，以便使其具有一个可允许值(TLV-TWA值)或更低的浓度。优选地，通过在700至900℃的温度范围加热氧化，在不需要催化剂的情况下将CO氧化为CO2，从而可将CO的浓度减小到一个可允许值(TLV-TWA值)或更低。根据本发明，有害PFC如C4F6、C5F8或NF3通过加热也能够完全分解，以便将该有害PFC的浓度减小到一个可允许值(TLV-TWA值)或更低。此外，在氟化合物通过加热氧化分解时所产生的酸性气体(如HF)能够通过随后的吸附或气液接触除去。因此，废气中被认为对人体有害的成分能够在不需在1000℃或更高温度下加热氧化分解或催化反应的情况下解毒或净化。在700至900℃的温度范围下加热分解PFC(例如CF4)是很困难的。虽然在全球变暖等方面这种PFC将带来一些问题，但是其对人体无害。因而，根据本发明，对人体有害的成分能够除去，以使其具有一个可允许值或更低的浓度。
另外，此前不大可能分解的PFC(例如CF4)在一个较低的温度范围600至900℃下通过催化反应能够完全分解。例如，当在加热氧化分解后进行催化反应时，考虑到全球变暖而必须处理的气体成分能够完全分解和除去。
从下面结合附图所做的详细描述中，本发明的上述和其他目的、特征和优点将变得更明显，其中所述附图以举例形式示出了本发明的一些优选实施例。
附图说明
图1是一个结构简图，示出了本发明第一实施例的废气处理装置；
图2是一个结构简图，示出了本发明第二实施例的废气处理装置；
图3是一个结构简图，示出了本发明第三实施例的废气处理装置；
图4是一个立体图，示出了图1、2、3中所示的废气处理装置。
实施本发明的最佳方式
下面将参考图1至图4描述根据本发明的实施例的废气处理装置。
图1示出了本发明第一实施例的废气处理装置。如图1中所示，该废气处理装置包括一个预处理部分1，用于从含有氟化合物和一氧化碳(CO)的废气中除去粉末成分、水溶性成分或水解成分；一个加热氧化分解部分2，用于进行预处理过的废气的加热氧化分解；以及一个后处理部分4，用于对由加热氧化分解所产生的酸性气体如HF进行后处理。
预处理部分1例如可包含一个水喷淋塔1a，用于通过气液接触进行预处理。向喷淋塔1a提供生活用水或工业用水，其从设置在喷淋塔1a中的喷水器1b喷出。含有氟化合物和CO的废气供给至喷淋塔1a的下部，并向上流动以与喷水器1b喷出的水接触。在这样一种湿式洗涤或净化过程中，粉末成分、水溶性成分或水解成分从废气中除去。代替喷淋塔1a，预处理部分1可包含一风扇洗涤器、一气体通道搅拌箱或一填充有吸附剂如沸石或活性炭的吸附箱。所述风扇洗涤器、气体通道搅拌箱或吸附箱也能够达到上述效果。
用作预处理部分1的设备能够根据将要处理废气的成分、粉末混合的程度或工厂的状况进行适当选择。由于填充有吸附剂的吸附箱不使用水，所以其适用于系统中未设置废水处理设备的情况。如果废气含有应当特别保持的材料如砷(As)或铅(Pb)，那么湿式洗涤过程中所用的废水将被这些材料所污染。对于这种情况，湿式洗涤过程便不适宜，而吸附过程则是适宜的。风扇洗涤器通过少量的水便能高速地除去成分。此外，风扇洗涤器具有捕获粉末的极好能力。虽然为了达到高速除去成分的效果，喷淋塔1a需要提供增大的水量，但是因为其结构简单，因而喷淋塔1a能够降低装置的成本。气体通道搅拌箱中的液体可以通过中和所供应的液体来调整PH值。因此，气体通道搅拌箱能够高速除去其它湿式洗涤过程难于除去的成分。
如上所述，在预处理部分1中，可利用水或吸附剂将粉末成分、水溶性成分或水解成分从废气中去除。例如，在预处理部分1中可将酸性气体如SiF4或F2从废气中去除。
通过预处理部分1的废气被导入加热氧化分解部分2中，并在其中分解。该加热氧化分解部分2具有一个进行分解过程的加热氧化分解反应器2a，一个空气管(氧气供应管)5，其与加热氧化分解反应器2a相连，以用于将反应所必需的氧气提供给加热氧化分解反应器2a，以及一个水管(供水管)6，其与加热氧化分解反应器2a相连，以用于向加热氧化分解反应器2a提供反应所必需的水(自来水或工业用水)。自来水或工业用水通过一个与水管6相连的水净化器7被净化到蒸馏水的程度，随后通过一个水蒸发器8蒸发，并供应给加热氧化分解反应器2a。另外，反应所需的水也可通过设置在加热氧化分解反应器2a中的喷水器喷射而不用水蒸发器8蒸发。在此情况下，喷射水在加热氧化分解反应器2a中加热和蒸发。加热氧化分解部分2具有一个由陶瓷制成的管式电炉9，其围绕加热氧化分解反应器2a设置。该管式电炉9充当一加热设备，以用于将混有氧气和水的废气加热到700至900℃的温度。在加热氧化分解反应器2a中，CO的氧化和具有4个或更多碳原子的PFC、氢氟酸碳和NF3的分解按照下述反应方程式进行。因此，废气中被认为对人体有害的所有成分均能够被氧化或分解。
在氧化反应中，氧气可以从任何氧气源如大气、富氧空气和纯氧气中提供。过氧化物也可用作氧气。废气中的上述成分能够在700至900℃的温度范围内被氧化和分解。如果在1000℃或更高的温度进行氧化和分解，那么由空气中N2所引起的热NOx的量将增加。当在900℃或更低的温度进行氧化和分解时，能够经济地选择用于加热氧化反应器中的耐火件。因此，在本实施例中，氧化和分解是在700至900℃的温度范围内进行的。
后处理部分4用于后处理氟化合物分解过程中产生的酸性气体如HF。在本实施例中，后处理部分4包括一个用于后处理的水喷淋塔4a。向水喷淋塔4a供应生活用水或工业用水，其从设置在喷淋塔4a中的喷水器4b喷射出来。将废气提供至喷淋塔4a的下部，并向上流动以与喷水器4b喷出的水接触。结果，可将在加热氧化分解反应器2a中分解所产生的HF从废气中除去。取代水喷淋塔4a，后处理部分4可包括一风扇洗涤器、一气体通道搅拌箱或一填充有吸附剂如沸石或活性炭的吸附箱。所述风扇洗涤器、气体通道搅拌箱或吸附箱也能够达到上述效果。
图2示出了本发明第二实施例的废气处理装置。如图2中所示，该废气处理装置包括一个催化反应部分3，用于在加热氧化分解后进一步通过催化反应分解废气。已通过加热氧化分解部分2的废气继续导入催化反应部分3中的催化反应器3a中，并在其中分解。本实施例的其他结构与图1中所示废气处理装置的结构相同。
催化反应器3a具有填充在其中用于分解PFC的催化剂。将废气引入该催化反应器3a的上部，并从上催化剂层向下流向下催化剂层。催化反应部分3具有一个由陶瓷制成的管式电炉10，其围绕催化反应器3a设置。管式电炉10充当一加热设备，用于将催化反应器3a加热到600至900℃的温度。在催化反应部分3中，具有三个或更少碳原子的PFC和SF6与催化剂接触，以便按照下述反应方程式进行PFC和SF6的分解。在下面的反应方程式中，有助于分解的O2和水(H2O)已经在上游加热氧化分解反应器2a中被导入系统中。所述催化剂由用于氟化合物的催化剂构成，例如γ氧化铝或带有氧化钨的氧化铝锆复合材料。因而，不大可能被分解和不能由加热氧化分解反应器2a分解的PFC和SF6能够通过催化反应部分3分解。因此，当催化反应部分3结合入废气处理装置中时，不直接影响人体但不利地影响全球变暖等的成分能够完全从废气中除去。
图3示出了本发明第三实施例的废气处理装置。如图3所示，该废气处理装置包括一个气体处理反应器13，其整体结合有一加热氧化分解部分、一催化反应部分和一后处理部分。该废气处理装置在一预处理部分具有一个风扇洗涤器14。洗涤用水通过一个输送泵15提供给风扇洗涤器14。在风扇洗涤器14中，通过风扇的旋转使洗涤水和废气互相接触。结果，可将粉末成分、水溶性成分或水解成分从废气中除去。
气体处理反应器13充当一加热氧化分解部分、一催化反应部分和一后处理部分。特别地，气体处理反应器13在废气流动的下游顺序设有一加热氧化分解部分16、一催化反应部分17和一后处理部分18。因而，加热氧化分解部分16、催化反应部分17和后处理部分18整体互相结合在一起，以使该装置非常紧凑。此外，对于该结合结构，由加热氧化分解部分16中的管式电炉19加热到700至900℃的废气能够不降低温度地导入催化反应部分17中。因此，催化反应部分17不需要加热设备(例如加热器)，而仅需要一个布置在其周围的绝热材料20。
如图3所示，气体处理反应器13具有一个与之相连的空气管21，用于提供加热氧化分解和催化反应所需的氧气。水(H2O)由水净化器23净化到蒸馏水的程度，然后提供给气体处理反应器13。导入气体处理反应器13的水流过位于气体处理反应器13外表面外部的水蒸发管25。此时，通过与管式电炉19废热的热交换，水被加热并蒸发，然后导入位于气体处理反应器13上部的加热氧化分解部分16。具有喷水器18a的后处理部分18设置在气体处理反应器13的下部，并由输送泵15将洗涤水提供给后处理部分18中的喷水器18a。
待处理的废气通过用于预处理的风扇洗涤器14，随后通过一个湿气分离器26，并导入气体处理反应器13中。已经在预处理部分18中除去HF的废气通过一湿气分离器27，并作为无害气体排到外部。
水(H2O)是CO氧化和PFC分解所需的。在本实施例中，水(H2O)以蒸汽状态被导入废气处理系统中。如果水中含有Si或Ca，那么Si或Ca将沉淀或当水蒸发时将产生结垢，这样将可能在装置中导致堵塞。此外，含在水中的Cl也可能导致催化剂失效。因此，所供应的水(H2O)必须是净化后的水(H2O)例如纯净水或蒸馏水。因此，需要分别提供一个仅仅用于将纯净水或蒸馏水提供给该装置的独立管道以及一用于生产纯净水装置或用于生产蒸馏水的装置。在此情况下，增加了装置的安装成本。在本实施例中，因为该装置具有用于净化水的水净化器，所以生活用水或工业用水能够直接提供给该装置。因此能够消除提供管道等的安装成本。
下面将描述根据本发明处理废气的方法。
在预处理过程中，将粉末成分、水溶性成分或水解成分从含有氟化合物和CO的废气中除去。用于将粉末成分、水溶性成分或水解成分从废气中除去的预处理部分可包含一用于将所述成分吸附进吸附剂中吸附箱、一风扇洗涤器、一水喷淋塔或一气体通道搅拌箱。
在预处理过程中被除去粉末成分、水溶性成分或水解成分的含有氟化合物和CO的废气在700至900℃的温度下与氧气和水(H2O)接触，以便将CO氧化成CO2以及将含有4个或更多碳原子的氟化合物分解。该加热氧化分解由加热氧化分解部分完成，其具有一个用于允许废气通过的空心部件、一个用于将所述空心部件内的气体加热到700至900℃的加热设备、一个待处理气体进口、一个氧气进口、以及一个水(H2O)进口。
加热氧化分解部分最好应当具有一个附加设备，用于增强废气与氧气和水(H2O)的接触效率和加热效率。在此情况下，由该附加设备使废气产生湍流，从而由此增强废气与氧气和水(H2O)的接触效率。该附加设备接收加热器所产生的辐射热，以增加其温度和其与废气的热交换区域，从而提高加热效率。因而，加热氧化分解部分在尺寸上能够做得很小，并能够使用小发热量的加热器。
然后，将氟化合物在加热氧化分解部分中分解时所产生的酸性气体(HF)从废气中除去。该HF的去除由后处理部分(例如用于将HF吸附进吸附剂的吸附箱、风扇洗涤器、喷水器或气体通道搅拌箱)完成。通过上述过程，被认为对人体有害的气体能够完全从废气中除去。
为了从废气中除去从全球变暖方面考虑不希望存在的成分，在加热氧化分解之后可进行催化反应分解。特别地，在催化反应部分，废气可与氧气和水(H2O)以及用于分解氟化合物的催化剂在600至900℃的温度下接触，从而分解具有3个或更少碳原子的氟化合物和SF6。催化反应部分具有填充在其内以用于分解氟化合物的催化剂，以及一个加热设备，用于将催化剂层加热到600至900℃的温度，或一个耐热部件，用于将前述加热氧化分解部分中已经加热到700至900℃的气体保持在600至900℃的温度。
该系统可包括一个纯净水产生装置、一个蒸馏器或一个过滤机构，用于净化用于废气处理的水(H2O)。该系统最好应当包括一个机构，用于通过与加热氧化分解部分或催化反应部分的废热的热交换蒸发以液态提供的水(H2O)。通过该机构，由于废热被用于水的蒸发，所以该系统不需要专门用于蒸发水(H2O)的热源。
催化反应部分最好在催化剂层的下游侧应当具有由陶瓷制成的填充物。当后处理部分具有一个喷水器以及催化反应部分和后处理部分整体互相结合在一起时，通过填充物可防止从喷水器喷出的水与催化剂层接触，因此防止了催化剂变劣失效。由于水被保持在填充物之间的空间内，所以在PFC分解过程中产生的HF能够高效地与水接触，因此能够提高HF的去除速度和废气的冷却效果。
下面，将描述利用相当于图3中所示废气处理装置的测试装置进行废气处理的测试结果。一种混合有各种类型的待处理气体的N2被导入该测试装置中，并在多个位置测量气体中各成分的浓度。
待处理的气体包含有SiF4、CHF3、C4F8、C4F6、CO、C5F8、NF3、SF6和CF4。在该测试中，按照以下流速提供上述气体，即SiF4 60毫升/分、CHF3 180毫升/分、C4F8 60毫升/分、C4F6 10毫升/分、CO 1200毫升/分、C5F8 10毫升/分、NF3 120毫升/分、SF6 120毫升/分和CF4 450毫升/分。这些气体与以120毫升/分的流速提供的N2混合，并导入测试装置中。空气以3.0升/分的流速被导入加热氧化分解部分，以提供氧化所需的氧气。类似地，纯净水以5毫升/分的流速被导入加热氧化分解部分，以用于氧化和分解。
气体中各成分的浓度在测试装置的进口(位置A)、预处理部分的出口(位置B)、加热氧化分解部分的出口(位置C)和后处理部分的出口(位置D)处测量，其结果如下。
  成分   位置A   位置B   位置C   位置D
  CF4(ppm)   4180   3810   3350   ＜0.2
  CHF3(ppm)   1580   1490   ＜0.2   ＜0.2
  C4F8(ppm)   550   540   ＜0.2   ＜0.2
  C5F8(ppm)   69   62   ＜0.2   ＜0.2
  C4F6(ppm)   72   67   ＜1   ＜1
  CO(ppm)   9100   8940   ＜2   ＜2
  NF3(ppm)   940   925   ＜1   ＜1
  SF6(ppm)   950   930   670   ＜1
  HF(ppm)   -   ＜1   -   ＜1
  SiF4(ppm)   476   ＜1   -   -
从上述结果中可以看出，SiF4和HF在预处理部分基本上没有检测到，因此，预处理部分能够高效地处理酸性气体。也可看出，CO、C4F8、C5F8、C4F6、CHF3和NF3在加热氧化分解部分基本上没有检测到，因此加热氧化分解部分能够高效地处理这些气体。此外，在加热氧化分解部分的出口处检测到的CF4和SF6在后处理部分的出口处没有检测到。因而，催化反应部分和后处理部分能够高效地处理CF4和SF6。另外，在后处理部分的出口处没有检测到HF。因此，即使在催化反应部分产生了HF，HF也能由后处理部分高效处理。
图4是本发明的废气处理装置的立体图。图4中所示的废气处理装置可以包括所有的预处理部分、加热氧化分解部分、催化反应部分和后处理部分。通过这样的废气处理装置，水溶性成分、水解成分或粉末成分如酸性气体和NH3能够与PFC和CO一起从废气中低成本并高效地除去。因此，本发明的废气处理装置具有对反应成分和从半导体制造装置等中排出的有害成分的很高去除的能力。此外，该废气处理装置具有紧凑的结构，因而仅需要很小的安装和维护面积。热NOx或类似物不会从废气处理装置中排出，废气处理装置可确保绝对的安全，即它是一个非常安全的设备。
在上述例子中，废气处理装置包括所有的预处理部分、加热氧化分解部分、催化反应部分和后处理部分。然而，预处理部分和后处理部分可以与废气处理装置分别提供。此外，后处理部分可以提供给多个废气处理装置，并可以集中处理包含在从多个废气处理装置排出的废气中的酸性气体。
如上所述，根据本发明，可以高效和经济地净化从半导体制造装置中排出的含有氟化合物和CO的废气。
该废气处理方法和装置并不局限于所示的实施例。虽然在这里已经示出和详细描述了本发明的一些特定优选实施例，但应当理解的是，在不脱离附属的权利要求范围的情况下，可以作出各种变化和改型。
工业实用性
本发明适合用于高效净化含有氟化合物和一氧化碳(CO)的废气的装置中，所述废气是在半导体制造过程如半导体制造装置内表面的干洗过程或不同类型的膜如氧化膜的蚀刻过程中排出的。

Claims (8)

1、一种处理废气的方法，所述废气含有氟化合物和CO中的至少一个，所述方法包括：
从所述废气中除去粉末成分、水溶性成分和水解成分中的至少一个；
然后将氧气(O2)和水(H2O)加入所述废气中；
随后加热所述废气，以分解或氧化所述废气中的氟化合物和CO中的至少一个；以及
将氟化合物分解时所产生的酸性气体从已经分解或氧化的所述废气中除去。
2、根据权利要求1所述的方法，其特征在于，还包含通过催化反应分解所述废气的步骤。
3、根据权利要求1所述的方法，其特征在于，通过吸附剂吸附或气液接触从所述废气中除去所述粉末成分、水溶性成分和水解成分中的至少一个。
4、根据权利要求1所述的方法，其特征在于，通过吸附剂吸附或气液接触从所述废气中除去所述酸性气体。
5、根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述加热步骤包括将所述废气加热到700至900℃的温度。
6、一种处理废气的方法，所述废气含有氟化合物和CO中的至少一个，所述方法包括：
将氧气(O2)和水(H2O)加入所述废气中；以及
加热所述废气到700至900℃的温度，以净化所述废气中的CO、具有四个或更多碳原子的氟化合物、氢氟酸碳和NF3中的至少一个。
7、一种用于处理废气的装置，所述废气含有氟化合物和CO中的至少一个，该装置包括：
一第一处理部分，用于从废气中除去粉末成分、水溶性成分和水解成分中的至少一个；
一加热氧化分解部分，用于进行所述氟化合物和CO中的至少一个的加热氧化分解，以净化废气；
一氧气供应源，用于将氧气供应给所述加热氧化分解部分；
一水供应源，用于将水供应给所述加热氧化分解部分；以及
一第二处理部分，用于除去加热氧化分解后的废气中的酸性气体。
8、根据权利要求7所述的装置，其特征在于，还包括一个催化反应部分，用于通过催化反应来分解废气。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109453731A (zh) * 2018-11-23 2019-03-12 南京森尔电力器材有限公司 一种环保型塑料稳定剂的生产和传输装置

Families Citing this family (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5955037A (en) * 1996-12-31 1999-09-21 Atmi Ecosys Corporation Effluent gas stream treatment system having utility for oxidation treatment of semiconductor manufacturing effluent gases
US20010001652A1 (en) * 1997-01-14 2001-05-24 Shuichi Kanno Process for treating flourine compound-containing gas
JP3976459B2 (ja) * 1999-11-18 2007-09-19 株式会社荏原製作所 フッ素含有化合物を含む排ガスの処理方法及び装置
JP2004253699A (ja) * 2003-02-21 2004-09-09 Toshiba Corp 排ガスの熱酸化分解式除害装置
TWI332416B (en) * 2003-04-01 2010-11-01 Ebara Corp Method and apparatus for treating exhaust gas
US20050175521A1 (en) * 2004-02-09 2005-08-11 Wu-Niang Feng Method for cleaning harmful materials in semiconductor waste gas
CN100528292C (zh) * 2004-10-07 2009-08-19 日本派欧尼株式会社 排气的处理方法和处理装置
US7736599B2 (en) 2004-11-12 2010-06-15 Applied Materials, Inc. Reactor design to reduce particle deposition during process abatement
TW200738322A (en) * 2005-06-13 2007-10-16 Applied Materials Inc Methods and apparatus for process abatement
EP1954926A2 (en) 2005-10-31 2008-08-13 Applied Materials, Inc. Process abatement reactor
WO2007095134A2 (en) * 2006-02-11 2007-08-23 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for pfc abatement using a cdo chamber
JP4937998B2 (ja) * 2006-03-07 2012-05-23 カンケンテクノ株式会社 Ｈｃｄガスの除害方法とその装置
ES2355394T3 (es) * 2006-07-05 2011-03-25 Patco Engineering Gmbh Método para enfriar y convertir gases de escape calientes, así como dispositivo para realizar dicho método.
GB0702837D0 (en) * 2007-02-14 2007-03-28 Boc Group Plc Method of treating a gas stream
JP5636955B2 (ja) * 2010-12-27 2014-12-10 三菱日立パワーシステムズ株式会社 熱回収利用システム
WO2012123223A1 (de) * 2011-03-14 2012-09-20 Untha Recyclingtechnik Gmbh Verfahren und anlage zur behandlung von kältemittel und/oder treibmittel aufweisenden fluiden
US8128902B2 (en) * 2011-04-12 2012-03-06 Midwest Refrigerants, Llc Method for the synthesis of anhydrous hydrogen halide and anhydrous carbon dioxide
US8043574B1 (en) 2011-04-12 2011-10-25 Midwest Refrigerants, Llc Apparatus for the synthesis of anhydrous hydrogen halide and anhydrous carbon dioxide
US8834830B2 (en) 2012-09-07 2014-09-16 Midwest Inorganics LLC Method for the preparation of anhydrous hydrogen halides, inorganic substances and/or inorganic hydrides by using as reactants inorganic halides and reducing agents
US9937467B2 (en) * 2014-10-06 2018-04-10 Kanken Techno Co., Ltd. Exhaust gas processing device
CN104667713B (zh) * 2015-02-06 2016-11-23 上海创洁科技股份有限公司 三氟化氮废气处理系统及处理方法
WO2016153096A1 (ko) 2015-03-26 2016-09-29 한국에너지기술연구원 난분해성 유해가스 소각처리를 위한 에너지 절약형 연소장치 및 이의 운전방법
CN106152150A (zh) * 2015-04-07 2016-11-23 苏州新宇诺节能环保科技有限公司 一种使用蓄热式高温氧化炉净化有机废气的方法
CN106152149A (zh) * 2015-04-07 2016-11-23 苏州新宇诺节能环保科技有限公司 使用蓄热式高温氧化炉净化有机废气的方法
CN106914105B (zh) * 2015-12-25 2019-12-31 日立造船株式会社 气体水洗装置
TWI637780B (zh) * 2016-07-18 2018-10-11 東服企業股份有限公司 半導體製程廢氣燒結反應後捕捉生成物的方法及其裝置
KR101825825B1 (ko) * 2016-08-02 2018-02-06 주식회사 에코프로 질소산화물, 염화불화탄소류, 수소염화불화탄소류, 수소불화탄소류 및 과불화화합물을 포함하는 복합 폐가스의 통합 처리 시스템
CN106524191A (zh) * 2016-10-31 2017-03-22 江苏优瑞德环境科技有限公司 含氟烷烃废气焚烧处理工艺及装置
CN107297127B (zh) * 2017-06-21 2020-06-19 江苏春申堂药业有限公司 一种VOCs废气处理方法
CN108506948A (zh) * 2018-04-12 2018-09-07 阮红艺 一种废气处理用电加热炉
US11627743B2 (en) * 2020-01-09 2023-04-18 Haier Us Appliance Solutions, Inc. Rack assembly for an indoor smoker
TWI737503B (zh) * 2020-09-28 2021-08-21 棨揚企業有限公司 水溶性廢氣淨化設備
KR102588533B1 (ko) * 2021-06-04 2023-10-12 엠에이티플러스 주식회사 전자산업 폐가스 처리 장치

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5492678A (en) * 1993-07-23 1996-02-20 Hokushin Industries, Inc. Gas-cleaning equipment and its use
JP3016690B2 (ja) 1994-05-30 2000-03-06 カンケンテクノ株式会社 半導体製造排ガス除害方法とその装置
US20010001652A1 (en) * 1997-01-14 2001-05-24 Shuichi Kanno Process for treating flourine compound-containing gas
JP3269456B2 (ja) * 1997-06-20 2002-03-25 株式会社日立製作所 フッ素含有化合物の分解処理方法、触媒及び分解処理装置
TW550112B (en) * 1997-11-14 2003-09-01 Hitachi Ltd Method for processing perfluorocarbon, and apparatus therefor
JP3217034B2 (ja) 1997-11-14 2001-10-09 株式会社日立製作所 過弗化物の処理方法及びその処理装置
US6602480B1 (en) * 1998-08-17 2003-08-05 Ebara Corporation Method for treating waste gas containing fluorochemical
JP2000323414A (ja) * 1999-04-30 2000-11-24 Applied Materials Inc 基板処理装置
DE19955066C2 (de) * 1999-11-15 2002-01-24 Wandres Micro Cleaning Verfahren und Vorrichtung zum Entfernen von Verunreinigungen von Oberflächen
JP3976459B2 (ja) 1999-11-18 2007-09-19 株式会社荏原製作所 フッ素含有化合物を含む排ガスの処理方法及び装置
JP2001293335A (ja) 2000-04-12 2001-10-23 Ebara Corp フッ素含有化合物を含む排ガスの処理方法
JP3889932B2 (ja) 2001-02-02 2007-03-07 株式会社荏原製作所 フッ素含有化合物及びｃｏを含むガスの処理方法及び装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109453731A (zh) * 2018-11-23 2019-03-12 南京森尔电力器材有限公司 一种环保型塑料稳定剂的生产和传输装置
CN109453731B (zh) * 2018-11-23 2020-11-24 南京森尔电力器材有限公司 一种环保型塑料稳定剂的生产和传输装置

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