CN1862394B - 感光体 - Google Patents

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Abstract

采用在低沸点溶剂中形成的光生组分/树脂分散体提供感光体的光生层。

Description

感光体
技术领域
本公开内容涉及成像元件,和更具体地涉及适用于这种成像元件的光生层。
背景技术
在电子照相领域中,通过首先使光电导绝缘层的表面均匀地带静电荷而将在导电层中含有光电导绝缘层的电子照相元件成像。然后将元件对活化电磁辐射如光的图案曝光,该辐射选择性消散光电导绝缘层的受照区域中的电荷同时在未受照区域中留下静电潜像。然后可以通过例如从显影剂组合物中将细分的验电器调色剂粒子沉积在光电导绝缘层的表面上而显影此静电潜像以形成可见图像。获得的可见调色剂图像可以转印到合适的接收元件如纸上。此成像工艺可以采用可再用的电子照相成像元件重复许多次。
电子照相成像元件,即感光体的形式可以为板、转鼓、柔性带等。电子照相感光体可以使用单层构造或多层构造制备,但多层构造是更普遍的。多层感光体可以包括衬底、导电层、任选的阻空穴层、任选的粘合层、光生层(有时称为“生电层”)、输电层、任选的保护层和在一些带实施方案中的防卷曲背层。在多层构造中,感光体的活性层是生电层(CGL)和输电层(CTL)。
一种类型的多层感光体具有在电绝缘有机树脂中分散的光电导无机化合物的细分粒子层。在美国专利4,265,990中,公开了具有分离的生电(光生)层和输电层的层状感光体。光生层能够光生空穴-电子对和注射光生的空穴进入输电层。
用于形成通过浸涂工艺制备的感光体的光生层的分散体通常采用高沸点溶剂体系,如乙酸正丁酯、二甲苯或环己酮。采用这些分散体施加光生层的方法不包括干燥步骤,因为任何层的干燥引入额外的成本、额外的加工时间和感光体生产中可能的缺陷。
其它多层感光体包括光生层、输电层和保护层。这种感光体的例子公开于美国专利6,824,940。这种保护层通过改进它的耐磨性可协助延长感光体的寿命。然而,在形成具有保护层的感光体中,由于在施加保护层之后在最终干燥步骤中难以除去溶剂,可能必须在施加任何保护层之前干燥光生层。此外,用于施加光生层的任何溶剂可渗透通过上层,由此引起感光体中的缺陷。
制备感光体的成本随制造工艺中增加的每个步骤而增加。因此需要形成感光体的改进方法,该感光体包括在此使用的光生层。
发明内容
本公开内容提供具有树脂光生组分和低沸点溶剂的光生层的感光体。在实施方案中低沸点溶剂可以与高沸点溶剂结合。
也提供制造感光体的光生层的方法,该方法包括使树脂、光生组分和沸点为约35℃-约100℃的低沸点溶剂接触以形成分散体,和对衬底施加分散体。
本公开内容也在实施方案中提供感光体,该感光体包括例如约15wt%-约95wt%树脂、约5wt%-约85wt%光生组分和沸点例如为约35℃-约100℃的低沸点溶剂的光生层。
在实施方案中,感光体进一步包括输电层、任选的衬底、任选的阻空穴层和任选的粘合层。
在实施方案中,光生层的厚度为约0.05微米-约10微米和输电层的厚度为约2微米-约50微米。
在实施方案中,输电层包括选自吡唑啉和芳基胺的输空穴分子。
附图说明
图1是说明与对照物相比本公开内容的一些分散体的流变性能的图;和
图2是说明这些分散体的流动显形试验结果的照片。
具体实施方式
本公开内容提供用于形成感光体的光生层的分散体。分散体包括成膜树脂、光生组分和低沸点溶剂,它保证在施加光生层期间有效的溶剂蒸发。分散体也具有稳定的流变性能以保证在施加分散体以形成感光体的光生层时高质量涂层的显影。
任何合适的成膜聚合物或成膜聚合物的组合可用作树脂以形成分散体。用于分散体的合适树脂的例子包括热塑性和热固性树脂如聚碳酸酯、包括聚(对苯二甲酸乙二醇酯)的聚酯、包括聚(四亚甲基六亚甲基二氨基甲酸酯)的聚氨酯、包括聚(苯乙烯-共-马来酸酐)的聚苯乙烯、包括聚丁二烯-接枝-聚(丙烯酸甲酯-共-丙烯腈)的聚丁二烯、包括聚(1,4-环己烷砜)的聚砜、包括聚(苯醚)的聚芳基醚、包括聚(亚苯基砜)的聚芳基砜、包括聚(苯醚-共-亚苯基砜)的聚醚砜、包括聚(乙烯-共-丙烯酸)的聚乙烯、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚苯硫醚、聚醋酸乙烯酯、聚乙烯醇缩丁醛、包括聚(二甲基硅氧烷)的聚硅氧烷、包括聚(丙烯酸乙酯)的聚丙烯酸酯、聚乙烯醇缩乙醛、包括聚(六亚甲基己二酰胺)的聚酰胺、包括聚(均苯四酸酰亚胺)的聚酰亚胺包括聚(乙烯基胺)的氨基树脂、包括聚(2,6-二甲基-1,4-亚苯基醚)的聚苯醚树脂、对苯二甲酸树脂、包括聚(羟基醚)的苯氧基树脂、包括聚([(邻甲酚基缩水甘油基醚)-共-甲醛]的环氧树脂、包括聚(4-叔丁基苯酚-共-甲醛)的酚醛树脂、聚苯乙烯和丙烯腈共聚物、聚氯乙烯、聚乙烯醇、聚-N-乙烯基吡咯烷酮、氯乙烯和醋酸乙烯酯共聚物、羧基改性的氯乙烯/醋酸乙烯酯共聚物、羟基改性的氯乙烯/醋酸乙烯酯共聚物、羧基和羟基改性的氯乙烯/醋酸乙烯酯共聚物、丙烯酸酯共聚物、醇酸树脂、纤维素成膜剂、聚(酰胺酰亚胺)、苯乙烯-丁二烯共聚物、偏二氯乙烯-氯乙烯共聚物、醋酸乙烯酯-偏二氯乙烯共聚物、苯乙烯-醇酸树脂、聚乙烯基咔唑等及其组合。这些聚合物可以是嵌段、元规或交替共聚物。
在实施方案中,用于形成光生层的分散体中使用的树脂具有羟基官能团。在其它实施方案中,成膜树脂具有羧基。可用于形成光生层的分散体的成膜树脂也可以包括例如三元共聚物和四元共聚物。
可用作树脂的合适三元共聚物包括氯乙烯、醋酸乙烯酯和马来酸的反应产物。在一个实施方案中,三元共聚物可以从反应混合物形成,该混合物含有约80wt%-约87wt%氯乙烯、约12wt%-约18wt%醋酸乙烯酯和至多约2wt%马来酸,在实施方案中约0.5wt%-约2wt%马来酸,基于三元共聚物的反应物的总重量。当马来酸的比例超过约2wt%时,可能发生高暗衰退并且带电荷变得不可接受。小于约0.5wt%的马来酸比例不利地影响光生组分粒子在涂料组合物中的分散质量。
在实施方案中,聚合物可以是由如下通式表示的三元共聚物:
其中x是衍生自含有例如约80wt%-约87wt%氯乙烯的反应混合物的三元共聚物的比例,即x是例如约80wt%-约87wt%的三元共聚物;
y是衍生自含有例如约12wt%-约18wt%醋酸乙烯酯的反应混合物的三元共聚物的比例,即y是例如约12wt%-约18wt%;和
z是衍生自含有例如至多约2wt%马来酸的反应混合物的三元共聚物的比例,即z是例如至多约2wt%,在实施方案中约0.5wt%-约2wt%,基于三元共聚物的总重量。在实施方案中,组x、y和z表示三元共聚物每个链段的百分比,该百分比总计约100%。
在其它实施方案中,聚合物可以是由如下通式表示的三元共聚物:
Figure G2006100798430D00042
其中R是包含约2-约12个碳原子,在实施方案中约2-约10个碳原子,和更具体地约2-约6个碳原子的烷基;
x是衍生自含有例如约80wt%-约85wt%氯乙烯的反应混合物的三元共聚物的比例;
y是衍生自含有例如约3wt%-约10wt%醋酸乙烯酯的反应混合物的三元共聚物的比例;和
z是衍生自含有例如约5wt%-约17wt%丙烯酸羟烷基酯的反应混合物的三元共聚物的比例,基于三元共聚物的总重量。在实施方案中,组x、y和z表示三元共聚物每个链段的百分比,该百分比总计约100%。
在实施方案中,树脂包括氯乙烯、醋酸乙烯酯、马来酸和丙烯酸羟烷基酯的四元共聚物反应产物。
在采用的情况下,四元共聚物可以由如下通式表示:
其中R是例如约2-约12个碳原子,在实施方案中约2-约10个碳原子,和更具体地约2-约6个碳原子的烷基;
r是衍生自含有例如约80wt%-约90wt%氯乙烯的反应混合物的四元共聚物的比例,即r是例如约80wt%-约90wt%;
s是衍生自含有例如约3wt%-约18wt%醋酸乙烯酯的反应混合物的四元共聚物的比例,即s是例如约3wt%-约18wt%;
t是衍生自含有例如至多约1wt%马来酸的反应混合物的四元共聚物的比例,即t是例如至多约1wt%;和
u是衍生自含有例如约6wt%-约20wt%丙烯酸羟烷基酯的反应混合物的四元共聚物的比例,即u是例如约6wt%-约20wt%,基于四元共聚物的总重量。在实施方案中,组r、s、t和u表示四元共聚物每个链段的百分比,该百分比总计约100%。
在形成成膜树脂之后,聚合物可包括羟基含量至多约5wt%的羰基羟基共聚物,基于四元共聚物的总重量。
在实施方案中,单一树脂可用于形成本公开内容的分散体。一种以上上述树脂的混合物也可用于形成本公开内容的分散体。
树脂在用于形成光生层的分散体中存在的数量可以为分散体总固体的约15wt%-约95wt%,并且在实施方案中为分散体的约20wt%-约80wt%,尽管相对数量可以在这些范围以外。
可加入分散体的合适光生组分包括已知的光生颜料,例如金属酞菁、无金属酞菁、烷基羟基镓酞菁、羟基镓酞菁、氯镓酞菁和苝,特别是双(苯并咪唑)苝、钛氧基酞菁等。在实施方案中,钛氧基酞菁、氯镓酞菁、V型羟基镓酞菁和无机组分如硒、硒合金及三角形硒可以用作光生组分。
在实施方案中,羟基镓酞菁(HOGaPc)用作光生层中的光生组分。美国专利5,521,306和5,473,064描述了HOGaPc和制备V型羟基镓酞菁的方法。HOGaPc在例如约550纳米-约880纳米的范围最有响应性并且通常对小于约500纳米的光谱无响应。光生的波长可以为600纳米-850纳米并可包括两个波长之间的宽带。
光生组分可以在分散体中采用任何合适或所需的数量存在使得从其制备得到的光生层具有所需水平的光生组分。光生组分可以采用分散体的约5wt%-约85wt%和在实施方案中分散体的约20wt%-约80wt%的数量存在于分散体和因此存在于光生层中。
任何合适的低沸点溶剂可用于形成本公开内容的分散体。低沸点溶剂表示例如沸点为约35℃-100℃,在实施方案中约38℃-约85℃的溶剂。低沸点溶剂包括例如亚烷基卤、烷基酮、醇、醚、酯及其混合物。合适溶剂的具体例子包括四氢呋喃(THF)、二氯甲烷、丙酮、甲醇、乙醇、异丙醇、乙酸乙酯、甲乙酮、1,1,1-三氯乙烷、1,1,2-三氯乙烷、氯仿、1,2-二氯乙烷及其组合。
由于低沸点溶剂的使用,不要求沉积涂料的辅助干燥。
在实施方案中低沸点溶剂可以与其它溶剂结合,其它溶剂包括具有更高沸点的那些,以形成本公开内容的分散体。可以与低沸点溶剂结合以形成本公开内容的分散体的合适高沸点溶剂包括例如亚烷基卤、烷基酮、醇、醚、酯、芳族化合物及其混合物。合适溶剂的具体例子包括乙酸正丁酯(NBA)、甲基异丁基酮(MIBK)、环己酮、甲苯、二甲苯、单氯苯、二氯苯、1,2,4-三氯苯、一种或多种上述溶剂的混合物等。在低沸点溶剂与更高沸点溶剂例如沸点为约100℃-约160℃,在实施方案中约105℃-约130℃的溶剂结合的情况下,干燥可用于采用分散体形成光生层。
用于形成本公开内容的分散体的一些特别有用的溶剂包括四氢呋喃、四氢呋喃和乙酸正丁酯的混合物、四氢呋喃和甲基异丁基酮的混合物等。
在用于形成本公开内容的分散体的低沸点溶剂与高沸点溶剂结合的情况下,低沸点溶剂与高沸点溶剂的比例可以为约100∶0-约5∶95,在实施方案中为约95∶5-约25∶75。
在实施方案中,包含羧基官能团的树脂,如UCARMAGTM 527(约0.4%羧基)、VMCH(约1%羧基)、VMCC(约1%羧基)和VMCA(约2%羧基)可用于生产在四氢呋喃和四氢呋喃与更高沸点溶剂如乙酸正丁酯和甲基异丁基酮的助溶剂体系中具有牛顿流变性的分散体。在一个实施方案中,采用乙酸正丁酯或甲基异丁基酮稀释HOGaPc/UCARMAGTM527/THF的分散体得到可以在宽温度范围内施加的涂料,而不需要选一步干燥。
任何合适的技术可用于在树脂或溶于合适低沸点溶剂的树脂中分散光生组分粒子。
可以将溶剂在它制备之后加入本公开内容的分散体以调节其中光生组分的wt%。稀释初始形成的分散体,在此有时称为研磨料,以获得为形成光生层所需数量的光生组分的方法在此有时称为“调制”。例如,上述低沸点溶剂可用于调制研磨料以获得光生组分对树脂的所需比例。在实施方案中,上述高沸点溶剂可用于调制研磨料以获得光生组分对树脂的所需比例,或可以使用溶剂的组合。
在实施方案中,光生组分和成膜树脂的研磨料可以在低沸点溶剂如四氢呋喃中制备,然后可以将该研磨料采用第二高沸点溶剂如乙酸正丁酯或甲基异丁基酮稀释以生产具有所需水平光生组分的本公开内容的分散体。可以将分散体在宽温度范围,在实施方案中为约10℃-约40℃内施加而无需进一步干燥。
因此,牛顿型分散体可以在低沸点溶剂中制备,并且如需要采用另外的溶剂调节固体含量以保持为牛顿型分散体用于通过浸涂施加到转鼓感光体。相似地,可以将相同的初始牛顿型分散体采用不同的溶剂调制以获得具有所需固体含量的牛顿型或非牛顿型分散体用于通过模头或辊涂技术施加到带感光体上。
包含光电导组合物和树脂性树脂材料的光生层的厚度通常可以为约0.05微米-约10微米或更大,在实施方案中为约0.1微米-约5微米,和在实施方案中为约0.3微米-约3微米,尽管厚度可以在这些范围以外。光生层厚度涉及光生组分和树脂的相对数量,光生组分通常存在的数量为约5-约80wt%。更高的树脂含量组合物通常要求用于光生的更厚的层。通常,可能需要向此层提供足够的厚度以吸收约90%或更多在成像或印刷曝光步骤中指向它的入射辐射。此层的最大厚度依赖于诸如机械考虑、选择的具体光生组分、其它层的厚度以及是否需要柔性光电导成像元件等因素。
本公开内容的分散体可以与本领域技术人员认知范围内用于感光体的任何已知构造结合用于形成光生层。这种感光体包括在美国专利6,800,411,6,824,940,6,818,366,6,790,573和美国专利申请公开20040115546中描述的多层感光体。感光体可具有生电层(CGL),在实施方案中也称为光生层,和输电层(CTL)。包括衬底、导电层、阻电层或阻空穴层、粘合层和/或保护层的其它层也可以在感光体中存在。
在实施方案中,输电层包括选自如下的输空穴分子:1-[对甲基吡啶基-(2)]-3-(对二乙基氨基苯基)-5-(对二乙基氨基苯基)吡唑啉、1-[喹唑啉-(2)]-3-(对二乙基氨基苯基)-5-(对二乙基氨基苯基)吡唑啉、1-[吡啶基-(2)]-3-(对二乙基氨基苯乙烯基)-5-(对二乙基氨基苯基)吡唑啉、1-[6-甲氧基吡啶基-(2)]-3-(对二乙基氨基苯乙烯基)-5-(对二乙基氨基苯基)吡唑啉、1-苯基-3-[对二甲基氨基苯乙烯基]-5-(对二甲基氨基苯乙烯基)吡唑啉、1-苯基-3-[对二乙基氨基苯乙烯基]-5-(对二乙基氨基苯乙烯基)吡唑啉等。
在实施方案中,输电层包括输空穴分子,该分子包括如下通式的芳基胺:
Figure G2006100798430D00081
其中X选自烷基、卤素、烷氧基或其混合物。
当作为光生层施加到感光体时,本公开内容的分散体提供优异的光诱导放电特性、循环和环境稳定性及来自电荷载流子暗注入的可接受的电荷缺乏点水平。
提出如下实施例以举例说明本公开内容的实施方案。同样,除非另外说明,份数和百分比按重量计。
实施例1
通过将4.5克UCARMAGTM 527(来自Dow Chemical Co.)溶于132克100%四氢呋喃(THF)并随后加入13.5克羟基镓酞菁(HOGaPc)V型颜料(在此有时称为Pc7)制备分散体。UCARMAGTM 527的数均分子量为约35,000。将分散体在超微磨碎机中采用1mm直径玻璃珠碾磨约2小时。过滤分散体以除去珠和固体含量为约7.7%。将一些分散体放在一边用于流变测试,而将剩余的分散体采用THF稀释以调节固体含量到约4.5%用于涂覆。
通过将13.5克HOGaPc和分子量为约20,000的4.5克聚(4,4′-二苯基-1,1′-环己烷碳酸酯)(PCZ200,Mitsubishi,Chemicals)在132克100%四氢呋喃(THF)中混合制备对照样品分散体。将对照样品的固体含量调节到约5%。
此分散体的流变数据由具有双间隙测量系统的Paar Physica流变仪获得,其结果示于图1中。如在图1中所示,HOGaPc/UCARMAG527/THF(在图1中称为Pc7/UCAR527/THF)的流变数据证明,相比于在5%固体下显示剪切稀释行为的对照PCZ样品分散体(HOGaPc/PCZ200/THF)(在图1中称为Pc7/PCZ200/THF),此分散体直到7.7%固体是牛顿型的。
实施例2
由如下方式制备四种光生组分分散体:采用300克1/8”直径不锈钢珠在4盎司瓶中将3.0克羟基镓酞菁颜料和2克成膜树脂在45克四氢呋喃(THF)中辊磨8小时。用于制备每种分散体的树脂如下:
(1)树脂是占聚合物重量82wt%的氯乙烯、4wt%的醋酸乙烯酯、0.4wt%的马来酸和13.6wt%的丙烯酸羟烷基酯的聚合物反应产物且数均分子量为约35,000(UCARMAGTM 527,购自Union CarbideCo.)。
(2)树脂是占聚合物重量86wt%的氯乙烯、13wt%的醋酸乙烯酯和1wt%的马来酸的聚合物反应产物且数均分子量为约27,000(VMCH,购自Union Carbide Co.)。
(3)树脂是占聚合物重量81wt%的氯乙烯、17wt%的醋酸乙烯酯和2wt%的马来酸的聚合物反应产物且数均分子量为约15,000(VMCA,购自Union Carbide Co.)。
(4)树脂是分子量为约20,000的聚(4,4’-二苯基-1,1’-环己烷碳酸酯)(PCZ200,Mitsubishi Chemicals)。
过滤分散体除去珠并用THF将固体含量调节到4.5%用于涂覆。
对于每种分散体进行流动显形试验以确定分散体是否经历结块。简要地,对于流动显形试验,允许分散体流过0.5密耳的小间隙,其中在流动途径中存在障碍。采用两个厚度为0.5密耳的不锈钢填片条将两片微玻片保持在一起而形成间隙以限定流动。障碍后流动图案是评定分散体质量的标准之一。
这些含羧基的牛顿型分散体的流动显形试验结果的照片示于图2中。从图2可见,与不包含用于稳定分散体的羧基官能团的对照物(HOGaPc/PCZ200/THF)相比,包含羧基树脂的牛顿型分散体不显示聚集。
实施例3
按照以上在实施例2中说明的过程采用UCARMAGTM 527作为树脂制备三种分散体:3-1、3-2和3-3,区别在于使用CaviPro 300加工机(Five Star Technologies,Ltd.)按照制造商指示进行加工,而不使用辊磨。测定三种分散体的实际固体含量并随后采用THF调节到4.5%用于涂覆。
按照相同的方法和使用相同的材料制备两种对比例分散体CE-1和CE-2,区别在于采用的溶剂是NBA而不是THF。
按照以上在实施例2中说明的过程采用VMCH作为树脂制备两种对比对照分散体CC-1和CC-2,区别在于分散体由
Figure G2006100798430D00101
珠磨机采用制造规模而不是实验室规模中的辊磨而加工,并且采用的溶剂是NBA而不是THF。
采用每种分散体在铝转鼓上制备多层感光体器件。首先,采用美国专利6,156,468中描述的方法将4-微米TiO2/SiO2/酚醛树脂底涂层(UCL)浸涂到转鼓上。然后,使用tsukiage涂覆方法将上述每种分散体施加到底涂层。通过施加不同的拉动速率和/或不同的分散体浓度调节由每种分散体形成的光生层的厚度,以形成厚度为约0.2微米-约1.5微米的光生层。
最后,将所有的器件以浸涂方法采用含有如下物质的输电混合物的输电涂料溶液进行外涂覆:14.4克PCZ400(分子量为约40,000的聚(4,4’-二苯基-1,1’-环己烷碳酸酯),来自MitsubishiChemicals)、9.6克N,N′-二苯基-N,N-双(3-甲基苯基)-1,1′-联苯-4,4′-二胺、57.0克THF和19.0克单氯苯。通过强制空气烘箱在135℃下将施加的输电涂层干燥45分钟形成厚度为28μm的层。
将获得的感光体器件采用循环扫描器装置进行电测试以获得100次充电-消除循环,随后立即进行另外100次循环,顺序为2次充电-消除循环和1次充电-曝光-消除循环,其中光强度随循环增量增加以产生光诱导的放电曲线,从该曲线测量感光性。扫描器装配单一导线电晕管(5厘米宽)装置以在转鼓器件表面上沉积70纳库仑/cm2电荷。
以带负电模式测试器件。通过调节一系列中性密度滤光器增量增加曝光光强度,并且曝光波长由带通滤波器控制在780±5纳米。曝光光源是1,000瓦氙弧灯白光源。
使转鼓在90rpm的速度下旋转以产生141.4毫米/秒的表面速度或0.66秒的循环时间。静电复印模拟在环境受控的光密性腔中在环境条件(50%相对湿度和21℃)下进行。这些测试的结果示于下表1中,其中V和V分别是初始电压和在给定数量光曝光之后的残余电压;Vdepl表示泄漏电压,或器件不能保持少量施加电荷的能力。
表1
样品#   V<sub>depl</sub>(V) V<sub>零</sub>   V<sub>低</sub>(2.8尔格)   V<sub>低</sub>(13尔格)   感光性(dV/dX)   暗衰退(V/s)
  3-1   74.8   706.2   90.1   70.8   -406.7   12.9
  3-2   81.1   705.3   90.6   73.5   -415.9   10.7
  3-3   85.4   715.0   96.9   70.6   -402.9   14.1
  CC-1   152.6   708.7   91.5   74.1   -403.7   20.2
  CC-2   81.3   717.5   108.8   72.2   -357.5   14.7
  CE-1   62.2   712.9   120.8   70.8   -346.2   11.0
  CE-2   98.8   713.2   112.8   71.8   -354.0   13.5
在表1中,感光体的暗衰退由如下方式测量:在施加50纳库仑/cm2的单一充电循环之后监测表面电势同时保持感光体在暗处(不曝光)。由初始放电速率在低曝光强度下计算感光性(dV/dx),在约70%初始电压或V下测定(约0-约0.7尔格/cm2曝光)。在2.8尔格/cm2的曝光水平下测量器件的电压(V)以记录在部分曝光器件之后获得的残余电压并在13尔格/cm2下测量以记录当完全器件曝光时获得的残余电压。充电容量由如下方式测量:通过施加约2-约120nC/cm2的增量电荷并监测获得的电压(采用消除)以产生电荷-电压曲线。从电荷-电压曲线的线性回归计算低场电压耗减,Vdepl电压由零施加电荷下的截距表示。
样品3-1、3-2和3-3中的感光度与CC-1一致性良好。尽管感光度较好地匹配,但样品3-1、3-2和3-3中的低场电压耗减(Vdepl)几乎比CC-1小50%。与更低耗减一致的是暗衰退速率下的同等降低,它在样品3-1、3-2和3-3中比在CC-1低25-50%。这些结果表示在采用本公开内容的THF基光生层制备的器件中电容充电性得到很大改进。
在2.8和13尔格下测量的V中的优异一致性证明样品3-1、3-2和3-3的电容充电性的改进与CC-1的性能相当并且不导致感光体中电荷的累积。在THF基光生层中,将电荷有效地传送出感光体而不影响光诱导放电曲线(PIDC)的特性。在浸涂工工艺期间通过输电层与光生层的轻微互混增强改进的传送,由此能够实现改进的到输电层的电荷转移。
在CC-2、CE-1和CE-2中,低场耗减和暗衰退值接近在样品3-1、3-2和3-3中获得的那些,然而感光度显著更低。得到样品3-1、3-2和3-3增加的感光度同时保持包括低暗放电和低场耗减的优异光诱导放电特性。
制备本公开内容的多个批次的分散体以证明THF基光生层与NBA体系相比的优点。尽管如在CC-1所示可以在NBA体系中获得较高的感光度,但它的代价在于其它方面,包括低场耗减和暗衰退。CC-2显示可以采用相同的NBA/VMCH基光生层获得相似的良好行为,但仅通过降低感光度实现。
采用CE-1和CE-2获得在较低感光度下的相似结果,它也采用NBA体系制备。
通过获得更高感光度的感光体同时保持低暗衰退、低耗减和改进的充电性证明THF基光生层的改进。

Claims (10)

1.一种感光体,包括光生组分、低沸点溶剂和树脂的光生层,所述树脂选自以下物质组成的组:
如下通式表示的三元共聚物:
其中:基于该三元共聚物,三元共聚物的指定为x的部分以80wt%-87wt%的量存在;
三元共聚物的指定为y的部分以12wt%-18wt%的量存在;和
三元共聚物的指定为z的部分以至多2wt%的量存在;其中x、y和z的总和等于100%;
如下通式表示的三元共聚物:
Figure F2006100798430C00012
其中R是包含2-12个碳原子的烷基;
三元共聚物的指定为x的部分衍生自含有80wt%-85wt%氯乙烯的反应混合物;
三元共聚物的指定为y的部分衍生自含有3wt%-10wt%醋酸乙烯酯的反应混合物;和
三元共聚物的指定为z的部分衍生自含有5wt%-17wt%丙烯酸羟烷基酯的反应混合物;其中,x、y和z的总和是100%;和
由如下通式表示的四元共聚物:
Figure F2006100798430C00021
其中:R是含有2-12个碳原子的烷基;
基于该四元共聚物,
四元共聚物的指定为r的部分以80wt%-90wt%的量存在;
四元共聚物的指定为s的部分以3wt%-18wt%的量存在;
四元共聚物的指定为t的部分以至多1wt%的量存在;和
四元共聚物的指定为u的部分以6wt%-20wt%的量存在;其中r、s、t和u的总和等于100%;
以及这些聚合物的组合。
2.权利要求1的感光体,其中所述溶剂的沸点为35℃-100℃。
3.权利要求1的感光体,其中所述溶剂选自亚烷基卤、烷基酮、醇、醚、酯及其混合物。
4.权利要求1的感光体,其中所述溶剂选自四氢呋喃、二氯甲烷、丙酮、甲醇、乙醇、异丙醇、乙酸乙酯、甲乙酮、1,1,1-三氯乙烷、1,1,2-三氯乙烷、氯仿、1,2-二氯乙烷及其混合物。
5.权利要求1的感光体,其中光生层进一步包括至少一种高沸点溶剂。
6.制造权利要求1中所述的感光体的光生层的方法,包括:
使权利要求1中所述的光生组分、低沸点溶剂和树脂接触以形成分散体;和
将分散体施加到衬底上。
7.权利要求6的方法,其中所述溶剂的沸点为35℃-100℃。
8.权利要求6的方法,其中将树脂、光生组分和低沸点溶剂碾磨1小时-6天的时间。
9.权利要求6的方法,进一步包括向分散体中加入沸点为100℃-160℃的高沸点溶剂。
10.权利要求6的方法,其中光生组分在分散体中存在的数量为总固体的5wt%-85wt%,并且树脂在组合物中存在的数量为总固体的15wt%-95wt%。
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