CN1847937A - 液晶装置和电子设备 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种有利于提高显示质量的同时可以降低成本的具有多间隙构造的液晶装置。液晶装置(100)具有相对配置的一对基板(101、102)、配置在一对基板(101、102)之间的液晶层(103)、在一对基板(101、102)中至少一个上形成的与多种颜色(R、G、B)对应的多个着色层(104R、104G、104B)、和在一对基板(101、102)中一个上形成并且与多种颜色对应的多个电极(109R、109G、109B)，为了使液晶层(103)的厚度最佳化，在多个电极(109R、109G、109B)之间设置有膜厚差。

Description

液晶装置和电子设备
技术领域
本发明涉及一种具有多间隙构造的液晶装置。
背景技术
至今，已经知道有一种所谓的多间隙构造，是在液晶面板(液晶装置)中，通过使液晶层的厚度(单元厚度)按红(R)、绿(G)、蓝(B)的颜色进行最佳化，来抑制由波长分散引起的漏光的技术(例如，参照专利文献1、2、3)。
[专利文献1]特开平4-362919号公报
[专利文献2]特开平7-175050号公报
[专利文献3]特开2003-5213号公报
在以往的多间隙构造中，为了使单元厚度最佳化，按每种颜色来控制滤色器的着色层的膜厚，在透光性像素电极(ITO)上形成由丙烯系树脂膜和硅氧化膜等构成的上涂层膜，来按每种颜色控制该上涂层膜的厚度。
但是，在控制上述着色层的膜厚的技术中，存在随着颜料浓度的调整容易产生颜色坐标特性降低的课题。例如，当形成比较厚的着色层时，为了使亮度与其它着色层一致，要减少厚的着色层中的颜料浓度，结果，使得整体的颜色坐标接近白色。
而且，在上述电极上形成上涂层膜的技术中，存在着导致增加工序数，难以达到低成本的课题。
发明内容
本发明的目的在于，提供一种有利于提高显示质量的同时可以降低成本的具有多间隙构造的液晶装置。
本发明的液晶装置是具有多间隙构造的液晶装置，其特征在于，具有相对配置的一对基板、配置在所述一对基板之间的液晶层、在所述一对基板中至少一个上形成的与多种颜色对应的多个着色层、和在所述一对基板中一个上形成的并且与多种颜色对应的多个电极，在上述多个电极之间设置有膜厚差。
根据该液晶装置，由于能够根据与多种颜色对应的多个电极之间的膜厚差来实现间隙，所以，能够避免在已有的多间隙构造中颜色坐标特性降低的课题。而且，在该液晶装置中，通过多间隙和颜色坐标的最佳化，能够达到提高显示质量的目的。
在上述液晶装置中，进一步具有区划上述多个电极的围堰(bank)。
该情况下，优选使用液相法形成上述多个电极。
在液相法中，是在基板上配置液体材料，通过对其膜进行热处理来得到导电性电极。作为配置液体材料的技术有液滴喷出法(喷墨法)、Cap涂敷法、旋涂法等。在基板上配置多个电极的液体材料时，上述围堰用于限定配置区域。而且，由于使用液相法容易达到简化制造过程和减少材料使用量的目的，所以有利于降低制造成本。
该情况下，最好使用喷墨法形成上述多个电极。
通过使用喷墨法，能够对每个配置区域容易地改变液体材料的量，或改变液体材料的浓度。
本发明的电子设备的特征在于，具有先前所述的本发明的液晶装置。
根据该构成，可以得到具有卓越显示质量并且可以廉价地提供的电子设备。
附图说明
图1是本发明的液晶装置的实施方式的一个例子，是模式化表示具有多间隙构造的无源矩阵型的液晶装置的剖面构造的图。
图2是表示在多个着色层中设置有膜厚差的方式的图。
图3是表示喷墨法所优选使用的液滴喷出装置的概略构成的斜视图。
图4是表示使用喷墨法来形成多个电极的方法的一个例子的图。
图5是表示本发明的液晶装置的其他实施例的图。
图6是表示将本发明应用于有源矩阵方式的液晶装置的例子的图。
图7是表示将本发明应用于有源矩阵方式的液晶装置的其他例子的图。
图8是用于说明Cap涂敷法的概略剖面图。
图9是表示电子设备的一个例子的侧视构成图。
图中：100、150、200、250-液晶装置，101、102-基板，103-液晶层，104-滤色器，104R、104G、104B-着色层，105-围堰，106-覆盖涂敷膜，107-电极(对置电极)，108、111-取向膜，109R、109G、109B-电极(像素电极)，110-围堰，110a、110b、110c-开口部分，205-TFT元件。
具体实施方式
下面，参照附图来说明本发明。
图1是本发明的液晶装置的实施方式的一个例子，模式化表示具有间隙构造的无源矩阵型的液晶装置(液晶显示装置)的剖面构造。
如图1所示，液晶装置100为透过型，具有在由玻璃等构成并对置配置的一对基板(第1基板101、第2基板102)之间，配置了由TN(TwistedNematic(扭曲向列))液晶等构成的液晶层103的构成。并且，液晶装置100具有用于将驱动信号供给液晶层的驱动IC和作为光源的后照光(两者都未图示)等。
第1基板101，在其内面上配设有滤色器104。滤色器104包含红色(R)着色层104R、绿色(G)着色层104G、蓝色(B)着色层104B，并将多个这些着色层104R、104G、104B规则地排列在基板101的平面内。此外，在这些着色层104R、104G、104B之间，形成有由遮光部件等构成的围堰105。而且，在滤色器104和围堰105上，配设有由树脂等构成的覆盖涂敷膜106。
而且，在该覆盖涂敷膜106上，带状地形成有具有透光性的多个电极107。多个电极107由ITO(Indium Tin Oxide(铟锡氧化物))等透光性导电膜构成。并且，在覆盖涂敷膜106上形成有由树脂等构成的取向膜108。
第2基板102，在其内面上以与第1基板101侧的多个电极107交叉的方式，带状地形成有透光性的多个电极109(像素电极)。多个电极109由ITO(Indium Tin Oxide(铟锡氧化物))等透光性导电材料形成。多个电极109包括：配置在着色层104R的对置位置上来与红色(R)对应的电极109R、配置在着色层104G的对置位置上来与绿色(G)对应的电极109G、和配置在着色层104B的对置位置上来与蓝色(B)色对应的电极109B。在多个电极109R、109G、109B之间，形成有区划多个电极109R、109G、109B的围堰110。即，在围堰110的开口部分110a、110b、110c中配设有多个电极109R、109G、109B。围堰110是通过由光刻等的图案形成在基板102上统一形成的。
并且，在多个电极109R、109G、109B和围堰110上，形成有由树脂等构成的取向膜111。
此外，通过在第1基板101的任意电极107和第2基板102的任意电极109之间施加电压，对其作出回应，两电极107、109的交叉部分的液晶层103的液晶分子的方向会发生变化。而且，在滤色器104和第2基板102的各个外面侧上设置有偏振板(未图示)，在基板101、102之间，配设有隔片和用于截断液晶层103与外部气体接触的密封材料(都未图示)。作为密封材料，例如可以用热固化型或光固化型的树脂等。
在本实施例的液晶装置100中，根据第2基板102中的多个电极109R、109G、109B之间的膜厚差可以实现多间隙。
即，在与R(红色)对应的电极109R的膜厚(tR)、与G(绿色)对应的电极109G的膜厚(tG)、和与B(蓝色)对应的电极109B的膜厚(tB)中，3个膜厚互不相同，或者2个膜厚大致相同并且该膜厚与另一个膜厚相互不同。而且，根据该膜厚差，来设置与R(红色)对应的着色层104R和电极109R之间的液晶层103的厚度(dR)、与G(绿色)对应的着色层104G和电极109G之间的液晶层103的厚度(dG)、和与B(蓝色)对应的着色层104B和电极109B之间的液晶层103的厚度(dB)之间的差。如果电极109R(109G、109B)的膜厚tR(tG、tB)比较厚，则与其对应的液晶层103的厚度dR(dG、dB)相对地变薄，相反地，如果电极109R(109G、109B)的膜厚tR(tG、tB)比较薄，则与其对应的液晶层103的厚度dR(dG、dB)会相对地变厚。例如，如果tR＜tG＜tB，则dR＞dG＞dB。
多个电极109R、109G、109B之间的膜厚差是根据液晶层103的每种颜色(R、G、B)的最佳厚度决定的。关于液晶层厚度的最佳化，例如，可以引用在特开平4-362919号公报和特开平7-159770号公报中记载的技术。此外，将各电极109R、109G、109B的膜厚设定在能够确保所要导电性的厚度以上。
这样，在本例的液晶装置100中，根据第2基板102中的多个电极109R、109G、109B之间的膜厚差实现了多间隙。因此，对于滤色器104的各着色层104R、104G、104B的形状和形成方法的制约减少，通过控制各着色层104R、104G、104B的颜料浓度(颜料密度)和厚度，能够达到颜色坐标的最佳化。而且，在该液晶装置100中，通过由上述多间隙来防止漏光和使颜色坐标最佳化等，能够达到提高显示质量的目的。
此外，如图2所示，当在各着色层104R、104G、104B之间设置有膜厚差时，根据该膜厚差可以调整多个电极109R、109G、109B之间的膜厚差。
返回到图1，在本例的液晶装置100中，由于进一步在第2基板102上形成有区划多个电极109R、109G、109B的围堰110，所以在多个电极109R、109G、109B的形成中可以使用液相法。在液相法中，通过将液体材料配置在基板上，并对其膜进行热处理，可以得到导电性电极。作为液体材料的配置技术，例如，可以举出液滴喷出法(喷墨法)、Cap涂敷法、旋涂法等。上述围堰110被用作在基板102上配置多个电极109R、109G、109B的液体材料时，来限定配置区域的隔离部件。而且，因为使用液相法容易达到简化制造工艺和减少材料使用量的目的，所以有利于降低制造成本。特别是，通过使用喷墨法，对每个配置区域能够容易地改变液体材料的量，或改变液体材料的浓度。
图3(a)是表示喷墨法所优选使用的液滴喷出装置IJ的概略构成的立体图。
液滴喷出装置IJ具有：液滴喷头301、X轴方向驱动轴304、Y轴方向引导轴305、控制装置CONT、载物台307、清洁机构308、基台309和加热器315。
载物台307用于支持由该液滴喷出装置IJ配置油墨(液体材料)的基板(P)，具有将基板(P)固定在基准位置上的未图示的固定机构。
液滴喷头301是具有多个喷出喷嘴的多喷嘴型的液滴喷头，并且其长边方向与Y轴方向一致。在Y轴方向排列并隔开一定间隔地将多个喷出喷嘴设置在液滴喷头301的下面。从液滴喷头301的喷出喷嘴，将油墨喷出在由载物台307支持的基板(P)上。
X轴方向驱动马达302与X轴方向驱动轴304连接。X轴方向驱动马达302采用步进马达等，如果从控制装置CONT供给X轴方向的驱动信号，则会使X轴方向驱动轴304旋转。如果X轴方向驱动轴304旋转，则液滴喷头301会沿着X轴方向移动。
Y轴方向引导马达305被固定为相对基台309不动。载物台307具有Y轴方向驱动马达303。Y轴方向驱动马达303是步进马达等，如果从控制装置CONT供给Y轴方向的驱动信号，则会使载物台307沿着Y轴方向移动。
控制装置CONT向液滴喷头301供给液滴喷出控制用的电压。而且，向X轴方向驱动马达302供给控制液滴喷头301的X轴方向移动的驱动脉冲信号，向Y轴方向驱动马达303供给控制载物台307的Y轴方向移动的驱动脉冲信号。
清洁机构308用于清洁液滴喷头301。在清洁机构308中具有未图示的Y轴方向驱动马达。通过该Y轴方向驱动马达的驱动，清洁机构308会沿着Y轴方向引导轴305移动。清洁机构308的移动也由控制装置CONT进行控制。
这里，加热器315是通过灯退火对基板(P)进行热处理的部件，对涂敷在基板(P)上的液体材料中所包含的溶剂进行蒸发和干燥。该加热器315的电源的接通和断开也由控制装置CONT进行控制。
液滴喷出装置IJ一面使液滴喷头301和支持基板(P)的载物台307相对地扫描，一面向基板(P)喷出液滴。这里，在下面的说明中，将X轴方向设定为扫描方向，与X轴方向正交的Y轴方向设定为非扫描方向。因此，液滴喷头301的喷出喷嘴被沿着作为非扫描方向的Y轴方向以一定间隔排列设置。此外，在图3(a)中，液滴喷头301被配置为与基板(P)的行进方向成直角，但也可以调整液滴喷头301的角度，使其与基板(P)的行进方向交叉。如果这样做，则通过调整液滴喷头301的角度，能够调节喷嘴间的间距。另外，也可以任意地调节基板(P)和喷嘴面的距离。
图3(b)是用于说明使用压电方式喷出液体材料的喷出原理的液滴喷头的概略构成图。
在图3(b)中，与收容液体材料(油墨)的液体室321邻接地设置有压电元件322。经由包含材料容器的液体材料供给系统323将液体材料供给液体室321。压电元件322与驱动电路324连接，通过该驱动电路324将电压施加到压电元件322上，使压电元件322变形，从而使液体室321发生弹性形变。而且，由于该弹性形变时的内容积变化，会从喷嘴325喷出液体材料。这时，通过改变施加电压的值，能够控制压电元件322的畸变量。并且，通过改变施加电压的频率，能够控制压电元件322的畸变速度。由于使用压电方式喷出液滴不需要加热材料，所以具有难以对材料的组成造成影响的优点。
图4是表示使用喷墨法形成图1的多个电极109R、109G、109B的方法的一个例子的图。下面，参照图4说明上述电极的形成方法。
首先，如图4(a)所示，准备好成为基体的基板102，并在其一面侧形成围堰110。
基板102可以使用玻璃、石英玻璃、Si晶片、塑料薄膜、金属板等各种材料。而且，还包括在这些各种素材基板的表面上形成半导体层、金属膜、电介质膜、有机膜等的基底层和TFT(薄膜晶体管)等的开关元件。
围堰110是平面区划基板面的隔离部件，能够用光刻法和印刷法等的任意方法形成该围堰。例如，当使用光刻法时，通过旋涂、喷涂、辊涂、模具涂敷、浸渍涂敷等规定方法，与在基板上形成的围堰的高度对齐，涂敷丙烯酸树脂等的有机系感光性材料，来形成感光性材料层。然后，通过与希望形成的围堰形状一致地用紫外线照射感光性材料层，来形成具有规定开口部分110a、110b、110c的围堰110。作为围堰110的材料，例如，可以用丙烯酸树脂、聚酰亚胺树脂、烯烃树脂、蜜胺树脂等的高分子材料。围堰110也可以是用包含聚硅氮烷的液体材料等形成的无机物的构造体。
为了提高在上述开口部分110a、110b、110c内的材料油墨的配置性，按照需要可以对围堰110进行疏液化处理。
作为疏液化处理，例如能够采用在大气气氛中将四氟甲烷作为处理气体的等离子体处理法(CF4等离子体处理法)。CF4等离子体处理的条件是，例如：等离子体功率为50kW～1000kW、四氟甲烷气体流量为50ml/min～100ml/min、相对等离子体放电电极的基板搬运速度为0.5mm/sec～1020mm/sec、基板温度为70℃～90℃。此外，作为处理气体，不限于四氟甲烷(四氟化碳)，也能够用其它的氟化碳系的气体。
通过进行这种疏液化处理，在构成围堰110的树脂中导入氟基，会对围堰110赋予高的疏液性。
而且，在进行上述疏液化处理前，为了洗净在开口部分110a、110b、110c的底面上露出的基板的表面，按照需要可以进行使用O2等离子体的灰化处理和UV(紫外线)照射处理。通过进行该处理，能够除去基板表面的围堰的残渣，从而可以使疏液化处理后的围堰110的接触角和该基板表面的接触角之差增大，这样，能够在后段工序中将配置在围堰110的开口部分内的液滴，正确地封入到开口部分的内侧中。而且，当围堰110由丙烯酸树脂和聚酰亚胺树脂构成时，由于如果在进行CF4等离子体处理之前，将围堰110暴露在O2等离子体中，会具有更容易进行氟化(疏液化)的性质，所以当由这些树脂材料形成围堰110时，在进行CF4等离子体处理前优选先施加O2灰化处理。
上述的O2灰化处理，具体而言，是通过来自等离子体放电电极的等离子体状态的氧对基板进行照射。作为处理条件，例如：等离子体功率为50W～1000W、氧气流量为50ml/min～100ml/min、相对等离子体放电电极的基板搬运速度为0.510mm/sec～10mm/sec、基板温度为70℃～90℃。
此外，尽管对围堰110进行的疏液化处理(CF4等离子体处理)，会对通过先前的残渣处理而被实施亲液化的基板表面多少有些影响，但特别是当基板由玻璃等构成时，由于难以发生由疏液化处理引起的氟基导入，所以实质上不会损害基板的亲液性，即湿润性。而且，也可以通过由具有疏液性的材料(例如具有氟基的树脂材料)形成围堰110，来省略这种疏液处理。
接着，如图4(b)所示，从先前的液滴喷出装置IJ的液滴喷头301(参照图3)，对设置在围堰110中的各个开口部分110a、110b、110c，滴下电极109R、109G、109B的材料油墨。例如，使用将ITO、IZO、FTO等的透光性导电材料的微粒分散在溶剂(分散介质)中的材料油墨。此外，也可以使用包含ITO微粒和硅有机化合物的液体材料，和包含ITO微粒、铟有机化合物与锡有机化合物的液体材料。通过使用这些液体材料，能够由从上述金属有机化合物生成的SiO2和ITO的矩阵，形成将ITO微粒之间紧固地粘合起来的构造的透光性导电膜，即使烧结温度比较低，也能够致密地配置ITO微粒，能够形成在微粒之间得到良好导电性的透光性导电膜。如果在滴下材料油墨时，将疏液性赋予围堰110的表面并且将亲液性赋予开口部分的底面部分的基板表面，则即便喷出的液滴的一部分载置在围堰110上，也会在围堰表面弹起而滑入到开口部分内。
而且，当进行电极109R、109G、109B的材料配置时，按照作为目标的膜厚差来改变材料油墨的配置量和/或油墨的浓度。即，在形成比较厚的膜厚的区域(围堰110的开口部分)上，配置较多量的油墨和/或较高浓度的油墨，在形成比较薄的膜厚的区域(围堰110的开口部分)上，配置较少量的油墨和/或较低浓度的油墨。通过使用喷墨法，能够对每个配置区域容易地改变液体材料的量，或者改变液体材料的浓度。
接着，如图4(c)所示，在电极109R、109G、109B的材料配置后，为了除去分散介质，会按照需要进行干燥处理。干燥处理例如可以使用通过通常用于加热基板的加热板、电炉等进行的加热处理来实施。处理条件例如是加热温度约为180℃、加热时间约为60分钟左右。该加热在氮气气氛下等进行，不一定需要在大气中进行。
而且，该干燥处理也能够通过灯退火进行。作为用于灯退火的光的光源，没有特别的限定，但能够使用红外线灯、氙灯、YAG激光器、氩离子激光器、二氧化碳激气体光器、和XeF、XeCl、XeBr、KrF、KrCl、ArF、ArCl等的准分子激光器等。这些光源一般用于输出功率10W～5000W的范围内，但本例中在100W～1000W的范围内就足够了。
接着，对电极109R、109G、109B的各材料的干燥膜进行烧结处理(热处理和/或光处理)。
该烧结处理的目的在于：提高微粒间的电接触，完全除去分散介质，并且，在为了提高液体中的分散性，而在导电性微粒的表面上涂敷有机物等的涂敷剂时，除去该涂敷剂等。
该热处理和/或光处理通常在空气中进行，但是也可以按照需要在氮、氩、氦等惰性气体气氛中进行。通过考虑分散介质的沸点(蒸气压)、气氛气体的种类和压力、微粒的分散性和氧化性等的热行为、有无涂敷剂及其数量、基材的耐热温度等，来适当地决定热处理和/或光处理的处理温度。
而且，通过上述的烧结处理，确保在电极109R、109G、109B的各材料的干燥膜中的微粒间的电接触，从而变换成透光性导电膜。结果，在围堰110的开口部分110a、110b、110c上，分别形成膜厚差相互不同的多个电极109R、109G、109B。
图5是本发明的液晶装置的其他实施方式例，模式化表示出液晶装置(液晶显示装置)的剖面构造。此外，在图5中，对具有与图1所示的液晶装置100相同功能的构成要素赋予了相同的附图标记，并省略或简化其说明。
图5所示的液晶装置150是半透过反射型。
即，第1基板101中，在滤色器104的各着色层104R、104G、104B的底部上局部地形成反射膜120、121、122。反射膜120、121、122分别具有可以透过光的开口部分120a、121a、122a。
在该液晶装置150中，来自第2基板102侧的光的一部分由反射膜120、121、122反射后，从第2基板102的外面侧射出到外部，同时其它的光通过反射膜120、121、122的开口部分120a、121a、122a，从第1基板101的外面侧射出到外部。
而且，在该半透过反射型液晶装置150中，也与图1的液晶装置100同样，能够根据第2基板102中的多个电极109R、109G、109B之间的膜厚差，来实现多间隙。
图6是表示将本发明应用于有源矩阵方式的液晶装置的例子的图。此外，在图6中，对具有与图1所示的液晶装置100相同功能的构成要素，赋予相同的附图标记，并省略或简化对其进行说明。
如图6所示，在有源矩阵方式的液晶装置200中，与多个电极109R、109G、109B对应，在基板102上形成有TFT元件205。
而且，在该有源矩阵方式的液晶装置200中，也与图1的液晶装置100同样，能够根据第2基板102中的多个电极109R、109G、109B之间的膜厚差来实现多间隙。
图7是表示将本发明应用于有源矩阵方式的液晶装置的其他例子的图。此外，在图7中，对具有与图6所示的液晶装置200相同功能的构成要素赋予相同的附图标记，并省略或简化对其进行说明。
在图7的液晶装置250中，和图6的液晶装置200同样，与多个电极109R、109G、109B对应，在基板102上形成有TFT元件205。
而且，在该有源矩阵方式的液晶装置250中，也与图6的液晶装置200同样，能够根据第2基板102中的多个电极109R、109G、109B之间的膜厚差来实现多间隙。
而且，该液晶装置250中，在形成有TFT元件205的同一基板102上，形成设置了膜厚差的多个电极109R、109G、109B，和包含着色层104R、104G、104B的滤色器104。而且，在对置的基板101的整个面上形成有电极108(整面膜)。
通过这种构成，则在形成电极108时，不会受到滤色器104的热限制。因此，对于电极108的形成方法制约很少，可以使用液相法等的有利于低成本的形成方法。
而且，通过在滤色器104中添加导电粒子，使其具有导电性，也能够防止由于在电极109和液晶层之间插入电介质而引起的信号波形衰减。
此外，在上述例子中，为了配置液滴(液体材料)采用了使用液滴喷出装置的液滴喷出法，但是作为其它的方法，例如也能够采用如图8所示的Cap涂敷法。Cap涂敷法是利用毛细管现象的成膜法，在涂敷液170中插入细长的切口(slit)171，如果在该状态下使涂敷液面上升则在缝隙171的上端会生成液堆172。通过使基板(P)与该液堆172接触，并使基板(P)沿规定方向平行移动，可以将涂敷液170涂敷在基板(P)面上。
而且，在上述例子中，使用液相法(液滴喷出法)形成了电极109R、109G、109B，但也可以用蒸镀法(包括CVD法)和溅射法等其它方法将其形成，或者还可以通过将蒸镀法(包括CVD法)、溅射法和液相法组合来形成电极109R、109G、109B。
该情况下，例如，使用蒸镀法(包括CVD法)和溅射法等在基板的整个面上形成透光性的导电膜，接着通过图案形成该膜来形成希望形状的电极。
而且，在上述例子中，作为液相法中的材料配置的隔离部件(区划部件)是在基板上形成了围堰，但作为区划部件也可以在基板上形成相对配置材料表示出疏液性的区域。形成表示出疏液性的区域，可以举出，例如，在基板表面上形成自组织化单分子膜的方法和实施等离子体处理的方法，或者将具备疏液性的高分子化合物涂敷在基板表面上的方法等。无论使用哪种疏液化处理，都能够将高疏液性赋予基板表面。
通过上述自组织膜形成方法，形成由有机分子膜等构成的自组织化膜。
用于处理基板表面的有机分子膜具有：可以与基板结合的官能团、称为亲液团或疏液团的用于在其相反侧对基板的表面性(控制表面能量)进行改性的官能团、和将这些官能团连结起来的碳的直链或一部分分支的碳链，通过与基板结合进行自组织化，形成了分子膜，例如单分子膜。
自组织化单分子膜(SAMs：Self-Assembled Monolayers)是用将分子固定在固体表面的方法，通过作为可以形成高取向-高密度分子层的方法的自组织化(SA：Self-Assembly)法而制作的膜。自组织化法能够在埃量级中操作分子环境和几何学的配置。而且，自组织化单分子膜，作为有机分子的固定化技术的一种有力的方法，由于制作方法简便，且在分子和基板之间存在的化学结合膜，所以热稳定性也高，是用于制作埃量级的分子元件的重要技术。而且，自组织化单分子膜基本上是自集合过程，能够自发地形成细微图案。即，自组织化单分子膜能够简便地形成用于超微小电子电路等的高度致密的图案。
通过使用例如氟代烷基硅烷作为具有上述高取向性的化合物，使各化合物取向为氟代烷基位于膜的表面，来形成自组织化膜，将均匀的疏液性赋予膜的表面。
而且，作为形成自组织化膜的化合物，能够举出：十七氟-1，1，2，2四氢癸基三乙氧基硅烷、十七氟-1，1，2，2四氢三甲氧基硅烷、十七氟-1，1，2，2四氢癸基三氯硅烷、十三氟-1，1，2，2四氢辛基三乙氧基硅烷、十三氟-1，1，2，2四氢辛基三甲氧基硅烷、十三氟-1，1，2，2四氢辛基三氯硅烷、三氟丙基三甲氧基硅烷等氟代烷基硅烷
(以下称为“FAS”)。在使用时，既可以单独地用一种化合物，也可以将2种以上的化合物组合起来使用。此外，通过使用FAS，能够得到与基板的密封性和良好的疏液性。
FAS一般用构造式RnSiX(4-n)表示。这里n表示1以上3以下的整数，X是甲氧基、乙氧基、卤素原子等的水解基。而且，R是氟代烷基，具有(CF3)(CF2)x(CH2)y(这里x表示0以上10以下的整数，y表示0以上4以下的整数)的构造，当多个R或X与Si结合时，R或X既可以分别全部相同，也可以不同。由X表示的加水分解基通过加水分解形成硅烷醇，与基板(玻璃、硅)等的基底的羧基反应，通过硅氧烷结合与基板结合。另一个面，由于R在表面具有(CF3)等的氟化基，所以将基板等的基底表面改性成非湿润(表面能量低)的表面。
等离子体处理法中，是在常压或真空中将等离子体照射到基板上。考虑到基板的表面材质等，能够选择各种用于等离子体处理气体种类。作为处理气体，例如，能够例示出四氟甲烷、全氟代己烷、全氟代癸烷等。
此外，将基板表面加工成疏液性的处理，能够通过将具有所要的疏液性的薄膜，例如经过四氟乙烯加工的聚酰亚胺膜等贴附在基板表面上来实施。而且，也可以原封不动地将聚酰亚胺膜用作基板。
而且，当基板表面具有比所希望的疏液性高的疏液性时，通过用170～400nm的紫外光进行照射，或者将基板暴露在臭氧气氛中，可以对基板表面进行亲液化处理，来控制表面的状态。
(电子设备)
图9是表示与本发明有关的电子设备的一个例子的立体图。
图9所示的便携式电话1300包括：具有本发明的液晶显示装置作为小尺寸的显示单元1301、多个操作按钮1302、接听口1303和通话口1304。
上述各实施方式的电光学装置，不限于上述便携式电话，也能够适当地用作具有电子书、个人计算机、数字静像照相机、映像监视器、寻像器型或监视器直视型的视频磁带录像机、汽车导航装置、寻呼机、电子笔记本、台式电子计算机、文字处理机、工作站、可视电话、POS终端、触摸面板的设备等的图像显示部件。这种电子设备一个面廉价一个面具有卓越的可靠性。
以上，一面参照附图一面说明了与本发明有关的优选实施方式，但是本发明当然不限定于上述的实施例。如果是从业者，则显然在权利要求的范围中记载的技术思想的范畴内，能够想到各种变更例或修正例，当然也应该明白这些也都属于本发明的技术范围。

Claims (5)

1.一种液晶装置，具有多间隙构造，包括：
相对配置的一对基板；和
配置在所述一对基板之间的液晶层；和
在所述一对基板中至少一个上形成的与多种颜色对应的多个着色层；和
在所述一对基板中一个上形成并且与所述多种颜色对应的多个电极；
在所述多个电极之间设置有膜厚差。
2.根据权利要求1所述的液晶装置，其特征在于：进一步具有区划所述多个电极的围堰。
3.根据权利要求2所述的液晶装置，其特征在于：使用液相法形成所述多个电极。
4.根据权利要求3所述的液晶装置，其特征在于：使用喷墨法形成所述多个电极。
5.一种电子设备，其特征在于：具备权利要求1～4中任何一项所述的液晶装置。
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Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI322833B (en) * 2005-12-27 2010-04-01 Ind Tech Res Inst Water-repellent structure and method for making the same
US20110171426A1 (en) * 2005-12-27 2011-07-14 Industrial Technology Research Institute Hard water-repellent structure and method for making the same
JP4542527B2 (ja) * 2006-06-30 2010-09-15 株式会社フューチャービジョン 白色の色度差を低減した表示装置とその製造方法
US20080102253A1 (en) * 2006-10-31 2008-05-01 Icf Technology Limited. Patterned thin-film layer and method for manufacturing same
JP5308063B2 (ja) 2007-07-12 2013-10-09 日東電工株式会社 液晶パネルおよび液晶表示装置
TWI344702B (en) * 2007-09-03 2011-07-01 Au Optronics Corp Multiple cell gaps transreflective lcd and fabricating method thereof
KR101024674B1 (ko) * 2007-12-28 2011-03-25 신한다이아몬드공업 주식회사 소수성 절삭공구 및 그제조방법
TWI381216B (zh) * 2009-03-20 2013-01-01 Au Optronics Corp 顯示面板、光電裝置及其製造方法
CN102654695A (zh) * 2012-03-23 2012-09-05 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板及应用其的显示装置
KR101959389B1 (ko) 2012-04-25 2019-03-20 삼성디스플레이 주식회사 액정표시장치
CN105774279B (zh) * 2016-03-23 2019-01-15 京东方科技集团股份有限公司 一种喷墨打印方法及oled显示装置的制作方法
CN207216211U (zh) * 2017-08-31 2018-04-10 京东方科技集团股份有限公司 彩膜基板、显示面板及显示装置
TWI763042B (zh) * 2020-09-17 2022-05-01 佳勝科技股份有限公司 製造電路板結構的方法

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04190217A (ja) * 1990-11-22 1992-07-08 Ricoh Co Ltd 透過型カラー液晶パネル
JPH0690376B2 (ja) 1991-10-04 1994-11-14 松下電器産業株式会社 カラー液晶表示装置
JP3211853B2 (ja) 1993-12-03 2001-09-25 富士通株式会社 液晶パネル
JPH07175050A (ja) 1993-12-21 1995-07-14 Fujitsu Ltd 液晶パネル
JPH08122803A (ja) * 1994-10-25 1996-05-17 Casio Comput Co Ltd カラー液晶表示素子
CN1100279C (zh) * 1996-10-29 2003-01-29 日本电气株式会社 有源矩阵液晶显示屏
US6195140B1 (en) * 1997-07-28 2001-02-27 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display in which at least one pixel includes both a transmissive region and a reflective region
JP3665263B2 (ja) * 2000-01-18 2005-06-29 シャープ株式会社 液晶表示装置
TW575775B (en) * 2001-01-29 2004-02-11 Hitachi Ltd Liquid crystal display device
JP5082172B2 (ja) * 2001-02-05 2012-11-28 ソニー株式会社 表示装置の製造方法
JP2003005213A (ja) * 2001-06-21 2003-01-08 Matsushita Electric Ind Co Ltd マルチギャップカラー液晶表示装置
JP2003228069A (ja) * 2002-02-01 2003-08-15 Matsushita Electric Ind Co Ltd 薄膜トランジスタ型液晶表示パネル
JP2003288030A (ja) * 2002-03-27 2003-10-10 Seiko Epson Corp 電気光学装置とその製造方法及びデバイス並びに電子機器
JP4364536B2 (ja) * 2003-03-28 2009-11-18 シャープ株式会社 液晶表示装置
JP3823981B2 (ja) * 2003-05-12 2006-09-20 セイコーエプソン株式会社 パターンと配線パターン形成方法、デバイスとその製造方法、電気光学装置、電子機器及びアクティブマトリクス基板の製造方法
JP4344270B2 (ja) 2003-05-30 2009-10-14 セイコーエプソン株式会社 液晶表示装置の製造方法
JP2005270725A (ja) * 2004-03-23 2005-10-06 Sharp Corp パターン基板、パターン基板の製造方法、及びパターン基板の製造装置

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