JPH08122803A - カラー液晶表示素子 - Google Patents

カラー液晶表示素子

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JPH08122803A
JPH08122803A JP6283960A JP28396094A JPH08122803A JP H08122803 A JPH08122803 A JP H08122803A JP 6283960 A JP6283960 A JP 6283960A JP 28396094 A JP28396094 A JP 28396094A JP H08122803 A JPH08122803 A JP H08122803A
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color filter
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substrate
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靖雄 腰塚
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    • G02F1/133509Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514Colour filters

Abstract

(57)【要約】 【目的】 優れた色バランスで画像を表示することがで
きるカラー液晶表示素子を提供することである。 【構成】 カラーフィルタ21を用いたカラー液晶表示
素子において、各画素の電極25の厚さをカラーフィル
タ21の色の光の透過率が最大となるように設定する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、カラーフィルタを用
いたカラー液晶表示素子に関する。
【0002】
【従来の技術】従来の単純マトリクス型カラー液晶表示
素子は、図5に示すように、一対の基板1と2をシール
材3を介して接合して形成された液晶セル4と、液晶セ
ル4に充填された液晶5と、液晶セル4を挟んで配置さ
れた一対の偏光板6、7とより構成される。
【0003】基板1の内面には、信号電極11及び配向
膜12が形成される。対向する基板2の内面にはR
(赤)G(緑)B(青)各色のカラーフィルタ21と、
カラーフィルタ21を覆う保護絶縁膜22と、信号電極
11と直交するように保護絶縁膜22上に形成された走
査電極23と、配向膜24とから形成されている。この
様な構成のカラー液晶表示素子においては、信号電極1
1と走査電極25間の印加電圧を調整することにより、
各カラーフィルタ21を透過して各画素から出射する光
の強度を制御することによりカラー画像を表示する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】信号電極11および走
査電極23は透明電極であり、一般に、ITO(indium
tin oxide)から形成される。ITOの膜厚と波長毎の
透過率の一例を図2に示す。図示するように、一定波長
において、ITOの膜厚に応じて、異なった透過率分布
を示す。
【0005】従来のカラーの液晶表示素子では、信号電
極11及び走査電極23を構成するITOの膜厚はそれ
ぞれ一定である。このため、信号電極11及び走査電極
23を通過したR、G、B各色の光の強さに相違が生ず
る。即ち、カラーフィルタ21を通過する以前の段階
で、RGB各色の光の強度に差が生じてしまう。このた
め、カラーフィルタ21自体を最適化設計しても、実際
に表示される各色のバランスが崩れ、低品質の画像しか
表示できなくなる虞がある。
【0006】また、信号電極11及び走査電極23を透
過させたい色の光の透過率が最大値ではないため、各画
素の出射光の強度が弱くなり、表示が暗くなるという問
題がある。
【0007】この発明は、上記事情に鑑みてなされたも
ので、優れた色バランスで画像を表示することができる
カラー液晶表示素子を提供することを目的とする。ま
た、この発明は、電極での光の吸収を低減し、明るい画
像を表示できるカラー液晶表示素子を提供することを目
的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
め、この発明に係るカラー液晶表示素子は、第1の基板
と、前記第1の基板上に形成された第1の電極と、前記
第1の基板に対向して配置された第2の基板と、前記第
2の基板側に配設されたカラーフィルタと、前記第2の
基板の前記第1の電極の対向面上に形成された第2の電
極と、前記第1の基板と前記第2の基板との間に封止さ
れた液晶と、を備え、前記第1の電極と前記第2の電極
の少なくとも一方は、対向するカラーフィルタの色に応
じて異なった厚さに形成されていることを特徴とする。
【0009】前記第1と第2の電極の少なくとも一方
は、色画素の各色について光透過率が最大となる厚さに
形成されることが望ましい。
【0010】
【作用】上述した構成の液晶表示素子では、カラーフィ
ルタの色に応じて電極を透過する光の透過率が変わるの
で、電極の厚さを対応するカラーフィルタの色、即ち、
通過させたい光の色に対応して異ならせる。従って、通
過させたい色の光の透過率が高くなるように電極の厚さ
を設定できる。
【0011】
【実施例】以下、この発明の実施例を図面を参照して説
明する。図1は、この発明の一実施例にかかる単純マト
リクス方式の液晶表示素子の構成を示している。なお、
図1において、図5と同一部分には同一符号を付す。
【0012】図1のカラー液晶表示素子は、基板1と基
板2とをシール材3を介して接合して形成した液晶セル
4と、液晶セル4に充填された液晶5と、液晶セル4を
挟んで配置された一対の偏光板6、7とより構成され
る。
【0013】基板1の内面には、信号電極11及び配向
膜12が形成される。基板2の内面にはR(赤)G
(緑)B(青)各色のカラーフィルタ21と、カラーフ
ィルタ21の上に形成され、平坦化膜を兼ねる絶縁保護
膜22と、走査電極25と、配向膜26が形成されてい
る。
【0014】信号電極11及び走査電極25はITOか
ら構成される。走査電極25は、その表面がその下に位
置するカラーフィルタ21の色(透過率が最大の色)の
光が透過し易い(最大透過率となる)ように、図2に従
って、異なった厚さに形成されている。
【0015】例えば、走査電極25のRのカラーフィル
タ21の上に位置する部分は、Rの光、例えば、Rのカ
ラーフィルタ21の最大透過率を示す波長620nm近
傍の光の透過率が最大となるように、その膜厚は200
nm±30nm程度に形成される。また、走査電極25
のGのカラーフィルタ21の上に位置する部分は、Gの
光、例えば、波長550nm近傍の光の透過率が最大と
なるように、その膜厚は165nm±30nm程度に形
成される。さらに、走査電極25のBのカラーフィルタ
21の上に位置する部分は、Bの光、例えば、波長46
0nm近傍の光の透過率が最大となるように、その膜厚
は135nm±30nm程度に形成される。
【0016】このような構成のカラー液晶表示素子にお
いては、走査電極25が、その下に位置するカラーフィ
ルタ21の色の光が透過し易い厚さを有する。従って、
Rのカラーフィルタ21の上に位置する走査電極25で
のRの光の減衰が小さく、強いRの光がRのカラーフィ
ルタ21に入射する。同様に、強いG,Bの光がG、B
のカラーフィルタ21に入射する。
【0017】従って、走査電極25の厚さが一定である
従来のものと比較して、色バランスが良く、明るいカラ
ー画像を表示できる。
【0018】上記構成のカラー液晶表示素子は、次のよ
うにして製造される。 (1) ガラス基板2上に、RGB各色のカラーフィル
タ21を印刷等により形成する。カラーフィルタ21の
上にSiO2、SiN等をCVD法等を用いて堆積し、保
護絶縁膜22を形成する。
【0019】スパッタリング等により、保護絶縁膜22
上に135nm程度の厚さの第1層のITO膜を形成す
る。第1層のITO膜の上にフォトレジスト等を塗布
し、これをパターニングすることにより、Bのカラーフ
ィルタ21上の部分にレジストパターンを形成する。第
1層のITO膜とレジストパターン上に第2層のITO
膜を厚さ30nm程度の厚さに堆積した後、レジストパ
ターンを除去する。同様にして、B及びGのカラーフィ
ルタ21上の部分にレジストパターンを形成し、第2層
のITO膜とレジストパターン上に第3層のITO膜を
厚さ35nm程度の厚さに堆積する。
【0020】レジストパターンを除去すると共に形成さ
れた3層のITO膜を走査電極25の形状にストライプ
状にパターニングする。
【0021】(2) ガラス基板1上にITO等の透明
導電膜を形成し、これをパターニングすることにより、
ストライプ状の信号電極11を形成し、その上に配向膜
12を形成する。 (3) 電極等が形成された基板1と2の周縁部をシー
ル材3でシールし、液晶セル4を形成する。 (4) 液晶セル4に真空注入法等を用いて液晶5を充
填する。 (5) 液晶セル4の外側に偏光板6、7を配設する。
【0022】このようにして構成された液晶表示素子
は、前述のように、走査電極25が最適化された厚さを
有するので、高品質で明るい画像を表示できる。
【0023】図1の構成においては、カラーフィルタ2
1の色に合わせて走査電極25の厚さを異ならせたが、
図3に示すように、信号電極15の厚さも対向するカラ
ーフィルタ21の色に応じて異ならせ、配向膜16を形
成してもよい。また、信号電極15の厚みのみをカラー
フィルタ21の色に応じて異ならせてもよい。
【0024】また、図1の構成では、単純マトリクス型
の液晶表示素子にこの発明を適用したが、図4に示すよ
うに、アクティブマトリクス型の液晶表示素子にこの発
明を適用してもよい。
【0025】図4に示すアクティブマトリクス型の液晶
表示素子は、TFT基板41と対向基板42をシール材
43を介して接合して形成した液晶セル44と、液晶セ
ル44内に充填された液晶45と、液晶セル44を挟ん
で配置された一対の偏光板46、47とより構成され
る。TFT基板41には、TFT51とTFT51に接
続された画素電極52がマトリクス状に配置され、これ
らの上に配向膜53が形成されている。また、対向基板
42には、各画素電極52に対向して、画素毎に配置さ
れたカラーフィルタ61が形成され、カラーフィルタ6
1上に平坦化膜を兼ねる絶縁保護膜62が形成され、絶
縁保護膜62上に全ての画素電極52と対向する対向電
極63が形成され、対向電極63上に配向膜64が形成
されている。
【0026】画素電極52と対向電極63は共にITO
から構成され、対応するカラーフィルタ61の色に応じ
てその厚さが異なっている。このような構成のTFT液
晶表示素子も、各カラーフィルタを透過する色の光のI
TO電極での透過率を最大にしている、従って、各色の
カラーフィルタに入射するその色の光の強度が均等にな
る。したがって、高品質なカラー表示が可能となる。
【0027】上記実施例において、膜厚の異なる電極は
画素電極52と対向電極63のいずれか一方だけであっ
ても良い。又、上記実施例では、カラーフィルタの透過
率のピークを示す波長での光の透過率を最大に設定する
ように電極の膜厚を変えたが、カラーフィルタが透過す
る複数の波長、即ち、波長域の光の透過率の総量が実質
的に最大となるように電極の膜厚を変えても良い。
【0028】なお、この発明は上記実施例に限定され
ず、種々の変形及び応用が可能である。例えば、図2に
示す特性は一例であり、使用する材質等のより、変化す
るものである。従って、使用する透明電極の材質等に応
じて、各電極の膜厚を調整する。また、図1及び図2の
構成では、走査電極の下(走査電極と基板の間)にカラ
ーフィルタを配置したが、走査電極の上に形成してもよ
い。また、信号電極側にカラーフィルタを形成してもよ
い。また、信号電極11の厚さのみを対向するカラーフ
ィルタの色に合わせて異ならせるようにしてもよい。ま
た、図4の構成において、画素電極52上にカラーフィ
ルタを配置してもよい。
【0029】上記実施例においては、ITO膜を積層す
ることにより、所望の厚さの電極を形成したが、例え
ば、最も厚いR用の電極用のITO膜を形成し、これを
選択的にエッチングすることにより、電極をカラーフィ
ルタの色毎に異なる厚さとしてもよい。さらに、上記実
施例では、透過型の液晶表示素子について説明したが、
この発明は、反射型の液晶表示素子や、偏光板を使用し
い高分子分散型の液晶表示素子等にも適用可能である。
【0030】
【発明の効果】この発明によれば、電極の厚さをカラー
フィルタの色に対応して異ならせるので、カラーフィル
タを透過する光の透過率が高くなる膜厚を形成できる。
このため、各色のカラーフィルタを透過する光の透過率
を最大値に設定することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施例に係る液晶表示素子の構成
を示す断面図である。
【図2】ITO膜厚と透過波長およびカラーフィルタの
透過ピーク波長の関係の一例を示す図である。
【図3】この発明の他の実施例に係る液晶表示素子の構
成を示す断面図である。
【図4】この発明のさらに他の実施例に係る液晶表示素
子の構成を示す断面図である。
【図5】従来の液晶表示素子の構成の一例を示す断面図
である。
【符号の説明】
1、2…基板、3…シール材、4…液晶セル、5…液
晶、6、7…偏光板、11…信号電極、12…配向膜、
21・・・カラーフィルタ、22・・・保護絶縁膜、23・・・
走査電極、24・・・配向膜、25・・・走査電極、26・・・
配向膜、41、42…基板、43…シール材、44…液
晶セル、45…液晶、46、47…偏光板、51…TF
T、52…画素電極、53・・・配向膜、61・・・カラーフ
ィルタ、62・・・絶縁保護膜、63・・・対向電極、64・・
・配向膜

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】第1の基板と、 前記第1の基板上に形成された第1の電極と、 前記第1の基板に対向して配置された第2の基板と、 前記第2の基板の前記第1の電極の対向面上に形成され
    た第2の電極と、 前記第2の基板側に配設されたカラーフィルタと、 前記第1の基板と前記第2の基板との間に封止された液
    晶と、 を備え、 前記第1の電極と前記第2の電極の少なくとも一方は、
    対向するカラーフィルタの色に応じて異なった厚さに形
    成されていることを特徴とするカラー液晶表示素子。
  2. 【請求項2】前記第1と第2の電極の少なくとも一方
    は、対応するカラーフィルタを透過する光の透過率が実
    質的に最大となる厚さに形成されていることを特徴とす
    る請求項1に記載のカラー液晶表示素子。
  3. 【請求項3】前記カラーフィルタは、赤と緑と青のカラ
    ーフィルタを含み、前記第1と第2の電極の少なくとも
    一方の前記赤のカラーフィルタに対向する部分は200
    nm±30nm程度の厚さに形成され、前記緑のカラー
    フィルタに対向する部分は165nm±30nm程度の
    厚さに形成され、前記青のカラーフィルタに対向する部
    分は135nm±30nm程度の厚さに形成されている
    ことを特徴とする請求項1に記載のカラー液晶表示素
    子。
  4. 【請求項4】第1の電極が形成された第1の基板と、 第2の電極が形成され、前記第1の基板に対向して配置
    された第2の基板と、 前記第1と第2の基板間に画素毎に配設されたカラーフ
    ィルタと、 前記第1の基板と前記第2の基板との間に封止された液
    晶と、 を備え、 前記第1の電極と前記第2の電極の少なくとも一方は、
    対向するカラーフィルタの波長域の光の透過率の総量が
    実質的に最大となるように、画素毎に異なった厚さに形
    成されていることを特徴とするカラー液晶表示素子。
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