CN1841570A - 镀锡的耐热剥离性优良的Cu-Ni-Si-Zn-Sn系合金条及其镀锡条 - Google Patents

镀锡的耐热剥离性优良的Cu-Ni-Si-Zn-Sn系合金条及其镀锡条 Download PDF

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Abstract

本发明提供镀锡的改善了耐热剥离特性的Cu-Ni-Si-Zn-Sn系合金条及其镀锡条。所述铜合金条含有1.0~4.5质量%的Ni、相对于Ni的质量%为1/6~1/4的Si、0.1~2.0质量%的Zn和0.05~2.0质量%的Sn,根据需要含有总量为0.01~0.5质量%的Ag、Cr、Co、Mn和Mo中的一种或一种以上,其中,将P、As、Sb和Bi浓度的总量控制在100质量ppm或以下,将Ca和Mg浓度的总量控制在100质量ppm或以下,将O和S浓度分别控制在15质量ppm或以下,并且将导电率EC(%IACS)调整到下式的范围;50<EC+(22×[%Sn]+4.5×[%Zn])<60,其中[%i]为元素i的质量%浓度。

Description

镀锡的耐热剥离性优良的Cu-Ni-Si-Zn-Sn 系合金条及其镀锡条
技术领域
本发明涉及适合作为连接器、端子、继电器、开关等导电性弹簧材料的、具有良好耐热剥离性的Cu-Ni-Si-Zn-Sn系合金镀锡条。
背景技术
连接器、端子、继电器、开关等中使用的电子材料用铜合金要求兼有高强度、高导电性或导热性等合金的基本特性。另外,除这些特性之外,还要求弯曲加工性、耐应力松弛特性、耐热性、与镀层的密合性、焊料润湿性、蚀刻加工性、冲压冲裁性、耐腐蚀性等。
考虑到高强度和高导电性,近年来作为电子材料用铜合金,代替以现有的磷青铜、黄铜等为代表的固溶强化型铜合金,时效硬化型铜合金的用量增加。时效硬化型铜合金中,通过时效处理经固溶化处理的过饱和固溶体,微细的析出物均匀分散,合金强度增高,同时铜中的固溶元素量减少,导电性提高。由此,可得到强度、弹性等机械性质优良,而且导电性、导热性良好的材料。
时效固化型铜合金中,Cu-Ni-Si系合金为兼有高强度和高导电率的代表性铜合金,已经作为电器用材料被实用化。在该铜合金中,铜基体中微细的Ni-Si系金属间化合物粒子析出,由此强度和导电率提高。
在Cu-Ni-Si系合金的一般制造工艺中,首先使用大气熔解炉,在木炭包覆下熔解电解铜、Ni、Si等原料,得到所需组成的熔融金属。然后将该熔融金属铸造成锭。之后,进行热轧、冷轧和热处理,制成具有所需厚度和特性的条或箔。
有时会对Cu-Ni-Si系合金条实施镀Sn。这时,为了改善镀Sn的耐热剥离特性等,多在合金中添加少量的Zn。而且,为了改善强度、并且使用镀Sn碎屑作为原料,大多添加少量的Sn(下面称为Cu-Ni-Si-Zn-Sn系合金)。Cu-Ni-Si-Zn-Sn系合金的镀Sn条可发挥Sn的优良的焊料润湿性、耐腐蚀性、电连接性,作为汽车用和民生用的端子、连接器等使用。
Cu-Ni-Si-Zn-Sn系合金的镀Sn条一般通过下述工序来制造,即,在连续电镀生产线中,在脱脂和酸洗后,利用电镀法形成底层镀层,然后利用电镀法形成Sn镀层,最后实施重熔处理,使Sn镀层熔融。
Cu-Ni-Si-Zn-Sn系合金的镀Sn条的底镀层一般为Cu底镀层,对于需要耐热性的用途有时也实施Cu/Ni双层底镀层。在此,Cu/Ni双层底镀层是指,按照Ni底镀层、Cu底镀层、Sn镀层的顺序进行电镀后,实施了重熔(reflow)处理的电镀,重熔后的镀膜层的构成是自表面起为Sn相、Cu-Sn相、Ni相、母材。此技术的细节公开于专利文献1、专利文献2、专利文献3等。
Cu-Ni-Si-Zn-Sn系合金的重熔镀Sn条有在高温下保持长时间时易发生镀层从母材剥离的现象(下面称为热剥离)的缺点,以往就对该缺点尝试进行改善。
专利文献4中试图通过以硬度为指标对时效条件进行限定而改善热剥离。专利文献5中记载了如果使Mg为0.1质量%或以下,S和O为0.0015质量%或以下,则可以改善热剥离。
[专利文献1]特开平6-196349号公报
[专利文献2]特开2003-293187号公报
[专利文献3]特开2004-68026号公报
[专利文献4]特开63-262448号公报
[专利文献5]特开平5-059468号公报
发明内容
但是,仅用这些现有技术,无法在工业上稳定地制造耐热剥离性良好的材料,特别是有在105℃附近的温度环境下耐热剥离性不稳定的课题。另外,对于耐热剥离性,为了寻求更长期的可靠性,需要进一步改善现有技术。应说明的是,专利文献4、专利文献5中,验证了热剥离改善效果的试验温度均为150℃,此时的试验时间最长为1000h。
本发明的目的在于提供镀锡的改善了耐热剥离特性的Cu-Ni-Si-Zn-Sn系合金条及其镀锡条。
本发明人仔细研究了改善Cu-Ni-Si-Zn-Sn系合金的重熔镀Sn条耐热剥离特性的方案。结果发现,通过在以往已知的限制S和O浓度的基础上,进一步限制P、As、Sb、Bi、Ca和Mg的浓度,并且以导电率为指标限制固溶Si浓度,可大幅度改善耐热剥离性。
本发明是基于此发现而完成的,提供:
(1)镀Sn的耐热剥离性优良的Cu-Ni-Si-Zn-Sn系合金条,其特征在于,含有1.0~4.5质量%的Ni、相对于Ni的质量%为1/6~1/4的Si、0.1~2.0质量%的Zn和0.05~2.0质量%的Sn,余量由Cu和不可避免的杂质构成,不可避免的杂质中,P、As、Sb和Bi浓度的总量为100质量ppm或以下,Ca和Mg浓度的总量为100质量ppm或以下,O和S浓度分别为15质量ppm或以下,导电率EC(%IACS)被调整到下式的范围:
50<EC+(22×[%Sn]+4.5×[%Zn])<60
([%i]为元素i的质量%浓度);
(2)上述(1)的Cu-Ni-Si-Zn-Sn系合金条,其特征在于,含有总量为0.01~0.5质量%的Ag、Cr、Co、Mn和Mo中的一种或一种以上;
(3)耐热剥离性优良的Cu-Ni-Si-Zn-Sn系合金镀锡条,其特征在于,以上述(1)或(2)的Cu-Ni-Si-Zn-Sn系合金条为母材,从表面至母材,以Sn相、Sn-Cu合金相、Cu相的各层构成镀膜,Sn相的厚度为0.1~1.5μm,Sn-Cu合金相的厚度为0.1~1.5μm,Cu相的厚度为0~0.8μm。
(4)耐热剥离性优良的Cu-Ni-Si-Zn-Sn系合金镀锡条,其特征在于,以上述(1)或(2)的Cu-Ni-Si-Zn-Sn系合金条为母材,从表面至母材,以Sn相、Sn-Cu合金相、Ni相的各层构成镀膜,Sn相的厚度为0.1~1.5μm,Sn-Cu合金相的厚度为0.1~1.5μm,Ni相的厚度为0.1~0.8μm。
附图说明
图1为实施例2中利用GDS测定的铜浓度分布曲线数据图。
具体实施方式
(1)母材的成分
(a)Ni和Si浓度
Ni和Si通过时效处理,形成以Ni2Si为主的金属间化合物的微细粒子。结果,合金的强度显著增加,同时导电度也上升。
使Si的添加浓度(质量%)处于Ni添加浓度(质量%)的1/6~1/4的范围。Si超出该范围,则导电率降低。特别是Si添加量若超出Ni的1/4,则对耐热剥离性有害的固溶Si增加,由于镀层过早剥离,需要加以注意。更优选的Si范围为Ni的1/5.5~1/4.2。
以1.0~4.5质量%的范围添加Ni。Ni若低于1.0质量%,则无法获得足够的强度。Ni若超过4.5质量%,则热轧时出现裂纹。
(b)Zn浓度
Zn是改善镀层耐热剥离性的元素,添加0.1质量%或以上时显现其效果。另一方面,即使添加超过2.0质量%的Zn,也不会进一步提高耐热剥离特性,而只会降低导电率。更优选的Zn的添加量为0.2~1.5质量%。
(c)Sn浓度
Sn是为了使母材高强度化而添加的。Sn不足0.05质量%时不显示高强度化的效果,若超过2.0质量%,则导电率显著降低。更优选的Sn的添加量为0.1~1.0质量%。
(d)杂质
VB族的P、As、Sb和Bi是因在镀层与母材的界面富集而促进热剥离的元素。因此,将它们的浓度控制在总量为100质量ppm或以下,更优选的浓度为5质量ppm或以下。
P是作为铜合金的脱氧剂或合金元素经常使用的元素,由日本特开平01-263243可知,有时还在Cu-Ni-Si系合金中添加较大量的P。另外,在日本特许第3391427号的实施例中,作为镀Sn材料公开的Cu-Ni-Si-Zn-Sn合金也含有0.01质量%或以上的P。为了将P浓度控制得较低,不仅不添加P作为脱氧剂或合金元素,还必须不使用含有P的铜合金碎屑作为原料。
As、Sb和Bi是锻铜和铜合金(伸銅品)的主要原料电解铜所含有的代表性的杂质。为了将它们的浓度抑制得较低,必须使用低等级的电解铜。
P、As、Sb和Bi的总浓度的下限值无特别限定,但若降至不足1质量ppm,则需要大量的精炼成本,因此通常控制在1质量ppm或以上。
作为通过在镀层和母材的界面富集而促进热剥离的元素,除了P、As、Sb、Bi以外,还有Mg和Ca。因此,将Mg和Ca的总浓度控制在100质量ppm或以下。更优选的浓度为5质量ppm或以下。
Mg是作为铜合金的脱氧剂或合金元素经常使用的元素,也有在Cu-Ni-Si系合金中添加Mg来改善应力松弛特性等的合金(日本特许第2572042号)。为了将Mg控制得较低,不仅不添加Mg作为脱氧剂或合金元素,还必须不使用含有Mg的铜合金碎屑作为原料。
Ca为熔制Cu-Ni-Si-Zn-Sn时易从耐火物或熔融金属包覆剂等中混入的元素。使用在与熔融金属接触的材料中不含有Ca的物质是很重要的。
Mg和Ca的总浓度的下限值无特别限定,但若降至不足0.5ppm,则需要大量的精炼成本,因此通常控制在0.5ppm或以上。
与专利文献2同样,将O和S的浓度分别控制在15质量ppm或以下。如果任一方的浓度超过15质量ppm,则镀层耐热剥离性变差。
(e)Ag、Cr、Co、Mn和Mo
为了改善强度、耐热性,添加总量为0.01~0.5质量%的Ag、Cr、Co、Mn和Mo。其添加总量不足0.01质量%时不显示改善强度、耐热性的效果,若添加量超过0.5质量%,则导电率降低。从高导电率要求方面考虑,优选添加的总量为0.01~0.15质量%。
(f)母材的导电率
Cu中固溶的Si在镀层和母材的界面富集,从而促进热剥离。在本发明合金的制造工艺中,利用时效处理充分赋予强度和导电率。在时效处理中,Cu中固溶的Si和Ni反应,生成微细的Ni2Si粒子。然后,通过Ni2Si粒子的作用,强度上升,Cu中固溶的Si和Ni减少,结果导电率上升。因此,可将导电率作为固溶Si浓度的指标来使用,可以说导电率越高,固溶Si浓度越低,耐热剥离性越好。但是,为了以导电率为指标精度良好地控制耐热剥离性,需要弥补本发明合金含有的Sn和Zn对导电率的影响。作为为了获得良好耐热剥离性的导电率EC(%IACS)的条件,本发明人得到了下述实验式。其中,[%i]为元素i的质量%浓度。
50<EC’<60
在此,EC’=EC+(22×[%Sn]+4.5×[%Zn])。
EC’为50以下时,固溶Si过多,无法获得良好的耐热剥离特性。另一方面,为了获得60以上的EC’,必须进行高温或长时间的时效处理,此时Ni2Si粒子变得粗大,强度降低。因此,可进行时效处理以使EC’处于50~60的范围。
(g)镀层厚度
(g-1)Cu底镀层的情况
在Cu-Ni-Si-Zn-Sn系合金母材上,通过电镀依次形成Cu镀层和Sn镀层,然后进行重熔处理。通过该重熔处理,Cu镀层和Sn镀层反应,形成Sn-Cu合金相,镀层构造变成从表面侧起为Sn相、Sn-Cu合金相、Cu相。
将重熔后上述各相的厚度调整至下述范围:
Sn相:0.1~1.5μm
Sn-Cu合金相:0.1~1.5μm
Cu相:0~0.8μm。
Sn相若不足0.1μm,则焊料润湿性降低,若超过1.5μm,则加热时镀层内部产生的热应力增高,促进镀层剥离。更优选的范围为0.2~1.0μm。
由于Sn-Cu合金相为硬质,以0.1μm以上的厚度存在的话,则有利于插入力降低。另一方面,Sn-Cu合金相的厚度若超过1.5μm,则加热时镀层内部产生的热应力增高,促进镀层剥离。更优选的厚度为0.5~1.2μm。
在Cu-Ni-Si-Zn-Sn系合金中,通过底层镀Cu,提高焊料润湿性。因此,电沉积时必须镀0.1μm以上的Cu底镀层。该Cu底镀层也可以在重熔时被Sn-Cu合金相的形成所消耗而消失。即,也可以不限制重熔后的Cu相厚度的下限值,厚度为零。
控制Cu相厚度的上限值在重熔后的状态下为0.8μm或以下。若超过0.8μm,则加热时镀层内部产生的热应力增高,促进镀层剥离。更优选的Cu相厚度为0.4μm或以下。
将电镀时的各镀层厚度进行适当的调整,即,将Sn镀层控制在0.5~1.9μm的范围,将Cu镀层控制在0.1~1.1μm的范围,在230~600℃、3~30秒的范围中的适当条件下进行重熔处理,得到上述镀层构造。
(g-2)Cu/Ni底镀层的情况
在Cu-Ni-Si-Zn-Sn系合金母材上,通过电镀依次形成Ni镀层、Cu镀层和Sn镀层,之后进行重熔处理。通过该重熔处理,Cu镀层和Sn反应,形成Sn-Cu合金相,Cu相消失。另一方面,Ni层以几乎电镀完的状态残留。结果,镀层构造变成自表面侧起为Sn相、Sn-Cu合金相、Ni相。
将重熔后的上述各相的厚度调整至下述范围:
Sn相:0.1~1.5μm
Sn-Cu合金相:0.1~1.5μm
Ni相:0.1~0.8μm。
Sn相若不足0.1μm,则焊料润湿性降低,若超过1.5μm,则加热时镀层内部产生的热应力增高,促进镀层剥离。更优选的范围为0.2~1.0μm。
由于Sn-Cu合金相为硬质,以0.1μm以上的厚度存在的话,则有利于插入力的降低。另一方面,Sn-Cu合金相的厚度若超过1.5μm,则加热时镀层内部产生的热应力增高,促进镀层剥离。更优选的厚度为0.5~1.2μm。
将Ni相的厚度控制在0.1~0.8μm。Ni的厚度若不足0.1μm,则镀层的耐腐蚀性和耐热性降低。Ni的厚度若超过0.8μm,则加热时镀层内部产生的热应力增高,促进镀层剥离。更优选的Ni相厚度为0.1~0.3μm。
将电镀时的各镀层厚度进行适当的调整,即,将Sn镀层控制在0.5~1.9μm的范围,将Cu镀层控制在0.1~0.7μm的范围,将Ni镀层控制在0.1~0.8μm的范围,在230~600℃、3~30秒的范围中的适当条件下进行重熔处理,得到上述镀层构造。
实施例
以市售的电解铜作为阳极,在硝酸铜浴中进行电解,在阴极上析出高纯度铜。该高纯度铜中的P、As、Sb、Bi、Ca、Mg和S的浓度均不足1质量ppm。下面使用该高纯度铜作为实验材料。
使用高频感应炉,在内径60mm、深200mm的石墨坩埚中熔化2kg的高纯度铜。用木炭片覆盖熔融金属表面后,添加规定量的Ni、Si、Zn和Sn,将熔融金属温度调整为1200℃。然后,添加P、As、Sb、Bi、Ca、Mg和S,调整杂质纯度。制备O浓度高的试样时,使熔融金属表面的一部分由包覆的木炭露出。
之后,将熔融金属铸入铸模,制造宽60mm、厚30mm的铸锭,利用下列工序加工为Cu底层重熔镀Sn材料和Cu/Ni底层重熔镀Sn材料。
(工序1)在950℃加热3小时后,热轧至8mm厚。
(工序2)用砂轮机磨削、除去热轧板表面的氧化皮。
(工序3)冷轧至板厚0.3mm。
(工序4)作为固溶化处理,在800℃加热10秒,在水中骤冷。
(工序5)作为时效处理,在保持在规定温度的电炉中插入规定时间后,在大气中冷却。
(工序6)依次进行利用10质量%硫酸-1质量%过氧化氢溶液进行的酸洗和利用#1200砂纸进行的机械研磨,除去表面氧化膜。
(工序7)冷轧至板厚0.25mm。
(工序8)在碱水溶液中以试样作为阴极进行电解脱脂。
(工序9)使用10质量%的硫酸水溶液进行酸洗。
(工序10)在下述条件下镀Ni底镀层(仅当Cu/Ni底层时)。
电镀浴组成:硫酸镍250g/L,氯化镍45g/L,硼酸30g/L。
电镀浴温度:50℃。
电流密度:5A/dm2
通过电沉积时间来调整Ni镀层厚度。
(工序11)在下述条件下镀Cu底镀层。
电镀浴组成:硫酸铜200g/L,硫酸60g/L。
电镀浴温度:25℃。
电流密度:5A/dm2
通过电沉积时间来调整Cu镀层厚度。
(工序12)在下述条件下实施镀Sn。
电镀浴组成:氧化亚锡41g/L,苯酚磺酸268g/L,表面活性剂5g/L。
电镀浴温度:50℃。
电流密度:9A/dm2
通过电沉积时间来调整Sn镀层厚度。
(工序13)作为重熔处理,在将温度调整为400℃、环境气体为氮气(氧气为1vol%以下)的加热炉中,插入试样10秒,然后水冷。
对于这样制备的试样,进行下述评价。
(a)母材的成分分析
利用机械研磨和化学蚀刻完全除去镀层后,用ICP-发光分光法测定Ni、Si、Zn和Sn的浓度,用ICP-质量分析法测定P、As、Sb、Bi、Ca、Mg和S的浓度,以惰性气体熔融-红外线吸收法测定O浓度。
(b)母材的导电率测定
利用机械研磨和化学蚀刻完全除去镀层后,以4端子法测定导电率。
(c)强度
在拉伸方向与轧制方向平行的方向上,采集JIS-Z2201(2003年)中规定的13B号试验片。使用该试验片,按照JIS-Z2241(2003年)进行拉伸试验,求得0.2%剥离耐力。该测定是带着镀层进行的。
(d)利用电解式膜厚计测定镀层厚度
对重熔后的试样,测定Sn相和Sn-Cu合金相。应说明的是,该方法无法测定Cu相和Ni相的厚度。
(e)利用GDS测定镀层厚度
在丙酮中将重熔后的试样进行超声波脱脂后,利用GDS(辉光放电发光分光分析装置),求得Sn、Cu、Ni的深度方向的浓度分布。测定条件如下。
装置:JOBIN YBON公司制JY5000RF-PSS型
电流法程序(Current Method Program):CNBinteel-12aa-0。
模式:恒压功力=40W。
氩气加压器(Ar-Presser):775Pa。
电流值:40mA(700V)。
冲洗时间(Flush Time):20sec。
预放电时间(Preburne Time):2sec。
测定时间:分析时间=30sec,采样时间=0.020sec/点。
利用Cu浓度分布曲线数据求出重熔后残留的Cu底镀层(Cu相)的厚度。作为利用GDS测定的代表性浓度分布,图1示出了后述实施例2的Cu底镀层的数据。在1.6μm深处,可看到Cu浓度高于母材的层。该层为重熔后残留的Cu底镀层,读取该层的厚度作为Cu相的厚度。应说明的是,未见Cu浓度高于母材的层时,视为Cu底镀层消失(Cu相的厚度为零)。另外,利用Ni浓度分布曲线数据,求出Ni底镀层(Ni相)的厚度。
(f)耐热剥离性
采集宽10mm的长方形试验片,在105℃或150℃的温度下,在大气中加热3000小时。其间,每100小时从加热炉中取出试样一次,进行弯曲半径为0.5mm的90°弯曲和弯曲恢复(往复90°弯曲一次)。然后,用光学显微镜(倍率为50倍)观察弯曲内圆周部表面,考察有无镀层的剥离。
(1)实施例1
【表1】
浓度(质量%) Ni/Si比 浓度(质量ppm) α* EC′%IACS) 镀层剥离时间(h)
Ni Si Zn Sn 其它 S,O P,As,Sb,Bi Mg,Ca Cu底层 Cu/N 底层
S O P As Sb Bi 合计 Mg Ca 合计 105℃ 150℃ 105℃ 150℃
发明例 1 1.62 0.34 0.40 0.50 4.76 7 7 1.0 1.3 0.8 0.2 3.3 2.2 2.4 4.6 12.8 55.3 >3000 >3000 >3000 >3000
2 1.62 0.32 0.40 0.46 5.06 6 8 24.0 0.6 0.8 1.1 26.5 1.8 0.8 2.6 11.9 53.7 >3000 >3000 >3000 >3000
3 1.59 0.35 0.41 0.51 4.54 12 9 42.2 1.2 1.3 1.2 45.9 0.7 0.4 1.1 13.1 55.8 >3000 >3000 >3000 >3000
4 1.60 0.33 0.41 0.50 4.85 14 8 86.9 11.7 3.7 0.1 92.4 2.5 0.7 3.2 12.8 55.5 >3000 >3000 >3000 >3000
5 1.60 0.30 0.40 0.46 5.33 5 6 0.9 0.3 0.8 0.2 2.2 21.6 20.6 42.2 11.9 55.4 >3000 >3000 >3000 >3000
6 1.60 0.31 0.45 0.46 5.16 10 7 0.5 0.6 0.6 0.1 1.8 20.4 40.1 60.5 12.1 54.7 >3000 >3000 >3000 >3000
7 1.63 0.32 0.44 0.51 5.09 12 8 0.6 1.1 0.5 0.0 2.2 42.4 21.4 63.8 13.2 56.1 >3000 >3000 >3000 >3000
8 1.61 0.35 0.39 0.47 4.60 11 8 1.5 0.7 1.0 0.2 3.4 41.3 42.6 83.9 12.1 55.2 >3000 >3000 >3000 >3000
9 1.81 0.42 1.12 0.53 4.31 11 9 15.6 1.2 0.6 1.1 18.5 10.5 11.0 21.5 16.7 55.8 >3000 >3000 >3000 >3000
10 2.21 0.44 1.53 0.78 5.02 10 8 2.5 0.8 0.8 0.6 4.7 5.4 9.9 15.3 24.0 55.9 >3000 >3000 >3000 >3000
11 2.41 0.51 0.54 1.60 4.73 13 7 13.6 1.1 1.6 0.7 17.0 1.1 5.3 6.4 37.6 55.9 >3000 >3000 >3000 >3000
12 1.26 0.25 0.25 0.13 5.04 12 8 8.9 1.3 0.7 0.2 11.1 10.9 1.1 12.0 4.0 54.9 >3000 >3000 >3000 >3000
13 1.65 0.35 0.40 0.51 0.05Ag 4.71 9 9 11.1 0.4 1.1 0.1 12.7 0.4 0.2 0.6 13.0 55.6 >3000 >3000 >3000 >3000
14 1.53 0.34 0.39 0.51 0.04Co 4.50 12 8 13.3 0.7 0.5 0.6 15.1 3.3 1.1 4.4 13.0 55.0 >3000 >3000 >3000 >3000
15 1.60 0.35 0.41 0.50 0.03Cr 4.57 6 8 1.0 1.2 0.6 0.2 3.0 1.3 3.9 5.2 12.8 52.9 >3000 >3000 >3000 >3000
16 1.63 0.34 0.42 0.51 0.03Mo 4.79 4 8 0.8 1.5 0.5 0.0 2.8 2.4 2.3 4.7 13.1 54.7 >3000 >3000 >3000 >3000
17 1.65 0.35 0.39 0.52 0.02Mn 4.71 5 6 1.3 1.0 1.2 0.1 3.6 6 1.1 10.7 13.2 53.4 >3000 >3000 >3000 >3000
18 2.85 0.63 0.41 0.52 4.52 6 13 0.5 1.2 1.0 0.3 3.0 1.2 0.4 1.6 13.3 53.1 >3000 >3000 >3000 >3000
19 2.83 0.62 0.16 0.51 4.56 3 8 0.9 0.6 1.2 1.5 4.2 3.2 0.8 40 11.9 52.9 >3000 >3000 >3000 >3000
20 2.73 0.67 0.51 0.49 4.15 7 3 0.6 0.3 0.9 1.1 2.9 2.1 0.3 2.4 13.1 53.9 >3000 >3000 >3000 >3000
21 2.54 0.52 0.43 0.51 4.88 10 5 1.2 0.5 0.4 0.5 2.6 3.5 1.0 4.5 13.2 56.8 >3000 >3000 >3000 >3000
22 2.26 0.46 0.30 1.06 4.91 2 8 1.6 1.3 1.0 0.7 4.6 0.3 0.2 0.5 24.7 55.9 >3000 >3000 >3000 >3000
23 3.10 0.64 0.42 0.50 4.84 12 6 1.0 0.5 0.8 2.6 4.9 1.2 3.4 4.6 12.9 52.2 >3000 >3000 >3000 >3000
24 3.17 0.70 1.04 0.52 4.53 9 7 0.6 1.3 1.3 0.1 3.3 2.3 2.6 4.9 16.1 52.6 >3000 >3000 >3000 >3000
25 1.74 0.39 0.97 0.07 4.46 7 10 O.2 1.4 0.5 0.2 2.3 2.1 0.3 2.4 5.9 56.0 >3000 >3000 >3000 >3000
比较例 1 1.62 0.30 0.40 0.47 5.40 10 7 88.3 6.6 12.5 0.2 107.6 1.9 2.4 4.3 12.1 54.4 >3000 1100 >3000 2500
2 1.60 0.36 0.35 0.54 4.44 12 9 100.5 20.1 8.4 2.4 131.4 1.9 2.4 4.3 13.5 56.1 2500 900 >3000 1800
3 1.62 0.33 0.39 0.46 4.91 9 11 165.3 1.6 1.7 1.2 169.8 2.0 1.9 3.9 11.9 54.0 1100 500 2800 1200
4 1.62 0.29 0.42 0.55 5.59 8 10 1.0 0.7 1.0 0.2 2.9 20.5 102 122.9 14.0 55.2 2000 >3000 2700 >3000
5 1.63 0.37 0.42 0.49 4.41 11 6 1.2 0.3 0.7 0.4 2.6 99.6 21.6 121.2 12.7 54.6 1800 >3000 2400 >3000
6 1.60 0.29 0.40 0.53 5.52 18 10 3.3 0.5 0.9 0.1 4.8 2.1 0.6 2.7 13.5 54.1 800 900 2000 2200
7 1.63 0.35 0.43 0.53 4.66 9 20 3.7 0.4 0.7 0.1 4.9 2.4 0.6 3.0 13.6 54.0 600 800 1700 1800
8 1.62 0.44 0.41 0.52 3.68 9 10 2.4 0.7 1.1 0.2 4.4 4.1 1.2 5.3 13.3 48.5 300 300 1400 1500
9 1.63 0.35 0.05 0.51 4.66 8 12 1.8 0.5 1.0 0.1 3.4 5.7 1.4 7.1 11.4 51.8 200 100 1800 1600
                                                                *α=22×[%S]+4.5×[%Zn]
表1示出了考察母材的杂质对耐热剥离性的影响的实施例。所有试样均在470℃下进行了6小时的时效试验。
对于Cu底镀层材料进行了电镀,使Cu的厚度为0.3μm、Sn的厚度为0.8μm,结果所有试样,400℃下重熔10秒后的Sn相厚度均为约0.4μm,Cu-Sn合金相的厚度约为1μm,Cu相消失。
对于Cu/Ni底镀层材料进行了电镀,使Ni的厚度为0.2μm、Cu的厚度为0.3μm、Sn的厚度为0.8μm,结果,400℃下重熔10秒后的Sn相厚度约为0.4μm,Cu-Sn合金相的厚度约为1μm,Cu相消失,Ni相以电沉积时的厚度(0.2μm)残留。
对于作为本发明合金的发明例1~25,不论Cu底层还是Cu/Ni底层,105℃、150℃下加热3000小时均未发生镀层剥离。
发明例1~4和比较例1~3中,在Mg、Ca、S、O浓度低的条件下,使P、As、Sb和Bi浓度变化。若P、As、Sb和Bi的总浓度超过100ppm,则剥离时间低于3000h。P、As、Sb和Bi的总浓度越高,剥离时间的缩短越显著。150℃下的剥离时间短于105℃下的剥离时间,可以说P、As、Sb和Bi的不良影响在150℃下表现得更明显。
发明例1、5~8和比较例4~5中,在P、As、Sb、Bi、S、O浓度低的条件下,使Mg和Ca浓度变化。若Mg和Ca的总浓度超过100ppm,则105℃下的剥离时间低于3000h。另一方面,150℃下未见剥离时间的缩短,可以说Mg和Ca的不良影响在105℃下表现得更明显。
比较例6和7为S和O分别超过15质量ppm的合金。两者在105℃和150℃下的镀层剥离时间均低于3000h。
比较例8为Si浓度超过Ni浓度的1/4的合金,105℃和150℃下的镀层剥离时间大大缩短。另外,随着固溶Si的增加,导电率降低,EC’不足50。
比较例9为Zn浓度低于0.1%的合金,105℃和150℃下的镀层剥离时间大大缩短。
(2)实施例2
【表2】
    成分(质量%) 时效条件   导电率,EC(%IACS)   EC′(%IACS)   0.2%耐力(MPa)     镀层剥离时间(h)
温度(℃) 时间(h)     Cu底层   Cu/Ni底层
    Ni     Si     Zn     Sn     105℃ 150℃ 105℃ 150℃
发明例  26   1.59  0.35     0.41  0.51   450     6     37.4     50.5     732     >3000 >3000 >3000 >3000
 27   1.60  0.33     0.41  0.50   470     6     41.3     54.1     740     >3000 >3000 >3000 >3000
 28   1.62  0.30     0.40  0.47   470     8     44.6     56.7     738     >3000 >3000 >3000 >3000
 29   1.83  0.39     1.02  0.49   470     6     39.6     55.0     752     >3000 >3000 >3000 >3000
 30   1.84  0.41     1.05  0.12   470     6     47.0     54.4     712     >3000 >3000 >3000 >3000
 31   2.84  0.63     0.42  0.49   470     7     43.6     56.3     807     >3000 >3000 >3000 >3000
比较例  10   1.62  0.32     0.40  0.46   470     3     35.6     47.5     715     1200 2500 2600 >3000
 11   1.60  0.36     0.35  0.51   490     6     47.6     60.4     634     >3000 >3000 >3000 >3000
 12   1.82  0.41     1.05  0.52   430     6     32.4     48.6     756     1300 2200 2500 >3000
 13   1.80  0.40     1.10  0.11   470     3     39.4     46.8     725     900 1900 1800 >3000
 14   2.84  0.64     0.41  0.50   440     4     33.1     45.9     791     800 1600 1500 >3000
表2示出了考察母材的导电率与耐热剥离性之间的关系的实施例。母材的导电率根据时效条件进行变化。所有试样均调整P、As、Sb和Bi的总浓度为5质量ppm或以下,调整Mg和Ca的总浓度为5质量ppm或以下,调整O和S的浓度分别为15质量ppm或以下。
对于Cu底镀层材料进行了电镀,使Cu的厚度为0.6μm、Sn的厚度为0.8μm,结果所有试样,400℃下重熔10秒后的Sn相厚度均为约0.4μm,Cu-Sn合金相的厚度约为1μm,Cu相厚度约为0.3μm。
对于Cu/Ni底镀层材料进行了电镀,使Ni的厚度为0.3μm、Cu的厚度为0.2μm、Sn的厚度为0.8μm,结果,400℃下重熔10秒后的Sn相厚度约为0.5μm,Cu-Sn合金相的厚度约为0.8μm,Cu相消失,Ni相以电沉积时的厚度(0.3μm)残留。
对于作为本发明合金的发明例26~31,105℃、150℃下加热3000小时均未发生镀层剥离。
发明例26~28和比较例10~11中,对于同样成分的母材,变换时效条件。EC’低于50(比较例10),则105℃或150℃下的剥离时间低于3000h。105℃下的剥离时间的缩短更显著。EC’若超过60(比较例11),则0.2%耐力显著降低。
母材成分相同的发明例29与比较例12之间的关系、发明例30与比较例13之间的关系、发明例31与比较例14之间的关系,也与上面相同。
(3)实施例3
【表3】
电沉积时的厚度 重熔条件     重熔后的厚度(μm) 镀层剥离时间(h)
Sn相 Cu相 Sn相 Sn-Cu合金相 Cu相 105℃ 150℃
发明例  32  0.90  0.20  400℃×10秒 0.47  0.95  0.00 >3000 >3000
 33  0.90  0.50  400℃×10秒 0.50  1.02  0.11 >3000 >3000
 34  0.90  0.80  400℃×10秒 0.50  1.01  0.47 >3000 >3000
 35  0.90  1.00  400℃×10秒 0.48  0.07  0.68 >3000 >3000
 36  0.50  0.80  400℃×10秒 0.11  1.05  0.50 >3000 >3000
 37  0.60  0.80  400℃×10秒 0.22  1.05  0.48 >3000 >3000
 38  1.20  0.80  400℃×10秒 0.81  0.98  0.49 >3000 >3000
 39  1.80  0.80  400℃×10秒 1.43  1.05  0.47 >3000 >3000
 40  1.80  0.80  400℃×15秒 1.22  1.38  0.30 >3000 >3000
比较例  15  2.00  0.80  400℃×10秒 1.52  0.86  0.51 1600 1300
 16  2.00  0.80  400℃×30秒 1.21 1.55  0.10 1500 1400
 17  0.90  1.20  400℃×10秒 0.48  1.12 0.84 600 1100
表3和表4示出了考察镀层厚度对耐热剥离性的影响的实施例。任何实施例中,母材组成均为Cu-1.62%、Ni-0.35%、Si-0.41%、Zn-0.50%,Sn、P、As、Sb和Bi的总浓度为3.5质量ppm,Mg和Ca的总浓度为2.6质量ppm,O浓度为12质量ppm,S浓度为9质量ppm,EC’为55.4。
表3为Cu底镀层的数据。对于作为本发明合金的发明例32~40,105℃、150℃下加热3000小时均未发生镀层剥离。
发明例32~35和比较例17中,使Sn的电沉积厚度为0.9μm,使Cu底层的厚度变化。在重熔后的Cu底层厚度超过0.8μm的比较例17中,105℃、150℃下剥离时间均低于3000小时。
发明例34、36~39和比较例15~16中,使Cu底层的电沉积厚度为0.8μm,使Sn的厚度变化。在使Sn的电沉积厚度为2.0μm、其他条件相同进行重熔的比较例15中,重熔后的Sn相厚度超过1.5μm。在使Sn的电沉积厚度为2.0μm、延长了重熔时间的比较例16中,重熔后的Sn-Cu合金相厚度超过1.5μm。在Sn相或Sn-Cu合金相的厚度超出规定范围的这些合金中,在105℃和150℃下的镀层剥离时间均低于3000h。
【表4】
  电沉积时的厚度(μm) 重熔条件     重熔后的厚度(μm) 镀层剥离时间(h)
Sn相 Cu相 Ni相 Sn相 Sn-Cu合金相 Ni相 105℃ 150℃
发明例  41  0.90  0.20  0.15  400℃×10秒 0.47  0.95  0.15 >3000 >3000
 42  0.90  0.20  0.50  400℃×10秒 0.50  1.02  0.20 >3000 >3000
 43  0.90  0.20  0.70  400℃×10秒 0.50  1.01  0.70 >3000 >3000
 44  0.50  0.15  0.20  400℃×10秒 0.15  1.00  0.20 >3000 >3000
 45  0.60  0.15  0.20  400℃×10秒 0.24  1.02  0.20 >3000 >3000
 46  1.20  0.15  0.20  400℃×10秒 0.77  1.03  0.20 >3000 >3000
 47  1.80  0.15  0.20  400℃×10秒 1.40  1.05  0.20 >3000 >3000
 48  1.80  0.60  0.20  400℃×15秒 1.26  1.40  0.20 >3000 >3000
比较例  18  2.00  0.15  0.20  400℃×10秒 1.57  1.02  0.20 2600 2200
 19  2.00  0.80  0.20  400℃×30秒 1.34 1.53  0.20 2200 2400
 20  0.90  0.20  0.90  400℃×10秒 0.48  0.98 0.90 2200 2600
表4为Cu/Ni底镀层的数据。任何实施例的Cu相均消失。对于本发明合金镀锡的发明例41~48,105℃、150℃下加热3000小时均未发生镀层剥离。
发明例41~43和比较例20中,使Sn的电沉积厚度为0.9μm,使Cu的电沉积厚度为0.2μm,使Ni底层的厚度变化。在重熔后的Ni相厚度超过0.8μm的比较例20中,105℃、150℃下剥离时间均低于3000小时。
发明例44~47和比较例18中,使Cu底层的电沉积厚度为0.15μm,使Ni底层的厚度为0.2μm,使Sn的厚度变化。在重熔后的Sn相厚度超过1.5μm的比较例18中,105℃、150℃下剥离时间均低于3000小时。
在使Sn的电沉积厚度为2.0μm、使Cu的电沉积厚度为0.8μm、与其他实施例相比延长了重熔时间的比较例19中,Sn-Cu合金相厚度超过1.5μm,105℃、150℃下剥离时间均低于3000小时。

Claims (4)

1.镀Sn的耐热剥离性优良的Cu-Ni-Si-Zn-Sn系合金条,其特征在于,含有1.0~4.5质量%的Ni、相对于Ni的质量%为1/6~1/4的Si、0.1~2.0质量%的Zn和0.05~2.0质量%的Sn,余量由Cu和不可避免的杂质构成,不可避免的杂质中,P、As、Sb和Bi浓度的总量为100质量ppm或以下,Ca和Mg浓度的总量为100质量ppm或以下,O和S浓度分别为15质量ppm或以下,导电率EC(%IACS)被调整到下式的范围:
50<EC+(22×[%Sn]+4.5×[%Zn])<60
式中,[%i]为元素i的质量%浓度。
2.如权利要求1所述的Cu-Ni-Si-Zn-Sn系合金条,其特征在于,含有总量为0.01~0.5质量%的Ag、Cr、Co、Mn和Mo中的一种或一种以上。
3.耐热剥离性优良的Cu-Ni-Si-Zn-Sn系合金镀锡条,其特征在于,以权利要求1或2所述的Cu-Ni-Si-Zn-Sn系合金条为母材,从表面至母材,以Sn相、Sn-Cu合金相、Cu相的各层构成镀膜,Sn相的厚度为0.1~1.5μm,Sn-Cu合金相的厚度为0.1~1.5μm,Cu相的厚度为0~0.8μm。
4.耐热剥离性优良的Cu-Ni-Si-Zn-Sn系合金镀锡条,其特征在于,以权利要求1或2所述的Cu-Ni-Si-Zn-Sn系合金条为母材,从表面至母材,以Sn相、Sn-Cu合金相、Ni相的各层构成镀膜,Sn相的厚度为0.1~1.5μm,Sn-Cu合金相的厚度为0.1~1.5μm,Ni相的厚度为0.1~0.8μm。
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