CN1840497A - 一种纳米级自洁净玻璃及生产工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种纳米级自洁净镀膜玻璃及生产工艺,将玻璃表面采用酸蚀微孔或采用激光打孔处理,形成密布为孔径、孔距、孔深为20~100纳米的微孔后,再镀一层纳米级SiO2/TiO2溶胶薄膜/或在玻璃表面镀一层纳米钛膜/或纳米银膜,该膜具有很好的透光性、超亲水性和超亲油性,油渍或污渍在阳光紫外线作用下膜层的催化反应可分解脱落实现自洁净性能。本发明的产品,是制作高层建筑自洁净装饰玻璃、自洁净安全玻璃、自洁净中空自玻璃、自洁净防辐射玻璃、自洁净电热防雾玻璃的理想材料。
Description
技术领域:
本发明涉及一种特种性能玻璃,尤其是涉及纳米级自洁净镀膜玻璃及生产工艺,属于玻璃产品深加工技术领域。
背景技术:
传统的建筑玻璃、安全玻璃、镀膜玻璃、中空玻璃,不具备自洁净性能,现有的凝胶沾膜或镀膜法,均难以很好地解决自洁净玻璃生产工艺问题。
发明内容:
本发明自洁净镀膜玻璃及生产工艺,目的在于解决玻璃表面的自洁净问题。
本发明的工艺技术是:将玻璃表面进行微孔后,提高镀膜的粘合强度,玻璃原片表面采用酸蚀微孔或采用激光打孔处理,形成密布为孔径、孔距、孔深为20~100纳米的纳米级微孔后,再镀一层纳米级Sio2/Tio2溶胶薄膜/或在玻璃表面镀一层纳米钛膜/或纳米银膜,该膜具有良好的透光性、超亲水性和超亲油性,油渍或污渍在阳光紫外线作用下膜层的催化反应可分解脱落,实现自洁净性能。
具体生产工艺方法如下:
1、真空镀膜
(1)对浮法玻璃生产线下线出口的热玻璃原片/或成品玻璃原片,在0.5~1.5Mpa压力下和超声波作用下,密封进行氢氟酸雾化或磷酸雾化腐蚀微孔处理/或采用激光扫描微孔打孔处理,在玻璃表面形成密布为孔径、孔距、孔深为20~100纳米的微孔。通过超声波经去离子净化水,用泡沫洗涤清洗、清洁玻璃原片的污渍,密封烘干。
(2)进入密封加热炉,经过400~700℃处理0.5~1小时后进行降温,并保温200~100℃。
(3)送入真空镀膜玻璃生产线,在其玻璃表面采用Tio2(纳米二氧化钛)靶材/或纳米银靶材镀膜15~100nm的膜层,即获得本发明的产品。
2.溶胶涂膜
(1)玻璃原片处理方法:同上述方法一、(1、)和(2、)获得具有纳米级微孔的玻璃。
(2)将10~95%克分子百分浓度的钛有机化合物Tio2(纳米二氧化钛)与5~55%克分子百分浓度的硅有机化合物Sio2(纳米二氧化硅)混合搅拌24~48小时制成(Tio2/Sio2)纳米溶胶净置24~48小时待用。
(3)将具有纳米级微孔的洁净玻璃,送入真空喷涂Tio2/Sio2溶胶涂膜15~100nm/或浸入Tio2/Sio2溶胶镀槽箱中镀膜1~3分钟后,结膜层15~100nm,取出进行干燥处理后,在热处理炉400~700℃处理0.5~1小时进行钢化、固膜处理,冷却后获得本发明的产品。
采用上述发明的产品,运用公知技术生产自洁净中空镀膜玻璃和自洁净电热镀膜玻璃。本发明的产品,是制作高层建筑自洁净装饰玻璃、自洁净安全玻璃、自洁净中空自玻璃、自洁净防辐射玻璃、自洁净电热防雾玻璃的理想材料。
其中:氢氟酸,采用市售氢氟酸溶剂,按公示说明使用。磷酸,采用市售磷酸溶剂,按公示说明使用。激光扫描微打孔,在玻璃表面形成密布的孔径、孔距、孔深为20~100纳米。
Tio2/Sio2溶胶的配置:钛有机化合物与硅有机化合物的克分子百分浓度比为1~3比5~9,有机醇与钛有机化合物和硅有机化合物的克分子百分浓度比为0.5~2比30~50。将钛有机化合物与有机醇混合搅拌均匀,加入硅有机化合物,再搅拌12~24小时均匀后,放置24~48小时。Tio2/Sio2溶胶中的钛,包括钛酸丙酯、钛酸丁酯;硅有机化合物的硅,包括硅酸乙酯、硅酸丙酯、硅酸丁酯;机化醇包括甲醇、乙醇、丙醇、丁醇等醇类。
本发明的效果在于:本发明产品的纳米膜层牢固,膜层厚度在15~100nm,膜层抗酸不脱落,膜层的透光率为85~95%,在阳光紫外线作用下,具有超亲水性和超亲油性,玻璃表面的油渍或污渍在阳光紫外线作用下,通过纳米级膜层的催化反应可迅速降解分解脱落,达到玻璃自洁净的目的。
实施例1:
玻璃原片表面,采用氢氟酸进行雾化腐蚀处理为密布孔径、孔距、孔深为20~100纳米的微孔,再用泡沫洗涤剂并通过超声波和流去离子水,加气压冲洗干净,送热处理炉650℃处理1小后,风冷并保温在200~100℃时,再送入镀膜玻璃生产线,采用纳米级Tio2靶材,在其表面镀15~100nm的膜层。
实施例2:
在反应罐内放入100ml甲醇,再一边搅拌一边加入20ml钛酸丁酯,在密封中搅拌混合3~5小时后,再加入2ml硅酸乙酯和50ml乙醇,继续混合搅拌24小时,配得Tio2/Sio2溶胶,净置48小时后待用。
将玻璃原片表面,采用磷酸进行雾化腐蚀处理为密布孔径、孔距、孔深为20~100纳米的微孔,用泡沫洗涤剂擦洗,再用超声波和1Mpa的气压与去离子水喷冲清洗干净,送入热处理炉干燥150~200℃出炉,采用Tio2/Sio2溶胶在玻璃表面匀速喷涂形成凝膜层,再送入热处理炉在450~650℃温度下经过固膜、钢化处理1~2小时出炉,使玻璃表面形成纳米级Tio2/Sio2簿膜。
实施例3
玻璃原片表面,采用激光扫描打孔,密布孔径、孔距、孔深为20~100纳米的微孔,再玻璃用泡沫洗涤剂并通过超声波和流去离子水,气压喷冲干净,送热处理炉100~200℃干燥后,用Tio2/Sio2溶胶在玻璃表面匀速喷涂形成凝膜层,再送入热处理炉,在450~650℃温度下经过固膜处理1小时后,风冷退火钢化出炉,使玻璃表面形成纳米级Tio2/Sio2薄膜。
Claims (2)
1、一种纳米级自洁净玻璃及生产工艺,包括如下步骤:
(1)玻璃表面纳米级进行微孔处理:氢氟酸/或磷酸雾化腐蚀微孔处理/或采用激光微孔打孔扫描处理,在玻璃表面形成密布为孔径、孔距、孔深为20~100纳米的微孔,以便提高玻璃表面膜的附着粘合强度。
(2)玻璃表面的清洁处理,在0.5~1.5Mpa压力在超声波作用下,用泡沫洗涤清洗玻璃表面的污渍,再通过去离子净化水清洁干净,并密封烘干保温200~100℃。
(3)玻璃在100℃~200时,喷镀(Tio2/Sio2)溶胶/或浸涂(Tio2/Sio2)溶胶膜/或镀纳米Tio2/或镀纳米银。在玻璃表面形成15~100nm膜厚度层。
(4)热处理400~700℃固化、钢化处理。
2、根据权利要求1所述工艺生产的纳米级玻璃自洁净。
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