CN1783268A - 光记录介质、光记录方法、光再生方法及其装置 - Google Patents

Abstract

如图A所示，准备微细的凹凸构造(101a)形成轨迹状的基板。该凹凸构造(101a)，设定为多个凹凸构造位于射束点内的那样的间距。轨迹间成为平坦部(101b)。在该基板上形成反射层。通过形成反射层，平坦部(101b)成为镜面。凹凸构造(101a)的反射率比平坦部(101b)的反射率显著降低。将高功率的激光照射到凹凸构造(101a)时，如图B所示，凹凸构造(101a)的反射层侧隆起，且平坦化。此时，隆起部分的反射率，比非隆起部分的反射率升高。通过将高功率的激光脉冲照射到凹凸构造(101a)构成的轨迹上，如图C所示可以进行反射率变化的信号记录。

Description

光记录介质、光记录方法、光再生方法及其装置

技术领域

本发明涉及一种光记录介质、光记录方法、光再生方法、光记录装置及光再生装置，特别是涉及适用于通过反射率的变化进行信息记录/再生的情况。

背景技术

以往，作为光记录介质，开发且已被商品化有CD(Compact Disc)或CD-R(Compact Disc-Recordatable)等。其中，CD是位列形成螺旋状的再生专用型光盘。在CD中通过激光照射到位上时的反射光强度的变化而读取信息。另外，CD-R是使用有机色素作为记录层材料的追记型光盘。在CD-R中在盘面上形成螺旋状的槽(groove)。通过对该槽照射高能激光将记录层部分地变形、变质由此记录信息。此外，将红色激光作为记录/再生用激光使用的DVD(Digital Versatile Disc)已被商品化。进而，将蓝色激光作为记录/再生用激光使用的下一代DVD也正在被标准化、商品化。

上述光盘当中，再生专用型的光盘，是将按照记录信号的长度的位列形成轨迹状的光盘。另外，追记型的光盘是通过使记录层变形变质而将记录信号所对应长度的位列形成在槽上的光盘。在两类光盘中，均是一个标志由一个位形成。

发明内容

本发明是提出代替现有的记录方式的新的记录方式的发明。

与本发明相关的再生专用型光盘，一个记录标志不由一个位形成。另外，与本发明相关的追记型光盘，不必特别配置记录层也能进行数据记录。进而，本发明对于该追记型光盘重新提出用于记录/再生信息用的方法和装置。

本发明第一方式的特征在于，在光记录介质中，具有：基板，其表面以比用于记录和/或再生的激光的波长小的间距形成凹凸构造；反射层，其在形成了所述凹凸构造的所述基板面上形成。

本发明第二方式的特征在于，在将激光照射在光记录介质而记录信息的光记录方法中，所述光记录介质包括：基板，其表面以比所述激光的波长小的间距形成凹凸构造；反射层，其在形成了该凹凸构造的所述基板面上形成，按照多个所述凹凸构造位于射束点内那样，对该光记录介质照射所述激光，将所述标志形成定时中的所述激光的功率设定为可以使该凹凸构造的形状变化的功率。

本发明第三方式的特征在于，在将激光照射到光记录介质而再生信息的光再生方法中，所述光记录介质包括：基板，其表面沿着轨迹间断地形成具有比再生用的激光的波长小的间距的凹凸构造的块；反射层，其在形成了所述凹凸构造的所述基板面上形成，边使所述激光追踪所述轨迹，边使多个所述凹凸构造位于射束点内，以使该凹凸构造的形状不能变化程度的功率对该光记录介质照射激光。

本发明第四方式的特征在于，在将激光照射到光记录介质而记录信息的光记录装置中，所述光记录介质包括：基板，其表面以比激光的波长小的间距形成凹凸构造；反射层，其在形成该凹凸构造的所述基板面上形成，具有：激光照射机构，其按照多个所述凹凸构造位于射束点内的方式将激光聚焦照射到所述光记录介质上；以及功率设定机构，其将记录标记形成定时中的所述激光的功率设定为可以使该凹凸构造的形状改变的功率。

本发明第五方式的特征在于，在将激光照射到光记录介质而再生信息的光再生装置中，所述光记录介质包括：基板，其表面沿着轨迹间断地形成具有比所述激光的波长小的间距的凹凸构造的块；反射层，其在形成了所述凹凸构造的所述基板面上形成，具有激光照射机构，其边使所述激光追踪所述轨迹，边按照多个所述凹凸构造位于射束点内方式，将激光聚焦照射到所述光记录介质上；和功率设定机构，其将所述激光的功率设定为可使该凹凸构造的形状变化的程度的功率。

根据本发明，可以提供使用了细微的凹凸构造的、新类型的光记录介质。将本发明适用于追记型光盘时，可以省略记录层的配置，可以简化光盘的构造，简化制作工序。另外，如已存的CD-R那样，因为不需要将有机色素材料作为记录材料使用，所以避免了对环境的恶化影像。

附图说明

本发明的上述及其他的目的和新的特征，在参照以下的附图来阅读以下所示的实施方式的说明时，将会更加完全明确。

图1是表示与实施方式相关的光记录介质的基本构成。

图2A和图2B是测定例1中的凹凸构造的电子照片拍摄图。图3表示测定例1中的反射率的测定结果。

图4A和图4B是测定例2中的基板形状的电子照片拍摄图。

图5A是测定例2中的隆起部分的放大图。

图5B是测定例2中的隆起部分的剖面形状的测定结果。

图6表示实施例1中的光盘的构成。

图7是表示实施例1中的光盘的构成(基板形状)的图

图8是表示实施例1中的基板的生成工序的图。

图9A到图9C模式地表示实施例1中的记录时的轨迹的状态。

图10A和图10B模式地表示实施例2中的轨迹的状态。

图11表示实施方式相关的记录再生装置的构成。

具体实施方式

下面，参照附图，说明本发明的实施方式。但是，本发明并不局限于以下的实施方式。

首先，图1表示光记录介质的基本构成。

光记录介质为在基板10上形成反射层20的构成。这里，基板10，一般由聚碳酸酯等透光型材料形成。另外，反射层20，由Al等高反射材料形成。该高反射材料在基板10上通过溅射等形成膜，从而形成反射层20。

在基板10的反射层形成面中，形成有微细的凹凸构造10a。如果该凹凸构造10a上形成如上所述的反射层20，则在反射层20的膜面上，反映着基板10的凹凸构造10a。

凹凸构造10a，按照记录·再生用激光的射束点同时位于多个凹凸构造的尺寸进行设定。此时，如果至少将凹凸构造10a的面内方向的间距，设定比再生激光的波长小，则再生激光的射束点可同时位于多个凹凸形状中。

(测定例1)

实际制成具有上述构成的光记录介质，进行反射率测定。以下，对其进行说明。

图2A和图2B，表示形成在基板10上的凹凸构造10a的二次电子照片像。图2A是从上面侧拍摄时的照片像，图2B是从倾斜的上面侧拍摄时的照片像。另外，图2A和图2B的照片像，是在凹凸构造10a上通过溅射形成20nm的Co50Al50at.％的合金膜后，为了电子照片拍摄，将Pt-Pd以蒸镀10后的状态进行拍摄时的照片。

如图2A和图2B所示，在本测定中，纵横均等地以一定间距排列圆柱状的凸起，而形成凹凸构造10a。另外，凹凸构造10a的间距(相邻的圆柱状凸起间的距离)，纵横均为250nm，圆柱状凸起的高度为170nm。

另外，在图2A和图2B中表示的基板10按照以下方式形成。

首先，硅原盘通过旋涂涂布抗蚀剂。这里所使用的抗蚀剂是用于电子束的，例如，使用住友化学工业社制·NEB22等。然后，用EB描画(电子束削切)，形成上述间距的凹凸构造。该描画后，进行显影处理，进行RIE加工。进而，进行氧等离子灰化，除去残存的抗蚀剂。由此，在硅原盘上形成凹凸构造(Si原基)。

接着，对该Si原基，进行Ni溅射，进而，通过电解镀覆，堆积Ni。而且，将堆积的Ni层从Si原盘剥离，制作压模(stamper)。使用该压模通过注射模塑成形制作基板10。由此，形成凹凸构造被转写的基板10。

另外，注射模塑成形机，可以使用名机制M-35B-D-DM。另外作为基板材料可以使用聚碳酸酯或聚烯这样的透光性材料。本测定中，使用聚碳酸酯。基板材料，除此之外也可以使用生物分解性材料。这样，废弃时的环境负担等可以很小。

另外，代替EB描画也可以使用激光束削切。此时，在硅原盘上涂布光抗蚀剂。另外，作为削切光束，使用波长400nm左右的激光。

在本测定中，在这样形成的基板10上，通过溅射形成20nm的Co50Al50at.％合金膜(反射膜)。另外用于测定的光记录介质，只在基板10上形成该合金膜(反射膜)。反射膜的形成，按照以下形成。

真空室抽真空到5×10^-5Pa以上之后，导入Ar气体，在0.6Pa的氛围气中进行溅射。在室内设置Co靶子和Al靶子，通过对各个同时通电使用合金化的Co-溅射法形成Co50Al50at.％的合金膜(反射膜)。另外，基板10，为了将反射膜制成均一的膜，在放电中以40rpm自公转。

这样形成光记录介质之后，进行反射率测定。在图3中，表示该测定结果。在图3中，作为比较例，重新表示了对在反射膜形成面为平坦的玻璃基板上通过溅射形成20nm的Co50Al50at.％的合金膜后的光记录介质进行反射率测定的结果。

从图3可知，在基板10上形成上述的凹凸构造10a时，与形成平坦的Al-Co膜的玻璃基板相比，反射率低于35～40％左右。由此，形成凹凸构造10a时，在与未形成凹凸构造10a的镜面部分之间出现很大的反射率差。

该凹凸构造10a形成在反射率变化的信号记录的记录标记部分中，可以很大地改善再生信号的S/N。另外，将该凹凸构造10a形成在信号轨迹部分时，邻接轨迹间的镜面部分之间的反射率差很大，可以生成良好的跟踪误差信号。即不形成槽可以形成记录轨迹。

(测定例2)

对于在基板10a上形成凹凸构造10a的光记录介质点照射高强度能量的激光，测定凹凸构造10a的形状变化和反射率变化。以下，对此进行说明。

另外，在本测定例中，作为反射膜形成了Al膜。Al膜，通过溅射在形成凹凸构造10a的基板面上形成Al膜。Al膜的膜厚在20nm。Al膜的形成，相比上述测定例1(Al-Co膜的形成)，不同之处只在于只将Al靶子设置在室内，其他，与上述相同。另外，凹凸构造10a的形状、尺寸和上述测定例相同。

对该光记录介质，从反射膜侧将波长635nm、功率10mW的脉冲光束聚焦照射。另外射束点，以NA＝0.55的物镜，聚焦为点径＝1μm左右。另外，照射光束的脉冲频率设为一定。

图4A表示脉冲光束的扫描轨迹。在图4A中，白的部分是脉冲光束的照射位置。在图4B中表示脉冲光束照射后的基板面的形状。参照图4B可知，照射了脉冲光束后的基板面部分与其他部分相比隆起。

图5A是隆起部分的放大图，图5B是沿着图5A的X-X’线测定隆起部分的剖面形状时的测定结果。从该测定结果可知，照射了脉冲光束后的基板面部分比其他部分隆起很大，且其上面部分平坦。

进而，将脉冲光束扫描过的部分用低功率单色激光扫描，用示波器测定反射光强度。其结果，测定在脉冲光束的频率成分中的反射光强度，与其他的频率成分相比，高出10～20％左右。根据该测定结果可知，隆起部分与非隆起部分相比，反射率上升10～20％左右。因而可知，通过在凹凸构造10a中照射高功率的激光，可以进行反射率变化的信号记录。即，凹凸构造10a形成轨迹状(螺旋或同心圆)，这里，通过脉冲照射高功率的激光，可以进行反射率变化的信号记录。

另外，高功率的激光照射所引起的基板面的隆起，由于该部分的温度上升，基板上升到玻璃转变温度以上，进而，预测由于凹凸构造10a的反射膜的表面的张力，该部分向隆起方向抬起所生成的隆起。

在本实施方式的光记录介质中，在基板面形成图2A和图2B所示的凹凸构造10a，因此相对于光束照射的表面积变大，且难以形成对于介质表面方向的热分散。因此，光束照射位置，热吸收高且吸收的热量容易滞留，通过高功率的激光照射容易产生温度上升。其结果，该部分容易达到玻璃转变温度，容易产生由于外力引起的流动变位。因此，由凹凸构造10a的反射膜的表面张力对该部分施加外力时，该部分由于该力向上方拉起，认为是隆起部分。

因此，利用上述构成生成追记型的光记录介质时，由于温度上升容易生成流动变位，作为基板材料使用玻璃转变温度低的材料有利。

在上述测定中，作为基板材料使用聚碳酸酯树脂，玻璃转变温度比聚碳酸酯低的材料，即使用更低的激光功率也能进行记录。聚碳酸酯的玻璃转变温度为120～140℃，因此使用丙稀酸树脂(110℃)或源于使用聚乳酸的植物的塑料(60℃～100℃)等更适合作为基板材料。特别是使用聚乳酸时，因为不使用石油资源，可以避免有限资源枯竭等。另外，即使废弃在土地等中也可以由土地中的微生物等分解，因此与源自石油的材料相比，可以改善废弃时对环境的影响。

作为反射层材料，是由照射的激光反射的材料，且可以是在凹凸构造上反射率低的材料。具体地说，除了在上述测定例2中所使用的Al之外，可以使用Al和其合金等。使用这种材料时，在没有凹凸构造的镜面部分中对波长650nm的反射率为90％以上，且在凹凸构造上将反射率急剧降低到10％左右。由此，适用于追记型或再生专用型的记录介质的反射层材料。

另外，优选使用反射层材料一般存在于自然界中，不会对人体有毒的材料，另外，在废弃时对于废弃量或含有量等不设什么限制的物质。使用这样的材料时，由通过添埋等简单的方法可以废弃，不必担心引起公害等。

实施例1

以下，将上述基本构成例展开在光盘中的情况的具体构成例进行说明。另外，本实施例，是将本发明适用于追记型光盘中的情况。

图6表示光盘的构成。

如图所示，光盘100由基板101、反射层102、保护层103、标签印刷层104构成。

在基板101上，在形成反射层102的面上如上述那样的凹凸构造101a作为螺旋状或同心圆状的轨迹形成。在本实施例中，凹凸构造101a，如图7所示，在轨迹宽度方向形成4个圆柱状构造排列。另外，圆柱状构造的顶点和处于轨迹间的平坦部101b的表面的高度相同。

基板101，如上所述，由电子束蚀刻和喷射模塑成形而形成。

图8模式地表示基板101的形成工序。参照图8，首先，在硅原盘上涂布用电子束曝光的抗蚀剂(工序1)。接着，将电子束在原盘上在x、y方向边扫描边对与凹凸构造101a的沟部相对应的部分进行曝光，在原盘上形成凹凸构造101a的原型(工序2)。此时，在平坦部101b所对应的部分中没有曝光电子束。进行原盘上的所有的区域曝光显像(工序3)，进行RIE加工，将Si原盘上被曝光的部分进行转写(工序4)。进而，进行氧等离子灰化，去除残留的抗蚀剂(工序5)。由此，在硅原盘上形成凹凸构造(Si原基)。

然后，在该Si原盘上进行Ni镀覆制作压模(工序6、7)，通过使用该压模进行注射模塑转写来制作光盘的基板(工序8、9)。

在该基板101上，通过溅射法层积反射层102。进而，为了防止反射层102的划伤或氧化等，由旋涂等层积UV硬化树脂而形成保护层103，在其上，通过丝网印刷等形成标签印刷层104。

另外，作为基板材料，如上所述，使用聚碳酸酯树脂或丙烯酸树脂(110℃)、源于使用聚乳酸的植物的塑料等。作为反射层材料，使用Al、或Al和其合金等。

图9A到图9C模式地表示了记录时轨迹的状态。

如上所述，在盘100中，形成有螺旋状或同心圆状的凹凸构造101a。图9A表示未记录状态。轨迹之间的平坦部101b由于反射层102成为镜面。另外轨迹部分，由于凹凸构造101a成为低反射面。

在图9A中，边脉冲状地照射强度可调的激光，边使多个凹凸构造位于射束点内，以激光扫描轨迹上面时，被照射高强度的光束的部分的温度上升，如图9B所示，该部分的表面向反射层102的方向隆起。此时，凹凸构造101a，如上述测定例2所示，通过隆起表面被平坦化。由于该隆起和平坦化，如上述测定例2所示，该部分的反射率升高。其结果，在记录轨迹上，如图9C所示，形成一系列的高反射率部分(高功率光束照射部分)和低反射率部分(高功率光束非照射部分)。因而，在轨迹上记录信号。

此时，轨迹间的平坦部成为镜面，因此以例如与既有的CD-R播放器中所采用的跟踪伺服器和聚焦伺服器同样的伺服系统都能使射束点定位在轨迹上。

实施例2

本实施例，是将本发明应用在再生专用型光盘中的情况的例子。

光盘的层构成，与上述实施例1同样。但是，在本实施例中，对应记录信号的凹凸构造101a的块的列形成螺旋状或同心圆状。一系列的凹凸构造101a，与上述实施例1同样，通过电子束削切和注射模塑成形，形成在基板101上。即，在上述图8的工序2中，边使电子束在原盘上在X、Y方向扫描，边对凹凸构造101a的槽所对应的部分进行曝光，在原盘上形成凹凸构造101a的原型。此时，对于轨迹间平坦部101b所对应的部分，和在轨迹上凹凸构造101a间的空部分不进行电子束曝光。该其他的工序，与图8所示同样进行。另外，反射层102、保护层103、标签印刷层104的形成也和上述实施例1同样。

另外，本实施例的光盘因为是再生专用型不是追记型，因此基板材料与上述实施例1不同，可以使用玻璃转变温度高的材料。再生激光功率比记录时功率低，因此可以使用聚碳酸酯树脂作为基板材料，由此，使用玻璃转变温度高的玻璃(玻璃转变温度150℃)或环烯烃(玻璃转变温度140～160℃)时，可以使基板对激光的耐性进一步提高。另外，这样使用玻璃转变温度高的材料时，也可以提高例如放置在日光直射的车内等的恶劣条件下的耐性。作为反射层材料，同上所述，使用Al或Al和其合金等。

图10A和图10B，模式地表示在盘上形成的轨迹的状态的图。

如图10A所示，在轨迹上，4个圆柱状构造在轨迹宽度方向上形成的凹凸构造101a，以对应记录信号的长度的量在轨迹长度方向上配置。图10B表示将图10A的状态作为反射率的状态表示的图。只形成了凹凸构造101a的部分反射率低，被轨迹间和轨迹上的凹凸构造101a所夹着的空部分比反射层102的反射率高。

因此，如图10A所示，使多个凹凸构造位于射束点内，以凹凸构造101a中不产生隆起和平坦化的程度的功率，使激光在轨迹上扫描时，通过该反射光的强度变化可以再生轨迹上的记录信号。此时，使用例如与既有的CD播放器中所采用的跟踪伺服器和聚焦伺服器同样的伺服系统均可以使射束点定位在轨迹上。

以上，根据本实施方式，边使用凹凸构造101a，边可构成新类型的光记录介质。特别是，在实施例1所示的追记型的光盘中，由于可以省略记录层的配置，所以可以实现光盘构造的简化、制造工序的简化。另外，由于不需要如既有的CD-R那样将有机色素材料用作记录层材料，因此可以构成对环境影响小的光盘。

另外，在实施例2所示的光盘中，虽然存在通过提高激光功率消除记录信号的顾虑，但是，相反的可以利用该特性，可适宜进行盘的使用次数的限制或隐秘数据乃至消除不希望数据等。另外，由于通过细微凹凸构造记录信号，因此能够实现复制或基板面转写等这样的仿造(dead copy)。

本实施方式的反射层，使用Al或Al和其合金等，但是并不局限于此，可以使用具有期望的反射率(反射率一般是用各盘的规格规定的，这里所说期望的反射率是与各盘的规格所对应需要的反射率)的金属和合金作为金属层的材料。此时，通过实施例所示的凹凸构造使反射率降低，反射率之差适当地一致即可。

最后，图11表示对上述实施例1和2的光盘进行信息记录和再生的记录再生装置的基本构成。

在图11中，1是CPU(Central Processing Unit)，2是对应来自CPU1的指令驱动半导体激光器3的激光器驱动电路，3是光拾取器，4是配置在光拾取器3内的运算并放大来自光检测器3b的信号将各种信号输出到对应的电路的再生信号放大电路，5是将由再生信号放大电路4供给的聚焦误差信号、跟踪误差信号及同步信号作为基础生成伺服信号，供给伺服机构6以及主轴电机7的伺服电路，6是对应由伺服电路5供给的聚焦伺服信号和跟踪伺服信号驱动配置在光拾取器3中的物镜的伺服机构，7是对应由伺服电路5供给的电机伺服信号以规定的速度旋转驱动光盘的主轴电机。

在本记录再生装置中，记录动作，在上述实施例1的光盘被安装时执行。记录数据，由CPU1编码处理后，作为记录信号输出到激光器驱动电路2。激光器驱动电路2按照对应记录信号输出脉冲状强度调制后的光束的方式，驱动光拾取器3内的半导体激光器3a。这里，记录标志形成定时中的激光功率，设定为可将上述凹凸构造101a隆起及平坦化的高功率。

来自光拾取器3的激光，如图9A所示，使多个凹凸构造101a同时位于射束点那样照射到轨迹上。即，来自半导体激光器3a的激光，按照多个凹凸构造101a同时位于射束点的方式，由安装在光拾取器3中的物镜会聚。射束点，通过盘100的旋转驱动和聚焦伺服动作及跟踪伺服动作，追踪由上述凹凸构造101a组成的轨迹。由此，如上述图9B所示，轨迹上的凹凸构造101a中被照射高强度激光的部分隆起和平坦化，在轨迹上形成记录标记。

在本记录再生装置中，再生动作，是在上述实施例2的光盘、或由上述动作记录了信息的实施例1的光盘被安装时执行。激光器驱动电路2，以射出单调激光束的方式，驱动光拾取器3内的半导体激光器3a。在此，射出激光功率设定为使上述凹凸构造101a没有隆起和平坦化的程度的低功率。

来自光拾取器3的激光，如上述图9A或图10A所示，以使多个凹凸构造101a同时位于射束点的方式照射在轨迹上。射束点由盘100的旋转驱动和聚焦伺服动作及跟踪伺服动作，追踪由上述凹凸构造101a组成的轨迹。由此，来自光盘的放射光强度，由图9C或图10B所示的高反射率部分和低反射率部分调制。该调制，反映到来自光拾取器3b的再生信号中。通过将该再生信号由CPU1进行解调处理，获得再生数据。

以上，对于本发明的实施方式进行了说明，但是，本发明并不局限于上述实施方式。例如，凹凸构造101a的形状、尺寸和轨迹的宽度方向上排列的柱状构造的数目等，并不受上述实施例记载的内容限制，可以进行适当的变更。另外，本发明的实施方式，在权利要求的范围所示的技术思想的范围内，可以进行适当的各种更改。

Claims (16)

1、一种光记录介质，其特征在于，

具有：

基板，其表面以比用于记录和/或再生的激光的波长小的间距形成凹凸构造；及

反射层，其在形成了该凹凸构造的所述基板面上形成。

2、一种光记录介质，其特征在于，

具有：

基板，其表面以比用于记录的激光的波长小的间距形成轨迹状的凹凸构造；及

反射层，其在形成了该凹凸构造的所述基板面上形成。

3、一种光记录介质，其特征在于，

具有：

基板，其表面沿着轨迹间断地形成具有比再生用激光的波长小的间距的凹凸构造的块；及

反射层，其在形成了该凹凸构造的所述基板面上形成。

4、根据权利要求3所述的光记录介质，其特征在于，

所述凹凸构造，对应记录信号沿着所述轨迹间断地形成。

5、一种光记录方法，是对光记录介质照射激光而记录信息的光记录方法，

所述光记录介质包括：基板，其表面以比所述激光的波长小的间距形成凹凸构造；及反射层，其在形成了该凹凸构造的所述基板面上形成，

对于该光记录介质，按照多个所述凹凸构造位于射束点内那样照射所述激光，将在记录标记形成定时中的所述激光的功率设定为可使该凹凸构造的形状变化的功率。

6、根据权利要求5所述的光记录方法，其特征在于，

所述激光，对应记录信号将强度调制为脉冲状。

7、一种光记录方法，是对光记录介质照射激光而记录信息的光记录方法，

所述光记录介质包括：基板，其表面以规定间距形成凹凸构造；及反射层，其在形成了该凹凸构造的所述基板面上形成，

对于该光记录介质，按照多个所述凹凸构造位于射束点内那样照射所述激光，将在记录标记形成定时中的所述激光的功率设定为可使该凹凸构造的形状变化的功率。

8、根据权利要求7所述的光记录方法，其特征在于，

所述激光，对应记录信号将强度调制为脉冲状。

9、一种光再生方法，是对光记录介质照射激光而再生信息的光再生方法，

所述光记录介质包括：基板，其表面沿着轨迹间断地形成具有比再生用激光的波长小的间距的凹凸构造的块；及反射层，其在形成了该凹凸构造的所述基板面上形成，

边使所述激光追踪所述轨迹，边按照多个所述凹凸构造位于射束点内那样，将激光以不能使该凹凸构造的形状变化的程度的功率照射到该光记录介质。

10、一种光再生方法，是对光记录介质照射激光而再生信息的光再生方法，

所述光记录介质包括：基板，其表面沿着轨迹间断地形成具有规定间距的凹凸构造的块；及反射层，其在形成了该凹凸构造的所述基板面上形成，

边使所述激光追踪所述轨迹，边按照多个所述凹凸构造位于射束点内那样，将激光以不能使该凹凸构造的形状变化的程度的功率照射到该光记录介质。

11、一种光记录装置，是对光记录介质照射激光而记录信息的光记录装置，

其中，所述光记录介质包括：基板，其表面以比激光的波长小的间距形成凹凸构造；及反射层，其在形成了该凹凸构造的所述基板面上形成，

该光记录装置具有：激光照射机构，其按照多个所述凹凸构造位于射束点内那样，将激光聚焦照射到所述光记录介质上；和功率设定机构，其将记录标志形成定时中的所述激光的功率设定为可使该凹凸构造的形状变化的功率。

12、根据权利要求11所述的光记录装置，其特征在于，

所述激光照射机构，对应记录信号将所述激光的强度调制为脉冲状。

13、一种光记录装置，是对光记录介质照射激光而记录信息的光记录装置，

其中，所述光记录介质包括：基板，其表面以规定间距形成凹凸构造；及反射层，其在形成了该凹凸构造的所述基板面上形成，

该光记录装置具有：激光照射机构，其按照多个所述凹凸构造位于射束点内那样，将激光聚焦照射到所述光记录介质上；和功率设定机构，其将记录标志形成定时中的所述激光的功率设定为可使该凹凸构造的形状变化的功率。

14、根据权利要求13所述的光记录装置，其特征在于，

所述激光照射机构，对应记录信号将所述激光的强度调制为脉冲状。

15、一种光再生装置，是对光记录介质照射激光而再生信息的光再生装置，

其中，所述光记录介质包括：基板，其表面沿着轨迹间断地形成具有比所述激光的波长小的间距的凹凸构造的块；及反射层，其在形成了该凹凸构造的所述基板面上形成，

该光再生装置具有：激光照射机构，其边使所述激光追踪所述轨迹，边按照使多个所述凹凸构造位于射束点内那样，将激光聚焦照射到所述光记录介质上；及功率设定机构，其将所述激光的功率设定为不能使该凹凸构造的形状变化程度的功率。

16、一种光再生装置，是对光记录介质照射激光而再生信息的光再生装置，

其中，所述光记录介质包括：基板，其表面沿着轨迹间断地形成具有规定间距的凹凸构造的块；及反射层，其在形成了该凹凸构造的所述基板面上形成，

该光再生装置具有：激光照射机构，其边使所述激光追踪所述轨迹，边按照使多个所述凹凸构造位于射束点内那样，将激光聚焦照射到所述光记录介质上；及功率设定机构，其将所述激光的功率设定为不能使该凹凸构造的形状变化程度的功率。

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