CN1739023A

CN1739023A - 荧光x射线分析装置

Info

Publication number: CN1739023A
Application number: CN200480002434.XA
Authority: CN
Inventors: 河野久征; 庄司孝; 堂井真
Original assignee: Rigaku Industrial Corp
Priority date: 2003-03-27
Filing date: 2004-03-11
Publication date: 2006-02-22
Anticipated expiration: 2024-03-11
Also published as: JPWO2004086018A1; CN101520422A; US20060153332A1; CN101520423B; WO2004086018A1; CN1739023B; CN101520423A; JP3729203B2

Abstract

本发明的课题提供一种荧光X射线分析装置，其采用单一检测器，形成简单、低价格的结构，同时，可在较宽的波长范围内以充分的灵敏度，测定波长不同的多条2次X射线的相应强度。在包括X射线源(3)、发散细缝(5)、分光元件(7)、单一检测器(9)的荧光X射线分析装置中，分光元件(7)采用多个弯曲分光元件(7A，7B)，该多个弯曲分光元件(7A，7B)沿从试样(1)和检测器(9)观看，2次X射线的光路(6，8)扩展的方向并排地固定，由此，测定波长不同的多条2次X射线(8a，8b)的相应强度。

Description

荧光X射线分析装置

技术领域

本发明涉及测定波长不同的多条2次X射线的相应强度的波长分散型荧光X射线分析装置。

背景技术

近年，作为能够针对波长不同的多条2次X射线，比如，荧光X射线和其基底，波长不同的多条荧光X射线，以充分的分辨率测定相应的强度的波长分散型荧光X射线分析装置，包括有多元素同时荧光X射线分析装置、扫描型荧光X射线分析装置。在多元素同时荧光X射线分析装置中，由于针对要测定的每条2次X射线，设置检测器，故成本较高。另一方面，在扫描型荧光X射线分析装置中，通过所谓的测角器等的联动机构，按照改变通过分光元件分光的荧光X射线的波长，同时，该已进行了分光处理的荧光X射线射入检测器的方式，使分光元件和检测器联动，并对其进行扫描，由此，可通过单一的检测器，在较宽的波长范围内，测定2次X射线的相应强度，但是，由于要求复杂而高精度的联动机构，故成本很高。

与这些情况相对，包括JP特许第2685726号公报中描述的荧光X射线分析装置。在该装置中，通过单一的分光元件，对荧光X射线和其基底进行分光，焦点分别位于按照在单一的检测器之前邻接的方式设置的2个感光细缝，交替地打开这2个感光细缝，由此，不对分光元件和检测器进行联动扫描，测定相应的强度。于是，可简单地、低价格地构成，但是，由于仅仅采用1个已固定的弯曲分光元件，故如果不是象重元素的荧光X射线及其基底那样波长极接近的场合(两者的衍射角(所谓的2θ)的差值在1度以内这样的场合)，则无法测定相应强度。

于是，人们提出了JP特开平8-201320号公报中所描述的荧光X射线分析装置。在该装置中，采用分别相对应的2个弯曲分光元件，对荧光X射线及其基底进行分光，焦点分别位于按照在单一的检测器之前邻接的方式设置的2个感光细缝，交替地打开这2个感光细缝，由此，不连续地对分光元件和检测器进行扫描，测定相应的强度。于是，可简单、低价格地构成，即使在以氮等的超轻元素的荧光X射和其基底程度，波长不同的情况下，仍可测定相应的强度。

但是，在JP特开平8-201320号公报的装置中，虽然分光法采用通过弯曲分光元件对从试样产生而发散的2次X射线进行分光，并将其会聚的所谓的集中法，但是2个弯曲分光元件沿厚度方向并排地固定，由此，常常形成从试样和检测器看，外侧的弯曲分光元件的感光面的一部分进入内侧的弯曲分光元件的阴影的设置，无法以充分的灵敏度，测定通过外侧的弯曲分光元件分光的2次X射线的强度。如果外侧的弯曲分光元件充分地远离内侧的弯曲分光元件，则具有2次X射线的入射角过大，无法配备具有可对所需的波长的2次X射线进行分光的晶格面间距的弯曲分光元件的担心。

发明的公开

本发明是针对上述过去的问题而提出的，本发明的目的在于提供一种波长分散型荧光X射线分析装置，其为采用单一的检测器的简单的、低价格的结构，同时，在较宽的波长范围内，以充分的灵敏度测定波长不同的多条2次X射线的相应强度。

为了实现上述目的，本发明的第1方案的荧光X射线分析装置包括对试样照射1次X射线的X射线源；使从上述试样发生的2次X射线发散的发散细缝；对通过发散细缝发散的2次X射线进行分光、会聚的分光元件；测定通过该分光元件分光的2次X射线的强度的单一检测器，上述分光元件采用多个弯曲分光元件，该多个弯曲分光元件沿从上述试样和检测器观看，2次X射线的光路扩展的方向并排地固定，由此，测定波长不同的多条2次X射线的相应强度。

在该第1方案的装置中，由于针对波长不同的多条2次X射线，采用分别相对应而固定的分光元件，不联动地使分光元件和检测器进行扫描，通过单一的检测器，测定相应强度，由此，可在形成简单、低价格的方案的同时，在较宽的波长范围内，测定波长不同的多条2次X射线的相应强度。另外，分光法采用上述集中法，但是，由于多个弯曲分光元件沿从上述试样和检测器观看，2次X射线的光路扩展的方向并排地固定，故未形成某个分光元件的感光面由另一分光元件覆盖这样的设置，可以充分的灵敏度测定波长不同的多条2次X射线的相应强度。

本发明的第2方案的荧光X射线分析装置包括对试样照射1次X射线的X射线源；使从上述试样发生的2次X射线平行的索勒细缝；对通过索勒细缝平行处理的2次X射线进行分光的分光元件；测定通过该分光元件分光的2次X射线的强度的单一检测器，上述索勒细缝和分光元件采用从上述试样观看，呈辐射状并排地固定的多组索勒细缝和平板分光元件，由此，测定波长不同的多条2次X射线的相应强度。

在该第2方案的装置中，由于针对波长不同的多条2次X射线，采用分别相对应而固定的分光元件，不联动地使分光元件和检测器进行扫描，通过单一的检测器，测定相应强度，由此，可在形成简单、低价格的方案的同时，在较宽的波长范围内，测定波长不同的多条2次X射线的相应强度。另外，分光法采用在通过平板分光元件对从试样发生，通过索勒细缝进行平行处理的2次X射线进行平行处理的状态，进行分光的平行法，多组索勒细缝和平板分光元件从上述试样观看，呈辐射状并排地固定，由此，未形成某个分光元件的感光面由另一分光元件覆盖这样的设置，可以充分的灵敏度测定波长不同的多条2次X射线的相应强度。

本发明的第3方案的荧光X射线分析装置包括对试样照射1次X射线的X射线源；对从试样发生的2次X射线进行分光的分光元件；测定通过该分光元件分光的2次X射线的强度的单一检测器，上述分光元件采用单一的分光元件，设置使该分光元件有选择地在规定的多个位置移动的分光元件移动机构，由此，测定波长不同的多条2次X射线的相应强度。

在该第3方案的装置中，由于针对波长不同的多条2次X射线，有选择地使分光元件在分别相对应的位置移动，由此，不联动地使分光元件和检测器进行扫描，通过单一的检测器测定相应强度，这样，可在形成简单、低价格的方案的同时，在较宽的波长范围内，测定波长不同的多条2次X射线的相应强度。另外，由于分光法采用集中法，平行法中的任意方法，采用单一的分光元件，由此，其感光面未由另一分光元件覆盖，可以充分的灵敏度测定波长不同的多条2次X射线的相应强度。

在第1、第2、第3方案所述的荧光X射线分析装置中，考虑各种用于选择2次X射线的机构，既可包括光路选择机构，该光路选择机构通过有选择地打开从上述试样到检测器的2次X射线的规定的多条光路，有选择地将上述波长不同的2次X射线射入上述检测器；也可将上述检测器作为位置敏感型检测器，上述波长不同的多条2次X射线射入上述检测器的入射面不同的位置；还可设置检测器移动机构，该检测器移动机构通过有选择地将上述检测器移动到规定的多个位置，有选择地将上述波长不同的多条2次X射线射入上述检测器。

在第1、第2方案所述的装置中，上述分光元件包括具有相同晶格面间隔和形状的多个分光元件，由此，结构更加简单、价格更低。另外，如果上述分光元件包括多个分光元件，该多个分光元件分别与试样的间隔开的部位相对应，对相同波长的2次X射线进行分光，由于从间隔开的部位发生的相同的波长的2次X射线通过分别相对应的分光元件而分光，射入检测器，故即使在试样不均匀的情况下，仍获得该波长的2次X射线平均的强度。

在第3方案的装置中，如果上述规定的多个位置包括下述的多个位置，该多个位置分别与试样的间隔开的部位相对应，用于对相同波长的2次X射线进行分光，从间隔开的部位发生的相同波长的2次X射线通过移动到分别相对应的位置的分光元件分光，射入检测器，由此，即使在试样不均匀的情况下，仍获得该波长的2次X射线平均的强度。

附图说明

图1为表示本发明的第1实施例的荧光X射线分析装置、在第3实施例中采用集中法的荧光X射线分析装置的概要图；

图2为表示该装置的变形实例的概要图；

图3为表示该装置的还一变形实例的概要图；

图4为表示第1实施例的装置的又一变形实例的概要图；

图5为表示第1实施例的装置、在第3实施例中采用集中法的装置的还一变形实例的概要图；

图6为表示本发明的第2实施例的荧光X射线分析装置、在第3实施例中采用平行法的荧光X射线分析装置的概要图；

图7为表示上述装置的变形实例的概要图。

实施发明的优选形式

下面根据附图，对本发明的第1实施例的荧光X射线分析装置进行描述。象图1所示的那样，该装置包括X射线管等的X射线源3，该X射线源3对放置于图中未示出的试样台上的试样1照射1次X射线2；发散细缝5，该发散细缝5使从试样1发生的2次X射线4通过线状或点状的细缝孔而发散；分光元件7，该分光元件7对通过该发散细缝5发散的2次X射线6进行分光，将其会聚；单一检测器9，该单一检测器9测定通过该分光元件7分光的2次X射线8的强度。检测器9可采用F-PC(气体流量型比例计数管)、S-PC(密封型比例计数管)、SC(闪烁计数器)等。

另外，分光元件7采用2个弯曲分光元件7A，7B，该2个弯曲分光元件7A，7B沿从试样1和检测器9观看，2次X射线6，8的光路扩展的方向(图中的稍右下的左右方向)并排地固定，由此，测定波长分别为λα，λβ而不同的2个2次X射线8a，8b的相应强度。弯曲分光元件7A，7B可采用约翰型(Johann type)、约翰逊型(Johannson type)、原木螺旋型、椭圆柱面型、旋转椭圆面型、圆柱面型、球面型等的各种形状的类型，晶格面间隔(所谓的d值)、形状既可共同，也可不是共同的。

比如，2个弯曲分光元件7A，7B采用锗晶体(2d值：6.53272)具有相同的弯曲形状的类型，可测定S-Kα线(2θ值：110.68度)8a和其基底(2θ值：105.23度)8b的相应强度。通过采用相同的分光元件7A，7B，装置的结构可更加简单、成本更低。另外，比如，可为PET(2d值：8.76)和ADP(2d值：10.648)，弯曲形状相同的类型，测定Si-Kα线(2θ值：109.20度)8a和Al-Kα线(2θ值：103.09度)8b的相应强度，容易通过采用晶格面间隔、形状不同的分光元件7A，7B，与波长更加分离的2次X射线8a，8b相对应。

作为选择2次X射线8a，8b用的机构，包括光路选择机构10，该光路选择机构10通过有选择地打开从试样1到检测器9的2次X射线4，6，8的规定的2条光路，即，第1光路4a，6a，8a和第2光路4b，6b，8b中的任意者，有选择地将波长不同的2条2次X射线8a，8b的任意者射入检测器9。

具体来说，该光路选择机构10为活动细缝10，该活动细缝10通过将图中未示出的螺线管等作为驱动源，有选择地移动到规定的2个位置，由此，使通过2个弯曲分光元件7A，7B分光而会聚的波长不同的2条2次X射线8a，8b中的任意者通过线状或点状的细缝孔。设置该活动细缝10的位置既可象图1那样，在检测器9之前，也可象图2那样，在发散细缝5之后，还可象图3那样，在发散细缝5之前(在2次X射线4，6，8的光路中，更加靠近试样1的一侧为前)。光路选择机构10也可代替活动细缝，而在使活动细缝的细缝孔移动的2个位置分别固定地设置开闭器，通过将2个开闭器中的任意者打开，选择波长不同的2个2次X射线8a，8b。

作为选择2次X射线8a，8b用的机构，还可代替光路选择机构10，而设置检测器移动机构11，在该检测器移动机构11中，象图1所示的那样，通过有选择地将检测器9移动到2个位置，由此，有选择地将波长不同的2个2次X射线8a，8b射入检测器9。更具体地说，使检测器9的入射面为上述活动细缝的细缝孔程度的尺寸，通过以螺线管等为驱动源的结构简单的检测器移动机构11，将检测器9有选择地移动到规定的2个位置，在相应的位置，将波长不同的2条2次X射线8a，8b中的任意者射入检测器9，由此，选择2次X射线8a，8b。另外，在图2，图3，图5～图7中，省略对检测器移动机构11的描述。

另外，作为选择2次X射线8a，8b用的机构，也可代替光路选择机构10、检测器移动机构11，将检测器9采用位置敏感型检测器，波长不同的2个2次X射线8a，8b可射入检测器9的入射面的不同的位置。作为位置敏感型检测器，可采用CCD、PSPC(位置敏感型比例计数管)、PSSC(位置敏感型闪烁计数器)、PDA(光电二极管阵列)等。在此场合，由于用于选择2次X射线8a，8b的活动部是不需要的，故装置的结构更加简单，另外，检测器9根据入射位置，选择2条2次X射线8a，8b，可同时测定波长不同的2条2次X射线8a，8b的相应强度，可使整个测定作业在较短时间完成。

象图4所示的那样，如果采用晶格面间隔不同，弯曲形状共同的分光元件7A，7B，则即使在将2个弯曲分光元件7A，7B连接，象1个弯曲分光元件那样设置的情况下，仍可测定波长不同的2条2次X射线8a，8b的相应强度，可使弯曲分光元件7A，7B所占的空间紧凑。在这样的场合，波长不同的2条2次X射线8a，8b会聚于检测器9之前的相同的位置，由此，如果将光路选择机构10设置于检测器9之前，其位于会聚位置中的、弯曲分光元件7A，7B一侧。另外，也可将感光细缝固定设置于会聚位置。

此外，在图1的方案中，波长λa的2次X射线8a通过与试样1的左侧的部位L相对应的分光元件7A分光，波长λb的2次X射线8b通过与试样1的右侧的部位R相对应的分光元件7B分光。由此，在试样1沿分析面，在左右方向不均匀的场合，波长λa，λb的2次X射线8a，8b的相应强度作为试样1的整体的平均值而不够正确。如果在测定中，使试样1旋转，则该问题消除，但是，在不能这样的场合，象图5所示的那样，分光元件7可为4个，可包括2个分光元件7A1，7A2，该2个分光元件7A1，7A2分别与试样1的间隔开的(未邻接)部位L1，R1相对应，对相同波长λa的2次X射线8a1，8a2进行分光；2个分光元件7B1，7B2，该2个分光元件7B1，7B2分别与试样1的另一间隔开的部位L2，R2相对应，对波长λb的2次X射线8b1，8b2进行分光。

按照该方案，从沿左右方向间隔开的部位L1，R1发生的波长λa的2次X射线8a1，8a2分别通过相对应的分光元件7A1，7A2进行分光，射入检测器9，另外，从沿左右方向间隔开的另一部位L2，R2发生的波长λb的2次X射线8b1，8b2分别通过相对应的分光元件7B1，7B2进行分光，射入检测器9，由此，即使在试样1沿左右方向不均匀的情况下，仍获得各波长λa，λb的2次X射线8a，8b的平均的强度。

象上述那样，在第1实施例的装置中，对于波长不同的2条2次X射线8a，8b，采用与它们各自相对应而固定的分光元件7A，7B，由此，在不联动地使分光元件7A，7B和检测器9进行扫描的情况下，通过单一的检测器9，测定相应强度，由此，可在形成简单、低价格的结构的同时，在较宽的波长范围内测定波长不同的2条2次X射线8a，8b的相应强度。另外，分光法采用集中法，但是，由于多个弯曲分光元件7A，7B沿从试样1和检测器9观看，2次X射线6，8的光路扩展的方向并排地固定，故可不为某个分光元件的感光面由另一分光元件覆盖这样的设置，以足够的灵敏度测定波长不同的2条2次X射线8a，8b的相应强度。

下面对本发明的第2实施例的荧光X射线分析装置进行描述。象图6所示的那样，该装置包括X射线管等的X射线源3，该X射线源3对放置于图中未示出的试样台上的试样1照射1次X射线2；索勒细缝15，该索勒细缝15使从试样1发生的2次X射线4平行；分光元件17，该分光元件17在平行的状态，对通过该索勒细缝15平行的2次X射线16进行分光；单一检测器9，该单一检测器9测定通过该分光元件17分光的2次X射线18的强度。检测器9可采用与第1实施例的装置相同的类型。另外，也可在感光侧设置索勒细缝25(图7)。

此外，索勒细缝和分光元件15，17采用从试样1观看，呈辐射状而并排地固定的2组的索勒细缝和平板分光元件15A和17A，15B和17B，由此，测定波长分别为λa，λb而不同的2条2次X射线18a，18b的相应强度。在2个平板分光元件17A，17B中，晶格面间隔均可共同，也可不同。

比如，与第1实施例相同，2个平板分光元件17A，17B可采用锗晶体(2d值：6.53272)，测定S-Kα线(2θ值：110.68度)18a和其基底(2θ值：105.23度)18b的相应强度。通过采用晶格面间隔相同的平板分光元件17A，17B，装置的结构可更加简单、成本更低。另外，比如，可采用PET(2d值：8.76)和ADP(2d值：10.648)的平板分光元件17A，17B，测定Si-Kα线(2θ值：109.20度)18a和Al-Kα线(2θ值：103.09度)18b的相应强度，由于采用晶格面间隔不同的平板分光元件17A，17B，容易与波长更加分离的2次X射线18a，18b相对应。

作为用于选择2次X射线18a，18b的机构，与第1实施例的装置相同，除了可采用光路选择机构10，还可采用检测器移动机构11(图1)、位置敏感型检测器9。设置光路选择机构10的位置既可在检测器9之前，也可在索勒细缝15之后，还可在索勒细缝15之前。

还有，虽然在图中未示出，如果与第1实施例的装置相同，分光元件17包括下述的多个分光元件，该多个分光元件分别对应于试样1的间隔开的部位，对相同的波长的2次X射线进行分光，则从间隔开的部位产生的相同的波长的2次X射线通过分别对应的分光元件分光，射入检测器9，由此，即使在试样1不均匀的情况下，仍获得该波长的2次X射线的平均的强度。

象上述那样，在第2实施例的装置中，对于波长不同的2条2次X射线18a，18b，采用分别对应而固定的分光元件17A，17B，由此，在不联动地使分光元件17A，17B和检测器9进行扫描的情况下，通过单一检测器9，测定相应强度，在形成简单、低价格的方案的同时，可在较宽的波长范围内，测定波长不同的2条2次X射线18a，18b的相应强度。另外，分光法采用平行法，多组索勒细缝和平板分光元件15A和17A，15B和17B从试样1看，呈辐射状并排地固定，由此，未形成某个分光元件的感光面为另一分光元件覆盖这样的设置，可通过充分的灵敏度，测定波长不同的2条2次X射线18a，18b的相应强度。

下面对本发明的第3实施例的荧光X射线分析装置进行描述。该装置为下述形式，其中，首先假定在分光法采用集中法的第1实施例的装置中，采用作为1种的多个分光元件7A...(图1～图3，图5)的场合，代替固定地设置多个分光元件7A...，将单一的分光元件7S有选择地移动到多个位置。比如，象图1所示的那样，首先，与第1实施例相同，包括对试样1照射1次X射线2的X射线源3、对从试样1发生的2次X射线4进行分光的分光元件7、以及测定通过该分光元件7而分光的2次X射线8的强度的单一的检测器9。

但是，分光元件7采用单一的弯曲分光元件7S，设置分光元件移动机构12，该分光元件移动机构12将该分光元件7S有选择地移动到规定的2个位置，即，图1的7A的位置和7B的位置，由此，测定波长不同的2条2次X射线8a，8b的相应强度。比如，弯曲分光元件7S可采用锗晶体(2d值：6.53272)，测定S-Kα线(2θ值：110.68度)8a和其基底(2θ值：105.23度)8b的相应强度。该分光元件移动机构12可以螺线管等为驱动源，通过简单的结构实现。另外，在图2，图3中，省略分光元件移动机构12的描述。

作为用于选择2次X射线8a，8b的机构，与第1实施例的装置相同，除了可采用光路选择机构10，还可采用检测器移动机构11、位置敏感型检测器9。另外，如果采用检测器移动机构11，其结果是，看上去分光元件7S和检测器9联动，但是，分光元件7S和检测器9通过结构的简单，并且相互独立的分光元件移动机构12和检测器移动机构11中的一个，分别仅仅有选择地移动到规定的位置，没有两者7S，9联动而扫描的情况，由此，无需扫描型荧光X射线分析装置所采用测角器那样的复杂的高精度的联动机构。另外，在第3实施例的装置中，为了测定波长不同的2条2次X射线8a，8b的相应强度，使单一的分光元件7S移动，由此，作为用于选择2次X射线8a，8b的机构，即使在采用位置敏感型检测器9的情况下，仍无法同时地测定相应强度。

在第3实施例的装置中，比如，象图5所示的那样，分光元件7S移动到的规定位置可为4个，包括分别与试样1中的间隔开的部位L1，R1相对应，用于对相同波长λa的2次X射线8a1，8a2进行分光的位置7A1，7A2、分别与试样1中的另外的间隔的部位L2，R2相对应，用于对相同波长λb的2次X射线8a1，8a2进行分光的位置7B1，7B2。

按照该方案，从沿左右方向间隔开的部位L1，R1发生的波长λa的2次X射线8a1，8a2通过移动到分别相对应的位置7A1，7A2的分光元件7S分光，射入检测器9，另外，从沿左右方向间隔开的另外的部位L2，R2发生的波长λb的2次X射线8b1，862通过移动到分别相对应的位置7B1，7B2的分光元件7S分光，射入检测器9，由此，即使在试样1沿左右方向不均匀的情况下，仍获得各波长λa，λb的2次X射线8a，8b的平均的强度。

第3实施例的装置也可为下述形式，其中，首先假定在分光法采用平行法的第2实施例的装置中，采用作为1种的多个分光元件17A...(图6，图7)的场合，代替固定地设置多个分光元件17A...，将单一的分光元件17S有选择地移动到多个位置。比如，象图6所示的那样，首先，与第2实施例相同，包括对试样1照射1次X射线2的X射线源3、对从试样1发生的2次X射线4进行分光的分光元件17、以及测定通过该分光元件17而分光的2次X射线18的强度的单一的检测器9。

但，分光元件17采用单一的平板分光元件17S，设置分光元件移动机构12，该分光元件移动机构12有选择地将该分光元件17S移动到规定的2个位置，即，图6的17A的位置和17B的位置，由此，测定波长不同的2个2次X射线18a，18b的相应强度。比如，平板分光元件17S采用锗晶体(2d值：6.53272)，测定S-Kα线(2θ值：110.68度)8a和其基底(2θ值：105.23度)8b的相应强度。该分光元件移动机构12可以螺线管等作为驱动源，通过简单的结构实现。另外，在图7中，省略分光元件移动机构12的描述。

对于用于选择2次X射线8a，8b的机构，同样在分光法采用平行法的场合，也象采用集中法的场合所描述的那样。另外，虽然在图中未示出，但是，如果使分光元件7S移动到的规定的多个位置，包括分别与试样1的间隔开的部位相对应，用于对相同波长的2次X射线进行分光的多个位置，则从间隔开的部位发生的相同的波长的2次X射线通过移动到分别相对应的位置的分光元件7S分光，射入检测器9，由此，即使在试样1不均匀的情况下，同样对于获得该波长的2次X射线的平均化的强度的方面来说，也象采用集中法的场合所描述的那样。

象上述那样，在第3实施例的装置中，针对波长不同的2条2次X射线8a和8b或18a和18b，有选择地使分光元件7S移动到分别相对应的位置7A和7B或17A和17B，这样，不联动地使分光元件7S和检测器9进行扫描，而通过单一的检测器9，测定相应强度，这样，可形成简单、低价格的方案，同时，在较宽的波长范围内测定波长不同的2个2次X射线8a和8b或18a和18b的相应强度。另外，分光法采用集中法、平行法中的任意方法，采用单一的分光元件7S，由此，其感光面不为另一分光元件覆盖，可以充分的灵敏度，测定波长不同的2条2次X射线8a和8b或18a和18b的相应强度。

另外，在以上的实施例中，所测定的波长不同的2次X射线为2条，但是也可为3条。与此相对应，已固定的分光元件的数量、分光元件移动的位置的数量也可在3个以上。另外，已固定的分光元件也可包括具有相同晶格面间距和形状的3个以上的分光元件。另外，已固定的分光元件还可包括分别与试样的间隔开的部位相对应，对相同波长的2次射线进行分光的3个以上的分光元件。同样，分光元件移动到的位置也可包括分别与试样的间隔开的部位相对应，用于对相同的波长的2次X射线进行分光的3个以上的位置。

Claims

1.一种荧光X射线分析装置，该荧光X射线分析装置包括：

对试样照射1次X射线的X射线源；

使从上述试样发生的2次X射线发散的发散细缝；

对通过该发散细缝发散的2次X射线进行分光、会聚的分光元件；

测定通过该分光元件分光的2次X射线的强度的单一检测器；

上述分光元件采用多个弯曲分光元件，该多个弯曲分光元件沿从上述试样和检测器观看，2次X射线的光路扩展的方向并排地固定，由此，测定波长不同的多条2次X射线的相应强度。

2.一种荧光X射线分析装置，该荧光X射线分析装置包括：

对试样照射1次X射线的X射线源；

使从上述试样发生的2次X射线平行的索勒细缝；

对通过索勒细缝平行处理的2次X射线进行分光的分光元件；

测定通过该分光元件分光的2次X射线的强度的单一检测器；

上述索勒细缝和分光元件采用从上述试样观看，呈辐射状并排地固定的多组索勒细缝和平板分光元件，由此，测定波长不同的多条2次X射线的相应强度。

3.一种荧光X射线分析装置，该荧光X射线分析装置包括：

对试样照射1次X射线的X射线源；

对从试样发生的2次X射线进行分光的分光元件；

测定通过该分光元件分光的2次X射线的强度的单一检测器；

上述分光元件采用单一的分光元件，设置使该分光元件有选择地移动到规定的多个位置的分光元件移动机构，由此，测定波长不同的多条2次X射线的相应强度。

4.根据权利要求1～3中的任何一项所述的荧光X射线分析装置，其特征在于其具有光路选择机构，该光路选择机构通过有选择地打开从上述试样到检测器的2次X射线的规定的多条光路，将上述波长不同的多条2次X射线有选择地射入上述检测器。

5.根据权利要求1～3中任何一项所述的荧光X射线分析装置，其特征在于上述检测器为位置敏感型检测器，上述波长不同的多条2次X射线射入上述检测器的入射面的不同的位置。

6.根据权利要求1～3中任何一项所述的荧光X射线分析装置，其特征在于其具有检测器移动机构，该检测器移动机构通过将上述检测器有选择地移动到规定的多个位置，将上述波长不同的多条2次X射线射入上述检测器。

7.根据权利要求1或2所述的荧光X射线分析装置，其特征在于上述分光元件包括具有相同晶格面间距和形状的多个分光元件。

8.根据权利要求1或2所述的荧光X射线分析装置，其特征在于上述分光元件包括多个分光元件，该多个分光元件分别对应于试样的间隔开的部位，对相同波长的2次X射线进行分光。

9.根据权利要求3所述的荧光X射线分析装置，其特征在于上述规定的多个位置包括下述的多个位置，该多个位置分别与试样的间隔开的部位相对应，用于对相同的波长的2次X射线进行分光。