JPH01121743A - ２層被膜の特性値定量方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【産業上の利用分野】

本発明は、２層被膜の特性値定量方法に係り、特に、め
っき工程における・高精度めっき制御に用いるのに好適
な、螢光Ｘ線分析装置により２日被膜の特性値（元素含
有率、付着量１被膜厚さ）を高精度に定Ｍする方法に関
する。 （従来の技術］ 従来、一般に、螢光Ｘ線分析法において、２元合金被膜
処理材の被膜中の元素含有率、付着量及び被膜厚さを定
量する場合には、例えば原子吸光法等によって予め元素
含有率と付着量及び被膜厚さが既知なサンプルについて
、螢光Ｘ線分析によって得られた各元素のＸ線積分強度
値（以下、単にＸｌｉ！Ｉｉ！度と称する）と元素含有
率、付着早成るいは被膜厚さとの関係をプロットして重
回帰曲線を求め、これをいわゆる検ｆｆｉ線として、こ
れに被検サンプルのＸ線強度を代入して、元素含有率、
付着■及び被膜厚さを定ｍしていた。 定量対象物、即ち被検材の元素○有率、付着宣及び被膜
厚さの現れる範囲が比較的狭い場合には、検１’ｆ６Ｆ
Ａはほぼ直線近似され、例えば、元素含有率ＰＣ１付Ｗ
ＩＭｃｚ、被股厚さδについて、それぞれ次の（１）〜
（３）式で与えられていた。 Ｐ　ｃ　＝ａｘ＋ｂｘ−Ｘ−＝−−−・・＜　１　＞Ｍ
ｃｚ＝ａＶ＋ｂＶ−Ｙ　　・・・・・・（２）δ＝ｃｙ
＋ｄｙ−Ｙ　　・・・・・・・・・・・・　（３）ここ
で、ａｘ、　ｂｘ、　ａｙＳｂｙＳｃｙ、　ｄｙは重回
帰係数であり、一方、代表記号Ｘ、Ｙについては、Ｘ線
強度値を用いて、下記第１表に示す如く、種々の形で与
えられていた。 第　　１　　表 この第１表では、説明の便宜上、鉄鋼材の表面に銅と亜
鉛を順次２層にめっきした場合を例にとって、母材（鉄
）、銅、亜鉛のＸ線強度をそれぞれＩＦ、Ｉｃ、Ｉｚと
表記し、一方、元素含有率Ｐｃ、付着ｆｆ１Ｍｃｚ、被
ＩＩ！ｉ＋厚さδがいずれも既知である標準サンプルに
ついては、それぞれ、ＩｐＯＮ　ＩｃｏＳ　Ｉｚｏと表
記している。 （発明が解決しようとする問題点］ しかしながら、第１表で与えた代表記号ＸＳＹの形（各
３種類）と、元素含有率ＰＣ１付着ｆｆｉＭｃｚ、被膜
厚さδを結びつけた関係式（１）〜（３）の形態は、物
理論的な意味を在さず、単なる両者の相関表式に過ぎな
い。 本来、元素含有率Ｐ　ｃ　ｓ付着量Ｍｃ−１、被膜厚さ
δとＸ線強度との理論的な関係は、それぞれ唯一個の表
式で表されるべきものである。 又、一般に第６図に示す如く、成る元素の付着量とＸ線
強度の関係は、他の元素の含有率にも依存するものであ
り、元素含有率の取り１！′７る範囲が１−分に狭く、
且つ要求精度が厳しくなければ、伯の元素含有率の影響
を無視することも可能であるが、近年の産業界における
高精度化指向に対処するためには満足できるものではな
かった。 叩ら、従来技術では、２元合金被膜の螢光Ｘ線分析にお
いて、ＸＦ１１強度、元素会右予、付着菌及び波膜厚ざ
の４者が互いに連関をもっているにもかかわらず、元素
含有率を定量する場合には、付着量又は被膜厚さが成る
特定値（検量線決定時のレベル）で一定と見做して、Ｘ
線強度のみの関数として処理し１．一方、付着量又は被
膜厚さを定ｍづる場合には、逆に元素含有率が成る特定
圃（同じく検量線決定時のレベル）で一定と見做して、
Ｘ線強度のみの関数として処理し、いずれも重回帰検量
線より求めていたことになり、高精度定量の大きな阻害
要因となっていた。 更に、２元合金、例えば銅−亜鉛の順次めっきの場合、
下層にある銅のＸ線強度は小さめに計測されるので、遮
蔽係数で補正する必要があるが、前出（１）〜（３）式
で示すような従来の検量線では、遮蔽係数が未知のまま
重回帰されており、これも定量精度低下の一因となって
いた。

【発明の目的１ 本発明は、前記従来の問題点をＦｌ￥消するべくなされ
たもので、遮蔽係数を取り込むと共に、ＸｙＡ強度、元
素含有率、付着量及び被膜厚さの４者の関数系を理論的
に求め、螢光Ｘ線分析による元素含有率、付着菌及び被
膜厚さの定量精度をより高めて、産業界の高精度化指向
に対処、し、併せて検量線作成の作業を省略することが
可能な２層被膜の特性値定量方法を提供することを目的
とする。 【問題点を解決するための手段】 本発明は、螢光Ｘ線分析により、２層被膜の特性値を定
量するに際して、各元素の螢光Ｘ線分析強痘と仮に選択
した元素含有率から、下層元素の遮蔽係数の第１計算値
と付着量を計算し、次に、この付着ｆｎと前記選択元素
含有率から被膜厚さを計算し、更に、この被膜厚さと前
記選択元素含有率から、下層元素の遮蔽係数の第２計算
値を計算し、この遮蔽係数の第１計算値と第２計算値の
差が、所要精度内で一致するまで、仮の元素含有率の選
択を繰り返して、両者が一致した時点の選択元素含有率
、計算付着量及び計算被膜厚さを、それぞれ求めるべき
元素含有率、付＠債、被膜厚さとして同時決定すること
により、前記目的を達成したものである。

【作用】

本発明においては、理論表式から、遮蔽係数σが、例え
ば元素含有率Ｐｃ、パラメータεＺ、Ｘ線強度１ｃ、１
ｚの関数σ＋　（Ｐｃ、εｚ、Ｉｃ、Ｉｚ）で示される
ことを利用して、遮蔽係数σの第１計算値σ１を計算し
ている。ここでパラメータε２は、例えば銅と亜鉛の原
子番号Ｚｃ、Ｚｚ、同じく原子ｆＰＡｃ、Ａｚの関数と
して表される。 一方、例えば、被膜厚さδを元素含有率Ｐｃ及び付着￥
Ｍｃｚの実ｖ３値から同定すれば、遮蔽係数σが元素＠
有率Ｐｃと被膜厚さδの１３ｒＩ数σ２（Ｐｃ、δ）と
しても求められることを利用して、遮蔽係数σの第２計
蓮値σ２を計算している。 そして、両者の遮蔽係数計算値σ１とσ２が一致したこ
とから、元素含有率ＰＣ１被膜厚さδ及び付着量Ｍｃｚ
を同時決定している。なお付着量Ｍｃｚは、例えば関ｖ
１Ｍｃｚ　（Ｐｃ、Ｉｚ）より計σし、被膜厚さδは、
例えば関数δ（Ｐｃ、ＭＣＺ）より計算することができ
る。 本発明で利用している入代のうち、σｓ　（Ｐｃ、εｚ
ｓｌｃ、Ｉｚ）、εｚ　（Ｚｃ、Ｚｚ、Ａｃ、Ａｚ）、
Ｍｃｚ　（Ｐｃ、Ｉｚ）、δ（Ｐｃ、Ｍｃｚ）は厳密な
理論式であり、一方、σ２　（Ｐｃ、δ）は解析的な回
帰式であるので、両者を併用することで高精度な定量が
保証できる。 以下、２元合金被膜の元素含有率、付着量及び被膜厚さ
を定ｍする場合を例にとって、本発明の詳細な説明する
。 基本的な原理として、２元合金被膜の元素含有率、付計
り被膜厚さはそれぞれ相関を有し、それらの影響によっ
て螢光ｘＦＩ！分析強度値が左右されること、加えて２
層被膜の場合、下層の元素については遮蔽効果によって
、検出されるＸ線強回が弱まることが明らかである。こ
れらの事情を踏まえた上で、螢光Ｘ線分析により、２元
合金被膜の元素含有率、付着量及び被膜厚さを、例えば
第１図に示すような手順によって同時に決定づることが
できる。 なお、以下の説明では、便宜上胴（Ｃ）−亜鉛（Ｚ）被
膜の場合を例にとって説明する。 まずステップ１１０で、物理定数をインプットする。 次いでステップ１１２で、標準サンプルのデータをイン
プットする。 次いでステップ１１４で、定１すべき任意サンプルのデ
ータをインプットする。 次いでステップ１１６で、螢光Ｘ線分析強度１Ｃ１ｒｚ
等を取り込む。 次いでステップ１１８で、螢光Ｘ線分析強度ＩＣＮＩＺ
と仮に選択した元素含有率、例えば銅含有率Ｐｃ′を取
り込む。 次いでステップ１２０に進み、理論表式から、下層元素
の遮蔽係数の第１計算値σ＋’　　（Ｐｃ’　、ε２、
Ｉｃ、Ｉｚ）を算出する。ここでパラメータε２は、原
子番号Ｚｃ、Ｚｚ及び原子ｆｆ１Ａｃ、Ａｚから算出さ
れる。 次いでステップ１２２に進み、付着ｆＴｔＭｃｚ′（Ｐ
ｃ’　、Ｉｚ）を計算し、又、ステップ１２４で、被膜
厚さδ’　　（Ｍｃｚ’　、Ｐｃ’　）を計算する。 次いでステップ１２６に進み、計算された被膜厚さδ′
と仮に選択した元素含有率Ｐｃ′を取り込んで、第１計
算値σ１′とは別の方法で、例えば回帰表式により遮蔽
係数の第２計算値σ２′（Ｐｃ’　、δ′　）を計算す
る。 次いでステップ１２８に進み、２様の方法で求めた遮蔽
係数σ′　（ステップ１２０で算出した遮蔽係数の第１
計算値σ１′と、ステップ１２６で算出した遮蔽係数の
第２計痺値σ２′）の差が、必要精度６以内となったか
否かを判定する。判定結果が否である場合には、前出ス
テップ１１８に戻り、仮の元素含有率Ｐｃ’の選択を繰
り返す。 一方、ステップ１２８の判定結果が正であり、異なる方
法で求めた遮蔽係数σ１′とσ２′が所要粘度Δ内で一
致したと判断されるときには、ステップ１３０に進み、
その時点の仮の選択元素含有率Ｐｃ′、計算付ｉｉ景Ｍ
ｃｚ’、計算被膜厚さδ′を、それぞれ求めるべき元素
含有ｙＩＦ、Ｐ　Ｃ％付着ＦＭＭｃｚ、被膜厚さδとし
て同時決定する。 なお、遮蔽係数の第１計算値σ１′を求めるための理論
表式σ＋　　（Ｐｃ、８２％　Ｉｃ、Ｉｚ）としては、
例えば特開昭５８−１５０８４５の第３・頁右上欄の（
３）式で本発明者らが開示した次式を改造したものを用
いることができる。 Ｐｃｍ（１＋８２−死）−１ ：妃＝　Ｉ　ｚ　／　Ｉ　ｃ　　・・・・・・・・・　
（４）即ち、この（４）式において、遮蔽係数σを導入
して、次の（５）式に示すような改造を行ない（合金プ
ラスの場合にはσ＝１．０とすることができる）、且つ
、膨大な理論的考察から、パラメータε２の次の（６）
式で示されるような表式を発見した。 Ｐｃｍ（１＋εｚ−置−ａ）−’−・−（５）εｚ＝　
（Ａｚ／Ａｃ） ・（（Ｚｃ−１）／（Ｚｚ−１））’ ・・・・・・　〈６） ここで、Ａｋは元素にの原子但、Ｚｂは、元素にの原子
番号である。 結局遮蔽係数の第１計算値σ１を求めるための理論表式
σ１は、（５）式を変形して、次の（７）式とすること
ができる。 σ　１　＝　　（Ｐｃ　　−言　−１）／　（ε２−及
）　　・・・・・・・・・　　（７）一方、付着ｆｆｉ
Ｍｃｚを求める式は、同じく特開昭５８−１５０８４５
の第３頁右下欄（９）式で本発明者らが開示した表式を
変形した次の（８）式を用いることができる。 Ｍｃｚ＝　（（１−Ｐｃｏ）／　（１−Ｐｃ））・Ｍｃ
ｚｏ・（ｄｏ／ｄ） （Ｉｚ／Ｉｚｏ）　　・”・・　（８）ここで、ｄはサ
ンプルの外径寸法、添字０は標準サンプルを示すもので
ある。 なお、この（８）式では、標準サンプルの銅Ｘ線強度１
ｃｏが不要となっている。又、付着楚ＭＣＺの定義は、
例えばタイヤコード業界で常用している被膜重最／母材
重争比を採用することができる。 更に、被Ｆｉ！厚さδは、例えば次の（９）式で示され
る一般的表現で与えることができる。 δ−ρＦ−ｄ−Ｍｃｚ／２Δρ　・・・・・・・・・（
９）１ｉ５＝Ｐｃ　（ρＣ−ρ２）＋ρｚ　　−−（１
０）ここで、ρＦ、ρｃ１ρ２は、それぞれ鉄、銅、亜
鉛の密度である。又、△は形状パラメータであり、平板
ではΔ＝１、丸棒では△＝２、球では△＝３とされる。 次に遮蔽係数の第２計算値σ２を求めるためのσ２表式
については、実際のデータから回帰した回帰表式とする
ことができる。即ち、螢光Ｘ線分析強度１ｃ、Ｉｚと、
他の分析手段、例えば原子吸光法による分析データＰ　
ｃ　、及び理論値εＺを（７）式に代入して、遮蔽係数
の第２計惇値σ２を停出し、次に、第２図に示す如く、
下層元素含有″＄ＰＣをパラメータとした被膜厚ざδ（
分析値）と遮蔽係数の第２計算１直σ２の相関をプロッ
トし、第２図の関係式として次の（１１）式を解析的に
回帰する。 σ２＝ｍ　１（ｌｉｔ　２　・Ｐｃ＋δ）＋ｍ３＝（１
１）ここで、ｍ　＋、ｍ　２、ｍ　３は回帰係数である
。 この回帰関数σ２　（Ｐｃ−δ）については、（５）式
の発想がなければ求めることができず、且つ、（６）式
の導出がなければ（５〉式の活用が不可能であり、正に
本発明技術の根本は、鋭意考察の結果としての（６）式
の発見に負うところが大きい。そして、二様の遮蔽係数
σの計算式の導出という発想が、最終的に本発明を可能
ならしめたものである。 このようにして、遮蔽係数を取り込み、且つ、Ｘ線強度
、元素含有率、付着量及び被膜厚さの４者の関数系を理
論的に求めることによって、螢光Ｘ線分析による元素含
有率、付着量、及び被膜厚さの定量精度をより高めて、
産業界の高精度化指向に対処することができる。又、検
量線作成の作業も省略することが可能となる。

【実施例】

以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する
。 第３図は、本発明が実施可能な、−殻内な二次Ｘ線検出
による２層被膜の螢光Ｘ線分析装置の概略を示したもの
である。 この装置は、−次Ｘ線を発生するためのＸ線発生電源部
２０及びＸ線管２２と、例えば鉄母材１２の上に銅被膜
１４と亜鉛被膜１６が順次心成されたサンプル１０から
発生された二次Ｘ線をそれぞれ分光結晶２４．２日に導
くための第１スリツト２３．２６と、第２スリツト３０
を介して入射される銅の二次Ｘ線（銅にα線）の強度を
検出するためのＸ線検出器３２と、第２スリツト３４を
介して入射される亜鉛の二次Ｘ線（亜鉛にα線）の強度
を検出するためのＸ線検出器３６と、前記各Ｘ線検出器
３２．３６の出力を計数し積分強度値として計測して、
標準サンプル及び任意サンプルの銅と亜鉛のＸ線強度１
ｚｏｓ　Ｉｃｓ　Ｉｚを得ると共に、必要な信号処理及
び演算を行なう計数・信号処理・演算部３８とから構成
されている。 このような装置において、Ｘ線管２２により発生された
一次Ｘ線を、標準サンプルと検査対象である任意サンプ
ルに順次必要時間（例えば１０〜２０秒間）照射し、そ
れらから生じた二次Ｘ線を銅と亜鉛別にＸ線検−出塁３
２．３６で検出して、計数・信号処理・演算部３８で積
分強度値として計測する。このような過程で銅と亜鉛の
Ｘ線強度Ｉｚｏ、ＩＣ１１ｚを計測すること自体は従来
でも行なわれていた。 これに対して、本発明では、第４図（第１図と対応する
ステップには同じ番号を付している）に示すように、前
記計数・信号処理・演算部３８で、予めインプット済み
の物理定数Ｚ　ｃ　ｓ　Ｚ　ｚ　ｓ　Ａ　ｃ　ｓＡ　ｚ
　ｓρＦ１ρＣ１ρ２（ステップ１１０）、遮蔽係数回
帰パラメータ１Ｉ１１、ｍ２、ｌｌ１３（ステップ１１
１）、標準サンプルデータｄｏ、ＰｃｏｓＭｃｚｏ（ス
テップ１１２）、任意サンプルデータΔ、ｄ　（ステッ
プ１１４）と、新たにステップ１１６で取り込んだＸ線
計測データＩｚｏ、ｌｃ、Ｉｚとを準備した上で、ステ
ップ１１８で、仮の銅含有率Ｐｃ′を選択する。 次いで、ステップ１１９に進み、前出（６）式に、両元
素、即ち銅と亜鉛の原子ｆｆ１Ａｃ、Ａｚと原子番号Ｚ
ｃ、Ｚｚを代入して、パラメータε２を計算する。なお
、銅−亜鉛の場合、パラメータεｚ＝０．８９４２１で
ある。 次いでステップ１２０に進み、Ｘ線計測データＩｃ、Ｉ
ｚ、計算済みのパラメータε２、仮の銅含有率Ｐｃ′を
前出（７）式に代入して、遮蔽係数の第１計算値σ１′
を算出する。 次いでステップ１２２に進み、標準サンプルの銅含有率
Ｐ　ｃ　ｏ　ｓ同じく付着量Ｍ　ｃ　ｚ　ｏ　ｓ同じく
材料外径ｄｏ、同じく亜鉛Ｘ線強度１　ｚ　Ｏ％及び対
象サンプルの材料外径ｄと亜鉛Ｘ線強度Ｉｚを前出（８
）式に代入して、付着ｆｆｉＭｃｚ’を計算する。 次いでステップ１２４に進み、対象サンプルの形状パラ
メータΔ、同じ（材料外径ｄ１鉄、銅、亜鉛の密度ρＦ
１ρｃ１ρ２及び銅の選択含有率Ｐｃ’及び計算済みの
付着ｆｆｉＭｃｚ’　を前出（９）、（１０）式に代入
して被膜厚さδ′を計算する。 次いでステップ１２６に進み、銅の選択含有率Ｐｃ′と
計算された被膜厚さδ′を前出（１１）式に代入して遮
蔽係数の第２計算値σ２′を計算する。 次いでステップ１２８に進み、遮蔽係数の第１計算値σ
１′とσ２′の差Δを吟味し、例えばこの差Δが０．０
１よりも小さくなるまで、ステツ１１１８に戻って銅含
有率Ｐｃ　ｚ’の選択を繰り返す。この収束計篩は、例
えば通常のニュートン・ラプソン法で行なうことができ
る。 Δ＜０．０１となった時点で、ステップ１３０に進み、
その時点の選択銅含有率Ｐ　Ｃ’　、計算付着量Ｍｃｚ
’　、計算被膜厚さδ′を、それぞれ求めるべき銅含有
率ＰＣ１付着ｆｆｉＭｃｚ、及び被膜厚さδとして同時
決定する。 材料外径ｄが１．２６ｍｍ、原子吸光分析による銅含有
率（Ｐｃ　）が０．４７〜０．７９の範囲、同じく被膜
厚さ〔δ〕が０．７６〜１．８４μｍの範囲、同じく付
着ｆｆ）（Ｍｃｚ）が２．５６〜６゜１６ｏ／ｋａの範
囲で特定される、サンプル数ｎ＝３４の対象サンプルに
関して、本発明の実施例による分析を行なった。 第５図（Ａ）は、原子吸光測定による銅含有率（Ｐｃ　
）と本実施例による計算室（６）銅含有率Ｐｃ°°との
差Δｐｃ”を、第５図ＣＢ）は、同じく原子吸光測定に
よる銅含有率（Ｐｃ）と従来技術の重回帰方式のみによ
る銅含有率Ｐｃの差Δ−Ｐｃを、共に原子吸光測定によ
る銅含有率（Ｐｃ）との相関プロットとして示したもの
である。なお、標準サンプルは、全３４サンプル中から
平均的な数値を示したサンプルを１個任息に選んでいる
。 図から明らかな如く、第５図（Ａ）に示した本実施例に
よる方が定量誤差が小さくなっている。 又付着ｆｆｉＭｃｚ、被膜厚さδについても同様の結果
が得られた。 結局、本発明技術の場合には、分析機会毎に遮蔽係数σ
に及ぼす要因を抽出し、それらを例えばσ回帰式の関数
として取り込むことによって、いくらでも回帰精度を高
め得る可能性を有している。 これに対して、従来技術のｍ回帰方式のみの場合では、
次式に示す如く、変数死−１ｚ　／　Ｉ　ｃのみのため
、同一の夫でも、元素含有率Ｐｃと付着量Ｍｃｚの組み
合わせが異なる場合を分離できず、分析機会毎の浮動要
因の大きさをそのまま回帰式のばらつきとして容認せざ
るを得ない。 Ｐｃ＝ｎ　１　ｚ＋ｎ　２ ：ａｅ＝Ｉｚ／Ｉｃ＝　　（１２） 従って、分析条件をできる限り重回帰した状態と一致さ
せなればならないという極めて層行困難な制約が付せら
れていたものである。 更に従来の重回帰方式では、遮蔽係数の影響を全く考慮
していないので、銅含有率や被膜厚さによる遮蔽係数の
差が、そのまま銅含有率、・付着量、被膜厚さの誤差と
して残されてしまっていたものである。 なお、前記実施例に述べた方法は、本発明技術の一つの
適用例を示したものであり、例えば、遮蔽係数の中に銅
−亜鉛２層被膜を適宜熱拡散させた混合相状態における
パラメータ（例えばβプラス率）を変数として取り込む
ことも有用である。 又、前記実施例では、銅−亜鉛合金の場合を例にとって
示していたが、本発明の適用範囲はこれに限定されず、
ニッケルー亜鉛等、任意の２元素の組み合わせへの適用
も同様に可能であることは明らかである。

【発明の効果】

以上説明した通り、本発明によれば、重回帰検量線が不
要となるので、螢光Ｘ線分析による２層被膜の元素含有
率、付着量、被膜厚さの定量の効率化を図ることができ
る。又、計測条件変化に伴う誤差を取り込むことがなく
なり、より高精度な定ｈ！が可能となる。従って、例え
ばオンラインめっき制御精度を向上して、優れた被膜精
度のめつき製品の製造が可能となる等の優れた効果を有
する。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明に係る２層被膜の特性値定量方法の基
本的な手順を示ず流れ図、第２図は、本発明の詳細な説
明するための、銅含有率と被膜厚さと遮蔽係数の相関を
示す線図、第３図は、本発明が実施可能な２居被股の螢
光Ｘ線分析装置の構成例を示すブロック図、第４図は、
本発明が採用された実施例の手順を詳細に示す流れ図、
第５図（Ａ＞、（Ｂ）は、実施例と従来技術の元素含有
率定量精度を比較して示した線図、第６図は、従来技術
の問題点を説明するための、付着量と元素含有率とｘＩ
Ｉ強度との相関を示した線図である。 １０・・・サンプル、 ２２・・・Ｘ線管、 ３２．３６・・・Ｘ線検出器、 ３８・・・計数・信号処理・演算部、 ＰＣＮ　ＰＣ’・・・（下層）元素含有率、Ｍｃ　２％
　Ｍｃ　ｚ’　・・・付着量、δ、δ′・・・被膜厚さ
、 Ｉｃ、Ｉｚｑ　Ｉｐ、Ｉｚ。 ・・・・・・・−Ｘ線強度、 σ、σ１、σ２・・・遮蔽係数、 Δ・・・遮蔽係数の計算値の差。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）蛍光Ｘ線分析により、２層被膜の特性値を定量す
   るに際して、 各元素の螢光Ｘ線分析強度と仮に選択した元素含有率か
   ら、下層元素の遮蔽係数の第１計算値と付着量を計算し
   、 次に、この付着量と前記選択元素含有率から被膜厚さを
   計算し、 更に、この被膜厚さと前記選択元素含有率から、下層元
   素の遮蔽係数の第２計算値を計算し、この遮蔽係数の第
   １計算値と第２計算値の差が、所要精度内で一致するま
   で、仮の元素含有率の選択を繰り返して、 両者が一致した時点の選択元素含有率、計算付着量及び
   計算被膜厚さを、それぞれ求めるべき元素含有率、付着
   量、被膜厚さとして同時決定することを特徴とする２層
   被膜の特性値定量方法。