CN1730641A - 清洗剂组合物 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种用于除去在透镜等的光学物品的研磨加工工序中使用的固定剂或保护膜的清洗剂用组合物，所述清洗剂用组合物不使用对环境以及人体产生影响的卤系溶剂、卤化碳系溶剂、芳香族系溶剂，对各种固定剂以及保护膜具有高的清洗力。所述清洗剂用组合物例如可以由二丙二醇单甲基醚或二丙二醇二甲基醚等的亚烷基二醇烷基醚75～25重量％以及环癸烷、环十一烷、环十二烷等的碳数10～15的环烷烃25～75重量％构成。

Description

清洗剂组合物
技术领域
本发明涉及一种用于除去在制造透镜或棱镜等光学物品时使用的固定剂或保护膜的清洗剂用组合物。
背景技术
在制造透镜等光学物品时，需要对玻璃基版等光学基材的表面进行研磨加工。在该研磨工序中，虽然是在将光学基材固定在保持台上进行研磨，但是在向保持台上固定时，要使用由石蜡、沥青等构成的固定剂。
另外，在研磨完一面后而对另一面进行研磨时，为了保护研磨完的面，要涂敷由酚系树脂或丙烯酸系树脂等构成的掩蔽剂而形成保护膜。此外，在研磨工序结束后，要使用清洗剂将这些固定剂或保护膜从光学基材上除去，将研磨完的光学基材转移到研磨剂除去工序等下一工序中。
以往作为这些固定剂或保护膜的清洗剂，一直使用氯系溶剂或卤化碳系溶剂。但是，近年来，发现这些溶剂引起臭氧层破坏或者地下水污染的问题，目前，除了在完全密闭系统使用之外，操作起来是很困难的。
近年来，作为它们的对策，提出了作为在光学物品制造中使用的清洗剂用组合物(1)配合二烷基二醇醚的组合物(参照特开平7-247499号公报)、(2)特定的醇与丙二醇单烷基醚或者二丙二醇单烷基醚的混合物(参照特开平9-25496号公报)、(3)将特定的芳香族化合物与脂肪族化合物以特定比例混合后的溶剂(参照特开平8-254602号公报)以及(4)异链烷烃系溶剂与二醇醚的混合物(参照特开2001-329296号公报)。
但是，所述(1)以及(2)的清洗剂组合物，对于沥青蜡的溶解性虽然很好，但是对于其他的沥青、树脂系保护膜的溶解除去性并不是很充分。另外，对于所述(3)的清洗剂，不仅只能溶解除去沥青以及部分树脂系保护膜，而且还存在芳香族系化合物对环境以及人体的影响以及有很强臭味的问题。此外，对于所述(4)的清洗剂，虽然对于沥青蜡、沥青等固定剂以及所有保护膜能够发挥大致良好的除去性能，但是不能说很充分，很难使其对沥青和保护膜双方都具有充分的清洗力。
发明内容
本发明的目的在于提供对石蜡的清洗力与前述(4)的清洗剂相同并且对沥青以及保护膜的清洗力得到进一步改善的清洗剂。
本发明的其它目的与优点通过以下说明可以更加明了。
本发明人等为了解决上述课题而进行了锐意的研究，结果发现在将亚烷基二醇烷基醚与环烷烃并用时，与并用亚烷基二醇烷基醚与异链烷烃时相比，对沥青以及保护膜的溶解性显著提高，可以达到所需目的，从而完成本发明。
即，本发明的上述目的以及优点，第1，可以通过下述清洗剂用组合物实现，所述第1清洗剂用组合物的特征在于，含有下式表示的亚烷基二醇烷基醚75～25重量％以及碳数10～15的环烷烃25～75重量％，
R1-(O-CnH2n)m-O-R2
(式中，R1是碳数1～4的烷基，R2是氢原子或碳数1～4的烷基，m是1～3的整数，n是2或3。)
本发明的上述目的以及优点，第2，可以通过以上述组合物为主成分的清洗剂实现。
本发明的上述目的以及优点，第3，可以通过下述的光学物品的制造方法实现，所述光学物品的制造方法的特征在于，包括：使用固定剂将至少具有两个主表面的光学基材固定在基材保持台上的基材固定工序，对固定在基材保持台上的所述光学基材的露出的主表面进行研磨的研磨工序，以及通过使用清洗剂除去所述固定剂而将研磨后的基材与基材保持台分离的基材分离工序，其中，作为所述清洗剂使用本发明的清洗剂。
另外，在本发明的上述制造方法中，在所述基材固定工序中，作为光学基材使用具有被保护膜被覆的至少一个主表面和没有被保护膜被覆的至少一个主表面的光学基材，在所述研磨工序中，研磨没有被保护膜被覆的至少一个主表面，在所述基材分离工序中，也可以与所述固定剂一起将所述保护膜除去。
具体实施方式
本发明的清洗剂用组合物，含有特定的亚烷基二醇烷基醚75～25重量％以及碳数10～15的环烷烃25～75重量％。通过使两者以特定的比例含有，产生协同效果，可以得到分别从单个的清洗力来看所意想不到的清洗力。具体来说，对于所述保护膜以及固定剂双方都可以获得高的清洗力。从清洗力高低观点来看，优选上述亚烷基二醇烷基醚的含有比例为70～30重量％，上述环烷烃的含有比例为30～70重量％。
本发明的组合物的第一成分即亚烷基二醇烷基醚，由下式表示。
R1-(O-CnH2n)m-O-R2
在上式中，R1是表示碳数1～4的烷基，R2是表示氢原子或碳数1～4的烷基。作为R1或R2的碳原子数1～4的烷基，可以举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、2-丁基以及叔丁基。另外，m是1～3的整数，n是2或3。
作为可以在本发明中优选使用的上述式所示的亚烷基二醇烷基醚，可以举出单丙二醇单甲基醚、二丙二醇单甲基醚、三丙二醇单甲基醚、单丙二醇单丙基醚、二丙二醇单丙基醚、三丙二醇单丙基醚、单丙二醇单丁基醚、二丙二醇单丁基醚、三丙二醇单丁基醚、单乙二醇单甲基醚、二甘醇单甲基醚、三甘醇单甲基醚、单乙二醇单丙基醚、二甘醇单丙基醚、三甘醇单丙基醚、单乙二醇单丁基醚、二甘醇单丁基醚、三甘醇单丁基醚等亚烷基二醇单烷基醚，丙二醇二甲基醚、二丙二醇二甲基醚、二甘醇甲基乙基醚、三甘醇二甲基醚、二甘醇二甲基醚、二甘醇二乙基醚等亚烷基二醇二烷基醚。这些亚烷基二醇烷基醚可以单独使用，也可以将多个不同种类混合使用。
从高清洗力与低毒性、容易操作的物性的观点来看，在它们中优选使用(1)选自由二丙二醇二甲基醚、二甘醇甲基乙基醚以及三甘醇二甲基醚构成的物质组中的至少一种亚烷基二醇二烷基醚，或者(2)所述(1)中的亚烷基二醇二烷基醚与选自由单丙二醇单甲基醚、二丙二醇单甲基醚、三丙二醇单甲基醚、单丙二醇单丙基醚、二丙二醇单丙基醚、三丙二醇单丙基醚、单丙二醇单丁基醚、二丙二醇单丁基醚以及三丙二醇单丁基醚构成的物质组中的至少一种亚烷基二醇单烷基醚之间的混合物。在所述(1)和(2)中，尤其优选二烷基醚的含有比例为30～100wt％的物质，其中特别优选由二丙二醇二甲基醚30～100wt％以及二丙二醇单甲基醚0～70wt％构成的物质。
作为本发明的组合物的第二成分的碳数10～15环烷烃，从能够使用简单的清洗装置的观点来看，优选沸点在180℃～250℃的碳数10～15的环烷烃。即便是环烷烃，在使用碳数低于10的环烷烃时，由于着火点低，在操作时必须注意，由于沸点低引起的挥发量的增加而恶化作业环境、或造成液体组成的变化也不能不考虑。另外，在使用碳数超过15的环烷烃时，污染物的除去能力降低。
若具体示例能够在本发明中优选使用的环烷烃，可以举出环癸烷、环十一烷、环十二烷等。它们可以单独使用，可以将多个不同种类混合使用。
本发明的清洗剂用组合物，如光学透镜的制造方法那样，在光学物品的的制造方法中，可以作为在基材分离工序中使用的清洗剂用组合物使用，所述光学物品的制造方法，包括使用固定剂将至少具有两个主表面的光学基材固定在基材保持台上的基材固定工序，对固定在基材保持台上的所述光学基材的露出的主表面进行研磨的研磨工序，以及通过使用清洗剂除去所述固定剂而将研磨后的基材与基材保持台分离的基材分离工序。
这里所谓光学基材，例如是成为光学透镜、棱镜等光学物品的材料的由玻璃、石英等透光性材料构成的基板或者块状部件(block)等。另外，作为固定剂，例如可以举出沥青蜡、沥青、松脂以及蜂蜡。另外，在上述分离工序中，为了使用清洗剂将研磨后的基材与基材保持台分离，将通过固定剂接合的基材以及基材保持台浸渍在导入清洗槽中的清洗剂中，也可以根据需要使用超声波进行清洗。本发明的清洗剂，由于对成为固定剂或保护膜的各种成分具有极高的清洗力，因此，在短时间内可以将两者彻底分离。
另外，在上述的光学物品的制造方法中，在光学物品象光学透镜或棱镜那样具有两个以上的研磨的面时，在研磨一面后而研磨另一面时，为了不损伤研磨完的面，通常用保护膜将研磨完的面被覆起来。此时，另一面的研磨也要经过上述的基材固定工序、研磨工序以及基材分离工序而进行，在所述基材分离工序中也可以与固定剂一起将保护膜除去。这里，所谓保护膜，例如是指涂敷掩蔽剂形成的由酚系树脂或丙烯酸系树脂构成的树脂膜。本发明的清洗剂，不仅对固定剂的清洗力高，对这种保护膜的清洗力也高。因此，在这种制造方法的基材分离工序中，可以将基材与基材保持台彻底分离的同时，也一并将保护膜除去。
在将本发明的清洗剂用组合物用作在上述基材分离工序中使用的清洗剂时，可以将本发明的清洗剂用组合物直接用作清洗剂，也可以使清洗剂中进一步含有用于提高清洗力的成分。作为这种成分，例如可以举出碳数10～15的环烷烃以外的烃系溶剂，醇、酮、醚等含氧有机溶剂，以及表面活性剂等。这些成分的添加量，不作特别限定，但是从能够充分发挥本发明的清洗用组合物的特性的观点来看，优选在整个清洗剂的10重量％以下、尤其优选在5重量％以下。另外，作为表面活性剂，可以使用非离子性表面活性剂、阴离子性表面活性剂、阳离子表面活性剂以及两性表面活性剂中任一种，但是优选使用疏水性强的表面活性剂。优选非离子表面活性剂，例如可以举出高级醇类的环氧烷加成物、烷基苯基醚的环氧烷加成物、脂肪酸的环氧烷加成物等。
以上，以在制造光学物品时使用的情况为例对本发明的清洗剂进行了说明，但是，本发明的清洗剂的用途并不限定于此，例如也可以很好地用作，对通过沥青、石蜡固定在夹具上而进行研磨的机械部件或者电子部件的研磨后的清洗剂，树脂涂敷用掩模、夹具类的清洗剂等同样用于污染物除去的清洗剂。
本发明的清洗剂用组合物，对在研磨工序中使用的固定剂以及掩蔽剂涂膜或保护膜的清洗性极高，可以在短的清洗时间内获得充分的清洗效果。因此，通过使用以本发明的组合物作为主成分的清洗剂，可以低成本并且高效地制造透镜等光学物品。
实施例
以下通过实施例对本发明进行进一步的详细说明，但是本发明并不局限于这些实施例。此外，各实施例以及比较例中使用的有机溶剂的缩写分别表示以下的化合物。
(1)亚烷基二醇烷基醚
单烷基醚
DPGME：二丙二醇单甲基醚
TPGME：三丙二醇单甲基醚
DPGPE：二丙二醇单丙基醚
PGME：丙二醇单甲基醚。
二烷基醚
DPGDME：二丙二醇二甲基醚
DEGMEE：二甘醇甲基乙基醚
TEGDME：三甘醇二甲基醚
(2)烃系溶剂
环烷烃
TPS-3200：株式会社德山制  环烷烃系烃清洗剂TPS-3200
          CnH2n  n＝11～13着火点74℃
异烷烃
TPS-1150：株式会社德山制  异烷烃系烃清洗剂TPS-1150
          CnH2n+2  n＝9～14着火点71℃
正烷烃
TPS-2250：株式会社德山制正烷烃系烃清洗剂TPS-2250
          CnH2n+2  n＝10～14着火点52.5℃。
参考例1
将九重研磨用沥青级别K级No.8(九重电气株式会社制)整形为直径6mm的按钮型，准备被固着的试料，测定被固着的沥青的重量，结果为56.2mg。接着，将该试料浸渍在保持在25℃的清洗剂(环烷烃系清洗剂TPS-3200株式会社德山制)20ml中20分钟。之后，取出该试料，使干燥，然后测定附着在玻璃板上的残存的沥青的重量，结果为17.1mg。从初期重量减去残存重量差，就是除去的沥青的重量，为39.1mg。
另外，通过目视观察试料浸渍中以及浸渍后的清洗液，未见沥青的剥离，为均匀的溶液。由此可以看出沥青全部是通过溶解而被去除的。
参考比较例1以及2
除了将清洗液替换为异烷烃系清洗剂TPS-1150(株式会社德山制)(参考比较例1)或者正烷烃系清洗剂TPS-2250(株式会社德山制)(参考比较例2)之外，其余的通过与参考例1同样的方式，计算出沥青的除去量。另外，通过目视观察了，在试料浸渍中是否引起了成形后的沥青的剥离。其结果如表1所示。
                                       表1
 No.   清洗剂   浸渍前重量   浸渍后残留重量   除去重量   除去类型
 参考例1   TPS-3200   56.2mg   17.1mg   39.1mg   溶解
 参考比较例1   TPS-1150   56.3mg   29.1mg   27.2mg   剥离
 参考比较例2   TPS-2250   56.1mg   31.0mg   25.1mg   剥离
如表1所示，碳数10～15的环烷烃对沥青的溶解力高。与此相对，使用异烷烃或正烷烃的参考比较例中的沥青的除去量，比参考例1少，在浸渍中也引起剥离。在这些参考比较例中，剥离后的沥青的粒子在周边浮游，在实际的清洗中有可能再附着在被清洗物上。
实施例1～3以及比较例1～6
对使用表2所示的各组成的清洗剂对各种除去对象物质[清洗对象物质：九重研磨用沥青级别K级No.8(九重电气株式会社制)(以下称为沥青K-8)、リセス石蜡(级别No.5九重电气株式会社制)(以下称为リセス石蜡)、シフト石蜡(5408R日化精工株式会社以下称为シフト石蜡)、保护膜LG#88ブラツク(カナエ涂料株式会社)(以下保护膜88)]的溶解性进行了评价。评价是通过在保持为25℃的各种清洗剂中加入少量的除去对象物质，目视观察确认静置5分钟后的溶解性来进行的。另外，除去对象物质为保护膜88时，使用了在评价用透镜上涂敷后干燥1天的保护膜。
评价结果表示在表2中。另外，表中的评价基准如下所示。
对于沥青K-8、リセス石蜡、シフト石蜡静置5分钟，
5：能够完全溶解
4：几乎全部溶解，仅残留少许
3：量减少了，但是完全残存(残存率低于50％)
2：量减少了，但是完全残存(残存率在50％以上)
1：几乎原样残存
对保护膜88静置5分钟后，
5：不用擦拭，可以全部除去
4：通过轻轻擦拭，可以完全除去
3：在擦拭后的透镜表面上残存有目视很难发现的极少保护膜
2：在擦拭后的透镜表面上残存有可以通过目视确认的少量的保护膜
1：除去不充分。
                                      表2
  No.   实施例1   实施例2   实施例3   比较例1   比较例2   比较例3   比较例4   比较例5   比较例6
  清洗剂组成   烃系溶剂   TPS-3200(重量％)   50   50   30   80   20
  TPS-1150(重量％)   50   80
  TPS-2250(重量％)   50   80
  亚烷基二醇二烷基醚   DPGDME(重量％)   30   30   30
  DEGMEE(重量％)   50   50   10   20   10   10
  亚烷基二醇单烷基醚   PGME(重量％)   10   10   10
  DPGME(重量％)   20   20   60   20   20
  溶解性   除去对象物质   沥青K-8   5   5   4   5   2   4   4   4   3
  リセス石蜡   4   4   4   1   1   4   4   1   1
  シフト石蜡   5   5   4   3   1   5   5   1   1
  保护膜88   5   5   5   1   3   2   2   1   1
如表2所示，在使用本发明的清洗剂的实施例1～3中，对于全部的除去对象物质均可以获得高的清洗力。与此相对，环烷烃的含有率超过本发明中特定的范围的比较高的情况(比较例1)中，对石蜡以及保护膜的清洗力降低。另外，对于环烷烃的含有率不在本发明的特定的范围的比较低的情况(比较例2)中，对于全部的清洗对象物质的清洗力都降低。此外，在使用环烷烃以外的烃系清洗剂的情况下，即使烃系清洗剂与亚烷基二醇醚的比例，以重量比计在25∶75～75∶25的范围内(比较例3和4)中，对保护膜的清洗量，与实施例相比也降低了。

Claims (4)

1.一种清洗剂用组合物，其特征在于，含有下式表示的亚烷基二醇烷基醚75～25重量％以及碳数10～15的环烷烃25～75重量％，
R1-(O-CnH2n)m-O-R2
式中，R1是碳数1～4的烷基，R2是氢原子或碳数1～4的烷基，m是1～3的整数，n是2或3。
2.一种以权利要求1中的组合物为主要成分的清洗剂。
3.一种光学物品的制造方法，包括：使用固定剂将至少具有两个主表面的光学基材固定在基材保持台上的基材固定工序，对固定在基材保持台上的所述光学基材的露出的主表面进行研磨的研磨工序，以及使用清洗剂通过除去所述固定剂而将研磨后的基材与基材保持台分离的基材分离工序，其特征在于，作为所述清洗剂使用权利要求2所述的清洗剂。
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，在所述基材固定工序中，作为光学基材使用具有被保护膜被覆的至少一个主表面和没有被保护膜被覆的至少一个主表面的光学基材，在所述研磨工序中，研磨没有被保护膜被覆的至少一个主表面，在所述基材分离工序中，与所述固定剂一起将所述保护膜除去。
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