CN1697856A - 光聚合组合物和由其制备的光聚合薄膜 - Google Patents
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 47
- -1 methacrylic compound Chemical class 0.000 claims abstract description 15
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims abstract description 12
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 claims abstract description 10
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 claims abstract description 10
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 29
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical group ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 12
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 10
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 10
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 6
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 6
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical group C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910005965 SO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 5
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 5
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 5
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 claims description 5
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N acridine Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3N=C21 DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N quinoxaline Chemical compound N1=CC=NC2=CC=CC=C21 XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 3
- 125000006376 (C3-C10) cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 claims description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000005466 alkylenyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 150000004646 arylidenes Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 229960001760 dimethyl sulfoxide Drugs 0.000 claims description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 claims description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 claims description 2
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 claims description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 claims description 2
- APSBXTVYXVQYAB-UHFFFAOYSA-M sodium docusate Chemical compound [Na+].CCCCC(CC)COC(=O)CC(S([O-])(=O)=O)C(=O)OCC(CC)CCCC APSBXTVYXVQYAB-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 claims description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 3
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 abstract 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 abstract 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 abstract 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 30
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 26
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 10
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 7
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- CEQFOVLGLXCDCX-WUKNDPDISA-N methyl red Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1\N=N\C1=CC=CC=C1C(O)=O CEQFOVLGLXCDCX-WUKNDPDISA-N 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 5
- CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N tert‐butyl hydroperoxide Chemical compound CC(C)(C)OO CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 4
- 238000001093 holography Methods 0.000 description 4
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 4
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 4
- CBXCPBUEXACCNR-UHFFFAOYSA-N tetraethylammonium Chemical compound CC[N+](CC)(CC)CC CBXCPBUEXACCNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RBTBFTRPCNLSDE-UHFFFAOYSA-N 3,7-bis(dimethylamino)phenothiazin-5-ium Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC2=[S+]C3=CC(N(C)C)=CC=C3N=C21 RBTBFTRPCNLSDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 3
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 229960000907 methylthioninium chloride Drugs 0.000 description 3
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N (4,7,7-trimethyl-3-bicyclo[2.2.1]heptanyl) prop-2-enoate Chemical compound C1CC2(C)C(OC(=O)C=C)CC1C2(C)C PSGCQDPCAWOCSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 2
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZMXJTJBSWOCQB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound COCCOCCOC(=O)C=C HZMXJTJBSWOCQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- MGADZUXDNSDTHW-UHFFFAOYSA-N 2H-pyran Chemical compound C1OC=CC=C1 MGADZUXDNSDTHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N Acrylic acid Chemical compound OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 125000003158 alcohol group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 1
- XZKRXPZXQLARHH-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-dienylbenzene Chemical compound C=CC=CC1=CC=CC=C1 XZKRXPZXQLARHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 1
- GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L cobalt dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Co+2] GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 229920002521 macromolecule Polymers 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical class CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- ZCYXXKJEDCHMGH-UHFFFAOYSA-N nonane Chemical compound CCCC[CH]CCCC ZCYXXKJEDCHMGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N normal nonane Natural products CCCCCCCCC BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000005375 organosiloxane group Chemical group 0.000 description 1
- ZCWKIFAQRXNZCH-UHFFFAOYSA-N perchloric acid;tetramethylazanium Chemical compound C[N+](C)(C)C.OCl(=O)(=O)=O ZCWKIFAQRXNZCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
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- C08L33/10—Homopolymers or copolymers of methacrylic acid esters
-
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Abstract
本发明的光聚合组合物包含特定的丙烯酰或甲基丙烯酰基化合物与粘合剂的组合,所述粘合剂是含硅氧烷前体的溶胶-凝胶溶液或透明聚合物树脂,所述光聚合组合物在光固化时可以提供具有改进的记录性质的光聚合薄膜。
Description
技术领域
本发明涉及光聚合组合物和从所述组合物制备的具有改进的记录性质的光聚合薄膜,所述光聚合薄膜在光固化时表现出低的收缩率和高的折射率变化。
背景技术
通过照射光实现化合物聚合的光化学聚合在多种应用中使用,包括油漆、印刷板、印制电路、存储电路、信息记录和电子设备。通过控制初期光(incipient light)的强度或波长来调节聚合速率和程度,从而这种聚合可以有利地用于温和条件下的快速聚合。
迄今,已经报道了多种光聚合组合物。举例来说,韩国专利申请第1992-4450、1991-17382、1991-1467、1990-3685、1989-10615和1988-11262号,以及美国专利申请第08/698142号公开了包含由醇与丙烯酸(acylic acid)或异丁烯酸(methacylic acid)反应制备的可聚合酯(例如二丙烯酸乙二醇酯)的光聚合组合物。
但是,以上可聚合组合物在光记录过程中给出相对大的薄膜收缩程度,从而难以解码储存在薄膜上的信息。
为了解决以上问题,通过在可聚合组合物中添加螺环化合物发泡剂,已经开发了一种补偿这种聚合收缩的技术(参阅[ExpandingMonomers:Synthesis.Characterization,and Applications(R.K.Sadhir和R.M.Luck,eds.,1992)1-25,237-260];[T.Takata和T.Endo,“Recent Advances in the Development of Expanding Monomers:Synthesis,Polymerization and Volume Change”,Prog.Polym.Sci.,Vol.18,1993,839-870];美国专利第6221536号)。但是,除了难以控制开螺环反应的速度以外,这种收缩补偿技术基于仅在边缘有效的部分相变化(参阅[C.Bolln等,“Synthesis and Photoinitiated CationicPolymerization of 2-methylene-7-phenyl-1,4,6,9-tetraoxaspiro[4,4]nonane”,Macromolecules,Vol.29,1996,3111-3116])。
美国专利第6268089号公开了一种用于全息术的光记录介质,其包含光固化单体和硅氧烷、钛、锗、锆、banadium或铝基有机-无机混合前体。但是,在加热聚合有机-无机混合前体期间,发生不期望的光固化单体聚合,这降低了光记录效率。
因此,本发明的发明人已经发现,通过组合包含在韩国专利申请第2002-43890号和韩国专利第357685号中公开的丙烯酰或甲基丙烯酰基化合物的光聚合组合物与特定的粘合剂和光敏引发剂,可以开发出在光固化时表现出低的收缩率和高的折射率变化的光聚合薄膜。
发明内容
因此,本发明的主要目的是提供在光固化时表现出低的收缩程度和高的折射率变化的光聚合组合物。
本发明的另一目的是提供从所述组合物制备的具有改进的记录性质的光聚合薄膜。
根据本发明的一个方面,提供了光聚合组合物,其包含1)式(I)的丙烯酰或甲基丙烯酰基化合物,2)粘合剂,其是从式(II)的硅氧烷前体获得的溶胶-凝胶溶液或或透明聚合树脂,以及3)光敏引发剂。
(I)
其中:
R1和R4各自独立地是氢或CH3;
R7是C1-10的烷基硫醚、苯基、
或X4是O、S、CH2或SCH2;X5是SCH3、OCH3或苯基;R8、R9、R10和R11各自独立地是H、C1-10烷基、C3-10环烷基、苯基、苄基或CF3;并且R12、R13、R14和R15各自独立地是C1-10亚烷基);
(II)
其中:
R和R′各自独立地是C1-10烷基或苯基;
R″是R或-(R-O)p-Y;
Y是R′、CF3、SO2CH3或
p是1~10范围内的整数;并且
m是0、1、2或3。
附图说明
结合附图,从本发明的以下说明,本发明的以上和其它目的及特征将变得清楚,附图分别显示:
图1:在实施例1中制备的光聚合薄膜上通过全息术形成的栅格测试图的光学显微照片。
图2:在实施例1中制备的光聚合薄膜上通过全息术形成的V字符的透射和衍射图像扫描显微照片。
具体实施方式
根据本发明的优选实施方案的光聚合组合物包含1)1~80重量%的式(I)的丙烯酰或甲基丙烯酰基化合物,2)19.99~98重量%的用作式(I)的化合物的基质(host)的粘合剂,所述粘合剂是从式(II)的硅氧烷前体制备的溶胶-凝胶溶液或或透明聚合树脂,以及3)0.01~10重量%的光敏引发剂。
本发明中使用的式(I)的化合物是起记录图像作用,并且具有在光聚合时经历大的折射率变化但小的体积变化的优点的光聚合单体。式(I)的化合物可以韩国专利申请第2002-43890号和韩国专利第357685号中公开的方法制备,这两篇文献引入本文作参考。
本发明中使用的粘合剂是从包含式(II)的硅氧烷前体的组合物制备的溶胶-凝胶溶液或透明聚合树脂。这种溶胶-凝胶溶液可以通过韩国专利第212534号中公开的方法制备。具体地说,在室温下将2~80重量%的式(II)的硅氧烷前体、2~80重量%的四烷氧基硅烷、0.01~30重量%的盐酸和0.1~80重量%的有机溶剂的混合物搅拌1~10天,随后在30~70℃的温度下搅拌1~10天,然后,减压浓缩所得的溶液。以上反应可以在双官能团或三官能团有机烷氧基硅烷,如三乙氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷(GPTMS)、甲基三乙氧基硅烷和苯基三甲氧基硅烷;有机硅氧烷低聚物片;或碱性催化剂,如有机酸(例如乙酸、三氟乙酸)、吡啶、4-(N,N-二甲基氨基吡啶)和二氯化钴的存在下进行。
可以用作粘合剂的代表性透明聚合树脂包括聚烯烃、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚氨酯、聚砜、聚丙烯酸酯和它们的混合物。为了增强树脂的溶解性,可以使用选自氯仿、二氯甲烷、四氢呋喃、N-甲基吡咯烷酮、甲基亚砜、N,N-二甲基乙酰胺、二噁烷、醇类(例如甲醇、乙醇)、苯、乙二醇二甲醚、乙腈和水的至少一种溶剂,基于1重量份聚合树脂,溶剂的用量为1~100重量份。
本发明中使用的光敏引发剂是通过照射光的作用产生自由基或阳离子的反应引发剂,并且可以是选自Irgacure 184、Irgacure 784、金属茂催化剂、Darocure、吖啶、吩嗪、喹喔啉和它们的混合物的一种。
本发明的透明光聚合组合物可以通过在室温下混合丙烯酰或甲基丙烯酰基化合物、溶胶-凝胶溶液或透明聚合树脂和光敏引发剂,接着过滤来制备。
本发明的组合物可以包含作为共聚单体的选自2-萘基-1-氧乙基丙烯酸酯(2-naphtyl-1-oxyethylacrylate)、2-(N-咔唑基-1-氧乙基)丙烯酸酯、N-乙烯基咔唑、丙烯酸异冰片酯(isobonylacrylate)、丙烯酸苯氧基乙酯、二甘醇一甲醚丙烯酸酯、二甘醇二碳酸酯、烯丙基单体、α-甲基苯乙烯、苯乙烯、二乙烯基苯、聚乙烯羟基甲基丙烯酸酯(polyethylene oxymethacrylate)、聚乙烯羟基丙烯酸酯(polyethyleneoxyacrylate)、聚乙烯羟基二丙烯酸酯、三丙烯酸亚烃酯(alkylenetriacrylate)和它们的混合物。
另外,本发明的组合物可以进一步包含基于组合物总量,0.01~20重量%的光敏引发剂。示例性光敏引发剂可以包括蒽、苝(pherylene)、甲基红、甲基橙、亚甲基蓝、吡喃衍生物、吖啶化和物、一、二或三卤甲基取代的三嗪、喹唑酮和它们的混合物。
此外,如果需要,本发明的组合物可以包含发泡剂、层相硅酸盐、抗氧化剂、染料、油漆、润滑剂、聚合催化剂、紫外线吸收剂、抗着色剂(coloring resistant)等。
根据本发明,透明光聚合薄膜可以通过在基材(如玻璃板、ITO薄膜、硅片)上涂布(例如旋涂、棒涂)本发明的组合物,并将涂层在室温至130℃下干燥30分钟至14天来制备。光聚合薄膜可以具有0.0001~30毫米的厚度。
当通过UV或可见光照射而聚合时,本发明的光聚合薄膜表现出高的折射率变化和低的收缩率,从而可能有效记录信号,并且可能可靠地解码所记录的信号。另外,当光固化时,由于从有机前体形成的硅氧烷聚合物基质,本发明的光聚合薄膜表现出增强的机械性质。
本发明的光聚合组合物和薄膜用于多种应用,包括全息系统、用于显示器的活动图像系统、使用体积全息照相的光分离器、光学头装置、液晶显示器、多级光栅、印刷排版、光敏和抗蚀薄膜、信息记录薄膜和光滤波器。
以下制备和实施例仅出于说明目的给出,它们不欲限制本发明的范围。
1)收缩
通过用532纳米的激光将薄膜的一部分照射5分钟,并用α-步测量薄膜厚度的变化来确定样品薄膜的收缩程度,或者简单地说收缩率。
2)衍射效率
通过测量由532纳米激光以20度入射角照射形成的全息图的衍射强度和透射强度来确定样品薄膜的衍射效率。
<溶胶-凝胶溶液的制备>
制备例1
将15克3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷(GPTMS)、12.78克四乙氧基硅烷(TEOS)、8.36克甲基三甲氧基硅烷(MTMS)和9.17克式(II-a)的化合物溶解在20毫升2-甲氧基乙醇和20毫升异丙醇中。在70℃下向混合溶液中缓慢加入5毫升0.5N的盐酸,并在氮气氛下搅拌24小时。真空蒸发反应混合物,得到33.53克透明有机-无机混合型溶胶-凝胶溶液。在剧烈搅拌下向其中加入0.168克高氯酸四乙铵和0.0168克Byk301,并且过滤通过0.45微米滤器,得到透明溶胶-凝胶溶液。
制备例2
将15克GPTMS、12.78克四甲氧基硅烷(TEOS)、8.36克苯基三甲氧基硅烷和12克式(II-b)的化合物溶解在20毫升2-甲氧基乙醇和20毫升异丙醇中。在70℃下向混合溶液中缓慢加入6毫升0.5N的盐酸,并在氮气氛下搅拌10小时。真空蒸发反应混合物,得到35克透明有机-无机混合型溶胶-凝胶溶液。在剧烈搅拌下向其中加入0.2克高氯酸四甲铵,并过滤通过0.45微米滤器,得到透明溶胶-凝胶溶液。
制备例3~5
使用表1中所示的反应物和硅氧烷前体重复制备例1的程序,得到透明溶胶-凝胶溶液。
表1
制备号 | 硅氧烷前体(克) | 其它反应物(克) | 蒸发后重量 |
3 | 化合物(II-a)(10) | GPTMS(15)、TEOS(12.7)、MTMS(8.3)、2-甲氧基乙醇(20毫升)、异丙醇(20毫升)、0.5N盐酸(5毫升)、高氯酸四乙铵(0.168克)、Byk301(0.168克) | 32克 |
4 | 化合物(II-c)(9.2) | GPTMS(15)、TEOS(12.7)、MTMS(8.3)、2-甲氧基乙醇(20毫升)、乙醇(10)、TNF(10)、0.5N盐酸(5毫升)、高氯酸四乙铵(0.11克)、Byk301(0.168克)、四丁基铵(0.08克) | 35克 |
5 | 化合物(II-d)(10) | GPTMS(15)、TEOS(12.7)、MTMS(8.3)、2-甲氧基乙醇(20毫升)、异丙醇(20毫升)、0.5N盐酸(5毫升)、高氯酸四乙铵(0.168克)、Byk301(0.168克) | 37克 |
(CH3CH2O)3-Si-(CH2)3-NH-CO2-(CH2CH2O)7~8-CH3 (II-a)
(CH3O)3-Si-(CH2)3-NH-CO2-(CH2CH2O)7~8-CH3 (II-b)
(CH3CH2O)3-Si-(CH2)3-NHCO2-(CH2CH2O)3-CH2CH3 (II-c)
(CH3CH2O)3-Si-(CH2)3-NHCO2-(CH2CH2O)3-SO2CH3 (II-d)
<本发明的光聚合组合物和薄膜的制备>
实施例1
将1.34克式(I-a)的芳族甲基丙烯酸酯溶解在2克制备例1中获得的溶胶-凝胶溶液中,并在搅拌下向其中加入0.026克Irgacure 784和0.0052克叔丁基氢过氧化物(tertiary butylhydroperoxide)。所得黄色混合物过滤通过0.45微米滤器,得到透明光聚合组合物。
然后,将这样获得的光聚合组合物涂布在玻璃板的表面上,并在70℃下干燥48小时,制备200微米厚且透明的光聚合薄膜。
这样获得的薄膜表现出0.9%的低收缩率和70%的高衍射效率。在其上通过全息术形成的栅格测试图的光学显微照片如图1所示,并且V字符的透射和衍射图像扫描显微照片如图2所示。
实施例2
将15克聚砜和10克式(I-a)的芳族甲基丙烯酸酯放在反应容器中,并在搅拌下向其中加入40克氯仿、20克三氯乙烷和0.2克Irgacure784。所得黄色混合物过滤通过0.45微米滤器,得到透明光聚合组合物。
然后,将获得的光聚合组合物涂布在玻璃板的表面上,并在50℃下干燥1小时,制备200微米厚且透明的光聚合薄膜。
这样获得的薄膜表现出1.5%的低收缩率和75%的高衍射效率。
实施例3
将1.34克式(I-a)的芳族甲基丙烯酸酯和0.33克9-乙烯基咔唑溶解在2克制备例2中获得的溶胶-凝胶溶液中,并在搅拌下向其中加入0.034克Irgacure 784、0.0001克亚甲基兰和0.0068克叔丁基氢过氧化物。所得带红色的黄色混合物过滤通过0.45微米滤器,得到透明光聚合组合物。
然后,将这样获得的光聚合组合物涂布在玻璃板的表面上,并在50℃下干燥10小时,制备1毫米厚且透明的光聚合薄膜。
这样获得的薄膜表现出0.6%的低收缩率和65%的高衍射效率。
实施例4
除了使用1-乙烯基-2-吡咯烷酮代替9-乙烯基咔唑以外,重复实施例3的程序,制备1毫米厚的透明光聚合薄膜。
这样获得的薄膜表现出0.7%的低收缩率和50%的高衍射效率。
实施例5~15
重复实施例1或2的程序,同时按照表2所示改变组分和薄膜生产条件,制备各种透明光聚合组合物和薄膜。这样获得的薄膜的特征如表2表示。
表2
实施例号 | 组分(克) | 薄膜生产条件:方法/℃/时间 | 厚度(毫米) | 收缩率(%) | 衍射效率(%) |
5 | (5)化合物(I-a)(1)、(1)PMMA(1.5)、氯仿(4)、(2)TCE(2)、Irgacure 784(0.02)、甲基红(0.0002) | 实施例2/40/4 | 10.15 | 1.5 | 60 |
6 | (5)化合物(I-a)(1)、PMMA(1.5)、氯仿(4)、(2)TCE(2)、Irgacure 784(0.02) | 实施例2/50/2 | 0.1 | 1.2 | 60 |
7 | (5)化合物(I-a)(0.8)、2-萘基-1-氧乙基丙烯酸酯(0.2)、聚砜(1.5)、氯仿(4)、(2)TCE(2)、Irgacure 784(0.02) | 实施例2/60/1 | 0.3 | 0.6 | 70 |
8 | (5)化合物(I-a)(0.9)、N-乙烯基咔唑(0.1)、聚砜(1.5)、氯仿(4)、(2)TCE(2)、Irgacure 784(0.02) | 实施例2/40/4 | 0.2 | 0.5 | 70 |
9 | (5)化合物(I-a)(0.9)、N-乙烯基咔唑(0.1)、制备例2的溶胶-凝胶溶液(1.5)、Irgacure784(0.02)、甲基红(0.0002) | 实施例1/70/24 | 1 | 0.5 | 70 |
10 | (5)化合物(I-b)(2)、N-乙烯基咔唑(0.1)、制备例2的溶胶-凝胶溶液(1.5)、Irgacure 784(0.02) | 实施例1/80/48 | 1 | 0.3 | 65 |
11 | (5)化合物(I-c)(0.9)、N-乙烯基咔唑(0.1)、(4)IA(0.1)、制备例3的溶胶-凝胶溶液(1.5)、Irgacure 784(0.02)、亚甲基兰(0.0002) | 实施例1/70/24 | 0.5 | 0.7 | 80 |
12 | (5)化合物(I-d)(0.9)、N-乙烯基咔唑(0.1)、制备例4的溶胶-凝胶溶液(1.5)、Irgacure784(0.02)、甲基红(0.0002) | 实施例1/60/72 | 0.5 | 0.6 | 75 |
13 | (5)化合物(I-e)(1)、(3)NVA(0.1)、制备例1的溶胶-凝胶溶液(2)、Irgacure 184(0.01)、Irgacure 784(0.01)、甲基红(0.0001) | 实施例1/70/32 | 0.5 | 0.6 | 80 |
14 | (5)化合物(I-f)(0.9)、制备例5的溶胶-凝胶溶液(2)、Irgacure184(0.01)、Irgacure 784(0.01) | 实施例1/100/120 | 0.2 | 0.5 | 70 |
15 | (5)化合物(I-a)(0.8)、制备例3的溶胶-凝胶溶液(2)、Irgacure184(0.01)、Irgacure 784(0.02) | 实施例1/80/60 | 0.2 | 0.3 | 98 |
脚注:
(1)PMMA:聚甲基丙烯酸甲酯,
(2)TCE:三氯乙烷,
(3)NVA:2-(N-咔唑基-1-氧乙基)丙烯酸酯,
(4)IA:丙烯酸异冰片酯,及
(5)化合物(I-a)~(I-f):(由韩国专利申请第2002-43890号和韩国专利第357685号公开的方法制备)
(I-a)
(I-b)
(I-c)
(I-e)
(I-f)
如表2中所示,本发明的光聚合组合物可以提供具有改进的记录性质的光聚合薄膜,所述光聚合薄膜在光固化时表现出低的收缩率值和高的折射率变化。
尽管本发明已经就具体实施方案进行了描述,但应当领会,本领域技术人员可以对本发明做出各种修饰和改变,它们也落在由所附权利要求定义的本发明的范围内。
Claims (8)
1、光聚合组合物,其包含1)式(I)的丙烯酰或甲基丙烯酰基化合物,2)粘合剂,其是从式(II)的硅氧烷前体获得的溶胶-凝胶溶液或透明聚合树脂,以及3)光敏引发剂:
其中:
R1和R4各自独立地是氢或CH3;
R2和R3各自独立地是R5或
(R5和R6各自独立地是C1-10亚烷基、亚芳基、-OCH2CH2-、-SCH2CH2-或
并且n是1~10范围内的整数);并且
X1是O、S、SO2、或
(X2和X3各自独立地是O或S;R7是C1-10的烷基硫醚、苯基、或
X4是O、S、CH2或SCH2;X5是SCH3、OCH3或苯基;R8、R9、R10和R11各自独立地是H、C1-10烷基、C3-10环烷基、苯基、苄基或CF3;并且R12、R13、R14和R15各自独立地是C1-10亚烷基);
其中:
R和R′各自独立地是C1-10烷基或苯基;
R″是R或-(R-O)p-Y;
Y是R′、CF3、SO2CH3或
p是1~10范围内的整数;并且
m是0、1、2或3。
2、权利要求1的光聚合组合物,其包含1~80重量%的组分1),19.99~98重量%的组分2)和0.01~10重量%的组分3)。
3、权利要求1的光聚合组合物,其中溶胶-凝胶溶液通过在碱性催化剂存在下的式(II)的硅氧烷前体与四烷氧基硅烷的溶胶-凝胶反应来制备。
4、权利要求1的光聚合组合物,其中透明聚合树脂选自聚烯烃、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚氨酯、聚砜、聚丙烯酸酯和它们的混合物。
5、权利要求1的光聚合组合物,其包含透明聚合树脂作为粘合剂,并且进一步包含选自氯仿、二氯甲烷、四氢呋喃、N-甲基吡咯烷酮、甲基亚砜、N,N-二甲基乙酰胺、二噁烷、醇类、苯、乙二醇二甲醚、乙腈和水的至少一种溶剂。
6、权利要求1的光聚合组合物,其中光敏引发剂选自Irgacure184、Irgacure 784、金属茂催化剂、Darocure、吖啶、吩嗪、喹喔啉和它们的混合物。
7、光聚合薄膜,其通过将权利要求1的组合物涂布到基材上,并在室温至130℃下将涂层干燥30分钟至14天而制备。
8、通过用光照射权利要求7的薄膜的一部分或全部而获得的光学产品。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020030001654 | 2003-01-10 | ||
KR10-2003-0001654A KR100523295B1 (ko) | 2003-01-10 | 2003-01-10 | 광중합성 조성물 및 이로부터 제조된 광중합성 막 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN1697856A true CN1697856A (zh) | 2005-11-16 |
Family
ID=36165457
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CNA200480000130XA Pending CN1697856A (zh) | 2003-01-10 | 2004-01-10 | 光聚合组合物和由其制备的光聚合薄膜 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20050101687A1 (zh) |
EP (1) | EP1594921A4 (zh) |
JP (1) | JP2006510798A (zh) |
KR (1) | KR100523295B1 (zh) |
CN (1) | CN1697856A (zh) |
CA (1) | CA2478719A1 (zh) |
WO (1) | WO2004063275A1 (zh) |
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-
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- 2003-01-10 KR KR10-2003-0001654A patent/KR100523295B1/ko not_active IP Right Cessation
-
2004
- 2004-01-10 EP EP04701311A patent/EP1594921A4/en not_active Withdrawn
- 2004-01-10 CA CA002478719A patent/CA2478719A1/en not_active Abandoned
- 2004-01-10 US US10/507,933 patent/US20050101687A1/en not_active Abandoned
- 2004-01-10 CN CNA200480000130XA patent/CN1697856A/zh active Pending
- 2004-01-10 JP JP2005507694A patent/JP2006510798A/ja active Pending
- 2004-01-10 WO PCT/KR2004/000030 patent/WO2004063275A1/en not_active Application Discontinuation
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2004063275A1 (en) | 2004-07-29 |
CA2478719A1 (en) | 2004-07-29 |
EP1594921A1 (en) | 2005-11-16 |
EP1594921A4 (en) | 2006-03-29 |
US20050101687A1 (en) | 2005-05-12 |
JP2006510798A (ja) | 2006-03-30 |
KR20040064798A (ko) | 2004-07-21 |
KR100523295B1 (ko) | 2005-10-24 |
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Legal Events
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---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |