CN1688932A - 掩模图形修正法 - Google Patents

Abstract

一种修正掩模图形的方法，它能容易地删除图形线宽修正后产生的微小段差。此方法包括一个确定含有角落的图形的放大尺寸图与移动图形边缘形成的临时区域之间的差别的步骤；一个从该差别中选取一条不接触经过线宽修正的图形的边缘(一条规定一个区域的边缘)的步骤；一个形成以该规定区域的边缘为一边的矩形的步骤；以及一个从该差别删除此矩形以获得一个填充上述微小段差的图形的步骤。

Description

掩模图形修正法

技术领域

本发明涉及用于光刻的掩模图形的修正方法。

技术背景

近年来对半导体器件小型化的需求不断增强。目前设计规划已达到光刻曝光波长的1/2以下。现在的注意力集中在电子束光刻上，因为光刻技术可以实现器件进一化小型化。

随着图形的小型化，产生了掩模上的图形和实际转移的图形不相同的问题(邻近效应)。为减小邻近效应的影响，要对图形进行邻近效应修正。邻近效应修正的一种形式是线宽修正。

广泛使用的线宽修正是掩模图形数据处理，它根据互连线的线宽及该互连线和相邻互连线间的距离，将每条互连线的线宽精确地调节一个原先规定的偏移量。具体地说，它所进行的图形操作包括选取一个满足线宽和距离两个条件的图形边缘(下面也称为一个“边缘”)，并让该边缘相对于那个边缘在垂直方向精确偏移规定的量。在实施线宽修正之前和之后的边缘成为彼此平行的。

但是在按上所述根据线宽和互连线间的距离进行线宽修正时，将形成一个凹陷部或一个凸出部，它具有与修正量相同范围的阶梯状差。例如，如图1所示，当在图形I的90度角处相邻两边上的修正量a和b彼此不同时，将在该角落处产生一个凹陷部D(圆圈包围的部分)。

当角落的角度不是90度时，由于线宽修正将在此角落部分产生一个凹陷部或凸出部。例如，如图2所示，在图形II的135度角落处，将在修正图形C1和C2之间产生一个具有45度角的凹陷部D(圆圈包围的部分)。

此外，如图3所示，在图形III的225度的角落处，将在图形C1和C2间产生一个具有45度角的凹陷部D(圆圈包围的部分)。

如图4所示，当通过图形IV的135度角落把修正图形C加到彼此相邻的两边之一上时，则在该角落处产生一个凸出部P(圆圈包围的部分)。

另一方面，当相邻的互连线不平行时(如图5A所示)，各互连线之间的距离连续变化。修正量由多段最小格子按断续方式确定。因此，即使修正图形的修正量连续变化，在掩模上实际形成的图形中(见图5B)，将产生一个由组合矩形图形构成的阶梯形修正图形。也就是说，对于线宽和互连线间的距离处在预定范围内的每一部分将施加一个均匀的修正量。

如上所述，若进行线宽修正处理，则在图形角落处将产生一个凹陷部或凸出部，或者在一个按斜线方向伸展的图形上产生一个阶梯形修正图形。当存在这样一个凹陷部或凸出部或阶梯形图形时，掩模数据的图形量将增加，同时数据转换时间和在掩模上画制图形的画制时间变得很长。

另外，还有一个问题，即由修正图形产生的一个很小的凹陷部，凸出部，或阶梯形图形在掩模的出错检验中将被错误地认作一个错误。由于这样一个假错误，检测错误所需的时间将很长，甚至有时要中止出错检测。

作为删除凹陷部，凸出部，或其它细小阶梯差的方法，可以把图形放大一个超过最大修正量的常数(扩大尺寸)以掩盖阶梯差，然后减小图形(缩小尺寸)，或者反过来先缩小尺寸，然后扩大尺寸。

虽然可以按照这些方法将阶梯差掩盖起来，但当在角落附近各边上的修正量不相同时(例如图1中的修正量a和b)，将出现阶梯差缩小尺寸后修正量要改变的问题，而且由于修正量改变，图形的外形(形貌)将要变化。修正量的变化将影响到对邻近效应的修正。

此外，为了在短时间内准备和画制掩模图形，可以利用一个配备给掩模光刻系统等的通用图形处理设备来作出线宽修正后所需的图形。

发明内容

本发明是针对以上问题而提出的。因此，本发明的一个目的是提供一种掩模图形修正方法，它能很容易地删除在图形线宽修正后产生的细小阶梯差。

为了达到上述目的，本发明提供的修正含有角落(此处沿第一方向伸展的第一图形和沿第二方向伸展的第二图形是彼此相邻的，并构成一个预定角度α°)的掩模图形的掩模图形修正方法包括以下步骤：一个步骤是使包含沿第一图形的第一方向伸展并处于该角落外面的一个图形边缘的第一图形边缘，沿垂直于第一方向的第三方向平行移动一个第一修正量，以制备第一修正图形，该第一修正图形让第一图形有一个在使该第一图形边缘平行移动此第一修正量之前和之后的第一图形边缘之间的线宽增加；一个步骤是使包含沿第二图形的第二方向伸展并处于该角落外面且与第一图形边缘相邻的一个图形边缘的第二图形边缘，沿垂直于第二方向的第四方向平行移动一个第二修正量，以制备第二修正图形，该第二修正图形让第二图形有一个在使该第二图形边缘平行移动此第二修正量之前和之后的第二图形边缘之间的线宽增加；一个步骤是放大由结合的第一图形和第二图形组成的图形，以准备一个放大的图形，这一步骤将图形放大，使得第一修正量和第二修正量中的较大者与第一图形在第三方向的移动量匹配，且与第二图形在第四方向的移动量匹配；一个步骤是使第一图形边缘沿第三方向平行移动此较大的修正量，以在使第一图形边缘平行移动该较大的修正量之前和之后的第一图形边缘之间制备一个第一临时区域；一个步骤是使第二图形边缘沿第四方向平行移动此较大的修正量，以在使第二图形边缘平行移动该较大的修正量之前和之后的第二图形边缘之间制备一个第二临时区域；一个步骤是从放大的图形中除去第一临时区和第二临时区，以制备一个阶梯差掩盖图形；一个步骤是从阶梯差掩盖图形的所有图形边缘中除去最外面的周边，并进而除去第一修正图形的图形边缘和第二修正图形的图形边缘，以选取一个区域标志边缘；一个步骤是使该区域标志边缘沿垂直于区域标志边缘方向朝阶梯差掩盖图形内部平行移动此较大的修正量，以在使区域标志边缘平行移动该较大修正量之前和之后的区域标志边缘之间制备一个删除区；还有一个步骤是从阶梯差掩盖图形中删除该删除区，并将从中删除该删除区的阶梯差掩盖图形和第一修正图形及第二修正图形加到第一图形和第二图形中去。

在本发明的掩模图形修正方法中，最好让放大图形的步骤通过扩大第一和/或第二图形的尺寸来进行。

或者最好是让制备第一和/或第二临时区域的步骤通过扩大第一和/或第二图形的尺寸来进行。

或者最好是让除去第一和/或第二临时区域的步骤通过缩小第一和/或第二图形的尺寸来进行。

或者最好是第一和第二修正图形的修正量彼此不一样。

或者最好是，最外面的周边是沿第一方向延伸的第一临时区边缘上的线段的一部分，和沿第二方向延伸的第二临时区边缘上的线段的一部分。

或者最好是，较大的修正量是第一修正量或第二修正量中的最大修正量。

或者最好是，预定角度α°是90≤α°≤180。

或者，为达到上述目的，本发明的掩模图形修正法提供一种修正包含一个角落的掩模图形的方法，在该角落处沿第一方向伸展的第一图形和沿第二方向伸展的第二图形彼此邻接并构成一个预定角α°，该方法包括以下步骤：一个步骤是使包含沿第一图形的第一方向伸展并处于该角落内部的一个图形边缘的第一图形边缘，沿垂直于第一方向的第三方向平行移动一个第一修正量，以准备第一修正图形，该第一修正图形让第一图形有一个在使该第一图形边缘平行移动此第一修正量之前和之后的第一图形边缘之间的线宽增加；一个步骤是使包含沿第二图形的第二方向伸展并处于该角落内部且与第一图形边缘相邻的一个图形边缘的第二图形边缘，沿垂直于第二方向的第四方向平行移动一个第二修正量，以准备第二修正图形，该第二修正图形让第二图形有一个在使该第二图形边缘平行移动此第二修正量之前和之后的第二图形边缘之间的线宽增加；一个从第一修正图形的图形边缘和第二修正图形的图形边缘中选取长度不大于第一修正量和第二修正量中较大的修正量，而且在一端为90度和在另一端为450-α°的区域标志边缘的步骤；一个制备以该区域标志边缘为一条边的正方形的步骤，使得包含区域标志边缘的修正图形不重叠；一个在正方形中的正方形部分内选取边缘且不使正方形的任意边与第一修正图形的图形边缘和第二修正图形的图形边缘重叠的步骤；以及一个将被邻近区域标志边缘的另一正方形边，该区域标志边缘和正方形内的边缘包围的三角形图形，第一修正图形，和第二修正图形加到第一图形和第二图形上的步骤。

在本发明的掩模图形修正方法中，最好把制备第一和/或第二修正图形的步骤通过扩大第一和/或第二图形尺寸来进行。

或者最好是，在制备正方形的步骤之前，将第一修正图形和/或第二修正图形的尺寸缩小。

或者最好是，让第一修正图形的修正量和第二修正图形的修正量彼此不相同。

或者最好是，较大的修正量是第一修正量或第二修正量中的最大修正量。

或者最好是，预定角度α°是90≤α°≤180。

为了达到上述目的，本发明的掩模图形修正方法提供的修正含有角落(此处沿第一方向伸展的第一图形和沿第二方向伸展的第二图形是彼此相邻的，并构成一个预定角度α°)的掩模图形的方法包括以下步骤：一个步骤是使包含沿第一图形的第一方向伸展并处于该角落外面的一个图形边缘的第一图形边缘，沿垂直于第一方向的第三方向平行移动一个预定修正量，以准备第一修正图，该第一修正图形让第一图形有一个在使该第一图形边缘平行移动此预定修正量之前和之后的第一图形边缘之间的线宽增加；一个从修正图形的各图形边缘选取长度不大于预定修正量并在一端为90度角和在另一端为α°+90度角的区域标志边缘的步骤；一个制备以区域标志边缘为一边的正方形以覆盖该修正图形的步骤；一个从除第一图形边缘以外的修正图形的各图形边缘中选取与正方形的边重叠的正方形上的边缘的步骤；一个制备以区域标志边缘和正方形上的边缘为两条边的三角形图形的步骤；以及一个从修正图形中删除三角形图形并将已从中删除三角形图形的修正图形加到第一图形的步骤。

在本发明的掩模图形修正方法中，制备修正图形的步骤最好通过扩大第一图形的尺寸来进行。

或者最好是，在制备正方形的步骤之前将修正图形的尺寸缩小。

或者最好是，预定角度α°处于90≤α°≤180。

为达到上述目的，本发明的掩模图形修正法也可以提供一种修正包含沿第一方向伸展的第一图形和沿第二方向伸展的第二图形的掩模图形的方法，此方法包括以下步骤：将包含沿第一图形的第一方向伸展的一个图形边缘和处于第二图形边上的第一图形边缘划分为一些区段的步骤；一个根据离第二图形距离使每一个划分出的区段沿垂直于第一方向的第三方向平行移动一个修正量的步骤，以制备修正图形，该修正图形让第一图形有一个在使该区段平行移动之前和之后的区段间的线宽增加；一个从修正图形各图形边缘选取长度短于沿第三方向伸展的最大修正量的第一区域标志边缘的步骤；一个使每个第一区域标志边缘沿第一方向朝着修正图形内部平行移动区段长度最小值的步骤，以在使第一区域标志边缘平行移动之前和之后的第一区域标志边缘之间制备第一矩形区；一个从修正图形各图形边缘选取一些长度短于沿第一方向伸展的区段长度最小值的第二区域标志边缘的步骤；一个使每个第二区域标志边缘沿第三方向朝着修正图形内部平行移动最大修正量的步骤，以在使该第二区域标志边缘平行移动之前或之后的第二区域标志边缘之间制备一个第二矩形区；一个从修正图形中删除第一矩形区和第二矩形区的重叠部分的步骤；以及重复选取第一区域标志边缘，制备第一矩形区，选取第二区域标志边缘，制备第二矩形区，直至不再有任何第二区域标志边缘的步骤。

这样，通过一个通用图形处理设备的处理对掩模图形进行线宽修正以减小邻近效应之后，可以删除在图形角落等处产生的细小阶梯差和阶梯形状。按照本发明的掩模图形修正方法，可以防止掩模图形中产生的细小阶梯差在掩模的出错检测中成为伪误差。另外，通过删除这种细小的阶梯差，可以减少数据处理量并加快掩模图形绘制等的速度。

附图说明

图1表示修正图形线宽后产生的细小阶梯差。

图2表示修正图形线宽后产生的细小阶梯差。

图3表示修正图形线宽后产生的细小阶梯差。

图4表示修正图形线宽后产生的细小阶梯差。

图5A和5B表示按照一个传统实例和本发明的实施例5进行掩模图形修正的方法的各个步骤。

图6A至6C表示按本发明实施例1进行掩模图形修正的方法的各个步骤。

图7A至7D表示按本发明实施例1进行掩模图形修正的方法的各个步骤。

图8A至8C表示按本发明实施例2进行掩模图形修正的方法的各个步骤。

图9A至9C表示按本发明实施例2进行掩模图形修正的方法的各个步骤。

图10表示按本发明实施例2进行掩模图形修正的方法的一个步骤。

图11A至11C表示按本发明实施例3进行掩模图形修正的方法的各个步骤。

图12A至12C表示按本发明实施例3进行掩模图形修正的方法的各个步骤。

图13A至13C表示按本发明实施例4进行掩模图形修正的方法的各个步骤。

图14A至14C表示按本发明实施例4进行掩模图形修正的方法的各个步骤。

图15A至15D表示按本发明实施例5进行掩模图形修正的方法的各个步骤。

图16A至16C表示按本发明实施例5进行掩模图形修正的方法的各个步骤。

实施本发明的最佳模式

下面参照附图说明本发明的掩模图形修正方法的各种实施例。本发明的掩模图形修正方法包括一个对制备好的掩模图形进行线宽修正的步骤，然后删除在图形角落等处产生的细小阶梯差。

在以下的实施例1至5中，将对删除细小阶梯差的方法的具体实例加以说明。在每个实施例中，最大修正量用MAX(偏差)代表。MAX(偏差)是在直角方向相对于图形边缘的图形边缘偏移量的最大值(修正量)。另外在一个实施例中，作为最终修正结果要求的边缘长度的下限用Min(边缘)代表。

实施例1

在本实施例中，将说明删除由于线宽修正而在图形角落的修正图形之间产生的凹陷部的方法。图6A表示按本发明一个带将要掩盖的凹陷部的图形的角落。图6A的图形P1包含与图2同样的135度的角落(圆所包围部分)。假定在135度角落两边上的修正图形C1和C2的修正量各不相同。

为了掩盖图6A中的凹陷部D，首先按图6B所示将图形的尺寸扩大MAX(偏差)倍。然后，如图6C所示，将图形边缘相对于各边缘沿垂直方向移动MAX(偏差)。由此形成临时区域T1和T2。图6B中所示扩大尺寸和图6C所示移动图形边缘的顺序可以倒过来。

接着按图7A所示，找出在图6B中尺寸已扩大的图形和图6C中全部临时区T1和T2之间的差别Pd。根据这个差Pd，制备一个掩盖图形的凹陷部。

接下来如图7B所示，将图6A所示修正图形C1和C2的图形边缘从差Pd的边缘移走，并将差Pd的最外面周边移走。这样就从差Pd选取出图7B中粗线所示的边缘e。

再下面如图7C所示，已在图7B中选取的边缘e在垂直于边缘e的方向和朝着差Pd内部的方向移动一个量MAX(偏差)，从而在移动之前和之后的边缘e之间产生一个矩形区域R。

此后如图7D所示，将矩形区域R(见图7C)从线宽修正后的图形(见图6A)和差Pd(见图7A)的组合中删除。

这样，角落的凹陷部就被掩盖起来，而不改变该角落两边上的修正量。因而，减少了绘制掩模数据等时的数据处理量，并提高了处理速度。另外，在掩模的出错检验中，可以不必检测作为伪错误的角落的细小阶梯差。

实施例2

本实施例与实施例1的不同点仅在于角落的角度。图8A表示本实施例中带将要被掩盖的凹陷部的一个图形角落。图8A的图形P2包含与图1中相同的一个90度角落(被圆包围的部分)。假定在90度角落两边上的修正图形C1和C2的修正量彼此不一样。

为了掩盖图8A中的凹陷部D，首先按图8B所示将图形的尺寸扩大MAX(偏差)倍。然后，如图8C所示，将图形边缘相对于各边缘沿垂直方向移动MAX(偏差)。由此形成临时区域T1和T2。图8B中所示扩大尺寸和图8C所示移动图形边缘的顺序可以倒过来。

接着按图9A所示，找出在图8B中尺寸已扩大的图形和图8C中全部临时区T1和T2之间的差别Pd。

接下来如图9B所示，将图8A所示修正图形C1和C2的图形边缘从差Pd的边缘移走，并将差Pd的最外面周边移走。以选取出图9B中粗线所示的边缘e。

再下面如图9C所示，已在图9B中选取的边缘e在垂直于该边缘的方向和朝着差Pd内部的方向移动一个量MAX(偏差)，从而在移动之前和之后的边缘e之间产生一个矩形区域R。

此后如图10所示，矩形区域R(见图9C)从线宽修正后的图形(见图8A)和差Pd(见图9A)的组合中被删除。

这样，如图12C所示，角落的凹陷部就被掩盖起来，而不改变该角落两边上的修正量。因而，减少了绘制掩模数据等时的数据处理量，并提高了处理速度。另外，在掩模的出错检验中可以不必检测作为伪错误的角落的细小阶梯差。

实施例3

在本实施例中，将说明删除由于线宽修正而在图形角落的修正图形之间产生的凹陷部的方法。图11A表示按本发明一个带将要修正的凸出部的图形角落。

在图1和2中，图形角落小于180度，但在本实施例中则相反，该图形角落和图3一样是225度，即超过180度。在这种情况下，修正图形可以说是形成在135度角落的内部。

而且在本实施例中假定在角落两边上的修正图形C1和C2的修正量彼此不同。如图11A所示，当图形P3的角落超过180度时，在该图形角落处的修正图形部分重叠(圆包围的部分)。

为了掩盖图11A所示的凹陷部D，首先如图11B所示，选取一条由长度不大于MAX(偏差)且两端内角为90度和315度的边构成的边缘e1。

其次如图11C所示，形成一个以图11B中被选取的边缘e1为一条边的正方形。这时正方形是安置在各修正图形之间的凹陷部D。

接着如图12A所示，选取修正图形的一个边缘e2，它与图11C中形成的正方形内部重叠，但不与该正方形的一条边重叠。

接下来如图12B所示，形成由边缘e1(见图11B)和边缘e2(见图12A)及正方形的一条边(见图11C)包围的区域T。

这样，如图12C所示，角落的凹陷部就被掩盖起来，而不改变该角落两边上的修正量。因而，减少了绘制掩模数据等时的数据处理量，并提高了处理速度。另外，在掩模的出错检验中可以不必检测作为伪错误的角落的细小阶梯差。

实施例4

在本实施例中，将说明删除由于线宽修正而在图形角落的修正图形处产生的凸出部的方法。图13A表示按本发明一个带将要修正的凸出部的图形角落。图13A的图形P4包含一个和图4相同的135度的角落，且修正图形C被加到135度角落的外面(圆包围部分)。

为了修正图13A所示的凸出部P，首先如图13B所示，选取一个边缘e1，它的长度不大于MAX(偏差)并在两端有90度和225度的内角。

其次如图13C所示，形成一个以图13B选取的边缘e1为一条边的正方形。这时正方形被安置在与修正图形C重叠的边上。

接着如图14A所示，在与图13C形成的正方形重叠的部分选取一个修正图形的边缘e2。

接下来如图14B所示，形成以边缘e1和e2为两条边的三角形区T。此后如图14C所示，从修正图形C中删除区域T。

这样就把角落的凸出部修正掉而不改变线宽的修正量。因而减少了绘制掩模数据时的数据处理量，提高了处理速度。另外，在掩模的出错检验中可以不必检测作为伪错误的细小阶梯差。

实施例5

在本实施例中，将说明防止图形边缘由于线宽修正而成为阶梯形的方法。图5A表示按本实施例删除的一个具有阶梯形部分的图形。

在图5A的图形P5和P6中相邻的互连线不平行。互连线之间的距离连续变化。修正量是以断续的方式用多个最小格子来确定的，因此如图5B所示，得到一个按阶梯形改变修正量的修正图形C。修正量依互连线间的距离而改变。

为删除图5B所示的阶梯形部分(圆包围部分)，首先如图15A所示，选取一些垂直于线宽修正前的图形边缘且长度不大于MAX(偏差)的边缘e1。在这步骤中选取的那些边缘e1在图15A中用粗线标出。

其次如图15B所示，将图15A中选取的边缘e1沿垂直于边缘e1的方向和朝着修正图形C内部的方向移动一个量Min(边缘)。由此在移动前后的边缘e1之间形成矩形区R1。由于修正图形为阶梯形，故形成好几个矩形区R1。

另一方面，如图15C所示，选取一些平行于线宽修正前的图形边缘且长度短于Min(边缘)的边缘e2。在此步骤中选取的那些边缘e2在图15C中用粗线表示。

接着如图15D所示，将在图15C中选取的边缘e2在垂直于各边缘方向和朝着修正图形C内部的方向移动MAX(偏差)。由此在移动前后的边缘e2之间形成一些矩形区R2。由于修正图形为阶梯形，故形成好几个矩形区R2。形成矩形区R1和矩形区R2的顺序可以倒过来。

其次如图16A所示，找出矩形区R1和矩形区R2的重叠部分(AND部分)A。

接下来如图16B所示，从修正图形C中删除矩形区R1和矩形区R2(见图16C)的AND部分A。

此后重复图15A至于16B的各步骤直至阶梯形消失。这样就得到如图16C所示的矩形修正图形Cr。

按照上述本实施例的掩模图形修正法，加到沿斜线方向伸展的图形中的修正图形内具有阶梯形的部分被删除。因而减少了绘制掩模数据时的数据处理量，提高了处理速度。另外，在掩模的出错检验中可以不必检测作为伪错误的细小阶梯差。

本发明的掩模图形修正法的各个实施例不只限于上面的说明。例如，当把修正图形加到一个角落的内部和外部而增加图形的线宽时，也可以通过结合上述各实施例中两个不同的实施例来修正图形。

此外，可以在不超出本发明要点的范围内作各种修改。

按照本发明的掩模图形修正法可以很容易删除图形线宽修正后产生的细小阶梯差。

工业应用性

本发明的掩模图形修正法可应用于掩模图形修正的方法中，以修正用在半导体器件制造过程的光刻中的掩模图形。

Claims (19)

1.一种修正含有角落的掩模图形的方法，在所述角落处沿第一方向伸展的第一图形和沿第二方向伸展的第二图形是彼此相邻的，并构成一个预定角度α°，该方法包括以下步骤：

一个步骤是使包含沿第一图形的第一方向伸展并处于该角落外面的一个图形边缘的第一图形边缘，沿垂直于第一方向的第三方向平行移动一个第一修正量，以制备第一修正图形，该第一修正图形让第一图形有一个在使该第一图形边缘平行移动此第一修正量之前和之后的第一图形边缘之间的线宽增加；

一个步骤是使包含沿第二图形的第二方向伸展并处于该角落外面且与第一图形边缘相邻的一个图形边缘的第二图形边缘，沿垂直于第二方向的第四方向平行移动一个第二修正量，以制备第二修正图形，该第二修正图形让第二图形有一个在使该第二图形边缘平行移动此第二修正量之前和之后的第二图形边缘之间的线宽增加；

一个步骤是放大由组合的第一图形和第二图形组成的图形，以制备一个放大的图形，这一步骤将图形放大，使得第一修正量和第二修正量中的较大者与第一图形在第三方向的移动量匹配，且与第二图形在第四方向的移动量匹配；

一个步骤是使第一图形边缘沿第三方向平行移动此较大的修正量，以在使第一图形边缘平行移动该较大的修正量之前和之后的第一图形边缘之间制备一个第一临时区域；

一个步骤是使第二图形边缘沿第四方向平行移动此较大的修正量，以在使第二图形边缘平行移动该较大的修正量之前和之后的第二图形边缘之间制备一个第二临时区域；

一个步骤是从放大的图形中除去第一临时区和第二临时区，以制备一个阶梯差掩盖图形；

一个步骤是从阶梯差掩盖图形的所有图形边缘中除去最外面的周边，并进而除去第一修正图形的图形边缘和第二修正图形的图形边缘，以选取一个区域标志边缘；

一个步骤是使该区域标志边缘沿垂直于区域标志边缘方向朝阶梯差掩盖图形内部平行移动此较大的修正量，以在使区域标志边缘平行移动该较大修正量之前和之后的区域标志边缘之间制备一个删除区；

还有一个步骤是从阶梯差掩盖图形中删除该删除区，并将从中删除该删除区的阶梯差掩盖图形和第一修正图形及第二修正图形加到第一图形和第二图形中去。

2.一种如权利要求1所述的修正掩模图形的方法，其中扩大图形的步骤是通过将第一和/或第二图形的尺寸加大来进行的。

3.一种如权利要求1所述的修正掩模图形的方法，其中制备第一和/或第二临时区的步骤是通过加大第一和/或第二图形的尺寸来进行的。

4.一种如权利要求1所述的修正掩模图形的方法，其中删除第一临时区和第二临时区的步骤是通过缩小第一临时区和第二临时区的尺寸来进行的。

5.一种如权利要求1所述的修正掩模图形的方法，其中第一修正图形和第二修正图形的修正量是彼此不同的。

6.一种如权利要求1所述的修正掩模图形的方法，其中最外面周边是沿第一方向延伸的第一临时区内的线段的一部分，和沿第二方向延伸的第二临时区内的线段的一部分。

7.一种如权利要求1所述的修正掩模图形的方法，其中较大的修正量是第一修正量或第二修正量中的最大修正量。

8.一种如权利要求1所述的修正掩模图形的方法，其中预定角α°限定为90≤α≤180。

9.一种修正包含一个角落的掩模图形的方法，在该角落处沿第一方向伸展的第一图形和沿第二方向伸展的第二图形彼此邻接并构成一个预定角α°，该方法包括以下步骤：

一个步骤是使包含沿第一图形的第一方向伸展并处于该角落内部的一个图形边缘的第一图形边缘，沿垂直于第一方向的第三方向平行移动一个第一修正量，以制备第一修正图形，该第一修正图形让第一图形有一个在使该第一图形边缘平行移动此第一修正量之前和之后的第一图形边缘之间的线宽增加；

一个步骤是使包含沿第二图形第二方向伸展并处于该角落内部且与第一图形边缘相邻的一个图形边缘的第二图形边缘，沿垂直于第二方向的第四方向平行移动一个第二修正量，以制备第二修正图形，该第二修正图形让第二图形有一个在使该第二图形边缘平行移动此第二修正量之前和之后的第二图形边缘之间的线宽增加；

一个从第一修正图形的图形边缘和第二修正图形的图形边缘中选取长度不大于第一修正量和第二修正量中较大的修正量，而且在一端为90度和在另一端为450-α°的区域标志边缘的步骤；

一个制备以该区域标志边缘为一条边的正方形的步骤，使得包含区域标志边缘的修正图形不重叠；

一个在正方形中的正方形部分内选取的边缘且不使正方形的任意边与第一修正图形的图形边缘和第二修正图形的图形边缘重叠的步骤；

以及一个将被邻近区域标志边缘的另一正方形边、该区域标志边缘和正方形内的边包围的三角形图形，第一修正图形，和第二修正图形加到第一图形和第二图形上的步骤。

10.一种如权利要求9所述的修正掩模图形的方法，其中制备第一和/或第二临时区的步骤是通过加大第一和/或第二图形的尺寸来进行的。

11.一种如权利要求9所述的修正掩模图形的方法，其中在制备正方形的步骤之前将第一修正图形和/或第二修正图形的尺寸缩小。

12.一种如权利要求9所述的修正掩模图形的方法，其中第一修正图形和第二修正图形的修正量是彼此不同的。

13.一种如权利要求9所述的修正掩模图形的方法，其中较大的修正量是第一修正量或第二修正量中的最大修正量。

14.一种如权利要求9所述的修正掩模图形的方法，其中预定角α°限定为90≤α≤180。

15.一种修正含有角落的掩模图形的方法，在所述角落处沿第一方向伸展的第一图形和沿第二方向伸展的第二图形是彼此相邻的，并构成一个预定角度α°，该方法包括以下步骤：

一个步骤是使包含沿第一图形的第一方向伸展并处于该角落外面的一个图形边缘的第一图形边缘，沿垂直于第一方向的第三方向平行移动一个预定修正量，以制备第一修正图形，该第一修正图形让第一图形有一个在使该第一图形边缘平行移动此预定修正量之前和之后的第一图形边缘之间的线宽增加；

一个从修正图形的各图形边缘选取长度不大于预定修正量并在一端为90度角和在另一端为α°+90度角的区域标志边缘的步骤；

一个制备以区域标志边缘为一边的正方形以覆盖该修正图形的步骤；

一个从除第一图形边缘以外的修正图形的各图形边缘中选取与正方形的边重叠的正方形上的边缘的步骤；

一个制备以区域标志边缘和正方形上的边缘为两条边的三角形图形的步骤；以及

一个从修正图形中删除三角形图形并将已从中删除三角形图形的修正图形加到第一图形的步骤。

16.一种如权利要求15所述的修正掩模图形的方法，其中制备修正图形的步骤是通过扩大第一图形的尺寸来进行的。

17.一种如权利要求15所述的修正掩模图形的方法，其中在制备正方形的步骤之前将第一修正图形和/或第二修正图形的尺寸缩小。

18.一种如权利要求15所述的修正掩模图形的方法，其中预定角α°限定为90≤α≤180。

19.一种修正包含沿第一方向伸展的第一图形和沿第二方向伸展的第二图形的掩模图形的方法，此方法包括以下步骤：

将包含沿第一图形的第一方向伸展的一个图形边缘和处于第二图形边上的第一图形边缘划分为一些区段的步骤；

一个根据离第二图形距离使每一个划分出的区段沿垂直于第一方向的第三方向平行移动一个修正量的步骤，以制备修正图形，该修正图形让第一图形有一个在使该区段平行移动之前和之后的区段间的线宽增加；

一个从修正图形的各图形边缘选取长度短于沿第三方向伸展的最大修正量的第一区域标志边缘的步骤；

一个使每个第一区域标志边缘沿第一方向朝着修正图形内部平行移动区段长度最小值的步骤，以在使第一区域标志边缘平行移动之前和之后的第一区域标志边缘之间制备第一矩形区；

一个从修正图形的各图形边缘选取一些长度短于沿第一方向伸展的区段长度最小值的第二区域标志边缘的步骤；

一个使每个第二区域标志边缘沿第三方向朝着修正图形内部平行移动最大修正量的步骤，以在使该第二区域标志边缘平行移动之前或之后的第二区域标志边缘之间制备一个第二矩形区；

一个从修正图形中删除第一矩形区和第二矩形区的重叠部分的步骤；

以及重复选取第一区域标志边缘，制备第一矩形区，选取第二区域标志边缘，制备第二矩形区，直至不再有任何第二区域标志边缘的步骤。

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