CN1638603A - 在通过式处理设备中处理平坦物体的方法与装置 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及用于利用借助输送辊的水平输送在通过式处理设备中对电路板和电路膜的输送和处理。根据现有技术,如果在相同的设备中要在不进行改装的情况下生产电路板,对于薄电路膜不再存在所需的输送可靠性。根据本发明,通过沿输送方向(3)镜像对称地指向物体(1)的电解液流(8)来实现要求的输送可靠性。当电路板具有盲孔时,为了提高孔中的物质交换,附加的电解液流(11)镜像对称地接近垂直地流向物体(1)。为了形成另外的流过通孔的通过流,根据伯努利定理在物体的两侧产生电解液静压差。特别是对于通过式处理的电解设备。对于电解液流(8、11)的喷洒管选择一种“管中管”结构,以在保持设备总长度不变时,实现较大的有效设备长度。
Description
技术领域
本发明涉及在通过式处理设备(Durchlaufanlage)中以水平输送对平坦的物体进行输送和处理的一种方法和一种装置。本发明优选地用于对电路板和电路膜(电路片)进行湿化学的和电解的处理。所述处理在电路板技术中例如涉及表面的清洗与蚀刻、从孔除去钻孔屑,对孔进行镀通(Durchkontaktierung)、对可导电的层和结构进行电解的加强,对导线线路进行显影、剥离(Strippen)和蚀刻、和对表面进行氧化和还原以及其它处理过程。用输送辊和接触辊输送电路板与电路膜通过所述通过式处理设备。这里重要的是,即使在所述物体的小的孔中也要进行强烈的物质交换。这是通过利用电解液对表面的入射流动来实现的。对于精密电路板,所述孔和结构的尺寸越来越小。所述尺寸达到25μm或更小的尺寸,这要求用电解液进行较强的入射流动,以实现所需的物质交换。
在输送当厚度在50μm以下的范围内时具有很高的柔性的电路膜时,会附加产生另外一个难度:由于由电解液对表面的入射流动(冲击),会使电路膜从输送轨道上偏转。此时表面会在引导元件上磨损,或在最严重的情况下会造成输送堵塞。但是为了对于应该在相同的通过式处理设备中生产的电路板在所述孔中实现物质交换,以电解液对物体进行入射流动的必需的。
背景技术
文献DE 100 44 209 A1说明了一个用于对具有孔与盲孔的电路板进行电解处理的发明。该发明也可用于湿化学处理方法。引导所述物体从周期性地改变喷射方向的喷嘴旁经过。喷嘴距物体的表面的距离应该小,以能完全利用喷射作用。喷嘴到达物体的距离上达1mm。即使是优选的5mm的距离也是有问题的。一方面,当距待湿化学地处理的物体的距离小时,每个喷嘴管特别是对于膜形成一会发生磕碰的边缘,另一方面,所述管在摆动时形成一具有不同的距所述物体距离的圆形轨迹。在电解处理所述物体时,所述可摆动的喷嘴管位于由电极和所述物体形成的电解池的外部。因此,特别是当处理电路膜时,必须对电极进行绝缘,以避免短路。对于非常薄的电路膜不再存在输送可靠性。电解液流会使所述物体从输送轨道中偏转出来,特别是如果摆动方向与输送方向相反地延伸时,总是会发生这种情况。由于费用较高,也只能实现沿输送轨道布置较少的喷嘴管。
文献DE 197 17 512 C3说明了一用于电解地处理具有孔的电路板的发明。具有孔或喷嘴的电解液喷洒管设置在电解池外部。电解液通过阳极中的孔流到所述物体的表面上和孔中。这种电解液流可很容易地使电路膜从输送轨道中偏转出来。因此该发明只适用于处理电路板。
在文献DE 197 18 769 A1中说明了一种用于利用水平输送所述物体以进行湿化学的蚀刻的通过式处理设备。在输送辊之间,交替地在所述物体的两侧设有喷嘴杆(Düsenstock)。从喷嘴流出的电解液指向所述物的相应表面。由于所述单侧的入射流电路膜会从输送轨道中偏转出来。因此这只允许处理电路板。
在例如具有0.2mm或更大厚度的电路板的湿化学或电解处理中,通孔和盲孔中的物质交换是重要的。文献DE 195 19 211 A1说明了用于利用水平输送物体湿化学处理在连续运行设备中的浴液面下方的电路板的一种装置和一种方法。电解液从横向于输送方向设置的喷嘴管中流出,所述电解液会积滞(stauen)在输送辊上。喷嘴管与输送辊沿输送方向错开地设置在平坦物体的上侧和下侧上。由此,由于沿表面流动的电解液在喷嘴管的区域内在平坦物体的两侧上形成不同的静压力和动态压力。因此,根据伯努利(Bernoulli)定理,电解液会从具有较大静压力的一侧沿朝向较低压力的方向流过通孔。在电解液以比物体相对侧上的流速大的速度沿物体表面流动的位置存在较低的静压力。这会使得通孔中进行很好的物质交换,因此该发明适用于处理电路板。有越来越多的具有很小的通孔与盲孔的电路板和多层电路板(Multilayer)需要处理,所述孔要求强烈的物质交换。对于盲孔,伯努利定理无助于物质交换,因为所述物体的两侧上的压力差无法发挥作用。因此该发明对于盲孔的处理是接近无效的。
发明内容
本发明的目的是,提供一种方法和一种装置,所述方法和装置使得在一通过式处理设备中不需要采取改装措施就可以可靠地输送具有通孔和盲孔的厚的电路板以及具有孔的极薄电路膜。此外,所述通孔和盲孔经受强烈的物质交换。
所述目的通过根据权利要求1至10的方法和根据权利要求11至21的装置来实现。
在本发明中,利用输送辊和在一些情况下利用接触辊输送所述物体通过所述通过式处理设备。待处理的物体既可以是电路板也可以是柔性很高的电路膜。根据本发明,所述两种物体利用不同的电解液流处理,而不必为此改装通过式处理设备。
沿输送方向倾斜地从两侧到达所述物体上的电解液流入射冲流电路膜。所述电解液流在所述物体上侧和下侧镜像对称地这样到达所述表面,以使得由流动引起的力相互抵消。由此所述物体保持在输送平面中。通过所选沿输送方向的流动方向可附加地促进薄的电路膜的输送。因此总体上实现了即使是很薄的电路膜的可靠的输送。
较厚的电路膜和电路板也设有大部分非常小的盲孔。根据本发明盲孔的物质交换可通过另一个电解液入射流来实现。电解液从同样横向于物体的输送方向设置的喷洒管沿接近垂直的流动方向流到物体的表面上。所述上侧上的在角度上镜像对称的电解液入射流沿输送方向相对于物体下侧上的电解液入射流稍微错开。所述电解液流的中心(线)并不相交。由此在通孔中也进行附加的物质交换。特别是当其具有大的体积流量和/或大的流速时,由于垂直的电解液入射流会使所述物体从输送轨道中偏转出来,因此只有在生产具有盲孔的较厚电路膜或电路板之时,才启动所述电解液流。也可采用一节流阀或其它改变电解液流装置,以与由所述物体提出要求相匹配。对于薄的电路膜实际上不会有盲孔。所述界限约在100μm的厚度。在此厚度以下,不需要垂直的电解液入射流,或只需要具有小体积流量的垂直的电解液入射流。
特别是所述接近垂直地流到物体上的第二电解液流可设计成在流量上是可变的,且可通过电解液循环回路中可调整的泵、节流阀、节流盘(Stauscheiben)或闸板(Klappe)而与物体的厚度相匹配。
根据本发明,通孔中进一步的物质交换是通过伯努利定理实现的。在浴液面下方,在物体附近且横向于输送方向从两侧设置有电解液喷洒管。沿表面流动的电解液从所述喷洒管沿输送方向倾斜地流出。在物体两侧上的电解液的不同流速造成大小不同的静压力,该静压力使得电解液通过电路板中的通孔流过。对于薄的电路膜,所述压力差可能会使电路膜从输送轨道上偏离。因此,根据本发明,局部地限制物体两侧上的压力差,且使所述压力差横向于输送方向地交替作用在小面积区域中的上侧和下侧上。因此,由于所述流整体地作用在电路膜上的力这样地抵消,以使得电路膜不会从输送轨道上偏转。通过所述从电解液喷洒管沿输送方向倾斜地相对于输送平面镜像对称地流出的电解液还附加地促进电路膜的输送。由此一电路膜也可靠地保持在输送轨道中。由于在物体两侧上的电解液中局部交替作用的压力差伯努利定理保持有效。随着应该也在相同的通过式处理设备中处理的物体越来越厚,这对于通孔中的物质交换具有决定性的意义。
附图说明
在下面根据示意性但不是按比例的附图1至4图详细说明本发明。
图1和电解液喷洒管一起示出用于湿化学地处理物体和促进电路膜的输送的输送辊的侧视图,
图2示出另一用于处理带有盲孔和通孔的电路板的电解液入射流的类似侧视图,
图3示出一湿化学处理设备沿与物体输送方向相反观察的剖视图和侧视图,在物体两侧有交替的局部电解液流,
图4示出一用于处理电路膜和电路板的电解设备的侧视图。
具体实施方式
图1中,具有轴线4的受驱动的输送辊2沿输送方向3输送待处理的物体1。有越来越多薄的以及很薄的物体也要湿化学地和/或电解地处理。在电路板技术中,所述导电膜的厚度d为50μm或更小。如果所述电路膜的芯部例如由聚酰胺制成,则它可具有特别高的柔性且在表面上特别敏感。这使得输送通过湿化学的通过式处理设备明显地变得困难。由于电解液流电路膜会从输送轨道中偏转出来并导致输送堵塞。根据本发明通过在输送平面17中引导所述物体1使得可以可靠地输送电路膜。这是通过一样大小的在输送平面17的上侧6与下侧7镜像对称地指向物体的表面的第一电解液流8实现的。所述电解液流8的方向指向输送方向3。通过一对物体1的准确调整的倾斜的入射流,利用从两侧以角度α作用的第一电解液流8,薄的电路膜也可在输送平面17中被引导。所述第一电解液流8从相对于输送平面成对地设置的电解液喷洒管10流出,所述电解液喷洒管设有位于其中且成排设置的开口9。所述开口9例如可以是孔或喷嘴。电解液喷洒管10在输送平面17的两侧横向于输送方向至少在物体的整个宽度上延伸。借助于未示出的泵在循环回路中输送电解液经过电解液喷洒管10进入填充有电解液的未示出的工作容器,并由这里输送回一泵池(Pumpensumpf)。
由电解液流8造成的力在物体1的两侧基本上相互抵消,由于电解液流沿输送方向成角度α的流动方向还附加地促进物体的输送。所述角度α相对于物体的表面在5°至60°的范围内,优选为15°。
输送辊2这样地支承在上侧6上,以使所述输送辊针对所作用的力F而与物体1的厚度d相匹配。输送辊这样支承在物体的下侧7上,以使所述输送辊确定地规定输送平面。优选地由弹簧力或重力形成力F。所述力也可设计成可调整的。随着电路板厚度的逐渐增加,通常需要逐渐增加的力F。为了清楚起见,在图1和2中示出了输送辊2沿输送方向3的大的间距。输送辊2和电解液喷洒管10也可按另一种顺序设置。
图2中的设置有利于具有盲孔的电路板的处理。所述物体也是由具有轴线4的受驱动的输送辊2输送。一第二电解液流11由一排的第二开口12从电解液喷洒管10流出,并在盲孔中也形成强烈的物质交换。开口12穿过内喷洒管13与外部电解液喷洒管10的壁部延伸。第二电解液流11的流出角度β与流出角度α明显不同。流出角度β在60°至90°的范围内,优选为80°。当流出角度β小于90°时,第二电解液流11也指向物体1的输送方向。所述第二电解液流11可和第一电解液流8相同地由相同的电解液喷洒管10供应。这种成本低廉的实施形式适于处理具有盲孔的电路板,所述电路板由于其厚度不会从输送轨道中偏转出来。如果如图2所示,第二电解液流11在物体1的上侧6与下侧7上沿输送方向略微错开,情况也是这样。这种错开的设置还导致附加的流通过通孔,同时还保持了盲孔中的物质交换。但对于非常敏感的薄电路膜所述第二电解液流11表现为干扰性的。当流动强时,电路膜的输送可靠性受影响,而当流动弱时,则应该在相同的通过式处理设备中处理的电路板的盲孔中的物质交换过小。因此从两个电解液喷洒管由优选是两个可相互独立地调整的电解液循环回路供应两个电解液流8、11。所述两个电解液喷洒管也可沿输送方向3前后顺序设置在物体的两侧。为了缩短设备长度或提高处理时间,优选地选则一种“管中管”结构。该结构需要小的空间以装入设备中。附图中所示的圆形管可看作是一种“管中管”结构的示例。也可相互套装矩形管。同样也可采用在一结构元件中两个电解液循环回路的铣削、粘接或挤出的
实施形式。
电解液喷洒管10和内喷洒管13中的电解液流8、11可相互独立地调整。这种调整涉及流量和流速。特别是对于非常薄的—例如具有小于等于50μm的厚度—电路膜,可完全关闭第二电解液流。这种实施形式使得可在同一通过式处理设备中相继地且无需改装设备地处理极薄的电路膜和电电路板。通过控制技术上的作用在未示出的电解液泵和阀上的措施来调整电解液流8、11相应的所需的强度。
对于具有例如1.6mm或更大的厚度的电路板,则在连续处理(Durchlauf)中,特别是当孔直径很小时,例如0.2mm,即使在启动第二电解液流的情况下,穿流过孔的时间段仍表现得太短。沿输送方向观察,必须增加电解液喷洒管的数量,以实现较长的处理时间以在孔中进行物质交换。为了避免这种设备技术上的花费,在本发明的另一实施形式中将第一电解液流8设计成使物体中的通孔在设备的一较长距离上由电解液流过,而不必增加电解液喷洒管的数量。这通过利用伯努利定理来实现。由于物体1的上侧6和下侧7上的电解液压力差可实现使电解液流过孔。电解液从具有较大静压力的一侧经所述孔流到具有较小静压力的一侧。在物体两侧存在这种压力差时,薄的电路膜也会从输送轨道上偏离。结果是在设备中出现电路膜的堵塞。因此根据本发明,在物体的上侧6和下侧7上调整出相对地局部地交替的压力差,因此作用在电路膜上的力相互抵消。物体将仍旧在输送平面内被引导。
图3示出局部压力差的产生。电解液喷洒管带有或不带有内喷洒管地成对设置在输送平面17两侧。所述喷洒管内有分别间隔设置的开口。上侧6上的电解液喷洒管10的第一开口9相对于下侧7的第一开口9分别错开一(同侧)开口之间间距的一半的距离。由此,在两侧沿物体1的表面形成交替的具有不同电解液流速的区域。通过从电解液喷洒管10的开口9快速流出的电解液,在物体表面上在紧密靠近开口9的位置处在高的动态压力下形成一具有小的静压力的区域14。在开口9之间流速较小。因此在这里形成一个具有低动态压力和高静压力的区域。所述区域横行于输送方向交替分布。由于在相对侧上的电解液喷洒管10的开口9相互错开,所述交替的压力区域也相互错开。由此在第一电解液流8的区域内在物体两侧一个局部高静压分别和一个低静压相对。所述局部压力差使得在一较大的输送路径上形成一流过通孔的通过流并由此促使进行一时间较长的有效的物质交换。这样局部交替地利用伯努利定律的措施可与对盲孔特别有效的第二电解液流11组合使用。为此类似地也可使用一内喷洒管13。通过受驱动的以轴线4支承的输送辊2进行物体的输送。
图4以侧视图示出一应用本发明的电解通过式处理设备。所述设备例如是用于对镀通进行强化和/或用于构造线路图。在电解处理中,方法的经济性也由孔和盲孔中的物质交换决定。较强的物质交换允许使用大的电流密度。在电镀时试图将有效长度—即阳极长度—沿输送方向相对于通过式处理设备的长度设计得较大。因此,特别适于在这里采用“管中管”结构。这种实施形式对电路膜和电路板都适用。特别是在电解地构造线路图时重要的是,物体1的有效区域不能被结构元件接触。在精密电路技术中对机械性负荷非常敏感的形成结构的抗电镀剂位于所述区域中。镜像对称的第一电解液流8在阳极16的下方也将薄的电路膜保持在输送轨道中。如此就不需其它的在一些情况下可能会损坏物体表面的绝缘结构。阳极16可以是可溶或不可溶的阳极。输送辊2可同时部分或完全地用作向所述物体1传递电流的接触辊。也可使用其它类型的接通,例如接线夹(Klammer)或接触轮。
为了可靠地引导特别是很薄的电路膜,本发明所有的实施形式中,如果物体1的上侧6和下侧7的流体动力条件完全相同,则是有利的。这可以通过将物体1的上侧6和下侧7上的成对设置的电解液喷洒管10连接到一共同的电解液循环回路上来实现。至少有一对电解液喷洒管10连接到一循环回路上,即连接到一电解液泵上。这保证了电解液喷洒管中的相同的流体动力条件。对于一对内喷洒管13情况也是这样。上侧6和下侧7的所述(内喷洒)管连接到另一个共同的电解液循环回路上。
对于只需持续处理一种产品的连续运行装置,一个共同的电解液循环回路对于可靠地输送电路膜就足够了。例如通过泵、阀、闸板或节流盘将电解液流8、11调整成确定的。
上述说明将相应用于处理过程的处理液通称为电解液。在湿化学和电解处理时,当从一种处理过程过渡到随后的处理过程时,必须冲洗物体,以避免处理液的拖带。在冲洗过程中,孔和盲孔中的物质交换也很重要。因此本发明也涉及这种在浴液面下方的处理过程,即涉及通过式处理设备中的冲洗浴。
在本发明的说明中,由于实用上的原因,对物体特征的说明是以不同的厚度d位出发点的,因为在实用中厚度d可以非常方便地测量。此处说明了电路板、电路膜与非常薄的电路膜。此时的出发点是,薄的物体比较厚的物体柔性高。实际上的情况太多数也是这样。
为了可靠地输送物体通过所述通过式处理设备,平坦物体的柔性或刚性是决定性的。应该指出,同样厚的板或膜可具有不同的刚度。例如,一片在由塑料制成的芯部的厚度降低而位于芯部上的镀铜层的厚度增加时,即使厚度d保持同样大小,电路膜的刚度也提高。
本发明在电路板技术的实用中适用于现存所有类型的(平坦)物体。以下的例子说明了这一点。但本发明也适用于湿化学和电解地处理水平地连续行进的其它平坦物体,例如太阳能电池。
当电路板具有一假定为2.4mm的厚度并具有直径例如为0.3mm的通孔时,所述湿化学和/或电解处理要求在孔中进行强烈的物质交换。这也适用于板中的盲孔。根据本发明可很好地实现所述物质交换。当电路膜的厚度例如为50μm时,孔直径与孔深度的比例约为1∶1。因此为了孔中进行物质交换,不需要强烈的电解液入射流。因此,优选地不采用垂直的电解液流而进行电路膜的处理。通过稍微倾斜设置的输送辊进行输送,所述输送辊只在边缘处抓持并输送所述物体。由此不接触物体的有效区域。输送辊轴线的倾斜位置这样定向,使得可张紧薄的柔性的物体,但不会过度张紧。通过利用来自从两侧成对设置的电解液喷洒管的电解液向电路膜作用有目的的且大小相同的入射流来避免非常薄的电路膜偏离输送平面,以一个与相对于输送平面的90°角度明显不同的角度来实现所述入射流,其中该流动方向指向物体的输送方向。同时电解液流在上侧和下侧的力相互抵消。
参考标号表
1 平坦物体、电路板、电路膜
2 输送辊、接触辊
3 输送方向
4 轴线
5 力方向箭头
6 上侧
7 下侧
8 第一电解液流
9 第一开口
10 电解液喷洒管
11 第二电解液流
12 第二开口
13 内喷洒管
14 具小静压力的区域
15 具大静压力的区域
16 阳极
17 输送平面
Claims (21)
1.用于在湿化学的和/或电解的通过式处理设备中在电解液中输送和处理平坦物体最好是电路膜和电路板的方法,其中水平地输送所述物体,其特征在于,将作用在所述物体上的张紧力调整得较小,从而即使对于电路膜也不会出现尺寸精确性的丧失,且所述物体在输送平面中通过电解液流(8)被引导,所述电解液流在所述物体的上侧和下侧上从电解液喷洒管(10)中的一排第一开口(9)中镜像对称地向所述物体流出,且所述电解液流在对所述物体的力作用上接近相互抵消,其中电解液流(8)的流出方向指向输送方向以促进所述物体的输送。
2.根据权利要求1的方法,其特征在于:
所述两侧的电解液喷洒管(10)设有分别至少另一排开口(12),电解液从所述开口向所述物体的方向以一角度(β)流出,所述角度(β)与所述第一排开口(9)的角度(α)不同;以及与第一排的第一电解液流(8)无关地,所述电解液流(11)在流出的电解液量与流速上进行改变并使其与所述物体的要求相匹配。
3.根据权利要求1或2的方法,其特征在于:
所述第一电解液流(8)从具有各单个的开口(9)的成对设置的电解液喷洒管中流出,所述开口在上侧和下侧相对地这样错开设置,以在两侧的表面上交替地形成相对的具有小的电解液的静压力和大的静压力的局部区域,所述区域在使流动引起的作用在所述物体上的力相互抵消的同时,还使得形成一通过物体中的通孔的通过流,由于所述力的相互抵消,电路膜也被在输送轨道中可靠地引导。
4.根据权利要求1至3中任一项的方法,其特征在于:
通过所述物体两侧上的第一电解液流(8)促进物体的输送,所述第一电解液流以一相对于输送平面的角度(α)从电解液喷洒管中流出,所述角度在5°至60°的范围内,优选为15°。
5.根据权利要求1至4中任一项的方法,其特征在于:
通过所述物体两侧上第二电解液流(11)实现盲孔中的物质交换,所述第二电解液流以一相对于输送平面的角度(β)从电解液喷洒管中流出,所述角度在60°至90°的范围内,优选为80°。
6.根据权利要求1至5中任一项的方法,其特征在于:
对所述第一及第二电解液流的流量和流速相互独立地在强度上进行调整并使其与所述物体的要求相匹配。
7.根据权利要求1至6中任一项的方法,其特征在于:
这样来延长所述物体沿输送路段的处理时间,即,所述第一和第二电解液流通过一占用空间较少的“管中管”的结构从一结构元件中流出。
8.根据权利要求1至7中任一项的方法,其特征在于:
通过输送辊和/或接触辊输送所述物体。
9.根据权利要求1至8中任一项的方法,其特征在于:
在电解处理时,通过接触辊、接触轮或接线夹电接通所述物体。
10.根据权利要求1至9中任一项的方法,其特征在于:
利用可溶或不可溶的阳极来进行所述物体的电解处理。
11.用于实施根据权利要求1至10中任一项的方法的用于在湿化学的和/或电解的通过式处理设备中在电解液中输送和处理平坦物体最好是电路膜和电路板的装置,其中水平地输送所述物,其特征在于:设有电解液喷洒管(10),所述电解液喷洒管横向于所述物体的输送方向定向并成对地设置,同时在输送平面(17)的上侧和下侧各有一排开口(9),其中所述开口(9)的方向确定成使得两组电解液喷洒管(10)的电解液流(8)镜像对称地沿输送方向以一角度(α)这样地流出,以使两侧(6、7)的相同大小的电解液流(8)在所述物体上的力作用可相互抵消。
12.根据权利要求11的装置,其特征在于:
所述电解液喷洒管中的一排第二开口(12),其中第二电解液流(11)的流出角度(β)与第一电解液流(8)的流出角度(α)不同。
13.根据权利要求11或12的装置,其特征在于:
所述电解液喷洒管中的间隔设置的第一开口(9),所述开口在上侧(6)和下侧(7)上相对地分别相互错开同侧开口之间的距离的一半,以在表面上形成交替地具有小电解液静压力和大电解液静压力的区域(14、15)。
14.根据权利要求11至13中任一项的装置,其特征在于:
所述第一电解液流(8)相对于所述物体的表面的角度(α)在5°至60°的范围内,优选为15°。
15.根据权利要求11至14中任一项的装置,其特征在于:
所述第二电解液流(11)相对于所述物体的表面的角度(β)在70°至90°的范围内,优选为80°。
16.根据权利要求11至15中任一项的装置,其特征在于:
所述电解液喷洒管(10)设计成“管中管”,其中第一开口(9)排设置在外部管中,而第二开口(12)排设置在较小的内部管(13)中,所述第二开口(12)同时穿过外部管的壁部延伸。
17.根据权利要求11至16中任一项的装置,其特征在于:
设有用于单独控制电解液的电解液流(8、11)的装置,如泵、阀、闸板、滑阀和节流盘。
18.根据权利要求11至17中任一项的装置,其特征在于:
通过输送辊和/或接触辊输送所述物体。
19.根据权利要求11至18中任一项的装置,其特征在于:
设有接触辊、接触轮或接线夹以电接通所述物体。
20.根据权利要求11至19中任一项的装置,其特征在于:
在电解的通过式处理设备中设有可溶或不溶的阳极。
21.根据权利要求11至20中任一项的装置,其中:
设有用于第一电解液流(8)的电解液喷洒管对,且设有与所述电解液喷洒管分开设置的用于第二电解液流(11)的电解液喷洒管对。
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