CN1630583A - 高速负性热敏印版 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种IR敏感组合物，它包括：聚合物粘合剂；和由下述物质组成的自由基聚合体系：选自不饱和自由基聚合单体、可自由基聚合的寡聚物和在主链上和/或在侧链基团中含C＝C键的聚合物中的至少一种组分；和引发剂体系，该引发剂体系包括：(a)能吸收IR辐射的至少一种化合物；(b)能产生自由基的至少一种化合物；和(c)至少一种羧酸共引发剂；条件是所述聚合物粘合剂的总酸值为70mgKOH/g或更低。本发明进一步包括印版前体、制备印版的方法和生产图像的方法。

Description

高速负性热敏印版
技术领域
本发明涉及IR敏感组合物，该组合物适用于制造负性印版前体。更具体地，本发明涉及负性印版前体，它可成影像地曝光于IR辐射并显影，产生平版印版。
背景技术
可以按照两种不同的方式解决辐射敏感组合物性质的改进以及相应的印版前体性质的平行改进。在第一种方法中，可改进在诸如负性重氮树脂或光引发剂之类组合物中的辐射敏感组分的性能与性质。在第二种方法中，人们可寻求可控制辐射敏感层物理性质的新型聚合物化合物，如粘合剂。在印版前体的灵敏度将要被调节到电磁辐射的某一范围内的情况下，第一种方法特别重要，这是因为辐射灵敏度以及材料的保存期强烈受到这种引发剂体系性质的影响。
最近在印版前体领域的开发出现在可通过激光或激光二极管成影像地曝光的辐射敏感组合物领域内。这类曝光不要求使用膜作为中间信息载体。这是有可能的，因为可使用计算机直接控制激光。
在商购的图像调节器中使用的高效激光或激光二极管发射波长范围为约800nm-约850，典型地830nm和约1060-约1120nm，典型地1064nm的光。因此，借助这种图像调节器成影像地曝光的印版前体和包含在该印版前体内的引发剂体系必须在近IR范围内敏感。然后这种印版前体可在日光下处理，这显著地促进了它们的生产和加工。
在这种印版中使用的辐射敏感组合物可以是负性的或正性的。在负性印版中，辐射敏感组合物的曝光区域在成影像地曝光时固化。在显影步骤中，仅仅未曝光区域从基体上除去。在正性印版中，当成影像地曝光时，辐射敏感组合物的曝光区域比未曝光区域更快速地溶解在给定的显影剂内。该方法称为光致增溶。
为了在正性体系内生产大量的拷贝，通常需要高度交联的聚合物。然而，这种产品同样不溶于涂敷印版常用的溶剂或溶剂混合物中。因此，使用未交联或轻度交联的物质促进溶解度。
美国专利No.5491046、欧洲专利文献EP-A-0672544、EP-A-0672954和EP-A-0819985描述了可用IR激光成影像地曝光的负性印版。这些负性印版也要求在非常窄的温度范围内的预热步骤，即后曝光加热步骤，该步骤仅仅产生图像层的部分交联。为了满足关于拷贝数量的最高要求和对印刷化学品显示充足的抗性，进行额外的加热步骤(称为后显影烘烤)。在额外的后显影烘烤步骤过程中，进一步交联图像层。
以上所述的所有体系附加的缺点是要求相对高的曝光剂量，即≥150mJ/cm2。对于一些应用，如新闻印刷，在在短的时间段内在没有诱导风化(ablation)的情况下仍然提供所需数量的曝光印版的同时，难以供应这一剂量。
美国专利No.4997745描述了光敏组合物，它具有在可见光范围内吸收的染料和三卤甲基-s-三嗪化合物。然而，这些组合物在IR范围内不具有充足的灵敏度。此外，它们不满足当今对高光敏性和长存放期的要求。
美国专利No.5496903和德国专利文献DE-A-19648313描述了光敏组合物，它包括在IR范围内吸收的染料和硼酸盐或卤化s-三嗪共-引发剂。尽管这些组合物具有改进的光敏性，但由其生产的印版不满足当今长存放期的要求。因此，在室温下储存仅仅一个月之后，印版的全部层看起来已固化到在该印版曝光并显影之后不再生成图像的程度。
正如欧洲专利文献EP-A-0730201中所述的那些，当在印版前体的制造中使用时，既显示高度的辐射敏感度又显示充分长的存放期的含可见光吸收染料的辐射敏感组合物目前是已知的。然而，必须在暗室条件下制造和加工使用这种组合物的印版前体。此外，这种印版前体不可能借助以上所述的激光或激光二极管成影像地曝光。因此，它们不能在日光下加工的事实限制了它们的应用。
国际专利文献WO99/46310和WO99/46301描述了可UV固化、高度支化的功能化聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)聚合物的制备方法及其在涂料配方和光致抗蚀剂中的用途。在这些文献中没有公开或教导这些聚合物在可IR成像的负性平版印版中的用途。
欧洲专利文献EP 131824描述了基于聚甲基丙烯酸甲酯和多官能团丙烯酸单体的可光聚合组合物，用于干膜抗蚀剂和印刷电路印版(PCB)应用。用紫外或可见光成影像地曝光这些涂层。没有教导用大于700nm的波长使这些组合物成像。在美国专利Nos.5756258、5545676和5763134、日本专利文献JP-A-11-038633和JP-A-09-034110和欧洲专利文献EP-B-0522175中描述了含引发剂体系的其它可光聚合组合物。
公开日为2001年6月12日的JP-A-159819公开了一种可光聚合组合物，它具有碱可溶的树脂、不饱和化合物和光聚合引发剂体系，该组合物用可见光引发。引发剂体系不是红外引发的。
欧洲专利文献EP611997公开了其中涂层含有平均分子量为150000的丙烯酸聚合物、季戊四醇三丙烯酸酯、三嗪和季鎓盐(squarylium)化合物(IR染料)的印版(参见实施例1)。没有公开聚甲基丙烯酸酯聚合物的酸值和具体组成。
美国专利No.6153356描述了一种组合物，它包括烯键式不饱和化合物、具有巴比土酸阴离子基团或硫代巴比土酸阴离子基团的近IR吸收菁染料和光聚合引发剂。该组合物可含有聚合物分子量为10000-500000g/mol的(甲基)丙烯酸和(甲基)丙烯酸酯的均聚物或共聚物。优选愈加高酸值的聚合物组合物。
美国专利No.5368990描述了一种可光聚合组合物，它包括烯键式不饱和化合物和具有染料与二芳基碘鎓盐作为光聚合引发剂的光聚合引发组合物。在实施例1-11中使用的丙烯酸聚合物的酸值为75。
国际专利文献WO00/48836描述了一种IR敏感组合物，它包括IR吸收剂、自由基产生剂体系，和多羧酸化合物。该发明教导了高酸值的聚合物粘合剂在这类体系中的优点。该专利文献的粘合剂的酸值大于70mg KOH/g。另外，在显影之前，该发明采用后曝光加热步骤，正如所有实施例中所示。
因此，本发明的目的是提供IR敏感组合物，它允许制造具有长存放期、提供连续大量的拷贝和对显影化学品具有高度抗性的负性印版前体，和该组合物的特征另外在于高的IR敏感度、分辨率、在日光下的加工性、快速固化速度和低能量要求。
本发明另一目的是这种IR敏感组合物在制备负性印版前体中的用途，所述印版前体不要求后曝光烘烤且具有优良的潜像稳定性。
通过具有低能量要求的本发明快速固化IR敏感组合物可实现这些目的。
发明概述
本发明提供一种IR敏感组合物。该IR敏感组合物包括：
聚合物粘合剂；和
由下述物质组成的自由基聚合体系：选自不饱和自由基聚合单体、可自由基聚合的寡聚物和在主链中和/或在侧链基团中含C＝C键的聚合物中的至少一种组分；和包括下述物质的引发剂体系：(a)能吸收IR辐射的至少一种化合物；(b)能产生自由基的至少一种化合物；和(c)下述通式表示的至少一种羧酸：
其中R5、R6、R7、R8和R9各自独立地选自氢、烷基、芳基、卤素、烷氧基、羟烷基、羧烷基、烷基硫基、烷基磺酰基、磺酸根、烷基磺酸根、二烷基氨基、酰基、烷氧基羰基、氰基和硝基；其中R5和R6，R6和R7，R7和R8或R8和R9一起非必需地形成芳环或脂族环；其中R10选自氢、烷基、芳基、羟烷基、羧烷基、酰基、烷氧基羰基、烷基磺酰基和烷基磺酸根；或R10和它的键一起非必需地形成电子对；或R9和R11一起非必需地形成环；其中R11是C1-C6碳原子的亚烷基；和其中R10与R11一起非必需地形成脂族环；其中A是选自N、O和S中的杂原子；条件是聚合物粘合剂的总酸值为70mg KOH/g或更低。
更特别地，所述IR敏感组合物包括：聚合物粘合剂；和由下述物质组成的自由基聚合体系：选自不饱和自由基聚合单体、可自由基聚合的寡聚物和在主链中和/或在侧链基团中含C＝C键的聚合物中的至少一种组分；和包括下述物质的引发剂体系：(a)能吸收IR辐射的至少一种化合物；(b)能产生自由基的至少一种化合物；和(c)具有用选自N、O和S的杂原子取代的芳族部分且进一步具有至少两个羧基的至少一种多羧酸，其中至少一个所述羧基通过亚甲基键接到杂原子上；条件是聚合物粘合剂的总酸值为70mg KOH/g或更低。
本发明进一步提供一种印版前体，它包括：
基体；和
在该基体上涂布的IR敏感组合物，该组合物包括：聚合物粘合剂；和由下述物质组成的自由基聚合体系：选自不饱和自由基聚合单体、可自由基聚合的寡聚物和在主链中和/或在侧链基团中含C＝C键的聚合物中的至少一种组分；和包括下述物质的引发剂体系：(a)能吸收IR辐射的至少一种化合物；(b)能产生自由基的至少一种化合物；和(c)下述通式表示的至少一种羧酸：
其中R5、R6、R7、R8和R9各自独立地选自氢、烷基、芳基、卤素、烷氧基、羟烷基、羧烷基、烷基硫基、烷基磺酰基、磺酸根、烷基磺酸根、二烷基氨基、酰基、烷氧基羰基、氰基和硝基；其中R5和R6，R6和R7，R7和R8或R8和R9一起非必需地形成芳环或脂族环；其中R10选自氢、烷基、芳基、羟烷基、羧烷基、酰基、烷氧基羰基、烷基磺酰基和烷基磺酸根；或R10和它的键一起非必需地形成电子对；或R9和R11一起非必需地形成环；其中R11是C1-C6碳原子的亚烷基；和其中R10与R11一起非必需地形成脂族环；其中A是选自N、O和S的杂原子；条件是聚合物粘合剂的总酸值为70mg KOH/g或更低。
本发明仍进一步提供制备印版的方法，该方法包括：
将印版前体成影像地曝光于IR辐射下，该印版前体包括：基体；和在该基体上涂布的IR敏感组合物，该组合物包括：聚合物粘合剂；和由下述物质组成的自由基聚合体系：选自不饱和自由基聚合单体、可自由基聚合的寡聚物和在主链中和/或在侧链基团中含C＝C键的聚合物中的至少一种组分；和包括下述物质的引发剂体系：(a)能吸收IR辐射的至少一种化合物；(b)能产生自由基的至少一种化合物；和(c)下述通式表示的至少一种羧酸：
Figure A0282228500131
其中R5、R6、R7、R8和R9各自独立地选自氢、烷基、芳基、卤素、烷氧基、羟烷基、羧烷基、烷基硫基、烷基磺酰基、磺酸根、烷基磺酸根、二烷基氨基、酰基、烷氧基羰基、氰基和硝基；其中R5和R6，R6和R7，R7和R8或R8和R9一起非必需地形成芳环或脂族环；其中R10选自氢、烷基、芳基、羟烷基、羧烷基、酰基、烷氧基羰基、烷基磺酰基和烷基磺酸根；或R10和它的键一起非必需地形成电子对；或R9和R11一起非必需地形成环；其中R11是C1-C6碳原子的亚烷基；和其中R10与R11一起非必需地形成脂族环；其中A是选自N、O和S的杂原子；条件是聚合物粘合剂的总酸值为70mg KOH/g或更低；和之后，
用显影剂溶液显影，产生印版。
本发明还提供产生图像的方法，该方法包括：
用IR敏感组合物涂布非必需地预处理的基体，产生印版前体，其中所述组合物包括：聚合物粘合剂；和由下述物质组成的自由基聚合体系：选自不饱和自由基聚合单体、可自由基聚合的寡聚物和在主链中和/或在侧链基团中含C＝C键的聚合物中的至少一种组分；和包括下述物质的引发剂体系：(a)能吸收IR辐射的至少一种化合物；(b)能产生自由基的至少一种化合物；和(c)下述通式表示的至少一种羧酸：
其中R5、R6、R7、R8和R9各自独立地选自氢、烷基、芳基、卤素、烷氧基、羟烷基、羧烷基、烷基硫基、烷基磺酰基、磺酸根、烷基磺酸根、二烷基氨基、酰基、烷氧基羰基、氰基和硝基；其中R5和R6，R6和R7，R7和R8或R8和R9一起非必需地形成芳环或脂族环；其中R10选自氢、烷基、芳基、羟烷基、羧烷基、酰基、烷氧基羰基、烷基磺酰基和烷基磺酸根；或R10和它的键一起非必需地形成电子对；或R9和R11一起非必需地形成环；其中R11是C1-C6碳原子的亚烷基；和其中R10与R11一起非必需地形成脂族环；其中A是选自N、O和S的杂原子；条件是聚合物粘合剂的总酸值为70mg KOH/g或更低；
将该印版前体成影像地曝光于IR辐射下，生产成影像地曝光的印版前体；和
用含水显影剂显影该前体，获得在其上具有可印刷的平版印刷图像的印版。
为生产要求预热步骤(后曝光加热步骤)的印版，要求使用含内部加热器的自动显影机。这种自动显影机典型地具有较大的占地面积并消耗多得多的能量用于操作，与不含后曝光加热用预热烘箱的自动显影机相比。包括酸值为70mg KOH/g或更低的聚甲基丙烯酸甲酯基粘合剂的本发明组合物，其IR敏感度比在WO00/48836中所述的那些(对于最佳的分辨率和压印(on-press)性能的IR敏感度为约120mJ/cm2)增加约50-60mJ/cm2。因此，对于最佳的分辨率和压印性能，根据本发明制备的印版仅要求约60mJ/cm2。
此外，在本发明中，在没有后曝光烘烤的情况下实现IR敏感度的改进。因此，在具有增加的IR敏感度和没有后显影加热，即后曝光烘烤要求的情况下，大大地增加了在一段时间内可成像并冲洗加工的印版的数量。因此对于本发明印版的高速成像来说，不要求高功率的成像激光。在省去预热步骤的情况下，已有的合适曝光能量和图像质量也更可重现。
潜像稳定性也是与高速、光聚合物印版有关的常见问题。典型地，取决于相对湿度，潜像在约20分钟内开始褪色。在省去后曝光烘烤的情况下，本发明所述印版的潜像稳定性改进了至少3个数量级(稳定数月或更长)，与在WO00/48836中所述的那些相比。结果，本发明节省最终用户的时间和能量成本。另外，认为本发明的印版对高湿度条件不敏感。
发明详述
本发明描述了商业印刷用的高速、负性IR敏感的平版印版，该印版省去了后曝光烘烤条件的要求，和与目前可获得的光聚合负性热敏预热印版相比，IR敏感度的改进超过50％。
在本发明上下文中的术语“预热”或“预加热”，如“预热步骤”或“预热烘箱”，是指“后曝光”但预显影的加热。因此，未预热的印版是在曝光至显影步骤之间不要求加热步骤的印版。
因此，本发明提供一种IR敏感组合物，它包括聚合物粘合剂和可自由基聚合的体系，该聚合物粘合剂优选丙烯酸聚合物。聚合物粘合剂的总酸值为70mg KOH/g或更低。
基本上，本领域已知的所有聚合物或聚合物混合物均可用作聚合物粘合剂。合适的这类聚合物包括，例如丙烯酸和甲基丙烯酸聚合物类和共聚物类，如衍生于丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯的聚合物与共聚物，和纤维素聚合物，如乙酸纤维素、丙酸纤维素、丁酸纤维素，和具有混合酰基的纤维素聚合物，如乙酸丙酸纤维素。优选聚合物的重均分子量范围为10000-1000000(根据GPC测量)。
为了在没有后曝光烘烤的情况下实现良好的图像完整性，优选所使用的聚合物的酸值为70mg KOH/g或更低。当使用聚合物混合物时，各酸值的算术平均必须为70mg KOH/g或更低。优选聚合物粘合剂的总酸值为50mg KOH/g或更低。更优选聚合物粘合剂的总酸值为30mgKOH/g或更低。特别优选的是总酸值为10mg KOH/g或更低，其中包括0的聚合物。最优选的聚合物是总酸值为0的那些。
优选这些聚合物是衍生于丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯的聚合物和共聚物，如丙烯酸和甲基丙烯酸的甲酯、乙酯、丁酯和苄酯。特别优选的是聚甲基丙烯酸甲酯。组合物可进一步包括附加的聚合物与共聚物。然而，在所有情况下，总酸值必须保持70mg KOH/g或更低。
通过凝胶渗透色谱(GPC)进行所有分子量的表征，和通过起始聚合物酸值(通过滴定来确定)的重量百分数之和来确定总酸值。
衍生于丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯的聚合物的分子量可以是1000-1000000g/mol。优选聚合物的分子量为约100000g/mol，更优选聚合物的分子量为约70000g/mol。特别优选的是分子量为约40000g/mol的聚合物。优选聚合物可以是多分散度为1-5的直链或支链聚合物。
在IR敏感组合物内的聚合物粘合剂的含量占IR敏感组合物中总固体含量的20-80wt％，优选30-60wt％，更优选35-45wt％。
自由基聚合体系具有一种或多种下述物质：不饱和自由基聚合单体、可自由基聚合的寡聚物和在主链上和/或在侧链基团中含C＝C键的聚合物，以及引发剂体系。
引发剂体系具有(a)能吸收IR辐射的至少一种化合物；(b)能产生自由基的至少一种化合物；和(c)下述通式表示的至少一种单羧酸或多羧酸：
其中R5、R6、R7、R8和R9各自独立地选自氢、烷基、芳基、卤素、烷氧基、羟烷基、羧烷基、烷基硫基、烷基磺酰基、磺酸根、烷基磺酸根、二烷基氨基、酰基、烷氧基羰基、氰基和硝基；其中R5和R6，R6和R7，R7和R8或R8和R9一起非必需地形成芳环或脂族环；其中R10选自氢、烷基、芳基、羟烷基、羧烷基、酰基、烷氧基羰基、烷基磺酰基和烷基磺酸根；其中R10和它的键一起非必需地形成电子对；或R9和R11一起非必需地形成环；其中R11是C1-C6碳原子的亚烷基；和其中R10与R11一起非必需地形成脂族环；其中A是选自N、O和S的杂原子。
多羧酸优选具有用选自N、O和S的杂原子取代和进一步具有至少两个羧基的芳族部分，其中至少一个羧基通过亚甲基键接到杂原子上。
有用的红外吸收化合物典型地在大于约750nm的某一部分电磁光谱内具有最大吸收波长；更特别地，它们的最大吸收波长范围为780-1100nm。
优选组分(a)包括选自三芳基胺染料、噻唑鎓染料、吲哚鎓染料、噁唑鎓染料、菁染料、聚苯胺染料、聚吡咯染料、聚噻吩染料、无色染料和酞菁颜料和染料中的至少一种化合物。
更优选组分(a)包括通式(A)的菁染料：
其中各X可独立地为S、O、NR或C(烷基)2；
各R1可独立地为烷基、烷基磺酸根或烷基铵基；
R2可以是氢、卤素、SR、SO2R、OR或NR2；
各R3可独立地为氢、烷基、COOR、OR、SR、SO3 -、NR2、卤素和非必需地取代的苯并稠环；
A-表示阴离子；
---表示非必需的五元或六元碳环；
其中各R可独立地为氢、烷基和芳基；和
其中各n可独立地为0、1、2或3。
若R1是烷基磺酸根，则由于形成了内盐，所以A-可以不存在，和碱金属阳离子作为反离子将是必需的。若R1是烷基铵基，则将需要第二种阴离子作为反离子。第二种阴离子可以与A-相同或可以是不同的阴离子。
化合物(b)优选选自多卤代烷基取代的化合物和吖嗪鎓化合物。
在本发明的自由基聚合体系中，在组分(a)与组分(b)和羧酸之间形成自由基。为了实现高程度的辐射敏感度，存在所有三种组分是必不可少的。发现，当没有组分(b)时获得对辐射完全不敏感的组合物。
为了在没有牺牲稳定性的情况下获得所要求的热敏速度，则多羧酸是必需的。若多羧酸例如被硼酸铵替代，则辐射敏感度可能略微下降和这种组合物的热稳定性可能不足。
合适的不饱和自由基聚合单体或寡聚物包括，例如具有一个或多个不饱和基团的丙烯酸或甲基丙烯酸衍生物，优选单体形式的丙烯酸或甲基丙烯酸的酯、寡聚物或预聚物。它们可以以固体或液体形式存在，其中优选固体和高度粘稠的形式。
适合作为单体的化合物包括，例如三羟甲基丙烷三丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯，季戊四醇三丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯，二季戊四醇单羟基五丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯，二季戊四醇六丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯，季戊四醇四丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯，双三羟甲基丙烷四丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯，二甘醇二丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯，三甘醇二丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯或四甘醇二丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯。
合适的寡聚物和/或预聚物包括氨基甲酸乙酯丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯，如Desmodur N-100，丙烯酸羟乙酯和季戊四醇三丙烯酸酯的反应产物；环氧化物丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯；聚酯丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯；聚醚丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯；和不饱和聚酯树脂。
除了单体和寡聚物之外，还可使用在主链和/或在侧链上具有C＝C键的聚合物。实例包括：马来酸酐-烯烃共聚物和(甲基)丙烯酸羟烷酯的反应产物，含烯丙基醇基的聚酯，聚合多元醇和(甲基)丙烯酸异氰酸烷基酯的反应产物，不饱和聚酯，(甲基)丙烯酸酯封端的聚苯乙烯，聚(甲基)丙烯酸类和聚醚类。
自由基聚合单体或寡聚物的重量比率是IR敏感组合物总固体含量的约25wt％-约75wt％，优选约35wt％-约60wt％，更优选约45wt％-约55wt％。
本发明的引发剂体系包括能吸收IR辐射的化合物作为主要组分。这种IR吸收剂优选选自三芳基胺染料、噻唑鎓染料、吲哚鎓染料、噁唑鎓染料、菁染料、聚苯胺染料、聚吡咯染料、聚噻吩染料和酞菁颜料和染料。更优选的是通式(A)的IR染料：
其中各X可独立地为S、O、NR或C(烷基)2；
各R1可独立地为烷基、烷基磺酸根或烷基铵基；
R2可以是氢、卤素、SR、SO2R、OR或NR2；
各R3可独立地为氢、烷基、COOR、OR、SR、SO3 -、NR2、卤素和非必需地取代的苯并稠环；
A-表示阴离子；
---表示非必需的五元或六元碳环；
其中各R可独立地为氢、烷基和芳基；和
其中各n可独立地为0、1、2或3。
这些染料吸收范围是750-1100nm。优选通式(A)的染料，它吸收的范围是780-860nm。
通式(A)的特别优选的IR染料包括以下定义的化合物：
X优选C(烷基)2；
R1优选具有1-4个碳原子的烷基；
R2优选SR；
R3优选氢；
R优选烷基或芳基，特别优选的是苯基；
---(即虚线)优选表示具有5或6个碳原子的环的其余部分；和
反离子A-优选氯离子或甲苯磺酸根阴离子。
特别优选包括对称的IR染料，如通式(A)表示的对称染料。这种特别优选的染料的实例包括：
2-[2-[2-苯基磺酰基-3-[2-(1，3-二氢-1，3，3-三甲基-2H-二氢吲哚-2-亚基(-2H-indol-2-ylidene))-亚乙基]-1-环己烯-1-基]-乙烯基]-1，3，3-三甲基-3H-吲哚鎓氯化物；
2-[2-[2-苯硫基-3-[2-(1，3-二氢-1，3，3-三甲基-2H-二氢吲哚-2-亚基)-亚乙基]-1-环己烯-1-基]-乙烯基]-1，3，3-三甲基-3H-吲哚鎓氯化物；
2-[2-[2-苯硫基-3-[2-(1，3-二氢-1，3，3-三甲基-2H-二氢吲哚-2-亚基)-亚乙基]-1-环戊烯-1-基]-乙烯基]-1，3，3-三甲基-3H-吲哚鎓甲苯磺酸盐；
2-[2-[2-氯-3-[2-乙基-(3H-苯并噻唑-2-亚基)-亚乙基]-1-环己烯-1-基]-乙烯基]-3-乙基-苯并噻唑鎓甲苯磺酸盐；和
2-[2-[2-氯-3-[2-(1，3-二氢-1，3，3-三甲基-2H-二氢吲哚-2-亚基)-亚乙基]-1-环己烯-1-基]-乙烯基]-1，3，3-三甲基-3H-吲哚鎓甲苯磺酸盐。
可在本发明组合物中使用的附加的IR吸收剂包括下述化合物：
Figure A0282228500221
Figure A0282228500231
优选IR吸收剂(a)以约0.05wt％-约20wt％，优选约0.5-8wt％，和更优选约1.0-3wt％的用量存在于IR敏感组合物中，基于IR敏感组合物的总固体含量。
引发剂体系的另一主要组分是能产生自由基的化合物(b)。优选该化合物选自多卤代烷基取代的化合物和吖嗪鎓化合物。特别优选的是多卤代烷基取代的化合物。这些是含有一个多卤化或数个单卤化烷基取代基的化合物。卤化烷基优选具有1-3个碳原子。特别优选卤化甲基。
多卤代烷基取代的化合物的吸收性能基本上决定了IR敏感组合物的日光稳定性。UV/VIS吸收最大值＞330nm的化合物导致在印版于日光下保持6-8分钟，然后再加热之后，可能不再完全显影的组合物。这种组合物不仅可用IR，而且可用UV辐射成影像地曝光。若希望较高程度的日光稳定性，则优选多卤代烷基取代的化合物，该化合物在＞330nm处不具有UV/VIS吸收最大值。
吖嗪鎓化合物包括吖嗪鎓核，如吡啶鎓、二嗪鎓或三嗪鎓核。吖嗪鎓核可包括一个或多个芳环，典型地用吖嗪鎓环稠合的碳环芳环。换句话说，吖嗪鎓核包括喹啉鎓、异喹啉鎓、苯并二嗪鎓和萘重氮鎓核。为了实现每单位重量可达到的最高活化效率，优选使用单环吖嗪鎓核。
当电子从光敏剂转移到吖嗪鎓化合物上时，在吖嗪鎓环内氮原子的季铵化取代基能以自由基形式释放。在一种优选的形式中，季铵化取代基是氧取代基。氧取代基(-O-R)(它季铵化吖嗪鎓核上的环氮原子)可选自各种合成上方便的氧取代基。R部分可以例如是烷基，其中烷基可被取代；例如包括芳烷基和磺烷基。最优选的氧取代基(-O-R)含有1或2个碳原子。
本发明组合物中特别合适的化合物(b)的实例包括：
N-甲氧基-4-苯基吡啶鎓四氟硼酸盐；
三溴甲基苯基砜；
1，2，3，4-四溴正丁烷；
2-(4-甲氧基苯基)-4，6-双(三氯甲基)-s-三嗪；
2-(4-氯苯基)-4，6-双(三氯甲基)-s-三嗪；
2-苯基-4，6-双(三氯甲基)-s-三嗪；
2，4，6-三(三氯甲基)-s-三嗪；
2，4，6-三(三溴甲基)-s-三嗪；
2-羟基十四烷氧基苯基苯基碘鎓六氟锑酸盐；和
2-甲氧基-4-苯基氨基苯重氮鎓六氟磷酸盐.
此外，在本发明组合物中，下述化合物用作引发剂(b)：
优选IR化合物(b)以约2-15wt％的用量存在于IR敏感组合物中，基于IR敏感组合物的总固体含量；特别优选用量为4-7wt％。
羧酸(它是化合物(c))可以是在具有能产生自由基的化合物的引发剂体系内能充当共引发剂的任何羧酸。优选羧酸具有用选自N、O和S中的杂原子取代的芳族部分。优选羧酸包括至少两个羧基(多羧酸)，其中至少一个羧基通过亚甲基键接到杂原子上。尽管优选多羧酸，但单羧酸，即具有一个羧酸基团的羧酸也适用于本发明的IR敏感组合物。单羧酸的优选实例包括N-芳基-α-氨基羧酸，如PhNHCH2COOH，和多羧酸的优选实例包括N-苯基亚氨基二乙酸。优选的羧酸的进一步的实例包括：
(对乙酰氨基苯基亚氨基)二乙酸；
3-(双(羧甲基)氨基)苯甲酸；
4-(双(羧甲基)氨基)苯甲酸；
2-((羧甲基)苯基氨基)苯甲酸；
2-((羧甲基)苯基氨基)-5-甲氧基苯甲酸；
3-(双(羧甲基)氨基-2-萘甲酸；
N-(4-氨基苯基)-N-(羧甲基)甘氨酸；
N，N′-1，3-亚苯基双甘氨酸
N，N′-1，3-亚苯基双(N-(羧甲基))甘氨酸；
N，N′-1，2-亚苯基双(N-(羧甲基))甘氨酸；
N-(羧甲基)-N-(4-甲氧基苯基)甘氨酸；
N-(羧甲基)-N-(3-甲氧基苯基)甘氨酸；
N-(羧甲基)-N-(3-羟苯基)甘氨酸；
N-(羧甲基)-N-(3-氯苯基)甘氨酸；
N-(羧甲基)-N-(4-溴苯基)甘氨酸；
N-(羧甲基)-N-(4-氯苯基)甘氨酸；
N-(羧甲基)-N-(2-氯苯基)甘氨酸；
N-(羧甲基)-N-(4-乙苯基)甘氨酸；
N-(羧甲基)-N-(2，3-二甲基苯基)甘氨酸；
N-(羧甲基)-N-(3，4-二甲基苯基)甘氨酸；
N-(羧甲基)-N-(3，5-二甲基苯基)甘氨酸；
N-(羧甲基)-N-(2，4-二甲基苯基)甘氨酸；
N-(羧甲基)-N-(2，6-二甲基苯基)甘氨酸；
N-(羧甲基)-N-(4-甲酰基苯基)甘氨酸；
N-(羧甲基)-N-乙基邻氨基苯甲酸；
N-(羧甲基)-N-丙基邻氨基苯甲酸
5-溴-N-(羧甲基)邻氨基苯甲酸；
N-(2-羧苯基)甘氨酸；
邻联茴香胺-N，N，N′，N′-四乙酸；
N，N′-(1，2-乙烷二基双(氧基-2，1-亚苯基))双(N-(羧甲基)甘氨酸)；
4-羧基苯氧基乙酸；
儿茶酚-O，O′-二乙酸；
4-甲基儿茶酚-O，O′-二乙酸；
间苯二酚-O，O′-二乙酸；
氢醌-O，O′-二乙酸；
α-羧基-邻茴香酸；
4，4′-亚异丙基二苯氧基乙酸；
2，2′-(二苯并呋喃-2，8-二基二氧基)二乙酸；
2-(羧基甲硫基)苯甲酸；
5-氨基-2-(羧基甲硫基)苯甲酸；和
3-((羧甲基)硫基)-2-萘甲酸。
优选的多羧酸包括N-芳基多羧酸，特别具有下述通式(B)的那些：
Figure A0282228500291
其中Ar是单取代、多取代或未取代的芳基，和p是1-5的整数，和通式(C)的那些：
Figure A0282228500292
其中R4表示氢或C1-C6烷基和k与m各自表示1-5的整数。
通式(B)内芳基的可能取代基是C1-C3烷基、C1-C3烷氧基、C1-C3硫代烷基和卤原子。芳基可具有1-3个相同或不同的取代基，和优选p为1，和优选Ar表示苯基。在通式(C)中，m优选为1和R4优选表示氢。最优选的多羧酸是N-苯基亚氨基二乙酸。
单羧酸或多羧酸优选以1-10wt％，特别优选1.5-3wt％的用量存在于IR敏感组合物中，基于IR敏感组合物的总固体含量。
IR敏感组合物可进一步包括染料，以改进图像的对比度。合适的染料是在涂敷所使用的溶剂或溶剂混合物中很好地溶解或容易地以颜料分散液的形式引入的那些。合适的对比染料包括若丹明染料、三芳基甲烷染料、甲基紫、蒽醌颜料和酞菁染料和/或颜料。优选染料以1-15wt％的用量，优选2-7wt％的用量存在于IR敏感组合物中。
本发明的IR敏感组合物可进一步包括增塑剂。合适的增塑剂包括邻苯二甲酸二丁酯、磷酸三芳酯和邻苯二甲酸二辛酯。若使用增塑剂，其优选以0.25-2wt％的用量范围存在。
本发明的IR敏感组合物适用于制造印版前体。它们可以在合适的基体上生成图像用的记录组合物中使用，以及在产生可用作印版、荧光屏等凸纹(relief)用的接收片材上使用。另外，它们可以在表面保护用可辐射固化清漆中使用和在可辐射固化的印刷油墨配方中使用。为了制造胶版印版前体，可使用任何常规的基体。优选载体应当结实、稳定和柔韧。它还应当在使用条件下抗尺寸变化，以便色彩记录存储在全色图像中。它可以是任何自支撑材料，其中包括聚合物膜，如聚对苯二甲酸乙二酯膜、陶瓷、金属、硬纸或任何这些材料的层压材料。这种金属载体的实例包括铝、锌、钛及其合金。特别优选使用铝基体。优选首先粗糙化铝基体的表面。通过在干燥状态下刷擦，或用磨蚀悬浮液刷擦进行粗糙化。也可例如在盐酸电解质中电化学地进行粗糙化。然后优选在聚乙烯基膦酸或磷酸的水溶液中，对粗糙化的基体印版进行亲水后处理，其中可在硫酸或磷酸中非必需地阳极氧化所述粗糙化的基体印版。优选基体是预处理的亲水基体，如铝或聚酯。以上所述的基体预处理的细节是本领域技术人员公知的。然后，使用有机溶剂或溶剂混合物，用本发明的IR敏感组合物涂布干燥的基体，以产生干重约0.5-约4.0g/m2，更优选约0.8-约3.0g/m2，和最优选约1.0-约2.5g/m2的涂层。
可通过本领域已知的方法，在IR敏感层上涂布不可渗透氧气的层。在本发明的上下文中，术语“不可渗透氧气的层”包括对氧气具有低渗透率的层。不可渗透氧气的层可包括聚乙烯醇、聚乙烯醇/聚醋酸乙烯酯共聚物、聚乙烯吡咯烷酮、聚乙烯吡咯烷酮/聚醋酸乙烯酯共聚物、聚乙烯基甲醚、聚丙烯酸和明胶。不可渗透氧气的层的干层重量优选0.1-4g/m2，更优选0.3-2g/m2。这一外涂层不仅用作氧气阻挡，而且它还保护印版避免在曝光于IR辐射过程中的风化。
使用例如在约800nm-约1100nm范围内发射的半导体激光或激光二极管，来成影像地曝光以这一方式获得的印版前体。可藉助计算机来数字化控制这种激光束，即可开启或关闭它，以便可藉助计算机内储存的数字化信息进行印版的成影像地曝光。因此，本发明的IR敏感组合物适合于生产被称为计算机控制制版(computer-to-plate，ctp)的印版。或者，可使用含热敏印刷头的装置，使可热成像的元件(element)成像。适合于与可热成像的元件联合使用的成像装置包括至少一个加热头，但通常包括一排加热头，如TDK Model No.LV5416(它可在热敏传真机和升华打印机中使用)，和GS618-400热敏图像显示器(Oyo Instruments，Houston，TX，USA)。合适的可商购成像装置包括图像调节器，如CREO TRENDSETTERS(CREOSCITEX，BritishColumbia，加拿大)和GERBER CRESCENT 42T。
在成影像地曝光印版前体之后，可将它非必需地在短的时间段内加热到约85℃-约135℃的温度，以便进行曝光区的完全固化。取决于所施加的温度，这需要花费仅仅约20-约100秒。然后，通过本领域技术人员已知的方法，如在美国专利No.5035982中所述的那些，在含水显影组合物中使印版显影。之后，可用防腐剂处理已显影的印版。防腐剂是亲水聚合物、润湿剂和其它添加剂的水溶液。
下述实施例用于提供负性平版印版的详细说明，该负性平版印版具有改进的IR敏感度和改进的潜像稳定性，但不要求后曝光烘烤。
实施例1
如表1所示，制备含下述组分的底涂层溶液。
                         表1
实施例1：底涂层配方
重量份   组分
3.55      通过使1-甲基-2，4-二异氰酸苯酯(Desmodur N
          100，Bayer)与丙烯酸羟乙酯和季戊四醇三丙烯酸酯
          反应制备的氨基甲酸乙酯丙烯酸酯
0.74    Sartomer 355(多官能团丙烯酸单体；Startomer
        Co.，Inc.，三羟甲基丙烷四丙烯酸酯)
3.24    Elvacite 4026(酸值为0，MW为32.5，Mw/Mn＝4.3的
        高度支化的聚甲基丙烯酸甲酯，获自Ineos
        Acrylics，Inc.，Cordova，TN)
0.40    2-(4-甲氧基苯基)-4，6-双(三氯甲基)-2-三嗪
0.22    N-苯基亚氨基二乙酸
0.08    2-[2-[2-苯硫基-3-[2-(1，3-二氢-1，3，3-三甲基-2H-二氢
        吲哚-2-亚基)-亚乙基]-1-环己烯-1-基]-乙烯基]-1，3，3-
        三甲基-3H-吲哚鎓氯化物
0.10    结晶紫
0.02    Byk307(改性聚硅氧烷；Byk Chemie)
13.75   甲乙酮
22.91   甲苯
54.99   1-甲氧基-2-丙醇
采用绕线式刮棒，在用电化学方法使表面变粗糙并阳极化的铝上涂敷上述溶液，其中已对所述铝进行聚乙烯基膦酸后处理，得到2g/m2的干燥涂层重量。在Ranar传送带式烘箱中，在约94℃下干燥该印版约60秒的停留时间。由5.26份Airvol 203、0.93份聚乙烯基咪唑、3.94份异丙醇和89.87份水制备外涂层溶液。在以与底涂层类似的方式施涂外涂层之后，在Ranar传送带式烘箱中，在约94℃下干燥该印版约90秒的停留时间。外涂层的干燥涂层重量同样为2g/m2。在CreoTrendsetter 3244x上，在2W和35-250rpm下使这些印版成像。该系列的曝光范围是20-150mJ/cm2。实现最大加工密度所需的最小曝光能量为约26mJ/cm2。在没有后曝光烘烤的情况下，采用表2所示的显影剂溶液冲洗印版。
                         表2
实施例1显影剂配方
组分                               重量份
水                                  83.58
二甲苯磺酸钠(40％)                  3.83
甲苯磺酸钠(40％)                    1.73
苯甲醇                              3.41
聚乙烯醇205(10％)                   4.16
二乙醇胺(85％)                      0.36
十二烷基苯磺酸钠                    0.27
Triton H-66(50％)(获自Rohm & Haas)  2.66
使用含1.5wt％碳酸钙的黑色油墨，在加速磨耗条件下，在Miehle供纸印刷机上安装的印版产生约5000次优良的图像再现。通过在安装到印刷机上之前进行UV固化印版，在加速磨耗条件下，压印次数增加到约50000次。通过在具有22个单元(unit)的Olec真空系统(5kW灯泡)上强力(flood)曝光印版，完成UV固化。
实施例2、3和4
如实施例1所述制备实施例2、3和4的底涂层配方，所不同的是，用Mw为10K(实施例2)或30K(实施例3)的聚甲基丙烯酸甲酯聚合物(均来自Aldrich)或MW为约35K(实施例4)的(甲基丙烯酸甲酯)/甲基丙烯酸共聚物(获自Ineos Acrylics，Inc.)，替代Elvacite4026。这些聚合物各自的多分散度为1-1.8，和酸值为0(实施例2和3)与9(实施例4)。如实施例1所述，施涂底涂层并制备和施涂外涂层。如实施例1所述使印版成像和冲洗加工。对于实施例2、3和4而言，实现最大加工密度所需的最小曝光能量分别为约35mJ/cm2、约26mJ/cm2和约40mJ/cm2。
对比例1
在该实施例中，用1.62份Jagotex MA 2814/MP(酸值为125mgKOH/g和MW为约90K的三元共聚物；Ernst Yager GmbH & Co.)和1.62份Joncryl 683(酸值为150mg KOH/g和MW为约10K的丙烯酸聚合物；SC Johnson & Son，Inc.)替代实施例1的底涂层配方中的Elvacite 4026。Jagotex三元共聚物含有43.3％苯乙烯、45％甲基丙烯酸甲酯和11.7％丙烯酸。如实施例1所述，施涂底涂层并制备和施涂外涂层。如实施例1所述使印版成像。通过引入有980显影剂(KodakPolychrome Graphics)的Technigraph自动显影机加工印版，其中所述自动显影机配有预热烘箱，其使得印版达到125℃的背面温度。实现最大加工密度所需的最小曝光能量为约50mJ/cm2。通过用预热烘箱报废的同一Technigraph自动显影机冲洗加工如上所述的第二印版。在冲洗加工之后没有涂层保留。
对比例2和3
在这些实施例中，用Joncryl 683(酸值为150mg KOH/g和MW为约10000g/mol的丙烯酸聚合物；Sc Johnson & Son，Inc.)(对比例2)或Jagotex MA 2814/MP(酸值为125mg KOH/g和MW为约90K的三元共聚物；Ernst Yager GmbH & Co.)(对比例3)替代实施例1的底涂层配方中的Elvacite 4026。Jagotex三元共聚物含有43.3％苯乙烯、45％甲基丙烯酸甲酯和11.7％丙烯酸。如实施例1所述，施涂底涂层并制备和施涂外涂层。如实施例1所述使印版成像。通过引入有980显影剂且预热烘箱报废的Technigraph自动显影机冲洗加工印版。对于对比例2或对比例3，在加工之后没有涂层保留。
实施例5、6和7
如实施例1所述制备实施例5、6和7的底涂层配方，所不同的是，用N-苯基甘氨酸(Eastman Kodak)(实施例5)、1H-1，2，4-三唑-3-硫醇(Aldrich)(实施例6)或(2-甲氧基苯氧基)乙酸(Aldrich)(实施例7)替代N-苯基亚氨基二乙酸。如实施例1所述，施涂底涂层并制备和施涂外涂层。如实施例1所述使印版成像和冲洗加工。对于实施例5、6和7而言，实现最大加工密度所需的最小曝光能量分别为约30mJ/cm2、约30mJ/cm2和约40mJ/cm2。
对比例4、5和6
如对比例1所述制备对比例4、5和6的底涂层和外涂层配方，所不同的是使用N-苯基甘氨酸(Eastman Kodak)(对比例4)、1H-1，2，4-三唑-3-硫醇(Aldrich)(对比例5)或(2-甲氧基苯氧基)乙酸(Aldrich)(对比例6)替代N-苯基亚氨基二乙酸。如实施例1所述使印版成像。
通过引入有980显影剂(Kodak Polychrome Graphics)的Technigraph自动显影机加工印版，其中所述自动显影机配有预热烘箱，其使得印版达到125℃的背面温度。实现最大加工密度所需的最小曝光能量为约120mJ/cm2(对比例4)、98mJ/cm2(对比例5)和90mJ/cm2(对比例6)。
改变引发剂体系的这一组分的结果是，在粘合剂总酸值为138mgKOH/g的对比例4、5和6中产生比在粘合剂酸值为0的实施例5、6和7中大得多的影响。
实施例8、9、10和11
如实施例1所述制备实施例8、9、10和11的底涂层配方，所不同的是，用2-(4-甲基苯硫基)-4，6-双(三氯甲基)-1，3，5-三嗪(Lancaster)(实施例8)、2-甲氧基-4-(苯基氨基)苯重氮鎓盐六氟磷酸盐(实施例9)、二苯基碘鎓六氟磷酸盐(根据J.Crivello等的方法制备，J.Org.Chem.，Vol.43，3055(1978))(实施例10)或2，2′-双(邻氯苯基)-4，5，4′，5′-四苯基双咪唑(Charkit Chemical Corp.)(实施例11)替代2-(4-甲氧基苯基)-4，6-双(三氯甲基)-2-三嗪。如实施例1所述，施涂底涂层并制备和施涂外涂层。如实施例1所述使印版成像和冲洗加工。对于实施例8、9和10而言，实现最大加工密度所需的最小曝光能量分别为约26mJ/cm2、约47mJ/cm2和约108mJ/cm2。当在底涂层配方内掺入2，2′-双(邻氯苯基)-4，5，4′，5′-四苯基双咪唑时，产生图像，但图像并不完全抗实施例1所述显影剂。实施例11实现最大加工密度所需的最小曝光能量估计为约100mJ/cm2。
对比例7
如对比例1所述制备对比例7的底涂层配方，所不同的是使用2-甲氧基-4-(苯基氨基)苯重氮鎓六氟膦酸盐替代2-(4-甲氧基苯基)-4，6-双(三氯甲基)-2-三嗪。如实施例1所述，施涂底涂层并制备和施涂外涂层。如实施例1所述使印版成像。通过引入有980显影剂(KodakPolychrome Graphics)的Technigraph自动显影机冲洗加工印版，其中所述自动显影机配有预热烘箱，其使得印版达到125℃的背面温度。由于整个涂层过早固化，所以没有产生图像。当用预热烘箱报废的Technigraph加工该印版时，整个涂层同样过早固化和不存在图像。与含聚甲基丙烯酸甲酯基聚合物的实施例9(它在印版上产生可接受的图像)相比，这是不利的结果。
实施例12
如实施例1所述制备实施例12的底涂层配方，所不同的是，用聚甲基丙烯酸苄酯(酸值为0mg KOH/g，获自Aldrich)替代Elvacite4026。如实施例1所述，施涂底涂层并制备和施涂外涂层。如实施例1所述使印版成像和冲洗加工。实现最大加工密度所需的最小曝光能量为约22mJ/cm2。
实施例13
如实施例1所述制备实施例13的底涂层配方，所不同的是，红外吸收剂2-[2-[2-苯硫基-3-[2-(1，3-二氢-1，3，3-三甲基-2H-二氢吲哚-2-亚基)-亚乙基]-1-环己烯-1-基]-乙烯基]-1，3，3-三甲基-3H-吲哚鎓氯化物的用量降低到0.0042重量份，和1-甲氧基-2-丙醇增加到55.0658重量份。如实施例1所述，施涂底涂层并制备和施涂外涂层。如实施例1所述使印版成像。在一种情况下，在没有后曝光加热步骤的情况下，用表2所述的显影剂直接冲洗加工印版。实现最大加工密度所需的最小曝光能量为约79mJ/cm2。在另一情况下，使印版进行后曝光预热步骤。在后曝光加热步骤过程中，使印版经过传送速度为3ft/min、设定268℃的Wisconsin烘箱。这在印版的背面上产生125℃的温度。用表2所述的显影剂冲洗加工印版。在此情况下，实现最大加工密度所需的最小曝光能量为63mJ/cm2。省去后曝光烘烤步骤，实现最大密度所需的最小曝光能量仅仅损失约20％。在对比例1中，预热印版和未预热印版之间的差别远大于150％。该实施例还说明，甚至在红外吸收剂含量降低接近20倍的情况下，在成像过程中本发明有效吸收足量红外辐射从而产生满意图像的效率。
实施例14、15和16
如实施例1所述制备实施例14、15和16的底涂层配方，所不同的是，用下述乙酸丙酸纤维素聚合物(获自Eastman ChemicalCompany)替代Elvacite 4026：CAP-540-0.2(实施例14)、CAP-482-0.5(实施例15)和CAP-482-20(实施例16)。这些聚合物的酸值为0mg KOH/g。如实施例1所述，施涂底涂层并制备和施涂外涂层，并使印版成像和冲洗加工。实现最大加工密度所需的最小曝光能量，实施例14为约25mJ/cm2，实施例15为约35mJ/cm2，和实施例16为约37mJ/cm2。
特别参考优选的实施方案描述了本发明。应当理解，本领域的技术人员可设计本发明的变化和改性，而没有脱离本发明的精神与范围。因此，本发明囊括落在所附权利要求范围内的所有这些替代方案、改性和变化。

Claims (10)

1.一种IR敏感组合物，包括：
聚合物粘合剂；和
由下述物质组成的自由基聚合体系：选自不饱和自由基聚合单体、可自由基聚合的寡聚物和在主链上和/或在侧链基团中含C＝C键的聚合物的至少一种组分；和包括下述物质的引发剂体系：(a)能吸收IR辐射的至少一种化合物，(b)能产生自由基的至少一种化合物，和(c)下述通式表示的至少一种羧酸：
Figure A028222850002C1
其中R5、R6、R7、R8和R9各自独立地选自氢、烷基、芳基、卤素、烷氧基、羟烷基、羧烷基、烷基硫基、烷基磺酰基、磺酸根、烷基磺酸根、二烷基氨基、酰基、烷氧基羰基、氰基和硝基；其中R5和R6，R6和R7，R7和R8或R8和R9一起非必需地形成芳环或脂族环；
其中R10选自氢、烷基、芳基、羟烷基、羧烷基、酰基、烷氧基羰基、烷基磺酰基和烷基磺酸根；或R10和它的键一起非必需地形成电子对；或R9和R11一起非必需地形成环；
其中R11是C1-C6碳原子的亚烷基；和其中R10与R11一起非必需地形成脂族环；
其中A是选自N、O和S的杂原子；
条件是所述聚合物粘合剂的总酸值为70mg KOH/g或更低。
2.一种印版前体，包括：
基体；和
在所述基体上涂布的IR敏感组合物，该组合物包括：聚合物粘合剂和由下述物质组成的自由基聚合体系：选自不饱和自由基聚合单体、可自由基聚合的寡聚物和在主链上和/或在侧链基团中含C＝C键的聚合物中的至少一种组分，和包括下述物质的引发剂体系：(a)能吸收IR辐射的至少一种化合物；(b)能产生自由基的至少一种化合物；和(c)下述通式表示的至少一种羧酸：
Figure A028222850003C1
其中R5、R6、R7、R8和R9各自独立地选自氢、烷基、芳基、卤素、烷氧基、羟烷基、羧烷基、烷基硫基、烷基磺酰基、磺酸根、烷基磺酸根、二烷基氨基、酰基、烷氧基羰基、氰基和硝基；其中R5和R6，R6和R7，R7和R8或R8和R9一起非必需地形成芳环或脂族环；其中R10选自氢、烷基、芳基、羟烷基、羧烷基、酰基、烷氧基羰基、烷基磺酰基和烷基磺酸根；或R10和它的键一起非必需地形成电子对；或R9和R11一起非必需地形成环；其中R11是C1-C6碳原子的亚烷基；和其中R10与R11一起非必需地形成脂族环；其中A是选自N、O和S的杂原子；条件是所述聚合物粘合剂的总酸值为70mg KOH/g或更低。
3.一种制备印版的方法，该方法包括：
将印版前体成影像地曝光于IR辐射下，所述印版前体包括：基体和在所述基体上涂布的IR敏感组合物，该组合物包括：聚合物粘合剂和由下述物质组成的自由基聚合体系：选自不饱和自由基聚合单体、可自由基聚合的寡聚物和在主链上和/或在侧链基团中含C＝C键的聚合物中的至少一种组分，和包括下述物质的引发剂体系：(a)能吸收IR辐射的至少一种化合物；(b)能产生自由基的至少一种化合物；和(c)下述通式表示的至少一种羧酸：
其中R5、R6、R7、R8和R9各自独立地选自氢、烷基、芳基、卤素、烷氧基、羟烷基、羧烷基、烷基硫基、烷基磺酰基、磺酸根、烷基磺酸根、二烷基氨基、酰基、烷氧基羰基、氰基和硝基；其中R5和R6，R6和R7，R7和R8或R8和R9一起非必需地形成芳环或脂族环；其中R10选自氢、烷基、芳基、羟烷基、羧烷基、酰基、烷氧基羰基、烷基磺酰基和烷基磺酸根；或R10和它的键一起非必需地形成电子对；或R9和R11一起非必需地形成环；其中R11是C1-C6碳原子的亚烷基；和其中R10与R11一起非必需地形成脂族环；其中A是选自N、O和S的杂原子；条件是所述聚合物粘合剂的总酸值为70mg KOH/g或更低；和之后，
用显影剂溶液显影，产生印版。
4.权利要求3的方法，进一步包括在所述显影步骤之前加热所述已曝光前体。
5.权利要求3的方法，进一步包括后显影烘烤或UV固化。
6.一种生产图像的方法，该方法包括：
用IR敏感组合物涂布非必需地预处理的基体，产生印版前体，其中所述组合物包括：聚合物粘合剂和由下述物质组成的自由基聚合体系：选自不饱和自由基聚合单体、可自由基聚合的寡聚物和在主链上和/或在侧链基团中含C＝C键的聚合物中的至少一种组分，和包括下述物质的引发剂体系：(a)能吸收IR辐射的至少一种化合物；(b)能产生自由基的至少一种化合物；和(c)下述通式表示的至少一种羧酸：
Figure A028222850005C1
其中R5、R6、R7、R8和R9各自独立地选自氢、烷基、芳基、卤素、烷氧基、羟烷基、羧烷基、烷基硫基、烷基磺酰基、磺酸根、烷基磺酸根、二烷基氨基、酰基、烷氧基羰基、氰基和硝基；其中R5和R6，R6和R7，R7和R8或R8和R9一起非必需地形成芳环或脂族环；其中R10选自氢、烷基、芳基、羟烷基、羧烷基、酰基、烷氧基羰基、烷基磺酰基和烷基磺酸根；或R10和它的键一起非必需地形成电子对；或R9和R11一起非必需地形成环；其中R11是C1-C6碳原子的亚烷基；和其中R10与R11一起非必需地形成脂族环；其中A是选自N、O和S的杂原子；条件是所述聚合物粘合剂的总酸值为70mg KOH/g或更低；
将所述印版前体成影像地曝光于IR辐射下，生产成影像地曝光的印版前体；和之后
用含水显影剂显影该前体，获得在其上具有可印刷的平版印刷图像的印版。
7.一种IR敏感组合物，包括：
聚合物粘合剂；和
由下述物质组成的自由基聚合体系：选自不饱和自由基聚合单体、可自由基聚合的寡聚物和在主链上和/或在侧链基团中含C＝C键的聚合物中的至少一种组分；和包括下述物质的引发剂体系：(a)能吸收IR辐射的至少一种化合物，(b)能产生自由基的至少一种化合物，和(c)具有用选自N、O和S的杂原子取代的芳族部分且进一步具有至少两个羧基的至少一种多羧酸，其中至少一个所述羧基通过亚甲基键接到所述杂原子上；条件是所述聚合物粘合剂的总酸值为70mg KOH/g或更低。
8.一种印版前体，包括：
基体；和
在所述基体上涂布的IR敏感组合物，该组合物包括：聚合物粘合剂和由下述物质组成的自由基聚合体系：选自不饱和自由基聚合单体、可自由基聚合的寡聚物和在主链上和/或在侧链基团中含C＝C键的聚合物中的至少一种组分，和包括下述物质的引发剂体系：(a)能吸收IR辐射的至少一种化合物，(b)能产生自由基的至少一种化合物，和(c)具有用选自N、O和S的杂原子取代的芳族部分且进一步具有至少两个羧基的至少一种多羧酸，其中至少一个所述羧基通过亚甲基键接到所述杂原子上；条件是所述聚合物粘合剂的总酸值为70mgKOH/g或更低。
9.一种制备印版的方法，该方法包括：
将印版前体成影像地曝光于IR辐射下，所述印版前体包括基体和在所述基体上涂布的IR敏感组合物，该组合物包括：聚合物粘合剂和由下述物质组成的自由基聚合体系：选自不饱和自由基聚合单体、可自由基聚合的寡聚物和在主链上和/或在侧链基团中含C＝C键的聚合物中的至少一种组分，和包括下述物质的引发剂体系：(a)能吸收IR辐射的至少一种化合物，(b)能产生自由基的至少一种化合物，和(c)具有用选自N、O和S的杂原子取代的芳族部分且进一步具有至少两个羧基的至少一种多羧酸，其中至少一个所述羧基通过亚甲基键接到所述杂原子上；条件是所述聚合物粘合剂的总酸值为70mg KOH/g或更低；和之后，
用显影剂溶液显影，产生印版。
10.一种生产图像的方法，该方法包括：
用IR敏感组合物涂布非必需地预处理的基体，产生印版前体，其中所述组合物包括：聚合物粘合剂和由下述物质组成的自由基聚合体系：选自不饱和自由基聚合单体、可自由基聚合的寡聚物和在主链上和/或在侧链基团中含C＝C键的聚合物中的至少一种组分，和包括下述物质的引发剂体系：(a)能吸收IR辐射的至少一种化合物，(b)能产生自由基的至少一种化合物，和(c)具有用选自N、O和S中的杂原子取代的芳族部分且进一步具有至少两个羧基的至少一种多羧酸，其中至少一个所述羧基通过亚甲基键接到所述杂原子上；条件是所述聚合物粘合剂的总酸值为70mg KOH/g或更低；
将所述印版前体成影像地曝光于IR辐射下，生产成影像地曝光的印版前体；和之后
用含水显影剂显影该前体，获得在其上具有可印刷的平版印刷图像的印版。
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Families Citing this family (50)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20040091811A1 (en) * 2002-10-30 2004-05-13 Munnelly Heidi M. Hetero-substituted aryl acetic acid co-initiators for IR-sensitive compositions
US6846614B2 (en) * 2002-02-04 2005-01-25 Kodak Polychrome Graphics Llc On-press developable IR sensitive printing plates
US6893797B2 (en) * 2001-11-09 2005-05-17 Kodak Polychrome Graphics Llc High speed negative-working thermal printing plates
US7056639B2 (en) * 2001-08-21 2006-06-06 Eastman Kodak Company Imageable composition containing an infrared absorber with counter anion derived from a non-volatile acid
US6899992B2 (en) * 2002-11-08 2005-05-31 Kodak Polychrome Graphics Llc Polymerizable compounds with quadruple hydrogen bond forming groups
JP4458778B2 (ja) * 2003-02-20 2010-04-28 富士フイルム株式会社 重合性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版
JP4139724B2 (ja) * 2003-04-10 2008-08-27 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版
JP2005059446A (ja) 2003-08-15 2005-03-10 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版原版及び平版印刷方法
US7279255B2 (en) * 2006-02-07 2007-10-09 Eastman Kodak Company Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials
US7524614B2 (en) * 2006-05-26 2009-04-28 Eastman Kodak Company Negative-working radiation-sensitive compositions and imageable materials
US7862984B2 (en) 2007-03-28 2011-01-04 Eastman Kodak Company Polyonium borates and radiation-sensitive composition and imageable elements containing same
US7781143B2 (en) 2007-05-31 2010-08-24 Eastman Kodak Company Negative-working imageable elements and methods of use
EP2098367A1 (en) 2008-03-05 2009-09-09 Eastman Kodak Company Sensitizer/Initiator Combination for Negative-Working Thermal-Sensitive Compositions Usable for Lithographic Plates
US8084182B2 (en) 2008-04-29 2011-12-27 Eastman Kodak Company On-press developable elements and methods of use
US20100151385A1 (en) 2008-12-17 2010-06-17 Ray Kevin B Stack of negative-working imageable elements
US20100215919A1 (en) 2009-02-20 2010-08-26 Ting Tao On-press developable imageable elements
US8329383B2 (en) * 2009-11-05 2012-12-11 Eastman Kodak Company Negative-working lithographic printing plate precursors
JP5541913B2 (ja) 2009-12-25 2014-07-09 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
JP5624880B2 (ja) 2009-12-28 2014-11-12 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法
JP5322963B2 (ja) 2010-01-29 2013-10-23 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法
JP5346845B2 (ja) 2010-02-26 2013-11-20 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法及び平版印刷版原版用現像液
JP5525873B2 (ja) 2010-03-15 2014-06-18 富士フイルム株式会社 平版印刷版の作製方法
WO2011125913A1 (ja) 2010-03-31 2011-10-13 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版処理用の現像液、該現像液を用いた平版印刷版の作製方法、及び、印刷方法
US20120090486A1 (en) 2010-10-18 2012-04-19 Celin Savariar-Hauck Lithographic printing plate precursors and methods of use
US8900798B2 (en) 2010-10-18 2014-12-02 Eastman Kodak Company On-press developable lithographic printing plate precursors
US20120141941A1 (en) 2010-12-03 2012-06-07 Mathias Jarek Developing lithographic printing plate precursors in simple manner
US20120141942A1 (en) 2010-12-03 2012-06-07 Domenico Balbinot Method of preparing lithographic printing plates
US20120141935A1 (en) 2010-12-03 2012-06-07 Bernd Strehmel Developer and its use to prepare lithographic printing plates
JP5205505B2 (ja) 2010-12-28 2013-06-05 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びその平版印刷方法
JP5205483B2 (ja) 2011-02-04 2013-06-05 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び製版方法
US20120199028A1 (en) 2011-02-08 2012-08-09 Mathias Jarek Preparing lithographic printing plates
JP5186574B2 (ja) 2011-02-28 2013-04-17 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びその製版方法
JP5211187B2 (ja) 2011-02-28 2013-06-12 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び製版方法
JP5244987B2 (ja) 2011-02-28 2013-07-24 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及びその製版方法
EP2682815A4 (en) 2011-02-28 2015-04-29 Fujifilm Corp LITHOGRAPHIC ORIGINAL PRESSURE PLATE AND METHOD FOR PRODUCING A LITHOGRAPHIC FLAT PRESSURE PLATE
JP5743783B2 (ja) 2011-07-27 2015-07-01 富士フイルム株式会社 感光性組成物、平版印刷版原版、及びポリウレタン
CN103748518B (zh) 2011-08-22 2016-11-23 富士胶片株式会社 平版印刷版原版和用于制备平版印刷版的方法
JP5432960B2 (ja) 2011-08-24 2014-03-05 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法
JP5401522B2 (ja) 2011-09-15 2014-01-29 富士フイルム株式会社 コーティング組成物、ならびに該組成物を用いた、画像形成材料、平版印刷版原版及び酸素遮断性フィルム
US9029063B2 (en) 2011-09-22 2015-05-12 Eastman Kodak Company Negative-working lithographic printing plate precursors
US8632941B2 (en) 2011-09-22 2014-01-21 Eastman Kodak Company Negative-working lithographic printing plate precursors with IR dyes
JP5602195B2 (ja) 2011-09-27 2014-10-08 富士フイルム株式会社 平版印刷版原版及び平版印刷版の作製方法
JP5740275B2 (ja) 2011-09-30 2015-06-24 富士フイルム株式会社 機上現像型の平版印刷版原版を用いる印刷方法
JP6064493B2 (ja) * 2011-10-26 2017-01-25 日立化成株式会社 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法
CN103076717A (zh) * 2011-10-26 2013-05-01 日立化成工业株式会社 感光性树脂组合物、感光性元件、抗蚀图案的形成方法及印刷配线板的制造方法
WO2013125315A1 (ja) 2012-02-20 2013-08-29 富士フイルム株式会社 製版処理廃液の濃縮方法およびリサイクル方法
US8679726B2 (en) 2012-05-29 2014-03-25 Eastman Kodak Company Negative-working lithographic printing plate precursors
CN104619512A (zh) 2012-09-20 2015-05-13 富士胶片株式会社 平版印刷版原版及制版方法
US9063423B2 (en) 2013-02-28 2015-06-23 Eastman Kodak Company Lithographic printing plate precursors and use
US9201302B2 (en) 2013-10-03 2015-12-01 Eastman Kodak Company Negative-working lithographic printing plate precursor

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3742275A1 (de) * 1987-12-12 1989-06-22 Hoechst Ag Verfahren zur nachbehandlung von entwickelten reliefdruckformen fuer den flexodruck
DE19906823C2 (de) * 1999-02-18 2002-03-14 Kodak Polychrome Graphics Gmbh IR-Empfindliche Zusammensetzung und deren Verwendung zur Herstellung von Druckplatten

Also Published As

Publication number Publication date
WO2003041962A1 (en) 2003-05-22
EP1451015A1 (en) 2004-09-01
JP2005509192A (ja) 2005-04-07
BR0213946A (pt) 2004-08-31
EP1451015A4 (en) 2006-07-05
US20030118939A1 (en) 2003-06-26

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