CN1629724A - 带有微透镜用凹部的基板及其制造方法、微透镜基板 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种能够制造具有优越的视场角特性的微透镜基板的带有微透镜用凹部的基板的制造方法、带有微透镜用凹部的基板、微透镜基板、透射型屏幕和背面型投影仪。本发明的微透镜基板(1)是在基板上，设置有：多个的第一微透镜(11)、位于第一微透镜(11)彼此之间位置并小于第一微透镜(11)的多个第二微透镜(12)。

Description

带有微透镜用凹部的基板及其制造方法、微透镜基板
技术领域
本发明涉及带有微透镜用凹部的基板、微透镜基板、透射型屏幕、背面型投影仪和带有微透镜用凹部的基板的制造方法。
背景技术
在屏幕上投影图像的显示装置是已知的。作为这样的显示装置，已知有应用在家庭影院用显示器、大画面电视机的背面型投影仪。
作为背面型投影仪，已知具备具有微透镜的透镜基板(微透镜基板)的背面型投影仪。在具备这样的微透镜基板的背面型投影仪，由于微透镜的光折射作用，具有同时提高屏幕的水平方向和上下方向视场角的优点。
以往，作为微透镜基板，已知在基板上，以锯齿格子状配设一种大小来形成近似圆形的多个微透镜的微透镜基板(例如，参照专利文献1)。这样的微透镜基板是在微透镜彼此之间的比较大的区域中，形成不能得到由微透镜的聚光效果而引起的平坦部。该平坦部是不能聚光照射在微透镜基板上的光，以直线光的状态来透过。其结果，利用这样的微透镜基板的背面型投影仪中，不能得到充分的视场角特性。
[专利文献1]：特表平5-509416号公报(图1)。
发明内容
本发明的目的在于，提供一种可以制造具有优越的视场角特性的微透镜基板的带有微透镜用凹部的基板、具有优越的视场角特性的微透镜基板、透射型屏幕和背面型投影仪；进而提供一种可以制造具有优越的视场角特性的微透镜基板的带有微透镜用凹部的基板制造方法。
上述的目的是由如下叙述的本发明来实现。
本发明的带有微透镜用凹部的基板是在为了形成微透镜的基板上，设有多个凹部的带有微透镜用凹部的基板，其特征在于，所述多个凹部包括：多个第一凹部；位于所述第一凹部彼此之间，并小于所述第一凹部的多个第二凹部。
由此，基板上的第一凹部彼此之间的区域被第二凹部有效利用，同时，减少所述区域中的平坦部面积，所以，可以得到能够制造具有优越视场角特性的微透镜基板的带有微透镜用凹部的基板。
在本发明的带有微透镜用凹部的基板中，所述多个的第一凹部优选是配置成格子状或近似格子状。
由此，一面充分利用第一凹部的、微透镜的有效透镜区域相对应的部分，同时，在基板上稠密形成第一凹部成为可能，利用所得到的带有微透镜用凹部的基板来制造的微透镜基板的视场角特性特别优越。并且，第一凹部有规则地位于基板上，所以，应该形成第二凹部的区域也有规则地位于基板上，由此，在所述基板上形成第一凹部和第二凹部之际，这些的定位变为容易。
在本发明的带有微透镜用凹部的基板中，所述多个第一凹部优选是以锯齿状或近似锯齿状而配置。
由此，一面充分利用第一凹部的、微透镜的有效透镜区域相对应的部分，同时，在基板上更稠密形成第一凹部成为可能，通过所得到的带有微透镜用凹部的基板来制造的微透镜基板的视场角特性可以特别优越。并且，第一凹部有规则地位于基板上，所以，应该形成第二凹部的区域也有规则地位于基板上，由此，在所述基板上形成第一凹部和第二凹部之际，这些的定位变为容易。
在本发明的带有微透镜用凹部的基板中，所述第一凹部的边缘和所述第二凹部的边缘优选是位于平行于所述基板的一个面上。
由此，可以有效地形成第一凹部和第二凹部的、与微透镜的有效透镜区域相对应的部分，所以由所得到的带有微透镜用凹部的基板来制造的微透镜基板的视场角特性可以特别优越。
在本发明的带有微透镜用凹部的基板中，各自的所述第一凹部和所述第二凹部优选是分别形成圆形或近似圆形。
由此，可以有效形成第一凹部和第二凹部的、与微透镜的有效透镜区域相对应的部分，所以，由所得到的带有微透镜用凹部的基板来制造的微透镜基板的视场角特性可以特别优越。
在本发明的带有微透镜用凹部的基板中，所述第二凹部优选是以除掉所述第一凹部彼此之间的平坦部的形态来配置。
由此，一面充分利用第一凹部和第二凹部的、与微透镜的有效透镜区域相对应的部分，同时，最大限度利用基板上的第一凹部和应该形成第二凹部区域，而在基板上形成第一凹部和第二凹部，所以，用所得到的带有微透镜用凹部的基板来制造的微透镜基板的视场角特性可以特别优越。
在本发明的带有微透镜用凹部的基板中，所述第一凹部的边缘与所述第二凹部的边缘优选是互相相接。
由此，一面充分利用第一凹部和第二凹部的、与微透镜的有效透镜区域相对应的部分，同时，最大限度利用基板上的第一凹部和应该形成第二凹部的区域，而在基板上形成第一凹部和第二凹部，所以，利用所得到的带有微透镜用凹部的基板来制造的微透镜基板的视场角特性可以特别优越。
在本发明的带有微透镜用凹部的基板中，还具有小于所述第二凹部的第三凹部，所述第三凹部优选是在所述第一凹部彼此之间，并位于没有形成所述第二凹部的区域。
由此，由于第三凹部，更能减少第一凹部彼此之间的平坦部面积，所以，利用所得到的带有微透镜用凹部的基板来制造的微透镜基板的视场角特性可以特别优越。
本发明的微透镜基板的特征是利用本发明的带有微透镜用凹部的基板来制造的。
由此，可以得到具有优越视场角特性的微透镜基板。
本发明的微透镜基板是多个微透镜形成在基板上的微透镜基板，其特征在于，所述多个微透镜包括：多个第一微透镜；位于所述第一微透镜彼此之间并小于所述第一微透镜的多个第二微透镜。
由此，基板上的第一微透镜彼此之间的区域被第二微透镜有效利用，同时，减少所述区域中的平坦部面积，所以，可以得到具有优越视场角特性的微透镜基板。
本发明的透射型屏幕的特征是具备本发明的微透镜基板。
由此，可以得到具有优越视场角特性的透射型屏幕。
本发明的背面型投影仪的特征是具备本发明的微透镜基板。
由此，可以得到具有优越视场角特性的背面型投影仪。
本发明的带有微透镜用凹部的基板的制造方法，是在为了形成微透镜的基板上，形成多个凹部的带有微透镜用凹部的基板的制造方法，其特征在于，包括：在所述基板上形成多个凹部的第一凹部形成工序；在所述第一凹部形成工序中所形成的所述凹部彼此之间，形成大小不同于该凹部的多个凹部的第二凹部形成工序。
由此，可以制造：可以制造具有优越视场角特性的微透镜基板的带有微透镜用凹部的基板。
本发明的制造带有微透镜用凹部的基板的制造方法中，所述第一凹部形成工序中所形成的所述凹部优选是第一凹部，所述第二凹部形成工序中所形成的所述凹部优选是小于所述第一凹部的第二凹部。
由此，可以制造：可以制造具有优越视场角特性的微透镜基板的带有微透镜用凹部的基板。
本发明的制造带有微透镜用凹部的基板的制造方法中，优选是，形成在所述基板上的掩模上，形成多个开口后，通过蚀刻所述基板，在所述基板上，形成所述第一凹部和所述第二凹部。
由此，可以制造：可以制造具有优越视场角特性的微透镜基板的带有微透镜用凹部的基板。
本发明的制造带有微透镜用凹部的基板的制造方法中，优选是，在所述基板上形成掩模，在所述掩模上形成多个第一开口后，通过蚀刻所述基板，在所述基板形成所述第一凹部，然后，在所述基板上形成新的掩模，在所述新的掩模上形成多个第二凹部后，通过蚀刻所述基板，在所述基板上形成第二凹部。
由此，可以制造：可以制造具有优越视场角特性的微透镜基板的带有微透镜用凹部的基板。
本发明的制造带有微透镜用凹部的基板的制造方法中，优选是，在所述基板上，以所定厚度形成蚀刻可能的掩模，在所述掩模形成多个第一开口和浅于所述第一开口的第二开口后，通过蚀刻所述基板，在所述基板形成所述第一凹部和所述第二凹部。
由此，可以制造：可以制造具有优越视场角特性的微透镜基板的带有微透镜用凹部的基板。另外，用一次的掩模形成工序、蚀刻工序来可以完成，可以简化制造工序。
本发明的制造带有微透镜用凹部的基板的制造方法是在基板上形成微透镜用凹部的带有微透镜用凹部的基板的制造方法，其特征在于，包括：
在所述基板上形成的掩模上形成多个第一开口的工序；
通过已经形成所述多个第一开口后的所述掩模，对所述基板实施第一蚀刻处理而在所述基板上形成多个凹部的工序；
对形成在已经实施所述第一蚀刻处理后的所述基板上的掩模，在所述第一开口彼此之间，形成多个第二开口的工序；
通过已经形成所述多个第二开口后的所述掩模，对所述基板实施第二蚀刻处理而在所述基板上形成大小不同于所述第一蚀刻处理所形成所述凹部的多个凹部的工序。
由此，可以制造：可以制造具有优越视场角特性的微透镜基板的带有微透镜用凹部的基板。
本发明的制造带有微透镜用凹部的基板的制造方法是在基板上形成微透镜用凹部的带有微透镜用凹部的基板的制造方法，其特征在于，包括：
在所述基板上以所定厚度形成蚀刻可能的掩模，在所述掩模形成多个第一开口的同时，在所述第一开口彼此之间，形成浅于所述第一开口的多个第二开口的工序；
通过已经形成所述多个第一开口和所述多个第二开口后的所述掩模，对所述基板实施蚀刻处理而在所述基板上形成大小不同的两种凹部的工序。
由此，可以制造：可以制造具有优越视场角特性的微透镜基板的带有微透镜用凹部的基板。另外，用各一次的掩模形成工序、蚀刻工序来可以完成，可以简化制造工序。
附图说明
图1是表示本发明的微透镜基板的模式性的平面图。
图2(A)是图1的A-A线剖面图，(B)是图1的B-B线剖面图。
图3是表示带有微透镜用凹部的基板制造方法的模式性的纵剖面图。
图4是表示带有微透镜用凹部的基板制造方法的模式性的纵剖面图。
图5是表示带有微透镜用凹部的基板制造方法的模式性的纵剖面图。
图6是表示带有微透镜用凹部的基板制造方法的模式性的纵剖面图。
图7是表示带有微透镜用凹部的基板制造方法的模式性的纵剖面图。
图8是表示带有微透镜用凹部的基板的模式性的平面图。
图9是表示本发明的微透镜基板制造方法的模式性的纵剖面图。
图10(A)是表示有关本发明的实施例1的微透镜基板的模式性的平面图，(B)是表示有关本发明的实施例2的微透镜基板的模式性的平面图。
图11(A)是表示有关本发明的实施例3的微透镜基板的模式性的平面图，(B)是表示有关本发明的第四实施例的微透镜基板的模式性的平面图。
图12(A)是表示有关本发明的实施例5的微透镜基板的模式性的平面图，(B)是表示有关本发明的第六实施例的微透镜基板的模式性的平面图。
图13是模式性地表示本发明透射型屏幕的光学系统的纵剖面图。
图14是图11所示透射型屏幕的分解立体图。
图15是模式性地表示本发明背面型投影仪构成的图。
图中：
1-微透镜基板，2-带有微透镜用凹部的基板，3-基板，11、11′、11″-第一微透镜，111-边缘，12、12′、12″-第二微透镜，121-边缘，13-平行于微透镜基板的一个面，14、14′、14″-第三微透镜，21-基板，22、26-掩模，23-背面保护层，24-第一凹部，25-第二凹部，211、212-初始凹部，221-第一初始孔(开口)，261-第二初始孔(开口)，50-激光器，51-激光，200-透射型屏幕，300-背面型投影仪，310-投映光学部件，320-导光反射镜，330-透射型屏幕，340-筐架，Q-光轴。
具体实施方式
下面，根据附图所示的最佳实施方式，详细说明本发明。
<微透镜基板>
首先，说明有关本实施方式的微透镜基板。
图1是表示本发明的微透镜基板的模式性的平面图，图2(A)是图1所示微透镜基板的A-A线剖面图，图2(B)是图1所示微透镜基板的B-B线剖面图。图3～图7是表示带有微透镜用凹部的基板制造方法的模式性的纵剖面图，图8是表示带有微透镜用凹部的基板的模式性的平面图，图9是表示本发明微透镜基板制造方法的模式性的纵剖面图。
如图1所示，微透镜基板1具有：多个第一微透镜11、和形成在第一微透镜11与第一微透镜11之间、并小于第一微透镜11的第二微透镜12。
在该微透镜基板1中，各自的第一微透镜11和第二微透镜12是有规则的格子状配置的，但是，不限于这些，可以配置为近似格子状、锯齿状、近似锯齿状，另外，也可以是无规则的。例如，把微透镜基板1利用在后面要叙述的屏幕、背面型投影仪的情况下，如果第一微透镜11和第二微透镜12分别配置成无规则，则可以更有效地防止所谓摸尔条纹等的干涉图案的发生。
本发明的微透镜基板1的特征是在第一微透镜11与第一微透镜11之间形成小于第一微透镜11的第二微透镜12。
由此，在微透镜基板1上，形成在第一微透镜11与第一微透镜11之间的区域被第二微透镜12有效利用，通过所述区域中的平坦部(没有聚光效果的部分)面积的减少，不仅可以抑制直线传播光，在所述区域可以得到由第二微透镜12的聚光效果。其结果，微透镜基板1具有优越的视场角特性。
另外，如图2所示，微透镜基板1是第一微透镜11的边缘111和第二微透镜12的边缘121同时位于微透镜基板1的面13(平行于微透镜基板1的一个面)之上。即，第一微透镜11和第二微透镜12的各自的外周部分(对面13的角度比较大的部分)彼此重合，以使不会损伤相互的聚光效果。
由此，可以最大限度利用第一微透镜11和第二微透镜12的各自的有效透镜区域、特别是聚光效果高的外周部分，所以，微透镜基板1具有更优越的视场角特性。
另外，第一微透镜11为球面透镜的情况下，使第一微透镜11的高度(在有效透镜区域，垂直于面13方向的高度)实质上等于曲率半径，而可以使第一微透镜11成为半球状。由此，可以最大限度利用第一微透镜11的有效透镜区域、特别是聚光效果高的外周部分，所以，微透镜基板1具有更优越的视场角特性。与此同样，也可以使第二微透镜12成为半球状。由此，可以最大限度利用第二微透镜12的有效透镜区域、特别是聚光效果高的外周部分，所以，微透镜基板1具有更优越的视场角特性。
还有，如图2(A)所示，微透镜基板1是第一微透镜11的边缘彼此相接，另外，如图2(B)所示，第一微透镜11的边缘与第二微透镜12的边缘相接。
由此，不会损伤第一微透镜11和第二微透镜12的外周部分的聚光效果，一面充分利用这些有效透镜区域，微透镜基板1上的、形成在第一微透镜11与第一微透镜11之间的区域被第二微透镜12最大限度有效利用。其结果，所得到的微透镜基板1具有更优越的视场角特性。另外，第一微透镜11的边缘，可以是彼此不相接。
邻接的第一微透镜11与第一微透镜11之间的间距，是10～500μm为优选，30～300μm为更优选，50～200μm为优选。
第一微透镜11的直径，是10～500μm为优选，30～80μm为更优选，50～60μm为优选。如果第一微透镜11的直径在上述范围内，可以充分保持投影在屏幕的图像的析像度，且更能提高透射型投影器的生产率。
第二微透镜12的直径，是1～200μm为优选，5～50μm为更优选，10～30μm为优选。如果第一微透镜11的直径在上述范围内，可以提高微透镜基板1中第一微透镜11和第二微透镜12区域面积对第一微透镜11和应该形成第二微透镜12的所占面积比(充填率)。其结果，可以使微透镜基板1的视场角特性更优越。
另外，所述面积的比，是0.90～0.99为优选，0.92～0.99为更优选。由此，由所述区域中的平坦部(没有聚光效果的部分)面积的减少，充分抑制直线传播光，而可以使微透镜基板1的视场角特性更优越。如果所述面积比不足上述的 上限，则对于具备微透镜基板1的背面型投影仪种类而言，由于第一微透镜11彼此之间平坦部的直线传播光，有可能不能得到充分的视场角特性。另一方面，如果所述面积比超出上述的 下限，因构成微透镜基板材料，第一微透镜和第二微透镜的制造变为困难。
为了提高所述面积比，在第一微透镜11彼此之间，加第二微透镜12的基础上，在基板上还可以形成第三微透镜。由此，由于第三微透镜，进一步减少第一微透镜11彼此之间的平坦部面积，所以，从平坦部的直线传播光被减少，所得到的微透镜基板更能提高视场角特性。另外，和第三微透镜同样，在第一微透镜11彼此之间，形成第四、第五、......的透镜，而可以进一步减少所述平坦部的面积。
另外，第二微透镜直径对第一微透镜直径的直径比是0.1～0.5为优选，0.15～0.4为更优选。由此，使第一微透镜的边缘与第二微透镜的边缘之间的间隔变小，特别是，可以使这些边缘互相相接、且使第一微透镜稠密配置为格子状或锯齿状。即，不会损伤第一微透镜11和第二微透镜12的外周部分的聚光效果，充分利用这些的有效透镜区域，且在微透镜基板1上，可以减少第一微透镜11与第一微透镜11之间形成的区域的平坦部面积。其结果，所得到的微透镜基板1具有更优越的视场角特性。
另外，在上述的说明中，具备只在一个面形成微透镜的平凸透镜(平凸型微透镜)的基板，作为微透镜基板1，但是，本发明的微透镜基板不限于这些。
例如，可以是具备两面形成微透镜的双凸透镜基板。此种情况下，通过把所述平凸透镜平面部分互相粘在一起，可以得到具备双凸透镜的微透镜基板。
<带有微透镜用凹部的基板的制造方法>
下面，参照图3～图7，说明利用在本发明微透镜基板制造的、带有微透镜用凹部的基板(带有凹部的基板)的制造方法。
另外，图3～7是表示对应于图1的B-B线剖面图的剖面。另外，在下面的说明中，举例说明：形成在基板表面的掩模上，利用物理方法或照射激光的方法形成原始孔，然后，进行蚀刻的方法，形成所要(所要的形状或尺寸)的透镜用凹部(微透镜用凹部)的方法。但是，带有微透镜用凹部的基板的制造方法不限于这些，例如，可以是，形成在基板表面的掩模上，利用光刻法技术来形成开口部，进行蚀刻的方法，形成透镜用凹部的方法等、的任何方法。
在本实施方式中，首先，形成在基板表面的掩模上，利用物理方法或照射激光的方法，形成用于第一凹部的初始孔，然后，进行蚀刻的方法，形成所要(所要形状和尺寸)的第一微透镜用凹部(第一凹部)。然后，在已经形成第一凹部的基板上，和第一凹部形成同样，形成第二凹部。另外，实际上是在基板上形成多个微透镜用凹部，但是，为了易懂说明，在此，图示其一部分，而进行说明。
首先，当制造带有微透镜用凹部的基板2之际，准备基板21。
此基板21是适宜利用厚度均匀、没有弯曲或伤痕的基板。另外，基板21优选是利用清洗而其表面清净的基板。
作为基板21的材料，可以举出无碱玻璃、钠玻璃、结晶性玻璃、石英玻璃、铅玻璃、钾玻璃、硼硅酸玻璃等。其中，无碱玻璃、结晶性玻璃(例如，钕陶瓷)为优选。无碱玻璃、结晶性玻璃不仅加工容易，且比较廉价，制造成本方面也有利。
基板21的厚度，由构成基板21的材料、折射率等的种种条件而不同，但是，通常为0.3～3mm左右为优选，0.5～2mm为更优选。如果厚度在该范围内，则可以得到具有必要的光学特性的小型的带有微透镜用凹部的基板2。
<1>如图3(A)所示，在已经准备的基板21的表面，形成掩模22(第一掩模形成工序)。另外，与此同时，在基板21的背面(与形成掩模22的面相反侧的面)，形成背面保护层23。当然，可以同时形成掩模22和背面保护层23。
掩模22是在后面要叙述的工序<2>中，通过物理方法或照射激光，可以形成第一初始孔221，并且，优选是具有在后面要叙述的工序<3>的蚀刻的耐蚀刻性。换句话说，掩模22优选是其蚀刻速度近似等于基板21或小于基板21。
从该观点看，作为构成这种掩模22的材料，可以举出：Cr、Au、Ni、Ti、Pt等的金属或含有选自其中的两种以上的合金、所述金属的氧化物(金属氧化物)、硅、树脂等。另外，如Cr/Au，可以用不同材料所组成的多层的层叠结构来构成掩模22。
掩模22的形成方法没有特别的限定，但是，由Cr、Au等的金属材料(包括合金)或金属氧化物(例如氧化Cr)来构成掩模22的情况下，利用蒸镀法或溅射法，可以适宜形成。另外，用硅来构成掩模22的情况下，利用溅射法或CVD法，可以适宜形成掩模22。
如果掩模22主要是用氧化Cr或Cr来构成的，则后面叙述的第一初始孔形成工序中，可以容易形成第一初始孔221，且在后面叙述的第一蚀刻工序中，可以更可靠地保护基板21。另外，如果掩模22主要是用Cr来构成的，则后面叙述的第一初始孔形成工序中，作为蚀刻液，可以利用二氟化氢铵溶液。二氟化氢铵在4重量％以下浓度时，不是剧毒物，所以，可以可靠防止作业中的人体或对环境的影响。
如果掩模22主要是用Au来构成，则可以通过使掩模22的膜厚比较厚，例如，喷丸处理来进行后面叙述的工序<2>中的形成第一初始孔221的情况下，缓和投射材料(喷射球)的冲突时的冲击，可以使所形成的第一初始孔221形状更均衡。
另外，例如，掩模22在后面叙述的工序<3>中，由所定的蚀刻速度可能的材料来构成、且比较厚地形成掩模22的情况下，按后面叙述的工序<2>，不仅形成第一初始孔，通过比第一初始孔还要浅地形成用于形成第二凹部的开口，在其后，只是用后面叙述的工序<3>，在基板上可以形成第一凹部和第二凹部。此时，在所述开口中，掩模在后面叙述的工序<3>中被蚀刻，以第一凹部、第二凹部的顺序，带有这些时间差而形成在基板上。由此，不需要后面叙述的工序<4>、后面叙述的工序<5>的<B1>～<B3>，而制造工序被简化。
掩模22的厚度，因构成掩模22的材料不同而不同，但是，0.05～2.0μm左右为优选，0.1～0.5μm为更优选。如果不足所述下限值，则用喷丸处理来形成后面叙述的工序<2>的第一初始孔221的情况下，由构成掩模22的材料不同而很难充分缓和喷射球的冲击，所形成的第一初始孔221的形状发生弯曲的可能性。另外，后面叙述的工序<3>中实施湿式蚀刻时，有可能不能充分保护基板21的被掩盖部分。另一方面，如果超过上限值，则不仅很难用物理方法或照射激光来形成第一初始孔221，还因构成掩模22的材料不同，由于掩模22的内部应力而掩模22容易剥离的情况。
另外，背面保护层23是在接续工序中保护基板21背面的保护层。
通过该背面保护层23，可以很好地防止基板21的背面的侵蚀、退化。该背面保护层23是由和掩模22同样材料所构成。因此，背面保护层23可以在形成掩模22的同时，和掩模22同样设置。
<2>其次，如图3(B)和图4(A)所示，在掩模22，通过物理方法或照射激光的方法，在后面叙述的工序<3>中的蚀刻时，形成多个成为第一凹部24形成用掩模开口的第一初始孔221(第一初始孔形成工序)。
通过照射激光来形成第一初始孔221的情况下，作为所利用的激光种类，可以举出：红宝石激光器、半导体激光器、YAG激光器、费秒激光器、玻璃激光器、YVO4激光器、Ne-He激光器、Ar激光器、CO2激光器等。照射激光来形成第一初始孔221的情况下，可以容易且精确控制所形成的第一初始孔221的大小或邻接的第一初始孔221彼此之间的间隔。
另外，作为形成第一初始孔221的物理方法，例如可以举出：喷丸、喷砂等的喷丸处理、冲压、点式打印、攻丝、研摩等的方法。由喷丸处理形成第一初始孔221的情况下，即使比较大面积(第一微透镜11和第二微透镜12)的基板21，在更短的时间内，可以高效率形成第一初始孔221。
在此，特别举例说明：通过照射激光，在掩模22上形成第一初始孔221的情况。
通过照射激光，在掩模22形成第一初始孔221的情况下，如图3(B)所示，面向已经形成基板21的掩模22的一侧，从垂直于该面配置的激光器50向掩模22的表面照射激光51，以在掩模22形成第一初始孔221。如图中箭头A1、A2所示，一边移动激光器50，在掩模22全面，间歇照射激光51，在掩模22全面上形成多个第一初始孔221。
在本例中，在掩模22全面上，多个第一初始孔221是位于格子状位置。由此，邻接的第一初始孔221彼此之间的间隔，对所有初始孔221相等，所以，后面叙述的工序<3>中的由于蚀刻的基板21的蚀刻量容易控制为所要量。
另外，第一初始孔221的位置，不限于格子状，可以是锯齿状，也可以是无规则的，按照应得到的微透镜基板或带有微透镜用凹部的基板形态来可以适当选择。
这样，对掩模22照射激光51，在掩模22形成如图3(B)所示的第一初始孔221。
所形成的第一初始孔221优选是在掩模22的全面上没有偏位而形成。另外，所形成的第一初始孔221是在后面叙述的工序<3>中实施湿式蚀刻时，基板21表面的平的面变小，第一凹部24的边缘彼此相接的程度，隔一定程度间隔配置小的孔为优选。
具体地，所形成的第一初始孔221的平面视图的形状为近似圆形，其平均直径(直径)为2～10μm为优选。另外，所形成的第一初始孔221是在掩模22上，以1,000～1,000,000个/cm2的比例来形成为优选，10,000～500,000个/cm2的比例为更优选。另外，第一初始孔221的形状不限于圆形或近似圆形，可以是椭圆形或近似椭圆形，也可以是草袋状的形状。
另外，在掩模22上形成第一初始孔221时，如图4(A)所示，可以同时除去掩模22和基板21表面的一部分，而可以形成第一初始孔221。由此，在后面叙述的工序<3>中实施蚀刻时，与蚀刻液的接触面积变大，可以很好地开始侵蚀。另外，调整该初始凹部211的深度的方法，也可以调整第一凹部24的深度(透镜的最大厚度)。
初始凹部211的深度没有特定限度，但是，5μm以下为优选，0.1～0.5μm程度为更优选。
上述的说明中，说明了通过照射激光形成第一初始孔221的方法，但是，如上所述，第一初始孔221可以通过照射激光之外(例如喷丸的喷射处理、冲压、点式打印机、攻丝、研摩等的方法)的方法来形成。
利用喷丸方法形成第一初始孔221情况下，作为投射材料，可以举出：钢砂、褐色矾土、白色矾土、玻璃珠、不锈钢珠、金刚砂、硅砂、塑料、钢丝切削弹丸、铁屑等。其中，玻璃珠特别好。由此，在掩模22，可以很好地形成第一初始孔221。
这样的投射材料的平均直径为20～200μm为优选，50～100μm为更优选。如果投射材料平均直径不足所述的下限，则有：很难有效形成初始孔或投射材料之间互相吸引而形成大小超过上述上限值的块的情况。另一方面，如果投射材料平均直径超过所述的上限，所形成的初始孔变过大或初始孔彼此连起来而容易形成异形状的初始孔。
所述投射材料的喷射压力为1～10kg/cm2为优选，3～5kg/cm2为更优选。如果所述投射材料的喷射压力不足所述下限值，则喷射的冲击变弱而有时难以形成第一初始孔221的情况。另一方面，如果所述投射材料的喷射压力超过所述上限值，则喷射的冲击过大而投射材料破碎或由于冲击而第一初始孔221的形状被弯曲的可能性。
另外，所述投射材料的喷射密度为10～100kg/cm2为优选，30～50kg/cm2为更优选。如果所述投射材料的喷射密度不足所述下限值，则喷射数目变少，在掩模22的全面上，没有偏位地形成第一初始孔221需要时间。另一方面，如果所述投射材料的喷射密度超过所述上限值，则重复形成第一初始孔221，初始孔221彼此之间连在一起而变为大的孔或容易形成异形状的初始孔。
通过冲压形成第一初始孔221的情况下，例如，通过把所定形态形成凸起部的滚轮压在掩模22，而滚动在掩模22上，可以形成第一初始孔221。
另外，对所形成的掩模22，利用物理方法或照射激光的方法，不仅形成第一初始孔221，还在基板21形成掩模22时，预先在基板21上，以所定模式配置异物，在其上形成掩模22的方法，在掩模22上主动形成缺陷，可以把相应缺陷作为第一初始孔221。
在本发明中，没有特别限定带有凹部的基板的制造方法，但是，如上所述的物理方法或照射激光的方法，在掩模上形成初始孔的方法，可以更简单、低价，在掩模22上可以形成所定模式的开口部(第一初始孔221)。另外，根据物理方法或照射激光，对大基板的处理也可以容易进行处理。
另外，所形成的第一初始孔221的配置，没有特定的限制，可以是有规则的模式，也可以是无规则的模式，但是，所得到的带有凹部的基板(带有微透镜用凹部的基板)用于后面叙述的屏幕、背面型投影仪的制造的情况下，如果是无规则的配置，则更有效防止所谓的墨尔条纹等的干涉图案。
<3>接着，如图4(B)所示，对已经实施掩模22的基板21，实施蚀刻，在基板21上形成多个的第一凹部24(第一蚀刻工序)。此时，第一凹部24的大小与上述的第一微透镜11相对应。即，所得到的带有微透镜用凹部的基板2来制造微透镜基板1之际，设定第一凹部24的大小，以便第一微透镜11变为所要的大小。
该蚀刻方法没有特定的限制，可以举出：例如，湿式蚀刻、干式蚀刻等。在下面的说明中是举例说明湿式蚀刻的情况。
对已经形成第一初始孔221的掩模22来被覆的基板21，实施蚀刻(湿式蚀刻)的方法，如图4(B)所示，基板21是在不存在掩模22的部分即从第一初始孔221被蚀刻，在基板21上形成多个第一凹部24。
另外，在本实施例中的工序<2>中，在掩模22形成第一初始孔221之际，在基板21的表面，形成初始凹部211。由此，在蚀刻之际，与蚀刻液的接触面积变大，可以很好开始侵蚀。
另外，如果利用湿式蚀刻，则可以很好形成第一凹部24。并且，作为蚀刻液如果利用含氟酸或氟化物离子的蚀刻液(氟酸系列蚀刻液)，则可以更有选择性地蚀刻基板21，可以很好地形成第一凹部24。
掩模22主要为用Cr构成的掩模的情况下，作为氟酸系列蚀刻液，特别适合氟化氢铵溶液。因为氟化氢 铵溶液在重量浓度4％以下时为不是剧毒物，可以更可靠防止作业中的人体和对环境的影响。
另外，根据湿式蚀刻，比干式蚀刻可以用简单的装置来进行处理，并且，一次可以进行对多个基板的处理。由此，可以提高生产率，可以廉价提供带有微透镜用凹部的基板2。其结果，提高微透镜基板、透射型屏幕、背面型投影仪等的生产率，可以谋求生产成本的进一步的降低。
<4>接着，如图5所示，除去掩模22(第一掩模除去工序)。
掩模22主要为Cr来构成的情况下，掩模22的除去是可以利用包含第二硝酸铈铵和高氯酸的混合物的蚀刻来进行。
<5>进一步地，在工序<4>中除去掩模22后，在基板21上形成新的掩模26，反复进行掩模形成—初始孔形成—湿式蚀刻—掩模除去的一系列的工序。下面，说明具体的一例。
<B1>首先，如图6(A)所示，在已经形成第一凹部24的基板21上，形成新的掩模26。掩模26可以和上述的掩模22同样方法来形成(第二掩模形成工序)。
<B2>其次，如图6(B)所示，通过如上述的物理方法或激光照射，在第一初始孔221彼此之间，例如，在中间位置，在掩模26上形成第二初始孔261(第二初始孔形成工序)。此时，可以在基板21的表面形成初始凹部212。
<B3>然后，如图7(A)所示，借助于掩模26，对基板21实施与上述同样的蚀刻，形成第二凹部25(第二蚀刻工序)。此时，为了使第二凹部25小于第一凹部24，进行蚀刻液浓度和蚀刻处理时间的调整。另外，使第二凹部25的大小，等于对应于上述第二微透镜12的大小。即，当利用所得到的带有微透镜用凹部的基板2来制造微透镜基板1时，设定第二凹部25以使第二微透镜12成为所述的所要大小。
<B4>最后，如图7(B)所示，从基板21除去掩模26(第二掩模除去工序)。此时，从基板21也除去背面保护层23。
<B1>～<B4>的每一个工序可以和上述的<A1>～<A4>的每一个工序相同的方法来进行。
这样，重复两次进行一系列的工序，在基板21的全面，没有偏位地可以形成第一凹部24和第二凹部25，同时，可以使第一凹部24和第二凹部25各自形状，均匀整齐。
另外，通过在第一和第二中改变每一个工序中的条件而进行，调整所形成的第一凹部24和第二凹部25的形状(大小、深度、曲率、凹面形状等)，而变为所要形状。
例如，在第一初始孔形成工序中，改变激光51的直径、强度、处理时间等的条件，可以调整形成在掩模22的第一初始孔221的大小、深度等。
另外，不进行第一掩模除去工序而在第二初始孔形成工序中，也可以在第一掩模形成工序中已经形成的掩模上，形成第二初始孔。此种情况下，在第一蚀刻工序中使第一凹部形成到中途( 盲孔)，在第二蚀刻工序中形成第二凹部的同时，可以使第一凹部形成为最后为止( 通孔)。由此，可以简化带有微透镜用凹部的基板的制造工序。
另外，第一初始孔形成工序和/或第二初始孔形成工序中的至少一次，可以是利用如上述的物理方法、照射激光之外的方法(例如，利用光刻技术的方法等)来进行。
另外，在第一蚀刻工序或第二蚀刻工序中，用多阶段进行蚀刻，并此时，改变蚀刻速度的方法，可以调整所形成的第一凹部24和第二凹部25的形状。例如，逐渐降低蚀刻速度的方法，可以使所形成的第一凹部24和第二凹部25的形状均匀整齐。
进而，改变初始孔221大小、初始凹部211的大小或深度等，进一步改变蚀刻速度的方法，可以使所形成的第一凹部24和第二凹部( 25)的为所希望的非球面形状。
另外，反复进行上述的一系列工序的情况下，也可以使背面保护层23在工序<4>以后，不重复使用，而在<4>工序等中被除去，在工序<5>中再度形成。
根据如上，如图7(B)和图8所示，可以得到：在基板21上多个形成大小相互不同的第一凹部24、第二凹部25的带有微透镜用凹部的基板2。另外，在此，如图9所示，形成在基板21的第一凹部24、第二凹部25是有规则地配置的，但是，不限于这些，也可以是形成无规则的第一凹部24和第二凹部25的。
另外，也可以是，在第一蚀刻工序中，先形成第二凹部25，然后，在第二蚀刻工序中，形成第一凹部24。即，使第一蚀刻工序中所形成的凹部可以大于第二蚀刻工序中所形成的凹部。
另外，在第一凹部24彼此之间，在基板上，除了第二凹部25以外还可以形成第三凹部。由此，由第三凹部，进一步减少第一凹部彼此之间的平坦部面积，所以，通过所得到的带有微透镜用凹部的基板来制造的微透镜基板，具有优越的视场角特性。
另外，通过物理方法或照射激光，在掩模22或掩模26上形成初始孔的方法，在掩模22或掩模26上，以更简单、且低价，可以形成所定模式的开口部(初始孔221或261)。由此，更能提高生产率，可以廉价提供带有微透镜用凹部的基板2。其结果，提高微透镜基板、透射型屏幕、背面型投影仪等的生产率，可以谋求生产成本的进一步的降低。
另外，根据上述的方法，可以容易进行对大型基板的处理。即，制造大型基板的情况下，没有必要粘合多个基板而可以消除粘合的接合界线。由此，可以以简便的方法、廉价制造高品质的大型带有微透镜用凹部的基板。
<微透镜基板1的制造方法>
下面，参照图9说明利用带有微透镜用凹部的基板2，制造微透镜基板1的方法。
当然，本发明的微透镜基板可以利用在下面叙述的透射型屏幕、背面型投影仪以外，还可以利用在液晶显示装置(液晶显示面板)、有机或无机EL(电致发光)显示装置、CCD、光通信元件等的各种电光学装置和其他装置。
本发明的微透镜基板，例如，可以通过如上述制造的带有微透镜用凹部的基板2作为模而利用的2P法(光聚合法)等而制造。
下面，参照图9说明利用2P法的微透镜基板1的制造方法。
<C1>首先，如图9(A)所示，准备微透镜用的、已经形成第一凹部24和第二凹部25的带有微透镜用凹部的基板2。在本方法中，作为模来利用该已经形成第一凹部24和第二凹部25的带有微透镜用凹部的基板2。在这些凹部24、25中，充填树脂的方法，形成微透镜11、12。另外，在第一凹部24和第二凹部25的内面，可以涂敷脱模剂。然后，把该带有微透镜用凹部的基板2设置成使第一凹部24和第二凹部25向铅垂上方开放。
<C2>其次，对已经形成第一凹部24和第二凹部25的带有微透镜用凹部的基板2上，供给具有第一微透镜11和第二微透镜12的、变为构成树脂层(微透镜基板1)的未固化的树脂。
<C3>接着，在这样的树脂与基板3接合，进行压紧·密接。
基板3适宜利用厚度均匀、没有弯曲或伤痕的。作为基板3的材料，可以举出：聚酰胺(例如，尼龙6、尼龙46、尼龙66、尼龙610、尼龙612、尼龙11、尼龙12、尼龙6-12、尼龙6-66)、热可塑性聚酰亚胺、芳香族聚酯等的液晶聚合物、对聚苯氧、对聚苯硫、聚乙烯、聚丙烯、乙烯—醋酸乙烯基共聚物等的聚烯烃、变性聚烯烃、聚碳酸酯、 丙烯酯(异丁烯酯)、聚甲醇甲基丙烯酸酯、聚乙烯对苯二酸酯、聚丁烯对苯二酸酯等的聚酯、聚醚、聚醚醚酮、聚醚酰亚胺、聚缩醛等的热可塑性树脂、双酚型、酚醛型、萘系列等的各种环氧树脂、苯酚树脂、脲醛树脂、三聚氰胺树脂、聚酯(不饱和聚酯)树脂、聚酰亚胺树脂、硅树脂、聚氨酯树脂等的热固性树脂或把这些为主的共聚物、混合体、齐聚物(polymer alloy)等的树脂材料等、玻璃等。但是，其中的丙稀树脂、聚碳酸酯树脂为优选。作为基板2，通过利用丙稀树脂、聚碳酸酯所构成的，可以使所得到的微透镜基板1具有适宜的光学特性。另外，丙稀树脂、聚碳酸酯为比较低价，在制造成本方面也有利。
<C4>接着，使所述树脂固化。该固化方法是根据树脂的种类而适当选择，例如，可以是紫外线照射、加热、电子射线照射等的方法。
由此，如图9(B)所示，形成：具有第一微透镜11和第二微透镜12的树脂层即微透镜基板1。该微透镜基板1，通过充填在第一凹部24和第二凹部25的树脂层，形成第一微透镜11和第二微透镜12。
<C5>接着，如图9(C)所示，从微透镜基板1拆下作为模的带有微透镜用凹部的基板2和基板3。另外，也可以从微透镜基板1不拆下基板3而接合微透镜基板1和基板3的状态，直接作为微透镜基板。
另外，在上述的说明中，只在一个面形成微透镜的、具备平凸透镜(平凸型微透镜)的基板作为微透镜基板1，但是，本发明的微透镜基板不是被限定于这些。
例如，可以为两面形成微透镜的、具备双凸透镜的微透镜基板1。此种情况下，例如使用上述2枚平凸透镜，通过粘合其相互的平面侧，可以得到具备双凸透镜的微透镜基板。另外，可以在一张基板的两面，形成微透镜。
在此，说明微透镜基板的其他实施方式。
<微透镜基板的其他实施方式>
如图10(A)所示，在第一微透镜11彼此之间，除了第二微透镜12以外，也可以在基板上还形成第三微透镜14。由此，由于第三微透镜14，更能减少第一微透镜11彼此之间中的平坦部面积，所以，所得到的微透镜基板具有优越视场角特性。
另外，如图10(B)所示，多个第一微透镜11以锯齿状配置，也是可以的。此种情况下，多个第一微透镜11配置成更稠密，随之，第二微透镜12′变为小直径的。
并且，如图11(A)所示，第一微透镜11′为可以是草袋状，也可以是如图11(B)所示的，把第一微透镜11″配置成格子状的。
另外，如图12(A)所示，第一微透镜11″可以是圆形在其上下方向的两端部缺少的微透镜，也可以是如图12(B)所示，把第一微透镜11″配置成格子状。
<透射型屏幕>
下面，参照图13和图14说明利用图1所示的微透镜基板1的透射型屏幕。图13是模式性地表示透射型屏幕的光学系统的纵剖面图，图14是图13所示透射型屏幕的分解立体图。
该透射型屏幕200在射出面的表面，备有：形成菲涅耳透镜的菲涅耳透镜部210、和配置在菲涅耳透镜部210的出射面侧并在入射面的表面形成第一微透镜11和第二微透镜12的微透镜基板1。
这样，透射型屏幕200具有微透镜基板1。由此，与利用双凸透镜的情况相比，扩大上下方向的视场角。
作为微透镜基板1，特别利用无规则配置第一微透镜11或第二微透镜12的基板的情况下，可以更有效地防止与液晶等的光阀或菲涅耳透镜的干涉，几乎完全消除莫尔条纹成为可能。由此，成为显示品质优越的、优越的透射型屏幕。
另外，根据上述的方法，可以容易制造大型的微透镜基板(微透镜阵列部)。由此，可以制造没有粘合界线的、高品质的大型屏幕。
另外，本发明的透射型屏幕是不限于上述的构成。可以在微透镜基板(微透镜阵列部)的出射面侧或入射面侧，还采用黑条(black stripe)或光扩散板或其他微透镜的透射型屏幕。
<背面型投影仪>
下面，说明：利用了所述透射型屏幕的背面型投影仪。
图15是模式性地表示本发明背面型投影仪构成的图。
如图15所示，背面型投影仪300具有：在筐架340上配置了投映光学部件310、导光反射镜320、透射型屏幕330的构成。
并且，该背面型投影仪300，作为其透射型屏幕330，利用上述的、不易发生衍射光或莫尔条纹的透射型屏幕200。因此，成为视场角宽、并不发生莫尔条纹的、显示品质优越的、优越的背面型投影仪。
进而，根据本发明的方法，也可以简单且适宜地进行对大型基板的处理。由此，例如，以简便的方法、低价来可以制造高品质的大型微透镜用的带有凹部的基板、微透镜基板、透射型屏幕、背面型投影仪。
如上，根据图示的实施方式，说明了本发明的微透镜用的带有凹部的基板及其制造方法、微透镜基板、透射型屏幕和背面型投影仪，但是，本发明并不是限于这些。
例如，本发明的带有凹部的基板的制造方法中，根据需要也可以追加任意目的的工序。
另外，上述的说明中，对带有微透镜用凹部的基板的制造方法，举例说明了：形成在基板表面的掩模上，利用物理方法或照射激光来形成初始孔，然后，进行蚀刻形成透镜用凹部的方法。但也可以是，形成在基板表面的掩模上，利用光刻技术来形成开口部，并进行蚀刻来形成透镜用凹部的方法。
另外，上述的说明中，对初始孔形成工序，举例说明了边以一元维地移动激光50，边照射激光的构成。但激光的照射可以是，边以二维或三维地移动激光，边照射激光的方法。
另外，上述的说明中，说明了2P法来制造微透镜基板的方法，但也可以是，利用2P法之外的方法来制造微透镜。
另外，上述的说明中，作为微透镜基板1所具备的第一微透镜11和第二微透镜12，举例说明了平凸型微透镜，但是，不限于这些，可以为两个平凸型微透镜，在平面部分被粘合而组成的双凸型微透镜。
另外，本发明的投射型屏幕、背面型投影仪不限于上述的实施方式，可以由能发挥同样功能的任意构成来替换投射型屏幕、背面型投影仪的构成各部。例如，本发明的投射型屏幕可以是在微透镜基板1的出射面侧，采用黑底(遮光部)或光扩散板或其他微透镜的投射型屏幕。
另外，上述的说明中，举例说明了本发明的微透镜基板在利用透射型屏幕和具备该透射型屏幕的投射型显示装置的情况。但是，本发明不限于这些，本发明的微透镜基板当然可以利用在CCD、光通信元件等的各种电光学元件、液晶显示装置(液晶板)、有机或无机EL(Electroluminescence电致发光)显示装置、和其他装置。
另外，显示装置也不限于背面投影仪型的显示装置，在前面投影仪型的显示装置也可以利用本发明的微透镜基板。
[实施例1]
如下的方法制造具备带有微透镜用凹部的基板，利用该带有微透镜用凹部的基板来制造微透镜基板。
首先，作为基板，准备1.2m×0.7m方形、厚度0.7mm的无碱玻璃基板。
把该无碱玻璃基板浸渍在常温的清洗液(4重量％的氟化氢铵水溶液)而进行清洗，清净其表面。
-1A-其次，在该无碱玻璃基板上，利用溅射法，形成厚度0.15μm的Cr/氧化Cr膜(掩模)。
-2A-接着，对掩模进行激光加工，在掩模的中央部的113cm×65cm范围，形成多个第一初始孔。
另外，激光加工是利用YAG激光，能量强度2mW、光束直径5μm、照射时间0.1ms的条件来进行。
由此，在掩模的上述范围全面，以格子状形成了多个第一初始孔。第一初始孔的平均直径为5μm，第一初始孔的形成密度为20,000个/cm2。
另外，此时，在无碱玻璃基板上，也形成了深度为0.1μm的初始凹部。
-3A-接着，对无碱玻璃基板实施湿式蚀刻，而在钠玻璃基板上形成了多个第一凹部。
另外，湿式蚀刻是作为蚀刻液，利用4重量％的氟化氢铵水溶液(常温)，浸渍时间为12小时。
-4A-接着，把无碱玻璃基板浸渍在硝酸二铈铵和过氯酸的混合水溶液中30分钟，除去Cr/氧化Cr膜(掩模)。
-5A-接着，第一初始孔彼此之间的中间位置作为第二初始孔的位置，湿式蚀刻的浸渍时间作为5小时以外，和从上述的-1A-到-4A-为止的工序同样，进行掩模形成、第二初始孔的形成、湿式蚀刻、掩模除去。由此，在第一凹部彼此之间形成了第二凹部。
-6A-接着，在无碱玻璃基板上，没有形成第一初始孔和第二初始孔的区域的中心位置作为第三初始孔的位置，湿式蚀刻的浸渍时间作为2小时，另外，和从上述的-1A-到-4A-为止的工序同样，进行掩模形成、第三初始孔的形成、湿式蚀刻、掩模除去。由此，在第一凹部彼此之间、并没有形成第一凹部和第二凹部的区域，形成了第三凹部。
由此，在无碱玻璃基板上，得到了有规则形成第一微透镜用和第二微透镜用的多个凹部的、晶片状的带有微透镜用凹部的基板。
利用这样制造的带有微透镜用凹部的基板，通过2P法来制作微透镜基板。
-7A-接着，以凹部向铅垂方向开放的形态，设置带有微透镜用凹部的基板，供给未固化的环氧树脂的同时，在树脂上接合基板，进行压紧·密接。
-8A-接着，固化上述的树脂。由此，由充填在凹部内的树脂，形成了微透镜。
-9A-接着，从微透镜基板摘下作为模的带有微透镜用凹部的基板，得到微透镜基板。
由此，如图10(A)所示，得到：有规则地多个形成的大小不同的第一微透镜和第二微透镜的、1.2m×0.7m的微透镜基板。所形成的第一微透镜的直径为110μm，第二微透镜的直径为50μm，第三微透镜的直径为15μm。另外，第一微透镜的高度为55μm(＝曲率半径)，第二微透镜的高度为25μm(＝曲率半径)，第三微透镜的高度为7.5μm(＝曲率半径)。并且，第一微透镜、第二微透镜、第三微透镜的对587.56nm的光的光学浓度分别为0.2。
(实施例2)
除了多个第一凹部的位置作为锯齿状、第二凹部的大小小于所述的实施例1、不形成第三凹部之外，和所述的实施例1同样方法，得到和实施例1同样的带有微透镜用凹部的基板。
利用该带有微透镜用凹部的基板，和实施例1同样方法，得到微透镜基板。由此，如图10(B)所示，得到了除了多个第一凹部的位置作为锯齿状、第二凹部的大小小于所述的实施例1、不形成第三凹部之外，和实施例1同样的带有微透镜用凹部的基板。
所得到的第二微透镜的直径为20μm(＝曲率半径)。另外，第二微透镜的高度为10μm(＝曲率半径)。
(实施例3)
通过和实施例1同样方法，得到：除了第一凹部的边缘形状为草袋状、没有形成第三凹部之外，和实施例1同样的带有微透镜用凹部的基板。此时，第一初始孔为上下方向延伸50μm的长孔。
利用该带有微透镜用凹部的基板，用和实施例1同样方法，得到微透镜基板。由此，如图11(A)所示，得到了除了第一凹部的形状为草袋状、没有形成第三凹部之外，和实施例1同样的带有微透镜用凹部的基板。
所形成的第一微透镜的长轴方向的长度为150μm，并且，第一微透镜的短轴方向的长度为110μm。
(实施例4)
通过和实施例1同样方法，得到了除了第一凹部的边缘形状为草袋状之外，和实施例2同样的带有微透镜用凹部的基板。此时，第一初始孔为上下方向延伸50μm的长孔。
利用该带有微透镜用凹部的基板，用和实施例1同样方法，得到了微透镜基板。由此，如图11(B)所示，得到了除了第一凹部的形状为草袋状之外，和实施例2同样的带有微透镜用凹部的基板。
所得到的第二微透镜的直径为20μm，并且，第二微透镜的高度为10μm(＝曲率半径)。
(实施例5)
和所述实施例1同样方法，得到了除了使上述上下方向的第一凹部彼此之间的距离小于所述实施例1、把形状为直径110μm的圆状凹部的第一凹部在上下方向缺少两端部的形状、使第二凹部的大小小于所述实施例1、第三凹部只形成在第二凹部的上下之外、的和实施例1同样的带有微透镜用凹部的基板。
利用该带有微透镜用凹部的基板，和实施例1同样方法，得到微透镜用基板。由此，如图12(A)所示，和实施例1同样，得到了除了使上述上下方向的第一凹部彼此之间的距离小于所述实施例1、形状为直径110μm的圆状的微透镜在上下方向缺少两端部的形状、使第二微透镜的大小小于所述实施例1、第三微透镜只形成在第二凹部的上下之外、的和实施例1同样的微透镜基板。
所形成的第一微透镜的上下方向的长度为80μm，第二微透镜的直径为25μm，第三微透镜的直径为10μm。并且，第二微透镜的高度为12.5μm(曲率半径)，第三微透镜的高度为5μm(曲率半径)。
(实施例6)
和实施例1同样方法，得到了除了第一凹部的位置为锯齿状、第二凹部的大小小于所述实施例5、不形成第三凹部以外、的和实施例5同样的带有微透镜用凹部的基板。
利用该带有微透镜用凹部的基板，和实施例1同样方法，得到微透镜用基板。由此，如图12(B)所示，得到了除了第一微透镜的位置为锯齿状、第二微透镜的大小小于所述实施例5、不形成第三微透镜以外、和所述实施例5同样的微透镜基板。
所得到的微透镜的第二微透镜的直径为8μm。并且，第二微透镜的高度为4μm(曲率半径)。
(实施例7)
掩模为Ni/氧化Ni膜，和所述实施例1同样方法，得到了在工序-2A-中不仅形成第一初始孔、还形成浅于第一初始孔的为了第二凹部的开口(凹部形状)(深度0.1μm)、不进行工序-4a-和-5a-、只用工序-3A-在无碱玻璃基板上形成第一凹部和第二凹部之外、和所述实施例1同样的方法得到了带有微透镜用凹部的基板。
并且，利用该微透镜的带有凹部的基板，和所述实施例1同样方法，得到微透镜。
(比较例1)
通过和实施例1同样方法，得到了没有形成第二微透镜和第三微透镜之外、和实施例1同样的微透镜基板。
(比较例2)
重合微透镜彼此而得到了除了蜂窝状配置微透镜之外、和实施例1同样的微透镜。此种情况下，微透镜彼此之间，完全不存在平坦部，所述微透镜变为切除圆形微透镜边缘部形态的六角形。
所得到的微透镜基板的微透镜对角方向的长度为110μm。
(评价)
利用所述实施例和比较例中所得到的微透镜，制作如图10、图11所示的透射型屏幕，并利用相应屏幕来制作图12所示的背面型投影仪。
所得到的背面型投影仪的透射型屏幕上，显示样本图像的状态下，利用变角发光强度仪(测角光度计)来测定水平方向中的视场角(发光强度变为1/2的角度(α角)和发光强度变为1/3的角度(β角))。
表1中表示其结果。
其结果，确认：具备每一个实施例中所得到的透射型屏幕的背面型投影仪与具备比较例中所得到的透射型屏幕的背面型投影仪相比较，α角、β角均为宽，具有优越的视场角特性。并且，每一个实施例中所得到的背面型投影仪中，在每一个视场角，显示明亮的图像。
与此相反，具备比较例中所得到的透射型屏幕的背面型投影仪中，光量之差大且视场角特性也差。
表1
    实施例1 实施例2   实施例3   实施例4   实施例5   实施例6   实施例7   比较例1   比较例2
α角(发光强度变为1/2的角度)     22° 20°   22°   21°   23°   25°   22°   10°   15°
β角(发光强度变为1/3的角度)     30° 27°   26°   26°   28°   32°   29°   20°   22°

Claims (19)

1、一种带有微透镜用凹部的基板，在形成微透镜用的基板上，设有多个凹部，其特征在于：所述多个凹部包括：多个第一凹部；位于所述第一凹部彼此之间并小于所述第一凹部的多个第二凹部。
2、根据权利要求1所述的带有微透镜用凹部的基板，其特征在于：所述多个第一凹部是以格子状或近似格子状而配置的。
3、根据权利要求1所述的带有微透镜用凹部的基板，其特征在于：所述多个第一凹部是以锯齿状或近似锯齿状而配置的。
4、根据权利要求1至3的任一项所述的带有微透镜用凹部的基板，其特征在于：所述第一凹部的边缘和所述第二凹部的边缘是位于平行于所述基板的一个面。
5、根据权利要求1至4的任一项所述的带有微透镜用凹部的基板，其特征在于：所述第一凹部和所述第二凹部是分别形成为圆形或近似圆形。
6、根据权利要求1至5的任一项所述的带有微透镜用凹部的基板，其特征在于：所述第二凹部是以除掉所述第一凹部彼此之间的平坦部的形态配置的。
7、根据权利要求5或6所述的带有微透镜用凹部的基板，其特征在于：所述第一凹部的边缘与所述第二凹部的边缘是互相邻接的。
8、根据权利要求1至7的任一项所述的带有微透镜用凹部的基板，其特征在于：还包括小于所述第二凹部的第三凹部，所述第三凹部是位于所述第一凹部彼此之间、且没有形成所述第二凹部的区域。
9、一种微透镜基板，其特征在于：利用权利要求1至8的任一项所述的带有微透镜用凹部的基板来制造的。
10、一种微透镜基板，是在基板上形成了多个微透镜的基板，其特征在于，所述多个微透镜包括：多个第一微透镜；位于所述第一微透镜彼此之间并小于所述第一微透镜的多个第二微透镜。
11、一种透射型屏幕，其特征在于：具备权利要求9或10所述的微透镜基板。
12、一种背面型投影仪，其特征在于：具备权利要求9或10所述的微透镜基板。
13、一种带有微透镜用凹部的基板的制造方法，是在形成微透镜用的基板上，形成多个凹部的带有微透镜用凹部的基板的制造方法，其特征在于，包括：
在所述基板上，形成多个凹部的第一凹部形成工序；
在所述第一凹部形成工序中所形成的所述凹部彼此之间，形成大小不同于该凹部的多个凹部的第二凹部形成工序。
14、根据权利要求13所述的带有微透镜用凹部的基板的制造方法，其特征在于：所述第一凹部形成工序中所形成的所述凹部是第一凹部，所述第二凹部形成工序中所形成的所述凹部是小于所述第一凹部的第二凹部。
15、根据权利要求14所述的带有微透镜用凹部的基板的制造方法，其特征在于：在所述基板上形成的掩模上形成多个开口后，通过蚀刻所述基板，以在所述基板上形成所述第一凹部和所述第二凹部。
16、根据权利要求14或15所述的带有微透镜用凹部的基板的制造方法，其特征在于：在所述基板上形成掩模，在所述掩模上形成多个第一开口后，通过蚀刻所述基板，以在所述基板上形成所述第一凹部，然后，在所述基板上形成新的掩模，在所述新的掩模上形成多个第二凹部后，通过蚀刻所述基板，以在所述基板上形成第二凹部。
17、根据权利要求14或15所述的带有微透镜用凹部的基板的制造方法，其特征在于：在所述基板上以所定厚度形成蚀刻可能的掩模，在所述掩模上形成多个第一开口，和浅于所述第一开口的第二开口后，通过蚀刻所述基板，在所述基板上形成所述第一凹部和所述第二凹部。
18、一种带有微透镜用凹部的基板的制造方法，是在基板上形成微透镜用凹部的带有微透镜用凹部的基板的制造方法，其特征在于，包括：
在所述基板上形成的掩模上形成多个第一开口的工序；
通过已形成所述多个第一开口后的所述掩模，对所述基板实施第一蚀刻处理而在所述基板上形成多个凹部的工序；
对形成在经实施所述第一蚀刻处理后的所述基板上的掩模，在所述第一开口彼此之间，形成多个第二开口的工序；
通过已形成所述多个第二开口后的所述掩模，对所述基板实施第二蚀刻处理而在所述基板上形成大小不同于所述第一蚀刻处理所形成的所述凹部的多个凹部的工序。
19、一种带有微透镜用凹部的基板的制造方法，是在基板上形成微透镜用凹部的带有微透镜用凹部的基板的制造方法，其特征在于，包括：在所述基板上以所定厚度形成蚀刻可能的掩模，在所述掩模上形成多个第一开口的同时，在所述第一开口彼此之间，形成浅于所述第一开口的多个第二开口的工序；
通过已形成所述多个第一开口和所述多个第二开口后的所述掩模，对所述基板实施蚀刻处理而在所述基板上形成大小不同的两种凹部的工序。
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