CN114609704B - 微透镜阵列及制备方法、压印模板和显示装置 - Google Patents
微透镜阵列及制备方法、压印模板和显示装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN114609704B CN114609704B CN202210186501.8A CN202210186501A CN114609704B CN 114609704 B CN114609704 B CN 114609704B CN 202210186501 A CN202210186501 A CN 202210186501A CN 114609704 B CN114609704 B CN 114609704B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- microlens
- substrate
- array
- microlens array
- micro
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title abstract description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 103
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 45
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims abstract description 17
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 16
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 24
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 claims description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 20
- 230000008569 process Effects 0.000 description 6
- 230000005489 elastic deformation Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000003491 array Methods 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- -1 but not limited to Substances 0.000 description 1
- 230000005669 field effect Effects 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
- G02B3/0006—Arrays
- G02B3/0012—Arrays characterised by the manufacturing method
- G02B3/0031—Replication or moulding, e.g. hot embossing, UV-casting, injection moulding
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
- G02B3/0006—Arrays
- G02B3/0037—Arrays characterized by the distribution or form of lenses
- G02B3/0056—Arrays characterized by the distribution or form of lenses arranged along two different directions in a plane, e.g. honeycomb arrangement of lenses
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B30/00—Optical systems or apparatus for producing three-dimensional [3D] effects, e.g. stereoscopic images
- G02B30/20—Optical systems or apparatus for producing three-dimensional [3D] effects, e.g. stereoscopic images by providing first and second parallax images to an observer's left and right eyes
- G02B30/26—Optical systems or apparatus for producing three-dimensional [3D] effects, e.g. stereoscopic images by providing first and second parallax images to an observer's left and right eyes of the autostereoscopic type
- G02B30/27—Optical systems or apparatus for producing three-dimensional [3D] effects, e.g. stereoscopic images by providing first and second parallax images to an observer's left and right eyes of the autostereoscopic type involving lenticular arrays
- G02B30/29—Optical systems or apparatus for producing three-dimensional [3D] effects, e.g. stereoscopic images by providing first and second parallax images to an observer's left and right eyes of the autostereoscopic type involving lenticular arrays characterised by the geometry of the lenticular array, e.g. slanted arrays, irregular arrays or arrays of varying shape or size
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Geometry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
本发明公开了一种微透镜阵列及制备方法、压印模板和显示装置，该微透镜阵列包括衬底，所述衬底由玻璃或柔性材料形成；多个微透镜，多个所述微透镜阵列排布于所述衬底的一侧，形成所述微透镜的材料包括光刻胶，多个所述微透镜中的至少部分微透镜与和其相邻的所述微透镜之间密接。本发明采用弹性可拉伸的柔性材料形成衬底，进而可以在对衬底进行拉伸后在拉伸状态下的衬底上制备微透镜阵列，最后通过简单的衬底应力释放，即可获得密接型的微透镜阵列，从而实现低串扰、高光效的密接微透镜阵列基板的制作。
Description
技术领域
本发明涉及显示领域，具体地，涉及微透镜阵列及制备方法、压印模板和显示装置。
背景技术
在裸眼3D或AR/VR等虚拟现实显示技术中，需要利用微透镜阵列实现三维画面或是虚拟显示画面的显示。目前的微透镜阵列主要采用单点金刚石制作微透镜(MLA)模版，然后采用纳米压印技术进行微透镜基板的制作。但是，采用单点金刚石进行MLA模版的方案存在成本较高、难以大尺寸化等问题。而采用光刻热回流的方式，不论是直接形成微透镜阵列，还是基于其作为压印用模版进行纳米压印形成微透镜阵列，均难以实现密接型透镜阵列的制作，光线可从相邻的微透镜之间的间隙处射出，发生串扰等不良。虽然该问题可以通过在相邻的微透镜之间增加遮光层(比如黑色矩阵)的方案得到一定程度的缓解，但遮光层的制备也增加了微透镜阵列的制备工艺步骤，并增加了生产成本。
因此，目前的微透镜阵列及制备方法、压印模板和显示装置仍有待改进。
发明内容
在本发明的一个方面，本发明提出了一种用于显示装置的微透镜阵列。该微透镜阵列包括衬底，所述衬底由玻璃或柔性材料形成；多个微透镜，多个所述微透镜阵列排布于所述衬底的一侧，形成所述微透镜的材料包括光刻胶，多个所述微透镜中的至少部分微透镜与和其相邻的所述微透镜之间密接。本发明采用弹性可拉伸的柔性材料形成衬底，进而可以在对衬底进行拉伸后在拉伸状态下的衬底上制备微透镜阵列，最后通过简单的衬底应力释放，即可获得密接型的微透镜阵列，从而实现低串扰、高光效的密接MLA基板的制作。
根据本发明的实施例，所述柔性材料为可发生弹性形变的材料。由此，可令衬底在材料发生弹性形变的范围内进行微透镜阵列的制备。
根据本发明的实施例，形成所述衬底的材料包括选自TPU、PMDS以及PI的至少之一。由此，可进一步提高该微透镜阵列的性能。
根据本发明的实施例，所述柔性材料满足以下条件的至少之一：弹性伸长率为10％～30％；弹性模量小于0.1GPa。由此，可进一步提高该微透镜阵列的性能。
根据本发明的实施例，所述微透镜满足以下条件的至少之一：所述微透镜的宽度为10～300微米；所述微透镜的拱高为5～30微米；所述微透镜的折射率为1.5～1.8。由此，可进一步提高该微透镜阵列的性能。
根据本发明的实施例，该微透镜阵列进一步包括平坦化层，所述平坦化层位于所述微透镜远离所述衬底的一侧并覆盖所述多个微透镜，所述平坦化层的厚度为5～30微米，且所述平坦化层的折射率低于所述微透镜的折射率，且所述微透镜的折射率和所述平坦化层的折射率之差大于0.1。由此，可进一步提高该微透镜阵列的性能。
在本发明的另一方面，本发明提出了一种用于制备微透镜阵列的压印模板。该压印模板包括：第二衬底，所述第二衬底由柔性材料形成；多个微透镜模板，多个所述微透镜模板阵列排布于所述第二衬底的一侧，形成所述微透镜模板的材料包括光刻胶；多个所述微透镜模板中的至少部分微透镜模板与和其相邻的所述微透镜模板之间密接。利用该模板可简便地获得微透镜阵列，且获得的微透镜阵列可实现多个微透镜之间的密接，进而可提高利用该微透镜阵列的显示装置的性能，缓解甚至防止由于微透镜之间具有间隙而导致的显示串扰和光效低等问题。
在本发明的另一方面，本发明提出了一种制备微透镜阵列的方法，该方法包括：对柔性基材进行拉伸，并在处于拉伸状态下的所述柔性基材一侧形成多个阵列排布的微透镜结构，相邻的两个所述微透镜结构之间具有间隙；令所述柔性基材回弹，以消除至少部分所述微透镜结构之间的间隙。由此，可简便地获得微透镜阵列，且获得的微透镜阵列可实现多个微透镜之间的密接，进而可提高利用该微透镜阵列的显示装置的性能，缓解甚至防止由于微透镜之间具有间隙而导致的显示串扰和光效低等问题。
根据本发明的实施例，所述方法进一步包括：利用光刻胶形成所述微透镜结构，并利用所述柔性基材以及所述微透镜结构构成压印模板，基于纳米压印技术在第三衬底上形成多个微透镜。由此，可简便地获得微透镜阵列结构。
在本发明的又一方面，本发明提出了一种显示装置，包括：显示面板以及微透镜阵列，所述显示面板以及所述微透镜阵列的位置被配置为可令所述显示面板出光侧的光入射至所述微透镜阵列后射出，所述微透镜阵列为前面所述的。由此，可提高该显示装置的性能，缓解甚至防止由于微透镜之间具有间隙而导致的显示串扰和光效低等问题。
附图说明
本发明的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：
图1显示了根据本发明的一个实施例的微透镜阵列的结构示意图；
图2显示了根据本发明的另一个实施例的微透镜阵列的结构示意图；
图3显示了根据本发明的一个实施例的用于制备微透镜阵列的压印模板的结构示意图；
图4显示了根据本发明的一个实施例的制备微透镜阵列的方法的流程示意图；
图5显示了根据本发明另一个实施例的制备微透镜阵列的方法的流程示意图；
图6显示了图4以及图5中所示出结构的截面结构示意图；
图7显示了根据本发明一个实施例的制备显示装置的方法的部分流程图；
图8显示了根据本发明的一个实施例的制备微透镜阵列的方法的流程示意图；
图9显示了相关技术中的具有微透镜阵列的显示装置的结构示意图；
图10显示了相关技术中的具有微透镜阵列的显示装置的结构示意图。
具体实施方式
下面详细描述本发明的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。
本申请旨在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。如前所述，在裸眼3D或AR/VR等虚拟现实显示技术中，需要利用微透镜阵列实现三维画面或是虚拟显示画面的显示。但相关技术中的微透镜阵列多为非密接型透镜阵列，参考图9，光线可自显示面板的发光层210穿过滤光层(如图中所示出的RGB)以及平坦层220，最终从相邻的微透镜10’之间的间隙处射出，进而发生串扰等不良。该问题的一种解决方案是在微透镜之间增加遮光层20。参考图10可知，该方案虽然可以遮挡发光层210的光线自微透镜10’的间隙处射出，但是也增加了微透镜阵列的制备工艺步骤，并增加了生产成本。并且，制备滤光层的工艺中会存在对位偏差，进而不仅将降低微透镜阵列的透过率和出光效率，也将影响其整体的光场效果。
有鉴于此，在本发明的一个方面，本发明提出了一种用于显示装置的微透镜阵列。参考图1，该微透镜阵列包括衬底100和位于衬底100一侧阵列排布的多个微透镜10。衬底100可由玻璃或柔性材料形成，形成微透镜10的材料包括光刻胶。该微透镜阵列中的至少部分微透镜10与和其相邻的微透镜10之间密接。换句话说，该微透镜阵列中的至少部分微透镜10之间无间隙，在一些优选的实施例中，该微透镜阵列中的全部微透镜10之间均无间隙。
本发明采用柔性，例如具有弹性可拉伸的柔性材料形成衬底，进而可以在对衬底进行拉伸后在拉伸状态下的衬底上制备微透镜阵列，最后通过简单的衬底应力释放，即可获得密接型的微透镜阵列，从而实现低串扰、高光效的密接MLA基板的制作。或者，也可利用前述的柔性材料形成具有前述的微透镜结构的压印模板，采用光刻胶形成微透镜10，进而可以在玻璃等刚性的衬底上实现密接的微透镜阵列的制备。
根据本发明的实施例，柔性材料的具体类型不受特别限制，例如可以为可发生弹性形变的材料。由此，可令衬底在材料发生弹性形变的范围内进行微透镜阵列的制备，衬底在弹性形变范围内回弹后衬底的形状、大小可保持原有水平不变。例如，根据本发明的具体实施例，形成衬底的材料可包括TPU、PMDS以及PI的至少之一。由此，可进一步提高该微透镜阵列的性能。
根据本发明的具体实施例，用于形成衬底的柔性材料可以满足以下条件的至少之一：弹性伸长率为10％～30％；弹性模量小于0.1GPa。由此，可进一步提高该微透镜阵列的性能。满足上述参数的柔性材料可在一定范围内具有良好的弹性回弹性能，具有足够的弹性形变量，以在拉伸状态下通过简便的方式形成非密接的微透镜阵列，同时还可以在应力释放后，保持衬底的形状以及机械性能不变，且弹性回弹过程中的应力适中，不会损伤已经制备在其上的微透镜。
根据本发明的实施例，微透镜10的具体形状、尺寸均不受特别限制，本领域技术人员可以根据需要进行选择。根据本发明的一些实施例，微透镜10可以具有如图4中(c)所示出的条形结构，也可以具有如图5中的(c)所示出的球形结构。根据本发明的一些实施例，该微透镜可以在沿着衬底100厚度方向的截面上具有弧形的截面。根据本发明的一些具体实施例，微透镜10的尺寸可以满足以下条件的至少之一：微透镜的宽度为10～300微米(如图1中所示出的D)，微透镜的拱高(如图1中所示出的H)为5～30微米。由此，可进一步提高该微透镜阵列的性能。根据本发明的一些实施例，微透镜10的折射率可以为1.5～1.8。由此，可较好的实现微透镜阵列的光线性能。
根据本发明的实施例，参考图2，该微透镜阵列可以进一步包括平坦化层110，平坦化层110位于微透镜10远离衬底100的一侧并覆盖所述多个微透镜10。由此，可保护微透镜结构，避免运输以及使用过程中的损伤。根据本发明的一些实施例，平坦化层的厚度可以为5～30微米，平坦化层的折射率低于所述微透镜的折射率，且微透镜的折射率和所述平坦化层的折射率之差大于0.1。例如，根据一些具体的实施例，平坦化层可以由透明的胶层构成，其折射率可低于形成微透镜的光刻胶材料，具体折射率可为1.3～1.6。由此，可进一步提高该微透镜阵列的性能。
在本发明的另一方面，本发明提出了一种用于制备微透镜阵列的压印模板。参考图3，该压印模板包括由柔性材料形成的第二衬底101，和多个阵列排布于第二衬底101一侧的多个微透镜模板11。形成微透镜模板11的材料包括光刻胶，多个微透镜模板11中的至少部分微透镜模板与和其相邻的微透镜模板之间密接。利用该模板可简便地获得微透镜阵列，且获得的微透镜阵列可实现多个微透镜之间的密接，进而可提高利用该微透镜阵列的显示装置的性能，缓解甚至防止由于微透镜之间具有间隙而导致的显示串扰和光效低等问题。
具体地，可利用该压印模板基于纳米压印技术，基于该压印模板在包括但不限于玻璃等刚性衬底上，形成光刻胶形成的，和微透镜模板11具有一致结构的微透镜阵列，由此可简便地实现密接微透镜阵列的制备。该微透镜模板11可以具有和前述的微透镜阵列中的微透镜10相一致的尺寸和透过率，在此不再赘述。
在本发明的另一方面，本发明提出了一种制备微透镜阵列的方法。该方法包括对柔性基材进行拉伸，制备微透镜结构，以及令柔性基材回弹的操作。具体可在处于拉伸状态下的柔性基材一侧形成多个阵列排布的微透镜结构，相邻的两个所述微透镜结构之间具有间隙，并在令柔性基材回弹时，消除至少部分或全部所述微透镜结构之间的间隙。由此，可简便地获得微透镜阵列，且获得的微透镜阵列可实现多个微透镜之间的密接，进而可提高利用该微透镜阵列的显示装置的性能，缓解甚至防止由于微透镜之间具有间隙而导致的显示串扰和光效低等问题。
根据本发明的实施例，该方法可以采用柔性基材形成微透镜阵列的衬底，则此时形成的微透镜结构在柔性基材回弹后形成微透镜阵列结构。或者，该方法可利用柔性衬底形成用于制备微透镜阵列的压印模板，进而后续通过包括但不限于纳米压印技术，在玻璃等刚性基材上形成微透镜阵列。
也即是说，该方法可以进一步包括利用光刻胶形成微透镜结构，并利用柔性基材以及微透镜结构构成压印模板，基于纳米压印技术在第三衬底上形成多个微透镜，并利用第三衬底形成前述的微透镜阵列的衬底，例如第三衬底可以为玻璃。由此，可简便地获得微透镜阵列结构。
根据本发明的一些具体实施例，以采用柔性基材构成前述的微透镜阵列的衬底为例，参考图4，该方法可具体包括令衬底100拉伸，以获得拉伸状态下的衬底100A(参考图4中的(b))。该步骤中衬底100的具体拉伸量不受特别限制，本领域技术人员可以根据衬底的具体材料，以及形成的微透镜结构之间的间隙，对该步骤中的拉伸量进行控制。具体地，可参考形成微透镜结构的工艺以及精度，确定微透镜结构中多个微透镜之间的间隙，并结合衬底100的材料的弹性形变量，令拉伸量控制在材料可发生弹性回弹范围内，且拉伸量可略大于微透镜结构中多个微透镜之间的间隙。例如具体地，在该步骤中可以将衬底100沿固定方向进行拉伸一定比例后，固定在刚性基板，如玻璃基板上，并保持一定时间，如保持24小时。由此，在后续步骤中制备好微透镜结构并令衬底100回弹之后，可令衬底的回复率与变形率一致，即拉伸后衬底可100％回弹，且衬底各个位置的受力可更加均匀。
随后，参考图4中的(c)和(d)，可在拉伸状态下的衬底100A上进行非密接微透镜阵列的制备，形成多个微透镜结构(如图中所示出的多个微透镜10)，且多个微透镜结构之间具有间隙。形成微透镜结构的方式不受特别限制，例如可以采用光刻胶，通过光刻热回流的方式形成多个微透镜结构。根据本发明的实施例，采用光刻热回流的方式一方面可以简便地基于光刻胶材料形成前述的微透镜结构，另一方面，可在衬底出于拉伸状态下，令光刻胶材料固化，从而可以在后续进行令拉伸状态下的衬底100A回弹的操作中，使得微透镜具有一定的硬度，进而可以防止在回弹过程中由于衬底应力释放而对微透镜结构的形貌、尺寸造成损伤。例如，根据本发明一些具体的实施例，光刻胶可采用包括但不限于在140摄氏度等条件下进行光刻热回流处理，从而令其成型，获得固态、具有一定硬度的微透镜结构。
随后，可令拉伸状态下的衬底100A回弹，进而消除多个微透镜结构之间的间隙，并令拉伸状态下的衬底100A恢复其原始状态，进而获得微透镜阵列。如前所述，经过前述步骤处理的微透镜结构具有一定的硬度，因此进行回弹处理时，胶材已经由具有流动性的状态固化成型，因此衬底的弹性回复距离可稍大于微透镜结构中微透镜之间的间隙，也不会出现应力释放后微透镜发生扭曲变形的情况。
类似地，该方法还可形成球形的微透镜阵列，例如参考图5，球形的微透镜10在拉伸状态下的衬底100A上可呈非密接排布，随后在拉伸状态下的衬底100A回弹后，即可获得密接的球形微透镜阵列10的结构，图4中的(c)以及(d)，和图5中的(c)以及(d)的截面(如图4以及图5中所示出的A-A’方向，以及B-B’方向)具有相似的结构，为了简便说明，以图6为例示出图4中的(c)以及(d)，和图5中的(c)以及(d)的截面结构：对于柱状以及球形的微透镜阵列，其截面可以均具有如图6中所示出的弧形结构，并在拉伸状态下的衬底100A回弹后，获得密接的微透镜阵列。
在本发明的又一方面，本发明提出了一种显示装置。该显示装置包括显示面板以及微透镜阵列，所述显示面板以及所述微透镜阵列的位置被配置为可令所述显示面板出光侧的光入射至所述微透镜阵列后射出，所述微透镜阵列为前面所述的。由此，可提高该显示装置的性能，缓解甚至防止由于微透镜之间具有间隙而导致的显示串扰和光效低等问题。
根据本发明的实施例，参考图7，下面对形成该显示装置的方法进行简单说明：如图7中的可采用刚性基板，如玻璃为微透镜阵列的衬底100。随后，可在衬底100上形成对未标记，如图7中的(b)所示出的十字形标记。可利用具有如图3所示出的结构的压印模板，利用包括但不限于纳米压印的工艺，在衬底100上形成多个微透镜10，以获得微透镜阵列，其中多个微透镜10之间可实现密接，如图7中的(c)所示。关于压印模板的结构，以及微透镜10可实现密接的原理以及方式，前面已经进行了详细的描述，在此不再赘述。随后，参考图8中的(d)～(f)，可进行形成平坦化层110，以及保护层120的操作，随后可采用贴合的方式，将微透镜阵列和显示面板200结合，从而获得前述的显示装置。
在本发明的描述中，术语“上”、“下”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明而不是要求本发明必须以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“另一个实施例”等的描述意指结合该实施例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。另外，需要说明的是，本说明书中，术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。
尽管上面已经示出和描述了本发明的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本发明的限制，本领域的普通技术人员在本发明的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。
Claims (10)
1.一种用于显示装置的微透镜阵列，其特征在于，包括：
衬底，所述衬底由玻璃或柔性材料形成；
多个微透镜，多个所述微透镜阵列排布于所述衬底的一侧，形成所述微透镜的材料包括光刻胶；
多个所述微透镜中的至少部分微透镜与和其相邻的所述微透镜之间密接，
制备所述微透镜阵列的步骤包括：
对柔性基材进行拉伸，并在处于拉伸状态下的所述柔性基材一侧形成多个阵列排布的微透镜结构，相邻的两个所述微透镜结构之间具有间隙；
令所述柔性基材回弹，以消除至少部分所述微透镜结构之间的间隙。
2.根据权利要求1所述的微透镜阵列，其特征在于，所述柔性材料为可发生弹性形变的材料。
3.根据权利要求2所述的微透镜阵列，其特征在于，形成所述衬底的材料包括选自TPU、PMDS以及PI的至少之一。
4.根据权利要求2所述的微透镜阵列，其特征在于，所述柔性材料满足以下条件的至少之一：
弹性伸长率为10％～30％；
弹性模量小于0.1GPa。
5.根据权利要求1所述的微透镜阵列，其特征在于，所述微透镜满足以下条件的至少之一：
所述微透镜的宽度为10～300微米；
所述微透镜的拱高为5～30微米；
所述微透镜的折射率为1.5～1.8。
6.根据权利要求1所述的微透镜阵列，其特征在于，进一步包括平坦化层，所述平坦化层位于所述微透镜远离所述衬底的一侧并覆盖所述多个微透镜，所述平坦化层的厚度为5～30微米，且所述平坦化层的折射率低于所述微透镜的折射率，且所述微透镜的折射率和所述平坦化层的折射率之差大于0.1。
7.一种用于制备微透镜阵列的压印模板，其特征在于，包括：
第二衬底，所述第二衬底由柔性材料形成；
多个微透镜模板，多个所述微透镜模板阵列排布于所述第二衬底的一侧，形成所述微透镜模板的材料包括光刻胶；
多个所述微透镜模板中的至少部分微透镜模板与和其相邻的所述微透镜模板之间密接，
制备所述压印模板的步骤包括：
对柔性衬底进行拉伸，并在处于拉伸状态下的所述柔性衬底一侧形成多个阵列排布的微透镜模板，相邻的两个所述微透镜模板之间具有间隙；
令所述柔性衬底回弹，以消除至少部分所述微透镜模板之间的间隙。
8.一种制备微透镜阵列的方法，其特征在于，包括：
对柔性基材进行拉伸，并在处于拉伸状态下的所述柔性基材一侧形成多个阵列排布的微透镜结构，相邻的两个所述微透镜结构之间具有间隙；
令所述柔性基材回弹，以消除至少部分所述微透镜结构之间的间隙。
9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述方法进一步包括：
利用光刻胶形成所述微透镜结构，并利用所述柔性基材以及所述微透镜结构构成压印模板，基于纳米压印技术在第三衬底上形成多个微透镜。
10.一种显示装置，其特征在于，包括：
显示面板以及微透镜阵列，所述显示面板以及所述微透镜阵列的位置被配置为可令所述显示面板出光侧的光入射至所述微透镜阵列后射出，
所述微透镜阵列为权利要求1-6任一项所述的。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202210186501.8A CN114609704B (zh) | 2022-02-28 | 2022-02-28 | 微透镜阵列及制备方法、压印模板和显示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202210186501.8A CN114609704B (zh) | 2022-02-28 | 2022-02-28 | 微透镜阵列及制备方法、压印模板和显示装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN114609704A CN114609704A (zh) | 2022-06-10 |
| CN114609704B true CN114609704B (zh) | 2024-03-01 |
Family
ID=81858312
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202210186501.8A Active CN114609704B (zh) | 2022-02-28 | 2022-02-28 | 微透镜阵列及制备方法、压印模板和显示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN114609704B (zh) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115185025A (zh) * | 2022-07-26 | 2022-10-14 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种微透镜阵列基板及其制备方法、显示装置 |
Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1566994A (zh) * | 2003-07-08 | 2005-01-19 | 财团法人工业技术研究院 | 均光模块 |
| CN1629724A (zh) * | 2003-12-16 | 2005-06-22 | 精工爱普生株式会社 | 带有微透镜用凹部的基板及其制造方法、微透镜基板 |
| CN101069107A (zh) * | 2004-12-03 | 2007-11-07 | 麦克隆科技公司 | 无间隙微透镜阵列及其制造方法 |
| CN101676798A (zh) * | 2008-09-17 | 2010-03-24 | 中国科学院微电子研究所 | 一种制作微透镜阵列的方法 |
| CN103852816A (zh) * | 2014-03-28 | 2014-06-11 | 南京理工大学 | 一种高数值孔径曲面微透镜阵列制备方法 |
| CN106383407A (zh) * | 2016-12-02 | 2017-02-08 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种基于微纳结构的柔性裸眼三维显示薄膜器件 |
| CN111209803A (zh) * | 2019-12-24 | 2020-05-29 | 深圳阜时科技有限公司 | 光学检测装置和电子设备 |
| CN111366996A (zh) * | 2018-12-26 | 2020-07-03 | 江苏鲁汶仪器有限公司 | 一种微透镜阵列制备方法 |
| CN113050204A (zh) * | 2021-04-19 | 2021-06-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种微透镜阵列基板、3d显示装置及其制备方法 |
| CN113869118A (zh) * | 2021-08-25 | 2021-12-31 | 北京极豪科技有限公司 | 光学传感器、指纹识别模组以及电子设备 |
-
2022
- 2022-02-28 CN CN202210186501.8A patent/CN114609704B/zh active Active
Patent Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1566994A (zh) * | 2003-07-08 | 2005-01-19 | 财团法人工业技术研究院 | 均光模块 |
| CN1629724A (zh) * | 2003-12-16 | 2005-06-22 | 精工爱普生株式会社 | 带有微透镜用凹部的基板及其制造方法、微透镜基板 |
| CN101069107A (zh) * | 2004-12-03 | 2007-11-07 | 麦克隆科技公司 | 无间隙微透镜阵列及其制造方法 |
| CN101676798A (zh) * | 2008-09-17 | 2010-03-24 | 中国科学院微电子研究所 | 一种制作微透镜阵列的方法 |
| CN103852816A (zh) * | 2014-03-28 | 2014-06-11 | 南京理工大学 | 一种高数值孔径曲面微透镜阵列制备方法 |
| CN106383407A (zh) * | 2016-12-02 | 2017-02-08 | 中国科学院光电技术研究所 | 一种基于微纳结构的柔性裸眼三维显示薄膜器件 |
| CN111366996A (zh) * | 2018-12-26 | 2020-07-03 | 江苏鲁汶仪器有限公司 | 一种微透镜阵列制备方法 |
| CN111209803A (zh) * | 2019-12-24 | 2020-05-29 | 深圳阜时科技有限公司 | 光学检测装置和电子设备 |
| CN113050204A (zh) * | 2021-04-19 | 2021-06-29 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种微透镜阵列基板、3d显示装置及其制备方法 |
| CN113869118A (zh) * | 2021-08-25 | 2021-12-31 | 北京极豪科技有限公司 | 光学传感器、指纹识别模组以及电子设备 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN114609704A (zh) | 2022-06-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100956250B1 (ko) | 웨이퍼 스케일 렌즈조립체 제조방법 및 이에 의해 제조된웨이퍼 스케일 렌즈조립체 | |
| US7738194B2 (en) | Optical component and method of manufacturing the same | |
| US20140376097A1 (en) | Microlens array and imaging element package | |
| US20090180185A1 (en) | Minute Structure and its Manufacturing Method | |
| EP2361755A2 (en) | Lens array | |
| JP6060620B2 (ja) | マイクロレンズアレイの製造方法 | |
| KR20080030107A (ko) | 초점거리 가변 렌즈와 이를 이용한 초점거리 조절 장치 및촬상 장치 | |
| JP4046743B2 (ja) | 反射型表示装置およびその製造方法 | |
| US20130002730A1 (en) | Display module, manufacturing method thereof, and display device | |
| US20050181311A1 (en) | Method of manufacturing microlens array | |
| CN114609704B (zh) | 微透镜阵列及制备方法、压印模板和显示装置 | |
| CN110783367A (zh) | 显示面板 | |
| JP2011186306A (ja) | ウェハレンズユニットおよびウェハレンズユニットの製造方法 | |
| WO2024022078A1 (zh) | 一种微透镜阵列基板及其制备方法、显示装置 | |
| JP2014187160A (ja) | 固体撮像装置および携帯情報端末 | |
| US11294197B1 (en) | Integral imaging system with curved array of microlenses | |
| US9543352B2 (en) | CMOS image sensor with embedded micro-lenses | |
| JP2010002925A5 (zh) | ||
| JPH02251902A (ja) | レンズアレイ及びレンズアレイを用いた液晶表示素子 | |
| CN113219562B (zh) | 光学模组及其制作方法、显示装置 | |
| JP2015227999A (ja) | マイクロレンズアレイ基板及びその製造方法 | |
| US7964432B2 (en) | Method of manufacturing lenses, in particular for an integrated imager | |
| CN114518660A (zh) | 一种裸眼3d器件的制备方法、裸眼3d器件 | |
| JP2005055452A (ja) | マイクロレンズアレイ及び電気光学装置並びにそれらの製造方法 | |
| JP4496824B2 (ja) | マイクロレンズアレイ基板、ｔｆｔ基板、液晶パネル、液晶プロジェクタ、表示装置、照明装置、及びマイクロレンズアレイ基板の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |