CN1612245A - 光记录媒质 - Google Patents

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Abstract

一种光记录媒质包括一透射基底以及一形成在透射基底上的记录层，该记录层含有至少一种由化学式所示的通式表示的染料材料(化学式1中，R1是有1到4个碳原子的烷基，R2、R3是有1到4个碳原子的烷基、苄基或结合以形成3到6个环的基团，Y1和Y2独立地是有机基团以及X代表ClO4，BF4，PF6，SbF6)和一种由化学式2代表的通式表示的染料材料(化学式2中，R1和R2是有1到4个碳原子的烷基、苄基或结合以形成3到6个环的基团，Y1和Y2独立地为有机基团以及X代表ClO4，BF4，PF6，SbF6)。在例如DVD－R和DVD+R的一次写入型光记录媒质中，可以在从低速记录到高速记录中获得满意的记录特性。

Description

光记录媒质
发明的技术领域
本发明涉及一种光记录媒质，并特别涉及一种使用有机染料材料作为记录层的光记录媒质。
背景技术
使用光学有机染料材料作为记录层的光记录媒质包括一个由例如塑料这样的合适材料做成的透明基底，在该基底上如有需要可层压有有机染料作为主要组分的记录层，反射层，保护层等等。激光照射到该记录层的表面以在其照射的表面部分形成凹坑以高密度记录信息。
由CD-R(一次写入CD：致密盘，注册商标)代表的有机染料记录媒质是布置简单并且能便宜地制造，所以它们作为存储数据、图像数据和音乐数据的介质在市场中被广泛使用。但是，为了与近年来高速发展的电脑相一致，要求记录媒质的存储容量必需更增加。因此，使用有机染料的光记录媒质的需求正在从CD-R移向DVD-R和DVD+R(一次写入DVD：数字通用盘，注册商标)。
信息是以加热模式使用有机染料记录到光记录媒质上。当激光照射到记录层上时，在照射部分的有机染料吸收该激光从而被加热而分解。有机染料的分解部分与未分解部分在反射率上是不同的，因此在记录层上形成凹坑。因为这个原因，热量吸收机理在使用有机染料的光记录媒质中变得很重要。分解记录层中的有机染料所需要的热量依赖于吸收频谱，由此调整激光照射功率。
在使用有机染料的光记录媒质中，记录层的反射率特性和记录灵敏特性是很重要的。这些特性彼此非常相关，它们可以对光记录媒质的记录特性产生很大的影响。为了增加记录密度，DVD使用波长为650nm(DVD-R)或是655nm(DVD+R)的激光，它们比用于CD的激光波长要短。目前已经用于CD-R的有机染料在该波长区域内具有大的吸收性，并且它的记录灵敏性从最合适的记录灵敏性有很大的移位，因此它不能用于DVD-R和DVD+R。
另外，DVD-R和DVD+R也要求完成与CD-R相同的高速记录。能够实现高速记录的记录材料要求具有高的反射率、高的记录灵敏性以及用于以热量分解该染料的高的分解速度。
已经提出适用于DVD-R等的各种染料材料(例如，见引证的专利参考1和2)。
然而，这并不表示以高速记录模式下的记录和再现特性已充分地检测。
另外，如果通过简单增加染料的分解速度而使记录模式最佳化作为高速记录模式，那么在低速记录模式下的信号特性将不可避免地恶化。另外，如果记录模式被优化为低速记录模式，则在高速记录模式下的信号特性会恶化。因此，使用单一有机染料的记录介质很难以从低速记录模式到高速记录模式下保持记录特性。
[引证的专利参考文献1]：日本官方公报公开的专利申请第No.2002-52829号
[引证的专利参考文献2]：日本官方公报公开的专利申请第No.2003-231359号
发明概述
由于前述方面，本发明的一个目的是提供一种诸如DVD-R和DVD+R的一次写入型的光记录媒质，该光记录媒质能够在从低速记录模式到高速记录模式的很宽的范围内获得满意的记录特性。
根据本发明的一个方面，提供一种由一个透射基底和一个形成在透射基底上的记录层所组成的光记录媒质，该记录层包括至少一种示于以下化学式的通式所表示的染料材料(在化学式1中，R1代表具有1到4个碳原子的烷基，R2、R3代表具有1到4个碳原子的烷基、苄基或结合以形成3到6个环的基团，Y1和Y2独立地代表有机基以及X代表ClO4，BF4，PF6，SbF6)和一种示于以下化学式2所代表的通式表示的染料材料(在化学式2中，R1和R2代表具有1到4个碳原子的烷基、苄基或结合以形成3到6个环的基团，Y1和Y2独立地代表有机基团以及X代表ClO4，BF4，PF6，SbF6)：
化学式1：
化学式2：
根据本发明的另一方面，在具有如上所述布置的光记录媒质中，基底具有沿着记录轨迹形成的凹槽，该凹槽的宽度Wg按以下表示：
0.28μm≤Wg≤0.40μm以及该凹槽的深度D按下表示为：
100nm≤D≤200nm。
根据本发明，在具有如上所述布置的光记录媒质中，用化学式1代表的通式表示的染料材料是一种由下面的化学式3所代表的结构式所表示的材料。
化学式3：
还有，根据本发明，在具有上述布置的光记录媒质中，用化学式1所代表的通式所表示的染料材料是一种由下面化学式4代表的结构式所表示的材料。
化学式4：
Figure A20041009590100091
再者，根据本发明的其他方面，各颜料材料的重量比率按下表示为：
0＜W2/(W1+W2)≤0.7
其中W1代表由所述化学式1描述的染料材料的重量，以及W2代表由所述化学式2描述的染料材料的重量。
如上所述，根据本发明，提供一种适宜于在一次写入光记录媒质中应用中所使用的光记录媒质，特别地，该光记录媒质具有使用有机染料材料的DVD型的布置。当记录层的材料已被选择并且凹槽的宽度和凹槽被特别合适地选择时，那么可以得到令人满意的记录和再现特性，更确切的说是关于从1×速度记录模式到8×速度记录模式的宽的记录速度范围内可以获得抖动值小于9.0％，以及正常的记录功率特性。
因此，有可能提供一种具有DVD型布置的一次写入类型光记录媒质，它在实际运用中很有用并且它具有令人满意的记录和再现特性。
根据本发明，有可能提供一种一次写入型光记录媒质，其高速记录特性是优良的。
另外，根据本发明，有可能提供一种具有优良高速记录特性的光记录媒质，并且其在高速记录和例如1×速度记录模式的低速记录所需要的记录功率可以落在一个合适的范围内。
而且，根据本发明，有可能提供一种具有优良高速记录特性以及在低速记录模式下所需要的记录功率可以落在一个合适范围内的光记录媒质，并且其在高速记录模式，特别是8×速度记录模式下所需要的记录功率可以可靠地落在一个合适的范围内。
附图说明
图1是示出根据本发明的一种光记录媒质的布置的示意剖面图；
图2是示出根据本发明的光记录媒质主要部分的放大比例的剖面图；
图3是示出根据本发明实施例的关于记录功率的抖动变化的图表；
图4是示出根据本发明实施例的有关记录层材料的重量比率的记录功率变化的图表；
图5是示出根据本发明实施例有关凹槽深度的抖动和反射率变化的图表；
图6是示出根据本发明实施例的有关凹槽宽度的抖动变化的图表；
图7是示出根据本发明实施例的与记录层材料的重量比率有关的在紫外线照射前后所获得的反射光量比和抖动变化的图表。
优选实施例的描述
本发明的实施例将在下文中进行描述。在此不需要说明本发明并不局限于以下的实施例，并且可以对其实施各种改变和修改。
在本实施例中，本发明应用于一种有机染料盘片，以及一种当应用本发明时可以改善其高速记录特性的光记录媒质，特别地，下面将描述DVD-R盘和DVD+R盘。
图1是示出根据本发明的一种光记录媒质布置的示意剖面图。如图1中所示，由染料材料构成的记录层2，以及反射层3沉积在由例如PC(聚碳酸酯)或是PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)的合适材料构成的透射基底1上。。
记录层2的染料材料可含有由上述化学式1和2代表的通式的染料材料。
例如，有可能使用具有以化学式1代表的通式的化学式3或4的结构式的染料材料。
同样，有可能通过加入一种具有例如，具有以化学式2所代表的通式的以下化学式5所代表的结构式的染料材料而构造一种光记录媒质。
化学式5：
染料材料的涂敷液体是溶解入四氟丙醇或类似物，它用作对包含记录层的有机染料的涂层溶剂并准备。例如通过旋涂法将一记录层沉积在具有0.6mm厚度的透射基底上，将一个由APC(银钯铜合金)、ANC(银钕铜合金)等等银合金构成的反射层通过溅射法层压在记录层上。
同时，记录层的膜厚度是一种可以在使用普通有机染料材料的光记录媒质中进行选择的厚度。在本实施例中，光密度(OD)是由下面的等式定义的：
OD＝-log(T)
其中T是吸收的最大波长λmax的最大透射率。选择该记录层的膜厚度要满足OD＝0.50。
图2是示出根据本发明的光记录媒质的主要部分的剖面图。如图2中所示，凹槽2形成在通过普通基底制造法而在这里所使用的基底1的表面上，更确切的说是从通过根据一种如注射成型方法或是2P(光聚合)方法的合适方法的普通原版盘制作法制造的压模来形成。轨道间距Tp选择为0.74μm，以及凹槽宽度Wg和凹槽深度D分别选择为0.34μm和150nm。在本实施例中，凹槽4与平台5之间的倾斜部分的中间点的宽度定义为凹槽宽度Wg。
另一方面，由Pulsetec工业有限公司(Pulsetec Industrial Co.Lid.)制造，商业名称为“DDU-1000”的光学检测器，被用于记录和再现信号。该光学检测器的激光波长λ是659nm，并且聚焦透镜的数值孔径NA是0.65。当以普通DVD中所使用的EFM+信号被随机记录时获得的再现信号的抖动值通过该光学检测器进行测量。
图3示出具有用重量比率W2/(W1+W2)＝0.3的材料制成的记录层的光记录媒质的记录和再现特性的测量结果，其中W1是以化学式3所示的染料材料的重量，而W2是以化学式5所示的染料材料的重量。当测量记录和再现特性后，测量关于记录功率的抖动值，该抖动值是在基于DVD+R×速度记录系统标准的多种方案上实施1×速度记录(线性速度3.5m/s)、2.4×速度记录(线性速度8.4m/s)、4×速度记录(线性速度14.0m/s)完成后并进而基于DVD+R×速度记录系统标准的非多种方案实施的8×速度记录(线性速度27.9m/s)完成后进行1×速度回放时进行测量的。图3中，实线c1到c4示出了1×速度记录、2.4×速度记录、4×速度记录和8×速度记录的测量结果。
从图3中的测量结果可以知道，在所有从1×速度到8×速度的记录速度过程，该抖动底值比DVD+R标准的上限值9.0％还要低。
因此，根据本发明可以清楚，在从低速记录到高速记录的宽范围内可以获得稳定及满意的记录和再现特性。
其次，记录层是由化学式3和5所示的染料材料制成，化学式5所示的染料材料的加入量是在其改变时添加的，以及光记录媒质是以与上述例子中的相似条件下制造，更确切的说是具有相似的记录层膜厚度、相似的凹槽宽度和相似的凹槽深度等等。然后，在这些光记录媒质以1×速度记录和8×速度记录记录时测量用作抖动底值的记录功率P0。测量结果由图4中的实线b1和b2分别示出。测量作为以化学式5表示的材料相对于总重量的重量比率W2/(W1+W2)的重量比率，其中W1是化学式3所示的染料的重量，而W2是化学式5所示的染料的重量。
从图4中可以清楚看出，记录灵敏性是随着化学式5所示的染料的重量比率W2/(W1+W2)而移向低灵敏性一侧，因此可以通过添加由化学式2的通式所示的材料来调整记录灵敏性。
由DVD标准期望产生抖动底值的记录功率应该低于27mW。因此，为了使产生抖动底值的记录功率P0在8×速度记录系统中变得低于27mW，期望重量比率W2/(W1+W2)应该少于0.7。
同时，由DVD标准选择该记录功率P0大于5到6mW。因此，研究产生抖动底值的记录功率在1×速度记录模式下的测量结果显示出为了调整记录灵敏性，期望添加化学式5所示出的染料材料，更确切的说应该添加化学式2。
其次，图5示出了凹槽深度D的检测结果。当使用其中由化学式3和5所示的有机染料材料的混合比率选择为W2/(W1+W2)的记录层，以及凹槽深度D在80nm到230nm范围内变化时，其余的布置选择为类似于图3所描述的并制造光记录媒质。
8×速度记录模式的抖动底值和反射率以相对于各自的凹槽深度D进行测量。在图5中，实线d1和d2分别示出了抖动底值和反射率。从图5所示的测量结果可以清楚的看出，当凹槽深度增加时抖动底值减小，并且当凹槽深度D是100nm时，抖动底值变成低于9％。
另外，当凹槽深度D增加时，反射率也减小，当激光波长为200nm时，反射率达到45％，该值是一次写入DVD标准的反射率的下限值。因此，可以清楚的看出，能够同时满足信号特性和反射率的凹槽深度D落入以下范围内：
100nm≤D≤200nm。
此外，图6示出了与凹槽宽度Wg有关的检测结果。当以化学式3和5所示的有机染料材料的混合比率选择为W2/(W1+W2)＝0.3的条件下使用记录层，且其他例如记录层的厚度和凹槽深度等等条件的选择与图3描述的例子相类似，而且凹槽宽度Wg选择在0.28μm到0.4μm的范围内时，测量在1×速度记录模式和8×速度记录模式下的抖动值，并画出在最适宜的记录功率下的抖动值。在图6中，实线e1和e2分别示出了在1×速度记录模式和8×速度记录模式下的抖动值。
从图6中的测量结果可以了解到，为了达到抖动值小于9％，凹槽宽度Wg可以落在0.28μm≤Wg≤0.40μm的范围内。
接着，在以化学式3和5所示的染料材料的混合比率选择为W2/(W1+W2)＝0.3的条件下，以及由以下化学式6所示的结构式表示的猝灭剂添加到该染料材料中，检测该记录层的光电阻。当化学式6所示的染料材料的重量用W3表示时，添加到染料材料中的猝灭剂的范围表示为：
0≤W3/(W1+W2+W3)≤0.35
然后，测量记录层的光电阻变化。其他布置，即记录层的厚度、凹槽的深度和凹槽的宽度选择为与参考图3描述的例子相类似，并制造光记录媒质，随后测量记录层的光电阻变化。
化学式6：
在记录层的光电阻测试中，记录层和反射层被层压在0.6mm厚的透射基层上。随后，用从200w的汞氙灯发出的紫外线从基底侧照射光记录媒质以损坏其染料膜层，并且比较在590nm到680nm波长范围内该染料膜层损坏前后所获得的反射光的量。
当I0代表在紫外线照射前所获得的激光反射光的量，而I1代表在紫外线照射后所获得的激光反射光的量时，同时由化学式3和5所示的材料和由化学式6所示的结构式的猝灭剂相对于总重量的混合比率W3/(W1+W2+W3)发生变化时，测量在紫外线照射前后获得的反射光量之间的I0/I1比率和紫外线照射前的抖动值。反射光量的比率和抖动值由附图7中的实线g1和g2分别表示。
从附图7中的测量结果可以确定，通过增加由化学式6示出的结构式的猝灭剂的混合比率W3/(W1+W2+W3)可以使记录层的光电阻得到改善。因为现在市场上可得到的CD-R具有接近于I1/I0＝0.8的反射光量比率，为了将该标准应用于所述光记录媒质，期望应该选择猝灭剂重量比率以使其落入以下的范围内：
W3/(W1+W2+W3)≤0.1
同时，当猝灭剂的重量比率落在W3/(W1+W2+W3)＞0.3的范围内时，该抖动值将超过9％，因此猝灭剂的重量比率应该在以下的范围内合适地选择：
0.1≤W3/(W1+W2+W3)≤0.3
虽然将化学式3所示的材料用作由上述各实施例中的由化学式1示出的通式表示的材料，但是本发明并不局限于此并且可以使用各种在通式为化学式1中包括的有机染料材料。
例如，由化学式4和2所示的染料材料制作记录层，其他条件，例如记录层的厚度、凹槽的深度和凹槽的宽度的条件选择为类似于图3描述的那些，并制造了光记录媒质。随后，通过与上述实施例中类似的方法以1×速度记录模式、2.4×速度记录模式、4×速度记录模式和8×速度记录模式在光记录媒质上记录信息并测量再现的抖动值。即便当记录层由化学式4所示的染料材料构成时，从低速记录模式到高速记录模式例如从1×速度记录模式8×速度记录模式产生的抖动值也可以可靠和满意地抑制，并且可以调整记录功率P0以使其落入一个合适的范围内。
另外，当记录层由使用化学式4所示的染料材料构造时，通过在上述范围内选择形成于基底上的凹槽的深度D和宽度Wg，也就是：
0.28μm≤Wg≤0.40μm
100nm≤D≤200nm则抖动值可以被制成小于9％，而反射率可以制成高于45％，这类似于其中用化学式3所示的染料材料构造记录层的例子。
此外，有可能通过向具有根据本发明布置的光记录媒质的记录层添加各种公知的以化学式6所示的材料表示的猝灭剂来改善所述光电阻。
猝灭剂并不局限于由化学式6所示的材料，其他具有例如由以下化学式7和8所示的结构式的材料，也可以使用以使光电阻有类似地改善。
化学式7：
Figure A20041009590100151
化学式8：
Figure A20041009590100161
如上所述，根据本发明的光记录媒质，使用花青基染料以及应用DVD±R的光学系统的一次写入型光记录媒质，可以在一个从1×速度记录模式到8×速度记录模式的宽记录速度范围内获得能够充分满足一次写入型DVD标准的信号特性并能够调整记录功率以使其落入一个合适的范围内。
特别地，当记录层是通过使用包括在以前述化学式1所示的通式的材料的化学式3和4所示的材料进行构造时，以1×速度记录模式到8×速度记录模式的各自的记录速度记录的信息可以以抖动值小于9％和反射率增加到超过45％的情况下再现。
以外，从图3中的前述测量结果可容易地假定，根据本发明的光记录媒质可以适应高于8×速度记录模式的高速记录模式。
同时，虽然所述记录层的厚度选择为使其满足上述各个实施例中的上述OD＝0.5的等式，但是本发明并不局限于此，该记录层的厚度可以在不影响记录和再现特性的范围内进行选择，例如在其中OD可以落入在从0.3到0.7的范围内的范围。
还有，可以通过添加各种由化学式6到8示出的有机染料材料所表示的猝灭剂来改善该记录层的光电阻。
虽然本发明是用于具有上述各实施例中DVD+R布置的光记录媒质，但是本发明并不局限于此，根据本发明的光记录媒质可用于其他具有DVD-R型格式的光记录媒质从而得到类似的满意结果。
本发明并不局限于上述实施例，并且可以在不离背本发明的要旨的情况下作出各种改变和修改，以这种方式将本发明应用到具有由染料材料构成的双层布置的记录层的光记录媒质中。
如上所述，根据本发明，提供一种适合应用于一次写入型光记录媒质的光记录媒质，特别地，该光记录媒质具有使用有机染料材料的DVD型布置。当已经选择了该记录层的材料，以及特别是已经合适地选择了凹槽的宽度和深度时，可以在相对宽的1×速度记录模式到8×速度记录模式的记录速度范围内获得满意的记录和再现特性，更确切地说是抖动值小于9％，以及合适的记录功率特性。
因此，有可能提供一种具有DVD型布置的一次写入型光记录媒质，其在实际运用中是有用的，并且其记录和再现特性是令人满意的。
根据本发明，有可能提供一种一次写入型光记录媒质，其中，高速记录特性是优良的。
此外，根据本发明，有可能提供一种具有优良的高速记录特性的一次写入型光记录媒质，其中通过高速记录和类似1×速度记录模式的低速记录所需要的记录功率可以落在一个合适的范围内。
再者，根据本发明，可以提供一种具有优良的高速记录特性以及其中通过低速记录模式的所需要的记录功率可以落在一个合适的范围内的一次写入类型光记录媒质，以及其中通过特别是8×速度记录模式的高速记录模式所需要的记录功率可以可靠地落入一个合适的范围内的光记录媒质。
参考附图已经描述了本发明的优选实施方案，应该了解到本发明并不限于那些精确的实施例，并且本领域熟练的技术人员可以在不背离所附权利要求定义的本发明精神和范围实现各种改变和修改。

Claims (24)

1.一种光记录媒质，包括：
一透射基底；和
一形成在所述透射基底上的记录层，所述记录层含有至少一种由以下化学式所示的通式表示的染料材料(在化学式1中，R1代表具有1到4个碳原子数的烷基，R2、R3代表具有1到4个碳原子数的烷基、苄基或结合以形成3到6个环的基团，Y1和Y2独立地代表有机基团以及X代表ClO4，BF4，PF6，SbF6)和一种由以下化学式2代表的通式表示的染料材料(在化学式2中，R1和R2代表具有1到4个碳原子数的烷基、苄基或结合以形成3到6个环的基团，Y1、Y2独立地代表有机基团以及X代表ClO4，BF4，PF6，SbF6)：
化学式1：
化学式2：
Figure A2004100959010002C2
2.根据权利要求1中的光记录媒质，其中所述基底具有沿着记录轨迹形成的凹槽，所述凹槽的宽度Wg按以下表示：
0.28μm≤Wg≤0.40μm
并且所述凹槽的深度D按以下表示：
100nm≤D≤200nm。
3.根据权利要求1中的光记录媒质，其中由所述化学式1代表的所述通式表示的所述染料材料是一种由以下化学式3代表的结构式表示的材料，
化学式3：
4.根据权利要求2中的光记录媒质，其中由所述化学式1代表的所述通式表示的所述染料材料是由所述化学式3代表的所述结构式表示的材料。
5.根据权利要求1中的光记录媒质，其中由所述化学式1代表的所述通式表示的所述染料材料是一种由以下化学式4代表的结构式表示的材料，
化学式4：
6.根据权利要求2中的光记录媒质，其中由所述化学式1代表的所述通式表示的所述染料材料是一种由所述化学式4代表的所述结构式表示的材料。
7.根据权利要求1中的光记录媒质，其中所述各颜料材料的重量比率按以下表示：
0＜W2/(W1+W2)≤0.7
其中W1代表由所述化学式1描述的所述染料材料的重量，而W2代表由所述化学式2描述的所述染料材料的重量。
8.根据权利要求2中的光记录媒质，其中所述各颜料材料的重量比率表示为：
0＜W2/(W1+W2)≤0.7
其中W1代表由所述化学式1描述的所述染料材料的重量，而W2代表由所述化学式2描述的所述染料材料的重量。
9.根据权利要求3中的光记录媒质，其中所述各颜料材料的重量比率按下表示：
0＜W2/(W1+W2)≤0.7
其中W1代表由所述化学式1描述的所述染料材料的重量，而W2代表由所述化学式2描述的所述染料材料的重量。
10.根据权利要求4中的光记录媒质，其中所述各颜料材料的重量比率按下表示：
0＜W2/(W1+W2)≤0.7
其中W1代表由所述化学式1描述的所述染料材料的重量，而W2代表由所述化学式2描述的所述染料材料的重量。
11.根据权利要求5中的光记录媒质，其中所述各颜料材料的重量比率按下表示：
0＜W2/(W1+W2)≤0.7
其中W1代表由所述化学式1描述的所述染料材料的重量，而W2代表由所述化学式2描述的所述染料材料的重量。
12.根据权利要求6中的光记录媒质，其中所述各颜料材料的重量比率表示为：
0＜W2/(W1+W2)≤0.7
其中W1代表由所述化学式1描述的所述染料材料的重量，而W2代表由所述化学式2描述的所述染料材料的重量。
13.根据权利要求1中的光记录媒质，其中所述记录层含有猝灭剂。
14.根据权利要求2中的光记录媒质，其中所述记录层含有猝灭剂。
15.根据权利要求3中的光记录媒质，其中所述记录层含有猝灭剂。
16.根据权利要求4中的光记录媒质，其中所述记录层含有猝灭剂。
17.根据权利要求13中的光记录媒质，其中0.1≤W3/(W1+W2+W3)≤0.3是令人满意的，其中W1是由所述化学式1代表的染料材料的重量，W2是由所述化学式2代表的染料材料的重量，以及W3是所述猝灭剂的重量。
18.根据权利要求14中的光记录媒质，其中0.1≤W3/(W1+W2+W3)≤0.3是令人满意的，其中W1是由所述化学式1代表的染料材料的重量，W2是由所述化学式2代表的染料材料的重量，以及W3是所述猝灭剂的重量。
19.根据权利要求15中的光记录媒质，其中0.1≤W3/(W1+W2+W3)≤0.3是令人满意的，其中W1是由所述化学式1代表的染料材料的重量，W2是由所述化学式2代表的染料材料的重量，以及W3是所述猝灭剂的重量。
20.根据权利要求16中的光记录媒质，其中0.1≤W3/(W1+W2+W3)≤0.3是令人满意的，其中W1是由所述化学式1代表的染料材料的重量，W2是由所述化学式2代表的染料材料的重量，以及W3是所述猝灭剂的重量。
21.根据权利要求1中的光记录媒质，其中所述光记录媒质的记录轨迹的道间距Tp选择为0.74μm±0.03μm，最短记号长度选择为0.40μm，用于读取已记录的记号的再现光和波长λ选择为650nm-5nm +10nm或是655nm-5nm +10nm，以及聚焦透镜的数值孔径NA选择为0.65±0.01。
22.根据权利要求2中的光记录媒质，其中所述光记录媒质的记录轨迹的道间距Tp选择为0.74μm±0.03μm，最短记号长度选择为0.40μm，用于读取已记录的记号的再现光的波长λ选择为650nm-5nm +10nm或是655nm-5nm +10nm，以及聚焦透镜的数值孔径NA选择为0.65±0.01。
23.根据权利要求3中的光记录媒质，其中所述光记录媒质的记录轨迹的道间距Tp选择为0.74μm±0.03μm，最短记号长度选择为0.40μm，用于读取已记录的记号的再现光的波长λ选择为650nm-5nm +10nm或是655nm-5nm +10nm，以及聚焦透镜的数值孔径NA选择为0.65±0.01。
24.根据权利要求4中的光记录媒质，其中所述光记录媒质的记录轨迹的道间距Tp选择为0.74μm±0.03μm，最短记号长度选择为0.40μm，用于读取已记录的记号的再现光的波长λ选择为650nm-5nm +10nm或是655nm-5nm +10nm，以及聚焦透镜的数值孔径NA选择为0.65±0.01。
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