CN1530699A - 连续处理装置和连续处理方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种连续处理装置，对被处理体(14)的处理对象面(17)连续实施多种处理，包括：保持被处理体(14)并沿着输送方向(T)输送被处理体(14)的被处理体输送部(20)、排列配置在沿被处理体(14)的输送方向(T)并在大气压或大气压附近压力下对被处理体(14)依次实施分别不同的处理的多种处理单元(51、52、53、54、55、56、57)，多种处理单元的种类，可以自由进行组合的变更或者追加。这样，可以对被处理体的处理对象面连续、有效实施多种处理，变更或追加多种处理的组合，顺利进行连续处理。本发明也同时提供一种连续处理方法。

Description

连续处理装置和连续处理方法
技术领域
本发明涉及一种用于对被处理体的处理对象面连续实施任意多种处理的连续处理装置和连续处理方法。
背景技术
作为被处理体，可以举出在液晶显示体中利用的原料玻璃板的例子。随着液晶显示体的大型化，该玻璃板也急速大型化。对大型玻璃板，为了进行各种工艺处理，需要大型的工艺处理或工厂。
以往的这种液晶显示体的制造装置用于通过对液晶板的端子部分一边供给混合气体一边形成等离子体，来选择性除去端子部分的定向膜或绝缘膜。
发明内容
本发明的连续处理装置，用于对被处理体的处理对象面连续实施多种处理，包括：被处理体输送部，用于保持上述被处理体并将上述被处理体沿输送方向输送；和多种处理单元，沿上述被处理体的上述输送方向排列配置，并在大气压或大气压附近的压力下对上述被处理体的上述处理对象面依次分别实施不同的处理；上述多种处理单元的种类可以自由变更以及追加组合。
根据这种构成，被处理体输送部可以保持被处理体并沿输送方向可以输送被处理体。
多种处理单元是沿被处理体的输送方向排列配置。多种处理单元是在大气压或大气压附近的压力下，依次对被处理体实施各自不同的处理。并且，这种多种处理单元可以自由变更组合或追加组合。此时，被处理体的处理对象面可以是面向上方的状态，也可以是面向下方的状态。
这样，由于可以变更或追加多种处理单元的种类组合，因此，对被处理体的处理对象面进行多种处理时，可以变更或追加所需要的多种处理组合。从而，连续处理装置根据被处理体的种类可以简单、且可靠地变更连续处理的组成。
在上述构成中，优选上述被处理体输送部包括：可自由拆卸地吸附与上述被处理体的上述处理对象面相反一侧的保持对象面而进行保持的吸附部；把上述吸附部向上述输送方向导向的导向部件；和使上述吸附部沿着上述导向部件移动的驱动部。
根据这种构成，吸附部可以自由拆装地吸附保持与被处理体的处理对象面相反侧的面。导向部件可以向输送方向导向吸附部。驱动部具有可以沿着该导向部件移动吸附部的功能。
由此，被处理体一边被吸附部吸附一边由驱动部沿着导向部件可以向输送方向可靠移动。
在上述构成中，优选上述被处理体输送部，按照上述被处理体的上述处理对象面朝向下方的状态进行输送，上述多种处理单元，对上述被处理体的上述处理对象面进行向上方向的处理动作。
根据这种构成，多种处理单元对被处理体的处理对象面，进行面向上方的处理工作。
因此，在处理对象面的处理中即使是使用液体剂，可以利用液体剂的重力的作用下，多余的液体剂可以从处理对象面落下。从这一点，可以减少残留的多余的处理用的液体的量，液体在以后进行的处理中不给予不良影响。
另外，可以减少粒子附着在处理对象面的现象。并且，利用毛细管的微缝涂敷的方法，可以对处理对象面进行液体剂处理。
在上述构成中，优选上述多种处理单元包括：清洗处理单元、干燥处理单元、表面改质处理单元、液体剂涂敷处理单元和退火处理单元。
根据这种构成，被处理体的处理对象面可以进行清洗、干燥、表面改质、液体剂涂敷和退火处理。
在上述构成中，优选上述被处理体为显示装置的基板。对该显示装置的基板的处理对象面，可以连续实施多种处理。
本发明的连续处理方法，用于对被处理体的处理对象面连续实施多种处理，其特征在于，在一边保持上述被处理体并沿着输送方向输送上述被处理体，一边利用在上述被处理体的上述输送方向排列配置的多种处理单元，对上述被处理体的上述处理对象面在大气压或大气压附近的压力下依次分别实施不同的处理时，根据上述被处理体的种类可以自由变更或追加上述的多种处理单元的种类组合。
根据这种构成，被处理体输送部可以保持被处理体并沿输送方向可以输送被处理体。
多种处理单元是沿被处理体的输送方向排列配置。多种处理单元是在大气压或大气压附近的压力下，依次对被处理体实施各自不同的处理。并且，这种多种处理单元可以自由变更组合或追加组合。此时，被处理体的处理对象面可以是面向上方的状态，也可以是面向下方的状态。
这样，由于可以变更或追加多种处理单元的种类组合，因此，对被处理体的处理对象面进行多种处理时，可以变更或追加所需要的多种处理组合。从而，连续处理装置根据被处理体的种类可以简单、且可靠地变更连续处理的组成。
在上述构成中，优选上述被处理体输送部，按照上述被处理体的上述处理对象面朝向下方的状态进行输送，上述多种处理单元，对上述被处理体的上述处理对象面进行向上方向的处理动作。
根据这种构成，多种处理单元对被处理体的处理对象面，进行向上方向的处理工作。
由此，在处理对象面的处理中即使是使用液体剂，可以利用液体剂的重力的作用下，多余的液体剂可以从处理对象面落下。从这一点，可以减少残留的多余的处理用的液体的量，液体在以后进行的处理中不给予不良影响。
另外，可以减少粒子附着在处理对象面的现象。并且，利用毛细管的微缝涂敷的方法，可以对处理对象面进行液体剂处理。
在上述构成中，优选上述多种处理单元包括：清洗处理单元、干燥处理单元、表面改质处理单元、液体剂涂敷处理单元和退火处理单元。
根据这种构成，被处理体的处理对象面可以进行清洗、干燥、表面改质、液体剂涂敷和退火处理。
附图说明
图1是表示本发明的连续处理装置的第一实施方式的图。
图2是表示图1的清洗处理单元的例子的图。
图3是表示图1的干燥处理单元的例子的图。
图4是表示图1的亲液处理单元的例子的图。
图5是表示图1的斥液处理单元的例子的图。
图6是表示图1的液体剂涂敷处理单元的例子的图。
图7是表示本发明的连续处理方法的例子的图。
图8是表示本发明的被处理体的多种工艺的例子的图。
图9是作为包含被处理体的一例的液晶显示装置的一部分的图。
图10是表示本发明的连续处理装置的第二实施方式的图。
具体实施方式
下面，结合附图说明本发明的优选实施方式。
图1表示本发明的连续处理装置的优选实施方式。
图1所示的连续处理装置10具有被处理体输送部20和处理单元群25。
连续处理装置10是对被处理体14的处理对象面17连续实施任意组合的多种处理的装置。
首先，说明连续处理装置10的被处理体输送部20。
图1中所示的被处理体输送部20是一边吸附被处理体14的保持对象面40一边沿着输送方向T输送的装置。
被处理体输送部20包括吸附部30、支架31、真空产生部33、驱动部35和导向部件38。
吸附部30可拆卸地吸附被处理体14的保持对象面40的部分。该吸附部30与真空产生部33连接。由于真空产生部33的动作，吸附部30可拆卸地吸附被处理体14的保持对象面40。如果停止真空产生部33的动作，吸附部30将保持对象面40从吸附状态释放，从而可以将其卸下。
支架31通过吊挂在导向部件38上而将吸附部30保持。导向部件38固定在与输送方向T平行的方向上。
驱动部35是用于让该支架31沿着导向部件38向输送方向T移动的如电动机等的执行机构。
由此，如果驱动部35动作，吸附部30可以沿着导向部件38向输送方向T直线移动。
在此，说明被处理体14的一例。
被处理体14是如用于大型液晶显示体的玻璃基板。作为被处理体14的大小，如纵向长度和横向宽度的至少一方是1.5m及以上的大型基板。
该被处理体14的处理对象面17是面向下方被保持，是保持对象面40相反侧的面。对该处理对象面17，利用处理单元群25来连续实施任意组合的多种处理。
下面，说明图1所示的处理单元群25。
处理单元群25包括排列底座部50和多种处理单元。图1所示的多种处理单元包括清洗处理单元51、干燥处理单元52、亲液处理单元53、斥液处理单元54、液体剂涂敷处理单元55、干燥处理单元56和退火处理单元57。
在排列配置底座部50上面，沿着输送方向T依次排列配置清洗处理单元51、干燥处理单元52、亲液处理单元53、斥液处理单元54、液体剂涂敷处理单元55、干燥处理单元56和退火处理单元57。
清洗处理单元51、干燥处理单元52、亲液处理单元53、斥液处理单元54、液体剂涂敷处理单元55、干燥处理单元56和退火处理单元57的特征，是在排列配置底座部50上面可以变更其排列配置顺序，或将某一种处理单元更换为别的处理单元，或附加别的处理单元。
例如，在图1中，亲液处理单元53和斥液处理单元54构成表面改质单元群58，但是，可以变更亲液处理单元53和斥液处理单元54的前后顺序。即，让斥液处理单元54位于输送方向T的上游一侧，让亲液处理单元53位于输送方向T的下游一侧。
总之，清洗处理单元51、干燥处理单元52、亲液处理单元53、斥液处理单元54、液体剂涂敷处理单元55、干燥处理单元56和退火处理单元57可以变更输送方向T上输送的处理对象面17的处理顺序。
在本发明的实施方式中，清洗处理单元51、干燥处理单元52、亲液处理单元53、斥液处理单元54、液体剂涂敷处理单元55、干燥处理单元56和退火处理单元57等这些单元位于处理对象面17的下面。
这样，由于各个处理单元51～57位于处理对象面17的下面，例如通过对处理对象面17吹付而供给液体剂时，由于重力的作用，处理对象面17的多余的液体剂，从处理对象面17可以落下。因此，可以减少残留的多余液体量，可以积极回收落下的液体剂。并且，因为可以减少或没有了残留的多余的液体量，在其后的工艺部件进行规定的处理时，其液体不会成为障碍。
另外，可以减少附着在处理对象面的粒子。并且，利用毛细管现象的微缝涂敷的方法，可以进行对处理对象面的液体剂处理。
下面，分别说明清洗处理单元51、干燥处理单元52、亲液处理单元53、斥液处理单元54、液体剂涂敷处理单元55、干燥处理单元56和退火处理单元57的具体结构的例子。
图2表示图1所示的清洗处理单元51的具体结构的例子。
清洗处理单元51是对被处理体14的处理对象面17供给洗涤液60来清洗处理对象面17的装置。洗涤液60装在储罐61内。储罐61的洗涤液60通过喷嘴63以箭头60所示的喷射角θ的角度，向处理对象面17吹付。角度θ例如是小于45度的角度。
如虚线箭头64所示，被吹的洗涤液60落下之后，回收在回收储罐62。该洗涤液60被吹到处理对象面17之后，通过回收路径66，靠重力落到回收储罐62的方法来回收。
该回收路径66是由喷嘴63的倾斜端面67和相对面68所构成。该相对面68在处理对象面17附近具有倾斜面69。由此，从喷嘴63喷射的洗涤液清洗处理对象面17之后，剩余的多余的洗涤液60可靠地回收在回收储罐62。并且，喷嘴63具有相对面70。由于设有该相对面70，可以防止被喷射的洗涤液60泄露到回收路径66之外。形成回收路径66的上端面72按照相对于处理对象面17具有给定间隙进行配置。
另外，如虚线箭头64所示，洗涤液60通过回收路径66落下，使该回收路径66成为负压而排气的构成，可以消除或减少洗涤液60在输送方向(前进方向)T前后的泄露。
下面，说明图1所示的干燥处理单元52。
图3中表示了干燥处理单元52的例子。干燥处理单元52包括干空气供给部76和冷却单元77、78。干空气供给部76通过供给路径80对处理对象面17直接吹付干空气。被吹的干空气让处理对象面17干燥之后，沿着虚线箭头79所示方向即向下的方向引入到回收路径81而被回收。
供给路径80由壁部82所形成。回收路径81由侧壁83所形成。侧壁83上分别设有冷却单元77、78。冷却单元77位于输送方向T的上游一侧，冷却单元78位于下游一侧。这样，冷却单元77、78通过对侧壁83冷却，可以防止侧壁83的余热对处理对象面17施加过多的热。
也可以采用如下方法替代干空气供给部76、供给路径80和回收路径81。即，例如也可以将发热用的电热线面对处理对象面17配置，该电热线加热处理对象面17。
下面，说明图1所示的亲液处理单元53和斥液处理单元54。
图4是亲液处理单元53的具体构造例，图5是斥液处理单元54的具体构造例。
亲液处理单元53和斥液处理单元54具有相同结构的所谓的大气压等离子处理装置。
大气压等离子处理装置是在大气压或大气压附近的压力下，产生等离子放电区域。在该等离子放电区域中，生成处理气体(又称反应气体)的激发活性种，利用该激发活性种可以进行被处理体14的处理对象面17的亲液处理或斥液处理。
首先说明图4的亲液处理单元53。
亲液处理单元53是对被处理体14下面的处理对象面17进行亲液处理的装置。
亲液处理单元53包括第一电极90、第二电极91和电介质体92。第一电极90连接在高频交流电源93。高频交流电源93接地。第二电极91接地。电介质体92配置在第一电极90和第二电极91之间。
第二电极91上有开口部94。在该开口部94的内侧里可以形成虚线所示的由第二电极91沿面放电的等离子放电区域95。从气体供给部96对该等离子放电区域95供给混合气体。混合气体是运载气体和反应气体的混合物。作为运载气体譬如氦(He)，作为反应气体譬如氧(O2)。由此，在等离子放电区域95中，生成反应气体的激发活性种，利用其激发活性种进行处理对象面17的亲液处理而赋予亲液性。
图5的斥液处理单元54和图4的亲液处理单元53结构相同，其动作也相同。斥液处理单元54包括第一电极90A、第二电极91A、电介质体92A和高频交流电源93A。第二电极91A的开口部94A里形成虚线所示的由第二电极91A沿面放电的等离子放电区域95A。从气体供给部96A对该等离子放电区域95A供给混合气体。混合气体的运载气体譬如氦(He)，作为反应气体譬如CF4。
由此，在等离子放电区域95A中，生成反应气体的激发活性种，利用其激发活性种进行处理对象面17的斥液处理而赋予斥液性。
图4和图5所示的亲液处理单元53和斥液处理单元54都是在大气压或大气压附近的压力下可以生成等离子放电区域，且结构简单。
下面，说明图1所示的液体剂涂敷处理单元55。
图6是液体剂涂敷处理单元55的具体构造例。
液体剂涂敷处理单元55包括储罐100和喷嘴101。在储罐100里装有液体剂103。该液体剂103通过向喷嘴101供给，对被处理体14的处理对象面17供给。喷嘴101的前端配置成处理对象面17具有给定间隙。该喷嘴101利用毛细管现象克服重力，把液体剂103向上附着在处理对象面17而进行涂敷。
即，因为被处理体14的处理对象面17为面向下方的状态，具有可以使用这种涂敷方式的优点。如果处理对象面17为面向上方的状态，很难采用这种涂敷方式。利用这种喷嘴101的液体剂的涂敷方式叫做微缝涂敷。
通过利用这种喷嘴101，液体剂103可以只粘附在由亲液处理单元53处理后的亲液部分。即，利用处理对象面17的吸附力和喷嘴101的毛细管现象，液体只涂敷在微细区域的亲液处理部分。
图1所示的控制部300可以分别控制驱动部35、真空产生部33、清洗处理单元51、干燥处理单元52、亲液处理单元53、斥液处理单元54、液体剂涂敷处理单元55、干燥处理单元56和退火处理单元57的动作。
下面，说明利用图1所示的连续处理装置10，对被处理体14的处理对象面17连续实施任意的多种处理的连续处理方法的例子。
图7是表示连续处理方法的一例的流程图。在说明该连续处理方法之前，说明被处理体14的具体的一例。被处理体14是构成图8中所示的液晶显示装置(又称液晶显示体)的玻璃基板。
图9中所示的液晶显示装置135是只表示所谓的一个像素部分。因此，这里简单说明液晶显示装置135的结构的例子。
液晶显示装置135是由TFT阵列基板156、彩色滤光基板140和液晶层150。TFT阵列基板156是在玻璃基板的被处理体14的处理对象面17上形成液晶驱动用开关元件的TFT158和显示电极152的基板。
彩色滤光基板140是在玻璃基板142上形成彩色滤光器144和保护膜146来构成。并且，在保护膜146上面形成共同电极148。
图9的液晶层150是利用密封件粘合TFT阵列基板156和彩色滤光基板140之后，在两者之间注入液晶而形成。显示电极152与共同电极148之间施加电压。由此，引起液晶分子151的再排列，让光透过或者将其遮蔽。该操作通过对液晶显示装置135的每一个像素进行，液晶显示装置可以显示图像。
显示电极152和共同电极148被用作为透明导电膜的ITO(IndiumTim Oxide)被覆膜。
下面，根据图7的流程图，说明对被处理体14的处理对象面17连续实施任意的多种处理的连续处理方法。
在图7的流程图中，包括从预处理步骤ST1到退火处理步骤ST8的步骤。
在预处理步骤ST1中，后面要叙述的、为了进行亲液处理和斥液处理的亲液和斥液处理图案的形成，是通过在处理对象面17上利用感光性树脂的图案形成膜(比如光刻胶膜)形成而进行。
其次，进行图7所示的清洗处理步骤ST2到退火处理步骤ST8的步骤。
由吸附部30真空吸附保持图1所示的被处理体14。由于驱动部35的工作，沿着导向部件38向输送方向T输送被处理体14和吸附部30。
此时，使处理对象面17向下的状态，被处理体14的保持对象面40吸附在吸附部30。从而，处理对象面17面向处理单元群25的一侧。处理单元群25的每一个处理单元51至57对处理对象面17可以分别进行向上方向的处理。
处理单元群25的每一个处理单元51至57在排列底座50上可拆卸地排列成直线状。
在图1的例中，亲液处理单元53位于斥液处理单元54的上游一侧。干燥处理单元52配置在清洗处理单元51和亲液处理单元53之间。亲液处理单元53和斥液处理单元54是大气压等离子处理单元。液体剂涂敷处理单元55位于斥液处理单元54的下游一侧。干燥处理单元56配置在液体剂涂敷处理单元55和退火处理单元57之间。该干燥处理单元56和干燥处理单元52采用如图3所示的结构。
首先，在图7所示的清洗处理步骤ST2中，如图2所示，喷嘴63对处理对象面17喷射洗涤液60。由此，洗涤液60清洗处理对象面17。清洗中使用过的洗涤液可以回收在回收储罐62而不会漏出到外部。由此，可以提高洗涤液的回收效率。
接着，转移到图7所示的干燥处理步骤ST3。
在第一干燥处理步骤ST3中，图3所示的干燥处理单元52的干空气供给部76通过供给路径80向清洗完的处理对象面17供给干空气。
由此，使残留在处理对象面17的洗涤液蒸发，可以干燥处理对象面17。干燥中使用过的干空气通过回收路径81向离开处理对象面17的方向即向下方向上可以回收。
此时，因为冷却单元77、78进行侧壁83的冷却，通过冷却，可以除去由于干空气加热的侧壁83的余热。从而，可以作到消除该侧壁83的余热，不会产生由于热处理对象面17的多余的不良影响。
接着，转移到图7的亲液处理步骤ST4。
在图8(A)中，在已经叙述的图7的预处理步骤ST1中，在被处理体14的处理对象面17上形成感光性树脂的图案形成膜200。在该感光性树脂的图案形成膜200上，预先形成孔201。
在亲液处理步骤ST4中，在该感光性树脂的图案形成膜200的孔201上利用图4所示的亲液处理单元53的用O2等离子的大气压等离子处理形成亲液处理部210。在图4所示的亲液处理单元53所产生的等离子放电区域85中，生成反应气体的激发活性种。该激发活性种在处理对象面17的孔201上形成亲液处理部(亲液膜)210。
接着，转移到图7的斥液处理步骤ST5。
在斥液处理步骤ST5中，图5所示的斥液处理单元54利用大气压等离子处理的CF4等离子，如图8(B)所示，在感光性树脂的形成膜200的表面上形成斥液处理部230。此时，在图5所示的斥液处理单元54所产生的等离子放电区域95中，生成反应气体的激发活性种。在感光性树脂的图案形成膜200的表面，该激发活性种形成斥液处理部(斥液膜)230。
这样，利用大气压等离子处理，在被处理体14的处理对象面17的一侧，依次形成图8(A)所示的亲液处理部210和图8(B)所示的斥液处理部230。
接着，转移到图7所示的液体剂涂敷处理步骤ST6。
在液体剂涂敷处理步骤ST6中，如图8(C)所示，对亲液处理部210涂敷液体剂103。即液体剂103充填孔210。该液体剂涂敷处理步骤ST6是利用如图6所示液体剂涂敷处理单元55来进行。液体剂103通过喷嘴101选择性涂敷处理对象面17和图8(C)所示的孔210。该液体剂103是对亲液处理部210形成。如果是构成液晶板的透明电极用的ITO膜时，作为液体剂103可以利用粒径为0.1μm以下的ITO粉末分散在溶媒的液体剂或把二丁基锡二醋酸盐(DBTDA)和铟乙酰醋酸盐(InAA)溶解在乙酰丙酮等的有机物的液体剂。
接着，转移到图7的第二干燥处理步骤ST7。
在第二干燥处理步骤ST7中，从图3所示的干空气供给部76向处理对象面17供给干空气。由此，进行处理对象面17的液体剂103的干燥。
接着，在图7的退火处理步骤ST8中，对图8(C)表面进行退火处理(除去烧结和感光性树脂的图案形成膜)。由此，如图8(D)所示，形成液体剂103和感光性树脂的图案形成膜200的图形。然后，如图8(E)所示，除去感光性树脂的图案形成膜200，形成液体剂103的显示电极152的图案。
这样，对图1所示的被处理体14的处理对象面17，可以连续实施清洗处理单元51至退火处理单元57的任意组合的多种处理。
因为可以变更或附加多种处理单元的种类组合，对被处理体的处理对象面进行多种处理时，连续处理装置根据被处理体的种类，可以简单、可靠地变更或附加连续处理的组成。
被处理体输送部20可以沿着输送方向T输送被处理体14的处理对象面17，使其面向下方的状态。因此，处理对象面总是面向下方而被输送，即使是对该处理对象面17供给液体，利用使其多余的液体落下的方法，可以简单除去它，可以防止多余的液体残留在处理对象面。由此，其液体不会在以后进行的处理对象面的处理中带来不良影响而可以顺利、连续实施对处理对象面的多种处理。
图1的实施方式中，处理对象面17，可以按照清洗、干燥、亲液处理、斥液处理、液体剂涂敷、干燥和退火处理的顺序进行处理。但是并不限于此，当然也可以按照清洗处理、干燥处理、斥液处理、亲液处理、液体剂涂敷处理、干燥处理、退火处理的顺序进行。
另外，在图10所示的本发明第二实施方式中，最后的退火处理单元57配置在处理单元群25的外部的别处。即，在处理单元群25的输送方向T下游侧另外设置。
这样，处理对象面17在进行清洗、干燥、亲液、斥液、液体剂和干燥处理之后，可以利用一个比较大型的退火处理单元57对处理对象面整个面一次进行退火处理。
在本发明的连续处理装置的实施方式中，在排列配置底座50上，直线状排列配置从清洗处理单元51到退火处理单元57。因此，根据需要可以交换处理单元在输送方向T上游或下游上的位置。这可以根据对被处理体14的处理对象面17的处理内容而变更。
另外，根据需要，处理单元群25中，可以自由去除不要的处理单元或自由追加必要的任意处理单元。
利用被处理体输送部20，被处理体14沿着输送方向T直线移动。此时，被处理体14可以沿着处理单元群25的直线排列的处理单元51至57被输送。因此，在以往，如果配置七台大型的处理装置，在每一个处理装置之间有必要设置转交用输送机构。
可是，图1所示的本发明的实施方式中，只要存在一个被处理体输送部20，使处理对象面17面对处理单元51至57，可以连续实施处理对象面17的各种处理。
因为处理对象面17保持面向处理单元群25的状态而被输送，比如利用清洗处理单元51来清洗时，多余的洗涤液不会留在处理对象面17，靠重力落下而除去多余的洗涤液。在液体剂涂敷处理单元55也同样，因为多余的液体剂靠重力落下，可以简单消除多余的液体剂的粘附。如果处理对象面17面向上方，则这样的洗涤液、亲液、斥液、液体剂的多余的量残留在处理对象面17，并且，很难利用图6所示的所谓微缝涂敷的涂敷方式来把液体剂涂敷在处理对象面17。
这样，在本发明的连续处理装置中，对处理对象面17实施图7的预处理步骤ST1之后，如图1所示，吸附部30吸附被处理体14以便处理对象面17面向下方状态。
在本发明的连续处理装置的实施方式中，因为直线排列每一个处理单元51至57，可以尽可能缩短用于进行处理被处理体14的生产线的长度，可以谋求通道的缩短。
因为可以进行被处理体14的连续处理，稳定表面改质处理对象面17之后的工艺，可以提高成品率。
因为连续处理被处理体14的处理对象面17，有时，每一个工艺之间没有必要分别设清洗工艺的情形。
本发明的连续处理装置10又叫做组合工艺装置。
如果被处理体14为例如用于大型的液晶显示体时进行大型化。制造这样的大型被处理体14时，因为利用各处理单元可以对处理对象面17连续处理，可以实现提高生产率和减轻设备负荷。
本发明的连续处理装置可以在大气压或大气压附近的压力下进行全工艺，因此，比真空环境下进行处理，可以大大提高能源的利用率。
在本发明的连续处理装置中，为了组合某种处理单元的处理能力和其他处理单元的处理能力，有时，例如某种处理单元不是一台而是两台及以上的多台并列配置。
因为可以变更·追加各处理单元的组合，对应于工艺变更可以灵活地变更连续处理装置的功能。作为处理单元的处理包括清洗处理、液体切断处理、亲液处理、斥液处理、磨光处理、蚀刻处理、等离子聚合处理、液体成膜处理、干燥处理、退火处理等，可以变更或追加这些处理的组合，从而进行交换。
在本发明的连续处理装置中，各处理单元与其它种类的处理单元具有安装互换性。比如，某种处理单元为一例，可以交换为喷墨涂敷单元。
本发明的连续处理装置的实施方式中，以面向下方状态，输送被处理体的处理对象面，各处理单元排列成按照与面向下方状态的处理对象面对面的方式排列配置。
可是，本发明的连续处理装置并不限于这些，被处理体的处理对象面由被处理体输送部以面向上方状态进行输送，各处理单元按照与面向上方状态的处理对象面对面的方式，在被处理体上方位置上沿被处理体输送方向排列配置，当然这也是可以的。
在本发明中，被处理体是譬如大型的液晶显示体的玻璃基板。
但是并不限于这些，制造用于其他种类的显示器的基板，当然也可以使用本发明的连续处理装置。另外，作为被处理体的种类，也可以是所谓大型的有机LED(发光二极管)的基板。
本发明不限于上述实施方式，在不超出权利要求范围内可以进行种种变更。
上述实施方式的各构成，可以省略其一部分，或者与上述不同进行任意组合。

Claims (8)

1、一种连续处理装置，用于对被处理体的处理对象面连续实施多种处理，其特征在于，包括：
被处理体输送部，用于保持所述被处理体并将所述被处理体沿输送方向输送；和
多种处理单元，沿所述被处理体的所述输送方向排列配置，并在大气压或大气压附近的压力下对所述被处理体的所述处理对象面依次分别实施不同的处理；
所述多种处理单元的种类可以自由变更以及追加组合。
2、根据权利要求1所述的连续处理装置，其特征在于，所述被处理体输送部包括：可自由拆卸地吸附与所述被处理体的所述处理对象面相反一侧的保持对象面而进行保持的吸附部；把所述吸附部向所述输送方向导向的导向部件；和使所述吸附部沿着所述导向部件移动的驱动部。
3、根据权利要求1或2所述的连续处理装置，其特征在于，所述被处理体输送部，按照所述被处理体的所述处理对象面朝向下方的状态进行输送，所述多种处理单元，对所述被处理体的所述处理对象面进行向上方向的处理动作。
4、根据权利要求3所述的连续处理装置，其特征在于，所述多种处理单元包括：清洗处理单元、干燥处理单元、表面改质处理单元、液体剂涂敷处理单元和退火处理单元。
5、根据权利要求1所述的连续处理装置，其特征在于，所述被处理体为显示装置的基板。
6、一种连续处理方法，用于对被处理体的处理对象面连续实施多种处理，其特征在于，在一边保持所述被处理体并沿着输送方向输送所述被处理体，一边利用在所述被处理体的所述输送方向排列配置的多种处理单元，对所述被处理体的所述处理对象面在大气压或大气压附近的压力下依次分别实施不同的处理时，根据所述被处理体的种类可以自由变更或追加所述的多种处理单元的种类组合。
7、根据权利要求6所述的连续处理方法，其特征在于，所述被处理体输送部，按照所述被处理体的所述处理对象面朝向下方的状态进行输送，所述多种处理单元，对所述被处理体的所述处理对象面进行向上方向的处理动作。
8、根据权利要求7所述的连续处理方法，其特征在于，所述多种处理单元包括：清洗处理单元、干燥处理单元、表面改质处理单元、液体剂涂敷处理单元和退火处理单元。
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