CN1504691A - 炉灶 - Google Patents

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卡斯滕·韦姆特
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帕特里克·斯科贝尔
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Abstract

本发明公开一种包括烘烤马弗罩(12)的炉灶(10)。在该烘烤马弗罩(12)中,设置有用于容纳至少一个可加热烹调碗(22)的引导装置(14、15、16、17、18、19),其中该烹调碗(22)包括一个基底层,特别是,基底层外侧的底面设置有一个可直接加热的加热层,该加热层被一个绝缘层覆盖。

Description

炉灶
技术领域
本发明涉及一种包括烘烤马弗罩的厨灶。
背景技术
在现有技术的厨灶中加工食物是众所周知的。通常包括烘烤、蒸煮、烤制和烧烤。对伸入到烘烤隔热层上部和下部中的管式加热器系统进行加热从而使烘烤马弗罩达到一定的温度。为获得更加均匀的温度分布,还可采用风扇。但是在很多情况中,不需要使用烘烤马弗罩的全部容积来加工某种食物。但是在这种情况下,由于只能整个地加热烘烤马弗罩,因此不能减小能量的消耗。
根据DE 100 59 656 A1,已知一种包括烘烤马弗罩的厨灶,在该烘烤马弗罩中容纳一个高度可调的可加热盘。
但是,这种已知的设计较复杂而且成本较高。
在需要获得特定烤制状态的情况中,烧烤可打开容纳在厨灶顶壁下面的烧烤加热器。在需要在两侧烤制食物的情况中,一段时间后必须翻转食物。这同样造成能量的损失,因为必须打开厨灶的门。
从DE 41 16 425 A1可获知一种厨灶,它包括用于接收多种可加热烹调器皿的引导装置。每个单独的烹调器皿都可包括一个电辐射加热器,该电辐射加热器能够独立于烘烤马弗罩的加热器而单独控制。尽管通过这种方式在加工少量食物时基本上可更有效地利用能量,但是,通过辐射加热器加热烹调器皿或将烹调器皿放置在加热底部而进行加热并不节能。
从DE 36 39 872 A1中可获知一种利用蒸汽或循环热空气烹饪食物的装置,它包括一个热空气发生器和一个蒸汽发生器,其中烹饪室的下部由一个烹饪容器形成,该容器形成为锅的形状,顶部敞开,并能通过放置在分离的加热底盘上而单独加热。
同样,这种装置也不是节能的。
发明内容
因此,本发明的一个目的在于提供一种在加工食物时具有很高的灵活性的改进的炉灶。而且这种炉灶是节能的。
该目的的实现是通过一种包括烘烤马弗罩的炉灶实现的,其中在该烘烤马弗罩中设置有一个引导装置,用于容纳至少一个可加热的烹调器皿,该烹调器皿包括一个基底,该基底在其外侧承载一个可直接加热的加热层,该加热层上覆盖一个绝缘层。
这样,本发明的目的可完全实现。
该可直接加热的烹调器皿可优选设置在位于烘烤马弗罩侧壁的导轨上。
因此,通过在需要的高度插入一个烹调器皿,可将烘烤马弗罩调节到需要的尺寸。通过这种方法,就能在烘烤马弗罩内以非常节能的方式加工食物。通过直接加热烹调器皿,可将能量直接传递到食物,从而减小能量损失。特别是在流通的热气、位于顶部区域或可能位于壁区域的管式加热器以及烧烤加热器的帮助下,可将待处理的相应食物分别调节到蒸煮、烘烤或烤制过程。这能够以非常节能的方式加工食物,同时获得例如烘焦、烤制或焙烤等特定状态的预定特征。
位于烹调器皿外侧的绝缘层用于避免热辐射的损失。同时,通过这种方式可有效地确保充分电绝缘。
根据本发明的进一步发展,该烹调器皿包括用于电力接触加热层的接触装置,该接触装置与设置在烘烤马弗罩中的接触装置配合。
为此,可在烹调器皿下侧设置接触点,该接触点与设置在烘烤马弗罩中的导轨上的指定接触点配合。
根据另一种设计,烹调器皿包括接触插头或插座,该插头或插座与设置在烘烤马弗罩后壁上的接触插座或插头相配合。
在这两种情况中,烹调器皿的电连接可通过将烹调器皿插入到导轨中而容易地实现。为此,烹调器皿优选由绝缘材料制成,例如玻璃,特别是硼硅酸玻璃或玻璃陶瓷。
这样,可利用现有技术中用硼硅酸玻璃制成的烘烤器。只不过必须以适当的方式施加一个加热层和一个绝缘层。
优选的,加热层包括特别是通过溅射法、CVD法或PVD法获得的气相沉积层。同样,加热层也可是通过喷涂热解法获得的沉淀层,或根据特别优选的实施例,加热层可以是热喷涂层。
当采用这些工艺时,各层可沉积为需要的厚度。溅射法、CVD法、PVD法或喷涂热解法通常形成薄膜加热所必须的数量级为约0.5到5μm的薄层,而热喷涂能够低成本地施加数量级为5到100μm的厚层。具体的,大气或真空等离子喷涂、冷气喷涂、火焰喷涂或光弧喷涂可用作热喷涂工艺。
加热层的材料可为适用于该目的的任何材料。包括例如NiCr基合金或FeCr基合金等的金属层。同样例如Invar或Kovar等具有较低热膨胀性能的合金也是合适的。在采用喷涂热解工艺时,优选采用金属氧化物,例如掺有Ce、La、Sb或Zn的氧化锡(SnO2)。以上提到的所有层都可通过热喷涂低成本地施加。
在基底层与加热层之间优选设置一个接合层,该层可为氧化铝层、多铝红柱石或堇青石。
这样,可以一种较好的方式包容存在于基本为金属的加热层与优选包括玻璃或玻璃陶瓷的基底层之间的热膨胀系数之间的差异。
另外,通过混合玻璃微粒等具有较低热膨胀系数的填充材料,能够降低加热层的热膨胀系数。这样,可与热膨胀系数较低的基底层很好地匹配。
同样,可采用金属含量较高的导电胶用于沉积加热层。具体的,该胶可包括银,并可通过例如丝网印刷术等适当的工艺施加。根据采用的是厚膜加热器或薄膜加热器,加热层的厚度优选在约5到100μm之间,优选在约10到60μm之间(厚膜加热器),或层厚在约0.5到20μm之间,优选在约0.5到5μm之间(薄膜加热器)。
该绝缘层优选包括陶瓷。为此,特别的,ZrO2由于其热绝缘特性而适用。同样,也可采用Al2O3
另外,根据本发明的一个优选发展,绝缘层上覆盖一个顶层。
此处,顶层优选为防止扩散层,它可包括基于有机硅的漆或包括散布有金属氧化物微粒的无机漆。该层用于防止化学侵蚀或潮湿(氧化)。该层可通过例如喷涂或浸渍等适当的施加工艺施加。该层的厚度优选在10到50μm之间。
因此,包括一个加热层、一个绝缘层和一个顶层的一个完整的烹调器皿系统非常紧凑并能放置在洗碗机中清洗。
在以适当方式限制最大加热能量的情况下,可限制烹调器皿内壁的最高温度,内壁可被一层例如PTFE的防粘材料保护。
优选的,烹调器皿设计为尺寸和形状与烘烤马弗罩的横截面相配合碗形。另外,可在烹调器皿上放置适当的顶部或盖。同样,该顶部可以同样的方式包括一个直接加热器。
这使得可在烘烤隔热层中同时使用不同的烹调碗和顶部的组合。
可以理解的是,本发明上述和下述的特征不限于给定的组合,而可应用于其它组合中或一起使用,而不脱离本发明的范围。
附图说明
通过以下结合附图对优选实施例进行描述,就会明白本发明的其它特征和优点。
图1以示意图的方式示出根据本发明的门敞开的厨灶。
图2以放大视图的方式示出根据图1形成为碗形的烹调器皿的横截面视图。
图3以放大视图的方式示出穿过根据图2的烹调器皿底部的部分横截面视图。
图4示出了根据图3的底部的修改,其中在绝缘层上施加了一个附加的顶层。
图5示出根据图2的烹调碗,在该烹调碗上放置一个同样可直接加热的盖或顶部。
具体实施方式
在图1中,示意地示出用标号10指出并且门敞开的炉灶总体。炉灶10包括烘烤马弗罩12,其带有位于其底部和顶部的管式加热器27、29。
炉灶10基本上可以现有技术中已知的任何厨灶相同的已知方法操作。因此,它可选择性地采用顶部加热器和/或壁加热器和/或底面加热器和/或烧烤加热器进行操作。而且可采用优选位于后壁(未示出)的鼓风机。
但是除此之外,本发明的炉灶还包括以大致均匀的间隔分别定位于烘烤马弗罩侧壁上的导轨14、15和16、17以及18、19。在这些导轨14、15、16、17、18、19上,可将形成为烹调碗形式的烹调器皿容纳在不同高度。根据图1示出的实施例,可容纳于三个不同的高度。
烹调器皿22包括具有应用到烹调器皿22底面上的绝缘加热层的直接式加热器(参照图2到4)。为提供电源,烹调器皿22在其下侧包括接触件42、43,其可构造成例如由铜等导电性较好的材料制成的接触轨的形式。这些接触点42、43与位于导轨14、15、16、17、18、19上侧的适当接触式嵌件20、21配合。
或者,也可通过位于后壁的适当接触插头和插座与蒸煮容器22后侧适当的插座或插头(未示出)配合而提供电源。
当操作带有一个或多个烹调器皿22的炉灶10时,优选关闭下侧的加热器29,因此烹调器皿22仅被与其一体的直接加热器和位于炉灶上侧的加热器27加热。同样,也可打开位于烘烤马弗罩12内侧的烧烤加热器(未示出)。
如从图2中可看到的,烹调器皿22可设计为平底碗,其侧边伸出到外面,并且侧边被设计为放置在烘烤马弗罩12的侧壁上同时保持一定松动间隙的引导件。烹调器皿22包括由绝缘材料制成的基底,其中绝缘材料例如玻璃,特别是硼硅酸玻璃或玻璃陶瓷。例如,它可以是采用已知设计由硼硅酸玻璃或玻璃陶瓷制成的烹调碗,另外,在底面24上涂有加热层28和绝缘层30。如可从图3的放大视图中看到的,在包括硼硅酸玻璃的基底层32与加热层28之间设置有一个接合层34,该接合层34可包括氧化铝、多铝红柱石或堇青石。接合层34下侧设置有一个加热层28,该加热层包括以适当的方式设置的加热层路径36。
接合层34和加热路径36优选通过热喷涂施加。然后在加热层28的下侧施加一个绝热并绝缘的绝缘层30,该层也优选通过热喷涂形成。加热层优选包括镍铬基合金或铁铬基合金。绝缘层30优选包括氧化锆,但也可包括氧化铝或其它绝缘材料。优选的,接合层34为一个层厚为约0.5到10μm的薄的热喷涂层。加热层的厚度在约10到60μm之间(厚膜加热层)或在约0.5到5μm之间(薄膜加热层)。可通过如下方式选择设计:烹调器皿内侧可达到约为350℃的最高温度。
在适当限制最大加热功率的情况下,可使烹调器皿内侧达到一个较低的最高温度,因此该内侧可另外涂覆一层例如PTFE的防粘层。
绝缘层30用于隔绝传递到外下侧的热量,并用于电绝缘以及加热层的机械保护。该层的厚度约为10到100μm。
如从图4中可看到的,,在绝缘层30的外侧上可另外施加顶层38,用作防止扩散层。顶层38用于防止化学侵蚀和湿气(氧化)侵蚀。为此,以适当方式涂覆有机漆或包括弥散金属氧化物颗粒的无机漆,例如喷涂或浸渍。层厚约为10到50um。
如从图4中可看到的,包括玻璃基底层32、接合层34、加热层28、绝缘层30和顶层38的底面24’的总厚度非常小(应理解,图中接合层34、加热层28、绝缘层36和顶层39的层厚与基底层32相比被很大程度地放大了)。
该烹调器皿可容易地放在洗碗机中清洗。
应理解,在通过热喷涂(例如,通过大气或真空等离子喷涂、火焰喷涂或光弧喷涂)施加每个层时,开始时应以适当的方式对表面层进行清洁并喷砂。由于热喷涂在本领域内是已知的,所以在此不讨论层施加过程中的参数。
另外,在图5中示出设计为碗形的烹调器皿22可与一个形成为顶部或盖的烹调器皿40配合,这样一起形成一个对外界封闭的完整的单元。而且,顶部或盖40同样包括一个加热层、一个绝缘层和一个顶层。
通过这种方式,由于可在每个单独的组件中获得适于每种食物的不同温度,因此几种不同的食物可在烘烤马弗罩中相互独立地进行加工。

Claims (19)

1.一种包括烘烤马弗罩(12)的炉灶,炉灶中设置有引导装置(14、15、16、17、18、19),用于容纳至少一个可加热烹调器皿(22、40),该烹调器皿(22、40)包括基底层(32),所述基底层(32)在其外侧承载可直接加热的加热层(28),该加热层(28)由绝缘层(30)覆盖。
2.如权利要求1所述的炉灶,包括用于在不同的高度接收烹调器皿(22、40)的多个引导件(14、15、16、17、18、19)。
3.如权利要求1或2所述的炉灶,其中该烹调器皿(22、40)进一步包括用于与加热层(28)电接触的接触装置(42、43),该接触装置与设置在烘烤马弗罩(12)中的接触装置(20、21)配合。
4.根据前述任一项权利要求所述的炉灶,其中烹调器皿(24、40)由玻璃制成,特别是由硼硅酸玻璃或玻璃陶瓷制成。
5.根据前述任一项权利要求所述的炉灶,其中加热层(28)构造为从气相沉积的层,特别是通过溅射法、CVD法,或PVD法沉积的层,或构造为通过喷涂热解法沉积的层,或构造为热喷涂层。
6.根据前述任一项权利要求所述的炉灶,其中加热层(28)包括镍铬基合金、铁铬基合金或金属氧化物,例如掺有铈、镧、锑或锌的氧化锡。
7.根据前述任一项权利要求所述的炉灶,其中在基底层(32)与加热层(28)之间设置接合层(34),该接合层优选构造为氧化铝层、多铝红柱石层或堇青石层。
8.根据前述任一项权利要求所述的炉灶,其中加热层(28)的厚度在约5到100微米之间,优选在约10到60微米之间。
9.根据权利要求1到7中任一项所述的炉灶,其中加热层(28)的厚度在约0.5到20微米之间,优选在约0.5到5微米之间。
10.根据前述任一项权利要求所述的炉灶,其中绝缘层(30)包括氧化锆或氧化铝。
11.根据前述任一项权利要求所述的炉灶,其中在绝缘层(30)的顶部设置有顶层(38)。
12.根据权利要求11所述的炉灶,其中顶层(38)构造为防止扩散层,该层优选由有机硅基漆或包括弥散金属氧化微粒的无机漆制成。
13.根据权利要求12所述的炉灶,其中顶层的厚度在约5到100微米之间,优选在约5到50微米之间。
14.根据前述任一项权利要求所述的炉灶,其中烹调器皿(22、40)包括防粘层,该层优选用PTFE制成。
15.根据前述任一项权利要求所述的炉灶,其中烹调器皿(22、40)下侧上设置有接触件(42、43),该接触件与设置在烘烤马弗罩(12)中的导轨(14、15、16、17、18、19)上的指定接触件(20、21)接触。
16.根据前述任一项权利要求所述的炉灶,其中烹调器皿(22、40)包括与设置在烘烤马弗罩后壁上的接触插头配合的接触插头。
17.根据权利要求1到4或10到16中任一项所述的炉灶,其中加热层(28)由具有高金属含量的导电胶制成,该金属特别是银,优选通过丝网印刷术施加该胶。
18.根据前述任一项权利要求所述的炉灶,其中烹调器皿(22、40)构造为碗(22)或用于盖住碗(22)的顶部(40)。
19.一种用于容纳食物的烹调器皿,特别是用于插入到根据前述任一项权利要求所述的炉灶中的烹调器皿,该烹调器皿包括基底层,特别地,在基底层外侧的底面设置有加热层(28),该加热层被绝缘层(30)覆盖,其中加热层(28)与电接触装置(42、43)相连接,用于从外部与加热层(28)电接触。
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