CN1476594A - 电光学装置及电子设备 - Google Patents

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Abstract

滤色片基板10在其基板主体11上,具有由至少在显示区域51上形成的着色部12R、12G、12B所组成的滤色片12和遮光层12X。遮光层12X在除显示区域51外的滤色片的非形成区域的大致整个面上形成。并且,着色部12R~12B是通过喷墨法来形成的,滤色片基板10在具有为区分形成各个着色部12R~12G的象素的树脂材料12Y的同时,树脂材料12Y在除各个着色部12R~12G周围外的在滤色片的非形成区域的大致整个面上形成。

Description

电光学装置及电子设备
技术领域
本发明涉及在基板主体上具有滤色片的滤色片基板,在基板主体上具有电致发光元件的电致发光基板,具有该滤色片基板或者该电致发光基板的电光学装置及具有该电光学装置的电子设备。
背景技术
作为装配在便携电话等电子设备上的直观式显示装置所使用的液晶装置,是以挟持着液晶层并相对配置、具有给液晶层加电压的电极的一对基板为主体所构成的。并且,广泛地使用将滤色片配置在一侧的基体上并可能全色显示的液晶装置。
根据图10来说明安装无源矩阵型的屏幕式液晶装置、并具有滤色片的从前的液晶装置的一例。图10是表示从前的液晶装置结构的部分截面图。
图10所示从前的屏幕式液晶装置大致是作为一对基板的滤色片基板200和相对基板300夹持着液晶层400相对配置所构成的,滤色片基板200和相对基板300在各自的基板的周边部通过密封材料500贴合在一起。
滤色片基板200是在基板主体210的液晶层400侧表面上,大致由滤色片220、外敷层230、透明电极240、取向膜250依次积层所构成的,相对基板300是在基板主体310的液晶层400侧表面上,大致由透明电极320、取向膜330依次积层所构成的。
在滤色片基板200、相对基板300上,呈条状设置了多个透明电极240、320,各个透明电极240和各个透明电极320是在相互交叉方向上延伸配置的。并且,各个透明电极240和各个透明320所交叉的区域成为各个象素,对应于各象素,滤色片220上红(R)、绿(G)、蓝(B)的着色部220R、220G、220B以一定的图形形成。并且,在滤色基板200上、在相相邻的象素间形成遮光层220X。
滤色片220至少是在位于距离密封材料500的内端面的内侧的显示的区域610上形成,但若出现只形成在显示区域610上的情况,就会有在显示区域610外侧上形成多个象素的情况。图10上是表示滤色片220在显示区域610外侧形成多个象素的情况。并且,将滤色片的形成区域用符号600来表示。并且,图面上是将着色部220R~220B的幅度放大来表示的,但在实际上,相对于着色部220R~220B的幅度为0.15~0.3mm左右的精微细化,密封材料500的内端面和显示区域610或者是滤色片的形成区域600之间的间隔为0.2~3mm的左右,和着色部220R~220B的幅度相比较是大的。
因此,从前的屏幕式液晶装置上,将滤色片220只形成在显示区域610上的情况是不言而喻的,即便是在显示区域610的外侧上形成多个象素的情况,滤色片的形成区域600位于距离密封材料500的内端面的内侧上,且在距离封入液晶层400的密封材料500的内侧区域的周边部上一定存在没有形成滤色片220的区域。因此,如图所示,在滤色片基板200的表面上,在滤色片形成区域600和非形成区域(形成区域600的外侧)的分界上,产生滤色片220的高度(0.7~3μm)的阶差。
另一方面,近年来,作为显示装置发表了利用电致发光元件的电致发光装置的公开技术。作为有机物发光材料而使用有机电致发光(本说明书中称为EL)的元件,主要报告了从Appl.Phis.Lett.51(12),21September 1987中的913页上所述的将低分子的有机EL材料(发光材料)用蒸镀法来成膜的方法,和从Appl.Phis.Lett.71(1),7 July 1997中的34页中所记载将有机高分子材料EL进行涂敷的方法。
作为彩色化的方法,在低分子类材料的情况下,是将越过屏蔽不同的发光材料在所期望的象素上进行蒸镀来形成的方法。另一方面,关于高分子类材料,通过使用喷墨法得到的微细晶格图形而带来色彩化引人注目。作为由喷墨法的有机EL元件的形成可以知道有以下的公开例。特开平7-235378、特开平10-12377、特开平10-153967、特开平11-40358、特开平11-54270、特开平3-39957、USP6087196。发明内容
不过,通常在将液晶装置或者有机EL装置等的显示装置装配在便携电话等的电子设备上时,显示装置的显示区域和从电子设备的外壳体的窗口露出的显示画面会多少有点偏差,为了能够进行无障碍显示,将电子设备的显示画面要设定为比显示装置的显示区域宽0.5~3mm左右。
因此,在将显示装置装配在便携电话等的电子设备上时,显示装置的非显示区域是位于显示区域附近的区域,是位于显示画面的周边部。因此,在装配显示装置的电子设备上,为了不让观察者看到显示装置的非显示区域,要安装上遮挡非显示区的挡光材料。这样,从前,为了将挡光材料作为构成显示装置的其他元件独立设计,安装挡光材料的工序就成了项外工序,就会有增加电子设备制造工序的工序量的问题。
并且,挡光材料是用在树脂形成体上涂敷黑色颜料等的方法来制造的,但因为在树脂成型体上涂敷黑色颜料时的成本高,就会有电子设备的制造成本增大的问题。
还有,因为将挡光材料安装在电子设备上时的安装精度有限度的,因此,挡光材料的内端部和显示装置的显示区域的外端部上会多少有点偏差,为了无障碍显示,就要具有±0.1~2mm左右的余量,其结果,就会带来电子设备(显示装置)的显示区域的面积减少的问题。
并且,如上所述,在构成图10所示的从前液晶装置的滤色片基板的表面上,在滤色片的形成区域和非形成区域的分界上,会产生滤色片的高度上的阶差。因此,在距离封入液晶层的密封材料的内侧区域上,滤色片的非形成区域的单元间隔,和含有显示区域的滤色片的形成区域的单元间隔相比,这个阶差增大。显示区域的单元间隔为几~10μm左右,而滤色片的厚度是0.7~3μm左右,所以滤色片形成区域和非形成区域之间的单元间隔之差是不能忽视的。因此,会有密封件的高度被滤色片的厚度左右这一问题。
在使用STN(Super Twisted Nematic)型液晶的液晶装置上,由于Δn.d值(这里,Δn是液晶的双重折射率、d是单元间隔)的变化而使光透过率产生变化,因此在滤色片的形成区域和非形成区域之间产生单元间隔差时,在这些区域上会显示为不同的透过率。滤色片的非形成区域属于非显示区域,滤色片的非形成区域的光透过率,对于显示区域的周边部也就是显示区域位于非显示区域附近的区域的光透过率可能会带来一点影响。并且,滤色片的非形成区域的光透过率在对显示区域的周边部的光透过率有影响时,因为显示区域的周边部的亮度变化,可能会带来对比度降低、显示质量下降的问题。
并且,以上问题特别是对于光透过率的单元间隔的影响大的无源矩阵型液晶装置上是显著问题,但在所有的液晶装置上都会产生问题。
并且,在构成图10所示从前的液晶装置的滤色片基板上,在滤色片上形成透明电极,因为透明电极的厚度是0.1~0.2μm左右,在滤色片基板的表面上,在滤色片的形成区域和非形成区域之间形成阶差后,透明电极(或者是与透明电极的一端连接的引出配线)可能会以这个阶差为界成为断路。
并且,如图10所示,在无源矩阵型液晶装置上,在滤色片上形成电极,在作为转换元件使用TFT元件和TFD元件的有源矩阵型液晶装置上,在滤色片上会有代替电极形成数据线和扫描线等的配线。在这种情况下,数据线、扫描线等的配线(或者是与数据线和扫描线等的配线的一端连接的引出配线)可能会以滤色片形成区域和非形成区域之间上形成的阶差为界成为断路。
在滤色片的形成区域和非形成区域之间形成阶差为起因所带来的问题,能够通过变薄滤色片厚度得到缓解的。不过,要使滤色片的厚度变薄,就有必要提高被着色部所含有的着色材料的浓度,但因为要使高浓度的保护层进行薄厚均匀地涂敷在技术上是有难度的,因此,要使滤色片厚度变薄是困难的。
还有,在通过喷墨法制作滤色片或者制作有机EL元件时所使用的对准标记,作为象素间的分隔材料需要另外制作,就会有增加工序量的问题。
因此,本发明是鉴于上述事实而作出的,其目的之一是,能够将挡光材料和构成显示装置的其他元件在同一工序中形成,在能够谋求电子设备的制造成本降低的同时,以提供能够扩大电子设备的显示区域面积的方法。目的之二是,使滤色片基板的表面比从前的更为平整,在能够得到单元间隔的均匀的同时,以提供能够防止在滤色片上形成的电极和配线等断路的方法。其目的之三是,通过在分隔材料的图像形成的同时形成对准标记,提供能够减少工序量的方法。
附图说明
图1是将本发明的第1实施方式的屏幕式液晶装置从相对基板一侧看过来时的俯视图。
图2是将构成本发明的第1实施方式的屏幕式液晶装置的滤色片基板从液晶层一侧看过来时的俯视图。
图3是将构成本发明的第1实施方式的屏幕式液晶装置的相对基板从液晶层一侧看过来时的俯视图。
图4是将本发明的第1实施方式的屏幕式液晶装置上所具有的滤色片从液晶层一侧看过来时的部分俯视图。
图5是表示本发明的第1实施方式的屏幕式液晶装置结构的部分截面图。
图6(a)~(e)是表示本发明的第1实施方式的屏幕式液晶装置上所具有的滤色片、遮光层、树脂材料的形成方法的工序图。
图7(a)、(b)是表示将本发明的第1实施方式的屏幕式液晶装置上所具有的滤色片基板的直角部放大的俯视图。
图8表示本发明的第3实施方式的屏幕式液晶装置结构的分解立体图。
图9是表示本发明的第4实施方式的屏幕式液晶装置结构的分解立体图。
图10是表示从前的屏幕式液晶装置结构的截面图。
图11是表示由喷墨法进行的有机EL装置的制造方法一例的截面图。
图12是表示由本发明的喷墨法进行的有机EL装置的制造方法一例的截面图。
图13是说明实施例4的有机EL装置的制造方法的图,也是表示喷墨头部的轨跡和基板的对准标记的模式图。
图14(a)是表示具有上述实施方式的屏幕式液晶装置的便携电话一例的图,图14(b)是表示具有上述实施方式的屏幕式液晶装置的便携式信息处理装置一例的图,图14(c)表示具有上述实施方式的屏幕式液晶装置的手表型电子设备一例的图。
具体实施方式
为了解决上述课题,在相对向的基板内侧上具有电极的一对基板之间挟持电光学材料,且所述的一对基板通过该基板内侧上所形成的密封件粘接,所述的一对基板中至少一侧基板是在由形成所述密封件的密封部所围成的区域内形成多个滤色片而成的滤色片基板的电光学装置,其特征在于,在含所述密封部形成区域在内的、包围所述滤色片全周区域的所述基板上形成有树脂膜。
并且,
①所述滤色片基板具有由所述树脂膜形成的对准标记。
②所述树脂膜其膜厚为0.5μm以上、5μm以下。
③所述树脂膜是将所述滤色片由喷墨法形成时为区分形成各个滤色片部的部分而设置的。
④所述树脂膜是对于形成所述滤色片的液体材料,由具有疏液性的材料所形成的。
⑤所述树脂膜是由具有遮光性的材料所形成的。
⑥所述树脂膜是由具有电绝缘性的材料所形成的。
⑦所述密封件是由含有将所述的一对基板间的间隔保持为一定的粒子和将所述一对基板粘接的粘合剂的材料所形成的。
⑧以具有这些电光学装置为特征的电子设备。
并且,在电极间有发光层的电致发光元件在基板上形成的电光学装置上,其特征在于,在由多个所述发光层构成的发光区域上,形成包围各个所述发光层周围的树脂膜,在除去所述发光区域上所述树脂膜在所述的基板上形成。
并且,在除去所述发光区域上由所述树脂膜材料形成对准标记。所述树脂膜是由具有电绝缘性的材料形成的。所述电致发光元件是由有机材料形成的。并且,电子设备以具有这些电光学装置为特征。
下面,参照附图来说明本发明的实施方式。[发明实施方式]
下面,详细说明本发明的实施方式。并且,在各个实施方式上,参照附图来说明,但在各个图上,为了各个层和各个部件的大小为能够在图面上看清的程度,使每个各个层和各个部件上有不同的缩放比。[第1实施方式]
对于本发明的第1实施方式的电子光学装置的结构进行说明。
在本实施方式上,以电光学装置的无源矩阵型的屏幕式液晶装置作为本发明的应用例。本实施方式的液晶装置是具有本发明滤色片基板的,特别是具有滤色片的结构特征性的。并且,在本实施方式中,以将滤色片基板配置在观察者一侧的情况为例来说明。
以下根据图1~图5来说明本实施方式的液晶装置的结构。图1是将本实施方式的液晶装置从后述的相对基板侧来看时的俯视图。图2是将构成本实施方式的液晶装置的滤色片基板从液晶层侧来看时的俯视图。图3是将构成本实施方式的液晶装置的相对基板从液晶层侧来看时的俯视图。图4是将本实施方式的液晶装置上所具有的滤色片从液晶层来看时的部分俯视图,是表示将滤色片的图2中的符号57所表示的区域放大的图。图5是表示本实施方式的液晶装置的截面图,是将本实施方式的液晶装置沿图2、图3所示的A-A′线处横剖时的部分截面图。(液晶装置的大致构造)
如图1所示,在本实施方式的液晶装置1上,作为一对基板的滤色片基板10和相对的基板20通过密封材料40以一定的间隔粘接,在密封材料40内侧上将液晶层30封入。在液晶装置1上,显示区域51是位于距离密封材料40的内端面的内侧,距离显示区域51的外侧是非显示区域。
密封材料40在滤色片基板10、相对基板20的周边部之间上形成大致环状,在其中一部分上形成了为注入液晶的液晶注入孔41。这个液晶注入孔41在从液晶注入孔41在滤色片基板10、相对基板20之间(液晶单元内)注入液晶后,由密封材料42来密封的。
并且,在和相对基板20的滤色片基板10为相反的对侧上,具有背光灯(光照射装置,图中略),在和滤色片基板10、相对基板20的液晶层30为相反的对侧上,安装了只透过各个特定偏振光的偏光板(图中略)。并且,从背光灯发射出的光顺次透过相对基板20侧的偏光板、相对基板20、液晶层30、滤色片基板10、滤色片基板10侧的偏光板发射到观察者一侧。
并且,滤色片基板10图中所示的下端部,位于距离相对基板20的外侧,在位于距离相对基板20的外侧的部分上设置了后述的外部连接用的端子部(图中略)。(液晶装置的内部构造)
下面对于本实施方式的液晶装置1的内部构造进行详细说明。
如图5所示,滤色片基板10是在基板主体11的液晶层30侧表面上,由将一定图形的着色部件12R、12G、12B所组成的滤色片12,和保护滤色片12的同时为使滤色片12形成的基板主体11表面平整的外敷层13,和为给液晶层30外加电压的透明电极14,和为控制液晶层30内的液晶分子取向的取向膜15依次积层所形成的大致结构。并且,在滤色片基板10上,在至少相邻的着色部12R~12B之间,形成遮光层12X和树脂材料12Y(堤墙层)。
与此相对,相对基板20是在基板主体21的液晶层30侧表面上,由为给液晶层外加电压的透明电极22,控制液晶层30内的液晶分子取向的取向膜23依次积层形成的大致结构。
在这里,基板主体11、21是由玻璃、透明树脂等所构成的透光性基板,外敷层13是由有机膜等构成,透明电极14、22是由銦锡氧化物等的透明导电性材料所构成。并且,取向膜15、23是由表面上进行研磨处理的聚酰亚胺膜等所构成。
并且,在滤色片基板10和相对基板20之间(液晶层30内),为将单元间隔均匀化,配置多个由二氧化硅元素、树脂等组成的球状隔片调整垫31。(透明电极、引出配线等的结构)
下面,根据图2、图3对透明电极14、22的平面结构、及与透明电极14、22连接的引出配线等的结构进行说明。并且,在图2、图3上,在显示区域51的外侧,在滤色片基板10、相对基板20的周边部上将密封材料40形成的部分在图中略去。
如图2、图3所示,在滤色片基板10、相对基板20上,呈条状设置了多个透明电极14、22,各个透明电极14和各个透明电极22是在相互交差的方向上延伸的。在本实施方式上,对透明电极14在图中是上下方向、透明电极22在图中左右方向上延伸的情况进行说明。
在显示区域51上形成的透明电极14、22的一端上,连接着各自的引出配线14a、22a。这些引出配线14a、22a,在滤色片基板10和相对基板20的表面上,被配置在显示区域51的外侧(也就是非显示区域上)。
如图2所示,在滤色片基板10上,引出配线14a是与透明电极14的图中所表示的下端部连接,配置在显示区域51的图示下侧的区域上。以下,将引出配线14a所配置的区域称为引出配线区域(引出配线的形成区域)52。与此相对应,如图3所示,在相对基板20上,引出配线22a,与透明电极22的图示左端部或者是图示的右端部连接,被配置在显示区域51的图示左侧和图示右侧的2个区域上。以下,将引出配线22a配置的区域称为引出配线区域53a、53b。
透明电极14、22是通过各个引出配线14a、22a与外部连接用端子部连接,如上所述在本实施方式中,外部连接用端子部只设置在滤色片基板10侧。具体是如图2所示,在滤色片基板10的端部中央上,设置了下侧电极(14)用外部连接用端子部54,在其两侧上设置了上侧电极(21)用外部连接用端子部55。上侧电极用外部连接用端子部55对应引出配线区域53a、53b分别设置了2个部位。
引出配线14a与下侧电极用外部连接用端子部54电连接,透明电极14通过引出配线14a与外部连接用端子部54电连接。相对于此,引出配线22a与由密封材料40的一部分封入导电粒子所形成的上下导通部56连接。上下导通部56对应于引出配线区域53a、53b设置为2个部位,上下导通部56与设置在滤色片基板10上的上侧电极用外部连接用端子部55电连接。因此,透明电极22通过引出配线22a、上下导通部56与外部连接用端子部55电连接。
然后,在外部连接用端子54、55上直接安装给透明电极14、22提供信号的驱动用IC(Integrated Circuit),或者在外部连接用端子54、55上通过使提供透明电极14、22信号的驱动用IC所搭载的柔性印刷电路板(Flexible Printed Circuit)与电连接,就形成了能够驱动透明电极14、22的结构。
并且,关于引出配线14a、22a的配线结构及引出配线14a、22a和外部连接用端子54、55的连接结构并不限定于图中所示的形式,也可能有相适宜的设计。并且,本实施方式中,是对于只在一侧的基板上设置外部连接用端子部、就是所谓的上下导通型的形式进行说明,但也有可能是在各个基板上设置外部连接用端子部,将各个基板上形成的透明电极通过引出配线与同一基板上形成的外部连接用端子部电连接。
(滤色片、遮光层、树脂材料的结构)
下面,关于本实施方式的液晶装置1上所具有的滤色片12、遮光层12X、树脂材料12Y的结构进行详细说明。
如上所述,滤色片基板10侧的各个透明电极14和相对基板20侧的各个透明电极22是在相互交差的方向上延伸的。并且,在本实施方式的液晶装置1上,各个透明电极14和各个透明电极22所交差区域形成各个象素,对应于各个象素,在滤色片12上红(R)、绿(G)、篮(B)的着色部12R、12G、12B以一定图形形成的。
滤色片12(着色部12R~12B)至少是位于距离密封材料40内端面的内侧的显示的区域51上形成的,但会有只在显示区域51上形成的情况和在显示区域51的外侧上形成多个象素点的情况。在本实施方式中,如图5所示,是关于滤色片12在显示区域51的外侧上形成多个象素点的情况所进行的说明。并且,将滤色片12(着色部12R~12B)形成的区域称为滤色片的形成区域50。
还有,在图面上是将着色部12R~12B的幅度放大来表示的,但实际上,相对于着色部12R~12B的幅度为0.15~0.3mm左右的精微细化,密封材料40的内端面和显示区域51或者滤色片的形成区域50之间的间隔为0.2~0.3mm左右,和着色部12R~12B的幅度相比是大的。因此,滤色片的形成区域50也和显示区域51同样,位于距离密封材料40内端面的内侧。
并且,在滤色片基板10上,在滤色片的形成区域50相邻的象素间(相邻着色部12R~12B),形成遮光层(黑色基体)12X。并且,在本实施方式中,着色部12R~12B是使用喷墨法来形成的,在滤色片的形成区域50上,在遮光层12X上,在形成着色部12R~12B时形成为区分各个着色部12R~12B的象素的树脂材料12Y。
还有,相对于遮光层12X的膜厚度为0.1~1.5μm左右,树脂材料12Y的高度为1~3μm左右,遮光层12X和树脂材料12Y合在一起的高度为1.1~4.5μm左右,相对于单元间隔(数~10μm)是不能够忽视的高度。
并且,在通过喷墨法形成着色部12R~12B的情况下,通过由墨水喷射喷嘴喷出的被着色为红、绿、蓝的着色墨水,形成着色部12R~12B,为了能够不使喷嘴堵塞地从墨水喷射喷嘴中使墨水的液滴连续喷出,就需要将使用墨水的粘度降低。因此,为降低使用墨水的粘度需要配合上一定量的溶剂。因此,在由树脂材料12Y所包围的各个象素内,为了比树脂材料12Y的最高部还高,在喷出墨水、干燥喷出的墨水、除去溶剂的工序中使体积减少,所以形成的着色部12R~12B的高度比遮光层12X的厚度和树脂12Y的高度合在一起的高度低0.1~4μm左右。
因此,在滤色片的形成区域50上,滤色片12、遮光层12X、树脂材料12Y所形成层的最大高度,相当于相邻的着色部12R~12B之间也就是遮光层12X和树脂材料12Y相重叠形成部分的高度。
在这里,关于构成滤色片12的各要素的组成材料进行简单地说明。如上所述,着色部12R、12G、12B是使用被着色成各个红、绿、蓝的着色墨水所形成的。与此相对应,遮光层12X是由含有石墨粒子等的黑色粒子的黑色树脂、铬等的金属和金属化合物等的遮光性材料(透光性低的材料)所构成的。并且,树脂12Y是由没有导电性的树脂等所构成的。还有,在将树脂材料12Y由黑色树脂等的遮光性材料构成的情况下,能够省略遮光层12X。
下面,关于滤色片12、遮光层12X、树脂材料12Y所形成的区域进行说明。如上所述,滤色片12(着色部12R~12B)是在距离密封材料40内端面的内侧上形成,并在含有显示区域51的滤色片的形成区域50上形成。与此相对应,如图5所示,遮光层12X及树脂材料12Y是在滤色片的形成区域50上,除在相邻的象素间(相邻的着色部12R~12B之间)形成之外,也在滤色片的非形成区域(滤色片的形成区域50的外侧的区域)的大致整个面上形成。
也就是说,本实施方式所具有的滤色片12、遮光层12X、树脂材料12Y的平面结构是如图4所示的。在含有显示区域51的滤色片的形成区域50上,对应成矩阵配置的各个象素,构成滤色片12的着色部12R~12B成矩阵状配置,在相邻的象素间(相邻的着色部12R~12B之间)上,形成遮光层12X及树脂材料12Y。因此,在含有显示区域51的滤色片的形成区域50上,遮光层12X及树脂材料12Y形成为俯视的格子状。还有,遮光层12X及树脂材料12Y是位于滤色片的形成区域50的外侧,在滤色片的非形成区域的大致整个面上形成。还有,作为图4所示的着色部12R~12B的图形是一例,本发明并不限定于这种图形。
在这里,所谓「滤色片的非形成区域的大致整个面」具体是指「是含有密封材料40的形成区域和上述的引出配线区域52、53a、53b等的区域,除去透光性所需要区域的部分」。
并且,所谓「透光性需要部分」是指:如形成光学识别可能的对准标记的部分,或者是形成光学识别可能的对准标记部分的附近部分。对准标记是在液晶装置1的制造时,作为将滤色片基板10和相对基板20贴合时的目测记号,设置在距离密封材料40的形成区域的外侧上。并且,在本实施方式中,在将遮光层12X图形形成时,通过部分地将距离密封材料40形成区域的外侧上没有形成遮光层12X的部分残留,能够取得将遮光层12X和对准标记一起形成的效果。
例如,如图7(a)所示,将滤色片基板10的直角部分放大表示所示,要在直角部上将没有形成遮光层12X的十字状的部分62残留,通过遮光层12X图形形成,因为能够光学读取这个十字状的部分62,能够将十字状的部分62作为对准标记的功能。
并且,如图7(b)所示,在滤色片基板10的直角部上,在设置没有形成遮光层12X的矩形部分63的同时,要在其内部设置形成遮光层12X的十字状部分64,通过将遮光层12X图形形成,因为能够光学读取十字状部分64,能够将十字状部分64作为对准标记的功能。
并且,如上所示,在本实施方式中,树脂材料12Y也在密封材料40的形成区域上形成,但在制造液晶装置1时,在表面上将形成滤色片12、透明电极14等的所需要素的滤色片基板10、和形成透明电极22等的所需要素的相对基板20通过未固化的密封材料粘贴后,因为从滤色片基板10和相对基板20的外部来施加压力,将未固化的密封材料固化,形成液晶单元,所以当从滤色片基板10和相对基板20的外部来施加压力时,就需要位于密封材料40正下方的树脂材料12Y是具有在外压作用不变形的耐压性的材料所构成。(滤色片的形成方法)
下面,根据图6来说明本实施方式液晶装置1上所具有的滤色片12、遮光层12X、树脂材料12Y的形成方法的一例。并且,图6(a)~(e)是表示各个形成工序的部分截面图。
首先,准备好基板主体11,在这个基板主体11的整个面上形成如图4、图5所示的图形的遮光层12X。
由黑色树脂所组成的一定图形的遮光层12X可由以下的方式形成。在基体主体11的整个面上通过旋转涂层法将含有以石墨粒子等的黑色颜料、丙烯类等的树脂单体、聚合引发剂为主要成分的底片型的抗蚀剂层进行涂敷后,将抗蚀剂层烧结。接着,使用遮光层12X的图形形成的光掩膜使一定位置的抗蚀剂膜曝光。曝光后的抗蚀剂膜进行单体的光聚合反应,成为不溶于溶剂的树脂。最后,通过进行抗蚀剂膜的显影,只残留下被曝光后不溶于溶剂的部分,并且,能够形成如图4、图5所示的一定的图形的遮光层12X。
并且,代替使用由于曝光不溶于溶剂的底片型的抗蚀剂膜,而使用由于曝光溶于溶剂的正片型的抗蚀剂膜,即使将没有形成遮光层12X的部分曝光,同样也能够形成一定的图形的遮光层12X。
并且,由铬等的金属和金属化合物所组成的一定图形的遮光层12X是可以如以下方法形成的。在基板主体11A的整个面上将铬等的金属和金属化合物通过溅射法等成膜后,再通过光平版印刷法形成一定的图形,由此,就能够形成图4、图5所示的一定图形的遮光层12X。
如上所述,形成一定图形的遮光层12X后,如图6(b)所示,在形成遮光层12X的基板主体11的整个面上,通过旋转涂层法等,将具有感光性的树脂材料12Y用的抗蚀剂膜进行涂敷,和形成由黑色树脂组成的遮光层12X的情况相同,通过曝光、显影,形成如图4、图5所示的图形的树脂材料12Y。
接着使用喷墨法形成滤色片12(着色部12R~12B)。
也就是说,如图6(c)所示,在墨水喷射喷嘴中填充了将红色颜料、丙烯类等的树脂溶解在溶剂中所调制成的红色墨水62R,并将墨水喷射机60的喷出喷嘴61在面向基板主体11的状态下,使墨水喷射机60和基板主体11之间相对移动,只在形成着色部12R的象素上从喷出喷嘴61中喷出红色墨水62R。此时,如图所示,沿着形成各个着色部12R~12B的象素的周围,形成了作为分隔功能的树脂材料12Y,但进行红色墨水62R的喷出要做到使中央部比树脂材料12Y的最高部高,并使相邻的象素上墨水不漏出。
接着,如图6(d)所示,通过将喷射红色墨水62R的基板主体11整体进行40~180℃左右的加热,再将红色墨水62R烧结并将溶剂除去,能够形成红色的着色部12R。在这个工序,因为从红色墨水62R中除去溶剂而体积减少,所以形成着色部12R的高度比树脂材料12Y的最高部低。
对于绿色的着色部12G、蓝色的着色部12B,通过同样的图6(c)、(d)所示的工序操作,形成一定图形的着色部12R~12B。最后,通过将形成着色部12R~12B的基板主体11进行150~270℃左右的加热、将着色部12R~12B进行本烧结(本固化),就能够形成由一定图形的着色部12R~12B所组成的滤色片12、一定图形的遮光层12X及树脂材料12Y。
还有,通过将着色部12R~12B进行本烧结,能够提高向着色部12R~12B的基板主体11的密合性,在后面的外敷层13的形成工序上,能够防止着色部12R~12B从基板主体11上剥离下来。并且,在本实施方式中,只是关于按着色部12R、12G、12B的顺序形成滤色片12的情况进行说明,但着色部12R、12G、12B的形成顺序是没有关系的。
在本实施方式中的液晶装置1上所具有的滤色片基板10中,是采用将遮光层12X在除去含有显示区域51的滤色片的形成区域50外、在滤色片的非形成区域的大致整个面上形成的结构。因为在显示区域51外侧形成的着色部12R~12B的形成面积和多个象素部分相比微小的,所以,通过在滤色片的非形成区域的大致整个面上形成遮光层12X,能够通过遮光层12X对非显示区域的大致整个面上进行遮光。
因此,能够将遮光层12X作为将本实施方式液晶装置1的非显示区域遮光的挡光材料的功能。因此,由本实施方式的液晶装置1上的滤色片基板10、及由本实施方式的液晶装置1,因为能够将挡光材料和遮光层12X在同一工序上形成的,因此,能够通过装配本实施方式的液晶装置1,能够达到电子设备的制造工艺的简略化的目的。
并且,因为挡光材料不需要设计为其他用途,因此,通过装配本实施方式的液晶装置1,能够达到降低电子设备的制造成本的目的。还有,因为挡光材料不需要设计为其他用途,因此,通过安装本实施方式的液晶装置1,能够消除在将挡光材料安装在电子设备上时因安装精度上的原因所产生的余量,能够获得达到扩大电子设备显示区域面积的效果。
并且,在本实施方式的液晶装置1上的滤色片基板10上,所采用的结构是:在将着色部12R~12B由喷墨法形成的同时,为形成各个着色部12R~12B时为区分所形成各个着色部12R~12B的象素,沿着着色部12R~12B的周围在基板主体11上将形成的树脂材料12Y,在除含有显示区域51的滤色片的形成区域50外,在滤色片的非形成区域的大致整个面上形成。
所上所述,在滤色片的形成区域50上,滤色片12、遮光层12X、树脂材料12Y形成的层的最大高度,相当于相邻的着色部12R~12B之间也就是遮光层12X和树脂材料12Y重叠形成部分的高度,但在本实施方式的液晶装置1上所具有的滤色片基板10上,因为是在滤色片的非形成区域的大致整个面形成遮光层12X和树脂材料12Y的结构,如图5所示,在滤色片12、遮光层12X、树脂材料12Y所形成的层上,能够使在滤色片的形成区域50和非形成区域上的最大高度相等。其结果是,在滤色片12的表面上,能够消除滤色片的形成区域50和非形成区域之间的高度差,能够使滤色片12整个面趋于平整。
因此,由本实施方式的液晶装置1上所具有的滤色片基板10、及由本实施方式的液晶装置1,因为能够使滤色片基板10的表面比从前更平整,能够达到单元间隔的均匀化,因此,能得到可以提供显示质量优异的液晶装置这一效果。
还有,因为可以使滤色片基板10的表面比从前更平整,所以,能够防止在滤色片12上所形成的透明电极14(或者引出配线14a)的断线,能得到谋求优质产品率的提高的这一效果。
并且,在本实施方式的液晶装置1上,因为是在滤色片的非形成区域的大致整个面上形成遮光层12X和树脂材料12Y的这两方的结构,在遮光层12X和树脂材料12Y上形成密封材料40,即使不改变密封材料40的厚度,而使遮光层12X和树脂材料12Y的厚度改变,单元间隔不受到任何影响。因此,由本实施方式,能够得到使单元间隔稳定的效果。
并且,在本实施方式中,是作为在滤色片的非形成区域的大致整个面上形成遮光层12X和树脂材料12Y这两方的结构,但本发明并不限定于此,也可以是在滤色片的非形成区域的大致整个面上只形成树脂材料12Y的结构。
在滤色片12、遮光层12X、树脂材料12Y形成的层上,因为滤色片的形成区域50的最大高度是相当于相邻的着色部12R~12B之间、也就是遮光层12X和树脂材料12Y重叠形成部分的高度,因此,通过在滤色片的非形成区域的大致整个面上形成树脂材料12Y,在滤色片12、遮光层12X、树脂材料12Y形成的层上,能够减小在滤色片的形成区域50和在非形成区域上的最大高度差。其结果,和本实施方式一样,在滤色片基板10的表面上,能够减小滤色片的形成区域50和非形成区域之间的阶差,能够得到使滤色片基板10的表面比从前更平整的效果。
不过,在作成这样结构的情况下,因为在滤色片的非形成区域的大致整个面上没有形成遮光层12X,所以优选将树脂材料12Y由遮光材料构成,使其具有作为挡光材料的功能。
[第2实施方式]
在上述第1实施方式中,对于本发明在无源矩阵型的屏幕式液晶装置上的适用例进行了说明,但本发明并不限定于此。下面,对于本发明的第2实施方式的电子光学装置的结构进行说明。在本实施方式上所示的是本发明在以TFT(Thin-Film Transistor)元件作为转换元件使用的有源型的透明型液晶装置上的适用例(参照图8)。图8是表示本实施方式的液晶装置的整体结构的分解立体图。本实施方式的液晶装置具有第1实施方式的液晶装置上的滤色片。因此,对于和第1实施方式同样构成要素使用同一参照符号,说明从略。并且,即使在本实施方式中,也和第1实施方式同样,以将滤色片基板配置在观察者一侧的情况为例来进行说明。
本实施方式的液晶装置2是由挟持着液晶层(图中略)相对配置的滤色片基板80和元件基板90所构成。
元件基板90是由在基板主体91的液晶层侧表面上形成TFT元件94、象素电极95、及在这些的液晶层侧所形成取向膜(图中略)大致构成的。并且,滤色片基板80是由在基板主体81的液晶层侧表面上,滤色片12、外敷层(图中略)、共电极82、取向膜(图中略)依次积层所大致构成的。
在本实施方式中,元件基板90的一端部是位于距离滤色片基板80的外侧,且在位于距离滤色片基板80的外侧的部分上设置了外部连接用端子部,但图面上为了简化,将滤色片基板80和元件基板90作为同一面积表示在图上的同时,省略了外部连接用端子部的图示。并且,滤色片基板80和元件基板90在各个基板的周边部上通过密封材料(图中略)粘接。
更详细地说,在元件基板90上,在基板主体91表面上多个数据线92及多个扫描线93是成相互交差的格子状设置的。在各个数据线92和各个扫描线93的交差点的附近上形成TFT元件94,通过各个TFT元件94,连接象素电极95。若观察元件基板90的液晶层侧表面整体,多个象素电极95是呈矩阵状排列的,在液晶装置2上各个象素电极95形成的区域就成为各个象素。并且,各个数据线92及各个扫描线93是通过各自一端被连接的引出配线92a、93a,与设置在元件基板90上的外部连接用端子(图中略)电连接。
并且,滤色片基板80上具有的滤色片12、外敷层的结构是和第1实施方式的液晶装置的滤色片、外敷层具有相同结构的。也就是说,本实施方式上具有的滤色片12是由对应于含有显示区域的滤色片的形成区域50的各象素形成的红(R)、绿(G)、蓝(B)的着色部12R、12G、12B所构成的。
并且,在滤色片基板80的表面上,滤色片的形成区域50相邻的象素之间(相邻的着色部12R~12G之间)、及含有密封材料的形成区域、引出配线区域的滤色片的非形成区域的大致整个面上,形成遮光层12X和树脂材料12Y。
并且,在滤色片基板80上,在滤色片12的液晶层侧,在滤色片基板80的整个面上形成共电极82,这个共电极82是通过在密封材料一部分上所形成的上下导通部(图中略)与设置在元件基板90上的外部连接用端子部(图中略)电连接。
这样,本发明也能够适用于使用TFT元件的有源矩阵型的液晶装置,本实施方式的液晶装置2上的滤色片基板80,因为具有第1实施方式的液晶装置1上的滤色片12、遮光层12X、树脂材料12Y,所以能够得到和第1实施方式同样的效果。
也就是说,因为由本实施方式的液晶装置2上的滤色片基板80、及本实施方式的液晶装置2,能够将挡光材料和遮光层12X在同一工序上形成,所以,通过安装本实施方式的液晶装置2,能够谋求电子设备的制造工艺的简化,在能够谋求减少电子设备的制造成本的同时,达到电子设备的显示区域面积的扩大化。
并且,由本实施方式的液晶装置2上的滤色片基板80、及本实施方式的液晶装置2,能够使滤色片基板80的表面比从前更平整,因为能够达到单元间隔的均匀化,能够得到可以提供显示质量优异的液晶装置的这一效果。并且,因为能够使滤色片基板80的表面比从前更平整,能够防止滤色片12上形成的共电极82(或者与共电极连接的引出配线)的断线,能够达谋求优质产品率的提高。
并且,在本实施方式的液晶装置2上,因为是在滤色片的非形成区域的大致整个面上形成遮光层12X和树脂材料12Y的这双方的结构,所以在遮光层12X和树脂材料12Y上形成密封材料,即使不改变密封材料的厚度,而使遮光层12X和树脂材料12Y的厚度改变,单元间隔也不受到任何影响。因此,通过本实施方式,也能够得到使单元间隔稳定的效果。
[第3实施方式]
下面,对于本发明第3实施方式的电光学装置的结构进行说明。
在本实施方式中,所示的是本发明在以TFD(Thin-Film Diode)元件作用转换元件使用的有源矩阵型的屏幕式液晶装置上的适用例。图8是表示本实施方式的液晶装置的整体结构的分解立体图。本实施方式的液晶装置是具有第1实施方式的液晶装置上的滤色片。因此,对于和第1实施方式同样的构成要素使用同一参照符号,说明从略。并且,即使在本实施方式中,也和第1实施方式同样,是以滤色片基板配置观察者一侧的情况为例来说明的。
本实施方式的液晶装置3是由挟持液晶层(图中略)相对配置的滤色片基板100和元件基板110所构成的。
元件基板110是由在基板主体111的液晶层侧表面上形成TFD元件14、象素电极113等、及在这些液晶层侧的取向膜(图中略)所构成的。并且,滤色片基板100是在基板主体101的液晶层表面上由滤色片12、外敷层(图中略)、扫描线(相对电极)102、取向膜(图中略)依次积层所形成的大致结构。
并且,和第1实施方式同样,在滤色片基板100、元件基板110中的至少一方的基板上设置外部连接用端子部,外部连接用端子部设置的部分位于距离相对的基板的外侧,但为图面上简略化,在将滤色片基板100和元件基板110作为同一面积在图中表示的同时,省略了外部连接用端子部的图中表示。并且,所谓滤色片基板100和元件基板110是通过各个基板周边部上的密封材料(图中略)粘接。
更详细地说,在元件基板110上,在基板主体111表面上,多个数据线112呈条状设置,对于各个数据线112,多个象素电极113通过TFD元件14与其连接。将元件基板110的液晶层表面整体来看,多个象素电极113被排列成矩阵状,在液晶装置3上,各个象素电极113所形成的区域成为个个的象素。并且,各个数据线112是通过与一端连接的引出配线112a与设置在至少一侧的基板上的外部连接用端子部(图中略)电连接。
并且,滤色片基板100上的滤色片12、外敷层的结构,与第1实施方式的液晶装置上的滤色片、外敷层具有相同结构,滤色片12是由对应含有显示区域的滤色片的形成区域50的各象素所形成的红(R)、绿(G)、蓝(B)的着色部12R、12G、12B所构成。
并且,在滤色片基板80的表面上,在含有滤色片的形成区域50的相邻象素之间(相邻的着色部12R~12B之间)、及密封材料形成区域、引出配线区域的滤色片的非形成区域的大致整个面上形成了遮光层12X和树脂材料12Y。
并且,在滤色片基板100中,在滤色片12的液晶层侧上,对于元件基板110的数据线112的延伸方向在交差方向上形成短栅状的扫描线(相对电极)102,这个扫描线102也通过与一端连接的引出配线(图中略)与设置在至少一侧的基板上所设置的外部连接用端子部(图中略)电连接。
这样,本发明也能够适用于使用TFD元件的有源矩阵型的屏幕式液晶装置,本实施方式的液晶装置3上所具有的滤色片基板100因为是具有第1实施方式的液晶装置上的滤色片12、遮光层12X、树脂材料12Y,所以,能够得到和第1实施方式同样的效果。
也就是说,由本实施方式的液晶装置上的滤色片基板100及本实施方式的液晶装置3,因为能够使挡光材料和遮光材料12X在同一工序上形成,因此,通过安装本实施方式的液晶装置3,能够谋求电子设备的制造工艺的简化,并在能够谋求减少电子设备的制造成本的同时,达到扩大电子设备显示区域的面积。
并且,由本实施方式的液晶装置3上的滤色片基板100、及本实施方式的液晶装置3,能够使滤色片基板100的表面比从前更平整,因为能够达到单元间隔的均匀化,能够得到提供显示质量优异的液晶装置的这一效果。并且,因为能够使滤色片基板100的表面比从前更平整,能够防止在滤色片12上形成的扫描线(或者与扫描线102连接的引出配线)的断线,得到能够谋求优质产品率的提高的这一效果。
并且,在本实施方式的液晶装置3中,作为在滤色片的非形成区域的大致整个面上形成遮光层12X和树脂材料12Y这双方的结构,在遮光层12X和树脂材料12Y上形成密封材料,即使不改变密封材料的厚度,而使遮光层12X和树脂材料12Y的厚度改变,单元间隔不受到任何影响。因此,由本实施方式,能够得到使单元间隔稳定化的效果。
还有,在以上的第1~第3实施方式中,只是对于滤色片基板侧在观察者一侧的情况来说明的,但本发明并不限定于此,也可以将滤色片基板侧作为光入射侧,在这种情况下也能够得到和所述第1~第3实施方式同样的效果。并且,在第1~第3实施方式上,只是对屏幕式液晶装置进行说明的,但本发明并不限定于此,本发明既适用于反射型液晶装置和半反射屏幕式液晶装置,也能够适用于所有结构的液晶装置。
[第4实施方式]
下面,对本发明的第4实施方式的电光学装置的结构进行说明。
本实施方式中,所示的是本发明以电致发光元件作为象素使用的有源矩阵型的有机EL装置(电光学装置)的适用例。
所谓由喷墨法形成有机EL装置的制造方法,是将含有空穴注入层形成材料的第1组合物,或含有发光层形成材料的第2组合物通过喷墨法来形成的。也就是说,将空穴注入层材料溶解或分解于溶剂中所形成的第1组合物、将发光材料溶解或分解于溶剂中所形成的第2组合物,从墨水喷射机中喷射出来在由ITO(透明电极)组成的电极上形成。还有,为了喷射出来的墨水滴(液滴)在精度高的一定的象素区域上涂布图形,设置形成ITO的象素区域分隔的隔壁(以下称堤墙层)。
图11所示的是由喷墨法所形成的有机EL装置基板结构一例的截面图。在玻璃基板1010上形成具有薄膜晶体管(TFT)1011的电路元件部1011’,在这个电路元件部1011’上由ITO组成的透明电极1012图形形成。还有在区分透明电极1012的区域上由SiO2组成的第1堤墙层1013和由疏油性或者是疏油化的有机物组成的有机物堤墙层(第2堤墙层)1014进行积层。堤墙层的开口部(也就是象素区域的形状)无论是圆形、椭圆形、四角形中的哪一种形状都没有关系,但因为在墨水组合物上有表面张力,所以,优选四角形的直角部带有圆角。有机物堤墙层1014的材料只要具有耐热性、疏液性、耐油性溶剂性、和底下基板有着很好的密合性的材料,就没有特别的限定。有机物堤墙层1014是本来具有疏液性的材料,如,不是氟类树脂,通常所用的是将丙烯树脂和聚酰亚胺树脂等的有机树脂形成图形,通过CF4等离子体处理等也可使表面疏液化。堤墙层(bank)不限于上述的无机物和有机物所进行的积层,如,透明电极1014是由ITO组成的情况下,为了提高和透明电极1014的密合性,优选有SiO2堤墙层1013。有机物堤墙层1014的高度最好是1~2μm左右。
下面参照图12,根据各个工序的剖面结构来说明由喷墨法所形成的有机EL装置(电光学装置)的制造方法一例。
在图12(A)上,在有堤墙层结构基板上通过喷墨法将含有空穴注入层形成材料的溶液(第1组合物)作为滴液进行涂敷。接着,将含有有机EL材料(发光层形成材料)的溶液(墨水组合物)作为滴液进行涂敷。然后,形成有机EL薄膜。含有空穴注入层形成材料的第1组合物,然后是含有有机EL材料的第2组合物1015从墨水喷射机喷头1016中喷出,如同图(B)所示弹着,并涂敷图像。涂敷后,通过真空或者热处理或者氮气等的气流将溶媒除去、形成有机EL薄膜层1017。(同图(C))。这个有机EL薄膜层1017,如是由空穴注入层及发光层所组成的积层膜。
图13是表示使用在本实施例的基板俯视图。如图13所示,这个基板1201是以在玻璃基板1202上形成的图中没有的电路元件部、和这个电路元件部上所形成的多个发光元件部1204…、和对准标记1205为主体构成的。图13的基板1201上16个发光元件部1204…是配置在4行4列的矩阵上的。玻璃基板1202上的各个发光元件部1204…之间上形成有机物堤墙层1014。并且,对准标记1205是和有机物堤墙层1014的图像形成同时形成的。由此,能够减少工序量、降低成本。
并且,通过墨水喷射机头H如图13点划线所示对于基板作相对移动,将有机EL材料墨水组合物1015在基板上进行图形涂敷。
这时,堤墙层是形成到基板端部(参照图11)。这样,通过形成堤墙层到达端部,堤墙层表面能够具有平整性很高的平面。因此,在构成有机EL单元的一侧电极(如阴极)不会产生断线、小分层。还有,因为在所经过的整个基板面上平整性高,密封时,能够得到平整性很好的密封结构。也就是说,通过罐结构密封有机EL单元的罐密封,在有机EL单元上的整个面上进行树脂涂敷全部密封,然后,在进行薄膜积层的薄膜密封上,能够在有机EL单元上形成非常平整的层。因此,如,在和基板相反对侧上发光型(顶部发射型)的情况下,因为有机EL单元上的面在通过整个基板面上具有平整性,所以在通过基板整个面上没有光学差,能够得到均匀的显示。相反,有机EL元件和密封基板之间的层的厚度是不均匀的情况下,由膜厚差产生光学性差,在显示上产生不均匀性。
本发明,因为在通过基板整个面上形成树脂层,所以能够使在有机EL元件上形成的粘着用(密封用)的树脂平整地形成。因此,密封用的树脂上不会产生光学差,显示特性上也不会产生不均匀。
[电子设备]
下面,说明具有所述的第1~4实施方式的电子光学装置1~4任一种的电子设备的具体例。
图14(a)是表示便携电话的一例的立体图。在图14(a)中,符号700表示便携电话主体,符号701是表示使用所述的电子光学装置1~4中任一种的显示部。
图14(b)表示打字机、便携电脑等的便携式信息处理装置的一例的立体图。在图14(b)上,符号800是表示信息处理装置、符号801是表示键盘等的输入部、符号803是表示信息处理装置主体、符号802是表示使用所述的电子光学装置1~4中任一种的显示部。
图14(c)是表示手表型电子设备一例的立体图。在图14(c)上,符号900表示手表主体、符号901表示使用所述电子设备电光学装置1~4中任一种的显示部。
图14(a)~(c)所示的各个电子设备因为是具有使用所述的电子光学装置1~4中任一个的显示部,所以能够谋求制造工艺的简略化、在谋求制造成本减少的同时,能够达到显示区域面积的扩大化,或者是能够达到在显示质量上优异、优良产品率的提高。
[发明效果]
如以上详细说明,由本发明的第1滤色片基板,是以将具有遮光性的树脂层在除显示区域外、滤色片的非形成区域的大致整个面上形成所构成的结构,还有将树脂材料构成对准标记,所以,将遮断材料和遮光层和对准标记同一工序上形成,通过安装具有本发明的第1滤色片基板的液晶装置,能够谋求电子设备的制造工艺的简略化,并谋求电子设备的制造成本的减少的同时,能够达到电子设备的显示区域面积的扩大化。
并且,由本发明的第2滤色片基板,是在将构成滤色片的着色部由喷墨法来形成的同时,将在形成着色部时为区分形成着色部的部分的树脂,在除各个着色部周围外,在滤色片的非形成区域的大致整个面上形成的这一结构,因此,能够使滤色片基板的表面比从前更平整,通过使用本发明第2滤色片基板构成液晶装置,能够达到单元间隔的均匀化,并能够提供显示质量优异的液晶装置。并且,因为能够使滤色片基板的表面比从前更平整,所以能够防止在滤色片上形成的电极和配线等的断线,能够提高优质产品率。还有因为用树脂材料构成对准标记,所以能够使象素间的分隔材料和对准标记在同一工序中形成,通过安装具有本发明的第2滤色片基板的液晶装置,能够谋求电子设备制造工艺的简略化,在达到电子设备制造成本减少的同时,达到电子设备的显示区域面积的扩大化。
并且,由本发明的电致发光元件基板,因为用树脂材料构成有机物堤墙层和对准标记,能够使有机物堤墙层和对准标记在同一工序中形成,通过安装具有本发明的电致发光元件基板的液晶装置,能够谋求电子设备制造工艺的简略化、达到电子设备的制造成本的减少。
并且,通过具有本发明的第1或第2滤色片基板或电致发光元件基板,能够提供本发明的电光学装置。并且,通过具有本发明的电光学装置,能够提供本发明的电子设备。并且,由本发明的电子光学装置及电子设备,能够得到和本发明第1或第2滤色片基板及电致发光元件同样的效果。

Claims (14)

1.一种电光学装置,是在相对向的基板内侧上具有电极的一对基板之间挟持电光学材料,且所述的一对基板通过该基板内侧上所形成的密封件粘接,所述的一对基板中至少一侧基板是在由形成所述密封件的密封部所围成的区域内形成多个滤色片而成的滤色片基板的电光学装置,其特征在于,在含所述密封部形成区域在内的、包围所述滤色片全周区域的所述基板上形成有树脂膜。
2.如权利要求1中所述的电光学装置,其特征在于,所述滤色片基板具有由所述树脂膜形成的对准标记。
3.如权利要求1中所述的电光学装置,其特征在于,所述树脂膜的膜厚为0.5μm以上、5μm以下。
4.如权利要求1中所述的电光学装置,其特征在于,所述树脂膜是在通过喷墨法形成所述滤色片时,为区分形成各个滤色片部的部分而设置的。
5.如权利要求1中所述的电光学装置,其特征在于,所述树脂膜是由相对于形成所述滤色片的液体材料,具有疏液性的材料形成的。
6.如权利要求1中所述的电光学装置,其特征在于,所述树脂膜是由具有遮光性的材料形成的。
7.如权利要求1中所述的电光学装置,其特征在于,所述树脂膜是由具有电绝缘性的材料形成的。
8.如权利要求1中所述的电光学装置,其特征在于,所述密封件是用含有将所述的一对基板间的间隔保持为一定值的粒子、和将所述一对基板粘合的粘合剂的材料所形成的。
9.一种电子设备,其特征在于,具有权利要求1到8中任一项所述电光学装置。
10.一种电光学装置,是在由电极间具有发光层的电致发光元件形成在基板上的电光学装置,其特征在于,在由多个所述发光层所构成的发光区域上,形成有包围各个所述发光层周围的树脂膜,且在所述发光区域以外的区域,所述树脂膜形成在所述基板上。
11.如权利要求10中所述的电光学装置,其特征在于,在所述发光层区域以外的区域上由所述树脂膜材料形成对准标记。
12.如权利要求10中所述的电光学装置,其特征在于,所述树脂膜是由具有电绝缘性的材料所形成的。
13.如权利要求10中所述的电光学装置,其特征在于,所述电致发光元件是由有机材料形成的。
14.一种电子设备,其特征在于,具有权利要求10到12中任一项所述电光学装置。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100474078C (zh) * 2005-12-21 2009-04-01 甲府卡西欧株式会社 具有限制基板间隙的间隔元件的液晶显示装置
US7714958B2 (en) 2005-11-15 2010-05-11 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device
US8953138B2 (en) 2005-04-07 2015-02-10 Samsung Display Co., Ltd. Flat panel display and method of fabricating the same
CN109309170A (zh) * 2018-09-26 2019-02-05 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 一种显示面板及显示装置
CN110501771A (zh) * 2014-08-21 2019-11-26 精工爱普生株式会社 显示装置和电子设备

Families Citing this family (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6858464B2 (en) * 2002-06-19 2005-02-22 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Method of manufacturing light emitting device
JP4588445B2 (ja) * 2002-11-11 2010-12-01 株式会社半導体エネルギー研究所 発光装置の作製方法
TWI226462B (en) * 2003-12-26 2005-01-11 Au Optronics Corp Color filter and fabricating method thereof
KR100945354B1 (ko) 2004-06-29 2010-03-08 엘지디스플레이 주식회사 화소영역외곽부에 블랙매트릭스가 형성된 cot구조액정표시장치
US7923919B2 (en) * 2004-10-28 2011-04-12 Sharp Kabushiki Kaisha Organic electroluminescent panel and production method thereof, and color filter substrate and production method thereof
JP4984394B2 (ja) * 2005-01-24 2012-07-25 凸版印刷株式会社 液晶表示装置用カラーフィルタ
US7537867B2 (en) * 2005-06-17 2009-05-26 Icf Technology Co., Ltd. Method for manufacturing color filter
JP4772791B2 (ja) * 2005-07-11 2011-09-14 シャープ株式会社 液晶表示装置およびその製造方法
TWI329767B (en) * 2005-10-17 2010-09-01 Chiang Hsin Chun A display apparatus with a self-luminescing device and a non self-luminescing device
WO2007061097A1 (ja) * 2005-11-28 2007-05-31 Fujifilm Corporation 光学素子及びその製造方法、並びに液晶表示装置
JP4337852B2 (ja) 2006-08-30 2009-09-30 セイコーエプソン株式会社 有機エレクトロルミネッセンス装置とその製造方法及び電子機器
JP2008066216A (ja) * 2006-09-11 2008-03-21 Seiko Epson Corp 有機エレクトロルミネッセンス装置とその製造方法及び電子機器
JP5104176B2 (ja) * 2007-10-04 2012-12-19 セイコーエプソン株式会社 電気光学装置及び電子機器
JP5301895B2 (ja) * 2008-07-01 2013-09-25 株式会社ジャパンディスプレイ 液晶表示装置
TWI465801B (zh) * 2009-06-15 2014-12-21 Au Optronics Corp 主動元件陣列基板與顯示面板
CN102707352A (zh) * 2011-04-19 2012-10-03 京东方科技集团股份有限公司 彩色滤光片和彩色滤光片的制造方法
JP5840873B2 (ja) 2011-06-14 2016-01-06 株式会社ジャパンディスプレイ マザー基板
WO2013002201A1 (ja) * 2011-06-29 2013-01-03 シャープ株式会社 表示パネル
US8780315B2 (en) * 2012-05-31 2014-07-15 Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. LCD panel, color filter substrate, and method of manufacturing the color filter substrate
KR101989001B1 (ko) 2012-09-07 2019-06-14 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
JP2014164070A (ja) * 2013-02-25 2014-09-08 Seiko Epson Corp カラーフィルター基板、電気光学装置、電気光学装置の製造方法、及び電子機器
JP6207341B2 (ja) * 2013-10-24 2017-10-04 株式会社ジャパンディスプレイ 表示装置
JP6366255B2 (ja) * 2013-11-13 2018-08-01 三菱電機株式会社 液晶表示装置
KR102299189B1 (ko) * 2014-12-09 2021-09-08 엘지디스플레이 주식회사 유기전계발광 표시장치 및 그 제조 방법
WO2018033510A2 (en) * 2016-08-17 2018-02-22 Merck Patent Gmbh Electronic device with bank structures
US10670905B2 (en) * 2017-02-10 2020-06-02 Microsoft Techonology Licensing, Llc Black matrix structures for displays devices
JP7378923B2 (ja) 2018-10-31 2023-11-14 キヤノン株式会社 半導体装置、モジュール、カメラおよび機器
CN116413950A (zh) * 2020-02-19 2023-07-11 群创光电股份有限公司 电子装置
WO2023058412A1 (ja) * 2021-10-08 2023-04-13 ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 表示装置及び電子機器

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0339957A (ja) 1989-04-12 1991-02-20 Konica Corp ハロゲン化銀カラー写真感光材料
DE69334236D1 (de) 1992-02-27 2008-09-18 Canon Kk Flüssigkristallanzeigevorrichtung
JP3256810B2 (ja) 1992-02-27 2002-02-18 キヤノン株式会社 液晶表示装置
EP0821261B1 (en) * 1992-06-26 2001-11-14 Sharp Kabushiki Kaisha Reflective type liquid crystal display device
JPH06118217A (ja) 1992-10-01 1994-04-28 Toray Ind Inc カラーフィルタの製造方法
JP3463362B2 (ja) 1993-12-28 2003-11-05 カシオ計算機株式会社 電界発光素子の製造方法および電界発光素子
JP3014923B2 (ja) * 1994-06-24 2000-02-28 キヤノン株式会社 カラーフィルターおよびその製造方法ならびにそのフィルターを用いた液晶表示装置
US6057900A (en) * 1995-02-09 2000-05-02 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Color liquid crystal display device and method for producing color filter substrate
JP3036436B2 (ja) 1996-06-19 2000-04-24 セイコーエプソン株式会社 アクティブマトリックス型有機el表示体の製造方法
US5916735A (en) * 1996-11-21 1999-06-29 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method for manufacturing fine pattern
JP3899566B2 (ja) 1996-11-25 2007-03-28 セイコーエプソン株式会社 有機el表示装置の製造方法
TW542933B (en) * 1996-12-19 2003-07-21 Sharp Kk Liquid crystal display device and process for producing the same
JPH10282480A (ja) * 1997-04-04 1998-10-23 Sanyo Electric Co Ltd マザーガラス基板
JP3302296B2 (ja) * 1997-05-30 2002-07-15 キヤノン株式会社 カラーフィルタの製造方法
JPH10332925A (ja) * 1997-06-02 1998-12-18 Canon Inc カラーフィルタ基板とその製造方法、該基板を用いた液晶素子
JP3911775B2 (ja) 1997-07-30 2007-05-09 セイコーエプソン株式会社 有機el素子の製造方法
JP3941169B2 (ja) 1997-07-16 2007-07-04 セイコーエプソン株式会社 有機el素子の製造方法
JP3332822B2 (ja) 1997-09-05 2002-10-07 キヤノン株式会社 カラーフィルタ基板の製造方法
JPH11109656A (ja) * 1997-10-01 1999-04-23 Canon Inc アライメントマーク及びこれを用いた液晶素子とその製造方法
US6087196A (en) * 1998-01-30 2000-07-11 The Trustees Of Princeton University Fabrication of organic semiconductor devices using ink jet printing
JPH11251059A (ja) * 1998-02-27 1999-09-17 Sanyo Electric Co Ltd カラー表示装置
KR100504253B1 (ko) * 1998-12-21 2005-07-27 세이코 엡슨 가부시키가이샤 컬러필터 및 그 제조방법
JP3568862B2 (ja) * 1999-02-08 2004-09-22 大日本印刷株式会社 カラー液晶表示装置
JP3988067B2 (ja) * 1999-12-27 2007-10-10 セイコーエプソン株式会社 電気光学装置部品の製造方法
US6624572B1 (en) * 2000-02-17 2003-09-23 Lg Electronics, Inc. Organic electroluminescence display panel and method for sealing the same
KR100603842B1 (ko) * 2000-02-18 2006-07-24 엘지.필립스 엘시디 주식회사 확인용 인식마크를 포함하는 컬러필터

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8953138B2 (en) 2005-04-07 2015-02-10 Samsung Display Co., Ltd. Flat panel display and method of fabricating the same
US7714958B2 (en) 2005-11-15 2010-05-11 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Display device
CN1967335B (zh) * 2005-11-15 2010-12-15 株式会社半导体能源研究所 显示器件及其制造方法
CN100474078C (zh) * 2005-12-21 2009-04-01 甲府卡西欧株式会社 具有限制基板间隙的间隔元件的液晶显示装置
CN110501771A (zh) * 2014-08-21 2019-11-26 精工爱普生株式会社 显示装置和电子设备
CN109309170A (zh) * 2018-09-26 2019-02-05 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 一种显示面板及显示装置
CN109309170B (zh) * 2018-09-26 2020-07-10 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 一种显示面板及显示装置

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