CN1473093A - 形成精细间隔壁的方法,生产平面显示装置的方法,及喷射加工用磨料 - Google Patents

Abstract

公开了一种形成精细间隔壁的方法，用该方法可以利用喷射加工技术形成具有稳定形状的精细间隔壁，同时具有良好的加工精度和良好的研磨效率，一种通过应用上述方法生产平面显示装置的方法，及一种待在这些方法中使用的喷射加工用磨料。精细间隔壁是通过一种磨料喷射加工法在基底的表面上形成，上述磨料由其表面上涂覆有硅酮的碳酸钙粉组成。构成磨料的每个粒子都具有一种三维形状，该三维形状由许多不同尺寸的三角形或多角形多面体层组成。磨料的最大粒径不大于精细间隔壁宽度(W1)的1/2倍，且磨料的平均粒径不大于精细间隔壁宽度(W1)的1/5倍。此外，磨料的最大粒径不大于10μm。精细间隔壁(24)的间距(P1)不大于150μm，精细间隔壁(24)的宽度(W1)不大于 50μm，及精细间隔壁(24)的高度(H1)不大于300μm。抗蚀剂膜(30)的厚度不大于精细间隔壁(24)宽度(W1)的1.2倍。

Description

形成精细间隔壁的方法，生产平面显示装置的方法， 及喷射加工用磨料

技术领域

本发明涉及一种形成精细间隔壁的方法，一种生产平面显示装置的方法，及一种喷射加工用的磨料。更具体地说，本发明涉及一种方法，用该方法可以用一种喷射加工技术形成具有稳定形状的精细间隔壁，同时具有有利的加工精度和良好的研磨效率；一种应用上述方法生产平面显示装置的方法，及在这些方法中使用的喷射加工用磨料。

背景技术

作为用于形成气体放电式平面显示装置精细间隔壁的方法，有一种喷射加工法如喷砂技术。在该方法中，将一种低熔点玻璃浆料涂覆在一种基底如玻璃上并进行干燥，然后将一种具有喷砂阻力的光敏性干膜抗蚀剂层压在干的浆料层上，并用一个玻璃掩膜按预定的图形进行曝光和显影。此后，用一种喷砂技术喷射磨料，以便加工成图形的形状。作为其中所用的磨料，采用碳酸钙或玻璃细珠。

然而，碳酸钙具有粘附到工件上的性质，并且随着间隔壁的图形变得更精细，除去碳酸钙变得很困难。

此外，玻璃细珠由于其球形形状而具有低加工速度的缺点，并且因为难以得到小的粒径，所以玻璃细珠不方便使用。

另外，在近年来，随着平面型显示装置精细度和亮度的增加，希望减小间隔壁的间距和间隔壁的宽度。为了形成精细的间隔壁，必须解决下列问题。

首先，需要使磨料的粒径变得更细，及需要安全的加工性能和防水性。

此外，需要溶解和减小对应于精细图案结构的抗蚀剂的厚度和需要有粘附到工件上或从工件上松开的性能。

而且，需要使低熔点玻璃浆料的粒子变得更细，和需要增加形状可保持性。

在考虑上述情况时作出本发明。因而，本发明的目的是提供一种形成精细间隔壁的方法，通过该方法可以用喷射加工技术，在具有良好加工精度和高研磨效率下形成具有稳定形状的间隔壁，提供一种通过应用上述方法生产平面显示装置的方法，及提供一种在上述这些方法中使用的供喷射加工用的磨料。

发明的公开

为了达到上述目的，形成按照本发明所述精细间隔壁的方法其特征在于：精细间隔壁是用一种磨料通过喷射加工法在一个基底的表面上形成，上述磨料由一种在其表面上涂覆有硅酮的碳酸钙粉末组成。

生产按照本发明所述平面显示装置的方法，是一种生产包括一第一面板和一第二面板的等离子体平面显示装置，同时在第一面板和第二面板之间形成放电空间的方法，其中用于将放电空间间隔开的间隔壁在第二基底的表面上形成，该第二基底用一种磨料通过喷射加工法构成第二面板，上述磨料由一种在其表面上涂覆有硅酮的碳酸钙粉组成。

用于按照本发明所述喷射加工的磨料是一用于喷射加工的磨料，该磨料由一种在其表面上涂覆有硅酮的碳酸钙粉组成。

优选的是，构成磨料的每个粒子都具有一三维形状，上述三维形状具有大量不同尺寸的三角形或多角形多面体层。

优选的是，磨料的最大粒径不大于精细间隔壁宽度的1/2倍，而磨料的平均粒径不大于精细间隔壁宽度的1/5倍。另外，优选的是，磨料的最大粒径不大于10μm。

优选的是，精细间隔壁的间距不大于150μm，例如是50-100μm，精细间隔壁的宽度不大于50μm，例如是10-35μm，及精细间隔壁的高度不大于300μm，例如是100-200μm。

优选的是，用于按预定图形形成精细间隔壁的抗蚀剂层厚度不大于精细间隔壁宽度的1.2倍。在本发明中，抗蚀剂层没有特别加以限制，并且具有耐喷砂性的液体，浆料或薄膜形式的抗蚀剂层都可以用。例如，作为薄膜形式抗蚀剂层，可以用一种包括层压在树脂薄膜之间的一种光敏性浆料或类似物的抗蚀剂层。作为树脂薄膜，可以用聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜。

优选的是，构成用于形成精细间隔壁的低熔点玻璃浆料的各种玻璃料的粒径不大于精细结构壁宽度的1/5倍。低熔点玻璃浆料没有特别加以限制，并且既可用含铅浆料也可用无铅浆料；尤其是，无铅浆料是优选的。

在按照本发明所述的磨料中，碳酸钙的表面涂覆有硅酮，因而保证了极好的防水性和流动性。因此，当用这种磨料进行喷射加工如喷砂时，可以有效地防止磨料通过粘附到作为工件的精细间隔壁上而留下或留在沟槽中，并且在按预定图形形成精细间隔壁时可以清除干净。

此外，在本发明中，构成磨料的每个粒子都具有三维形状，该三维形状由许多不同尺寸的三角形或多角形的多面体层组成，因而即使将平均粒径调到很小时，也可以以良好的研磨效率和具有良好的精度形成精细间隔壁。

另外，将磨料的最大粒径调到不大于精细间隔壁宽度的1/2倍，而将磨料的平均粒径调到不大于精细间隔壁宽度的1/5倍，因而可以加工具有精细间距和精细宽度的间隔壁，而同时不损害该精细间隔壁的形状。尤其是，通过将磨料的最大粒径调到不大于10μm，可以在不损害其形状的情况下加工具有精细间距和精细宽度的间隔壁。

用按照本发明所述方法形成的精细间隔壁间距没有特别加以限制，并且可以采用不大于150μm的间距。此外，精细间隔壁的宽度可以不大于50μm，及精细间隔壁的高度可以不大于300μm。

在本发明中，将用于按预定图形形成精细间隔壁的抗蚀剂层厚度调到不大于精细间隔壁宽度的1.2倍，因而可以形成具有精细宽度没有剥离，塌陷或波纹的图形，保证抗蚀剂层粘附到低熔点玻璃浆料上，和有助于形成具有精细间距和精细宽度的间隔壁图形。

构成用于形成精细间隔壁的低熔点玻璃浆料的各种玻璃料粒径调到不大于精细间隔壁宽度的1/5倍，因而可以形成精细而形状稳定的间隔壁。

按照本发明，可以提供一种形成精细间隔壁的方法，通过该方法可以用一种喷射技术，在良好加工精度和高研磨效率下形成具有稳定形状的精细间隔壁，提供一种通过应用上述方法生产一平面显示装置的方法，及提供一种在这些方法中使用供喷射加工用的磨料。

附图简介

图1是按照本发明一个实施例所述平面显示装置的主要部分剖视图。

图2是示出形成图1所示平面显示装置间隔壁工艺流程图。

图3A-3C是示出形成各壁工艺的主要部分剖视图。

图4在按照本发明一个实施例所述喷射加工中使用的一种磨料显微照片。

图5是与图4放大倍数不同的显微照片。

图6是用图4和5所示磨料通过喷射加工处理的精细间隔壁显微照片。

图7是与图6放大倍数不同的显微照片。

图8是在按照本发明另一个实施例所述喷射加工中所用磨料的显微照片。

图9是与图8放大倍数不同的显微照片。

图10是用图8和9所示磨料通过喷射加工处理的精细间隔壁显微照片。

图11是与图10放大倍数不同的显微照片。

实施本发明的最佳方式

现在，将根据附图中所示的实施例说明本发明，其中：

图1是按照本发明一个实施例所述的平面显示装置主要部分剖视图；

图2是示出形成图1所示平面显示装置间隔壁的工艺流程图；

图3A-3C是示出形成间隔壁工艺主要部分剖视图；

图4和5是在按照本发明一个例子所述的喷射加工中所用磨料在不同放大倍数下的显微照片；

图6和7是通过用图4和5所示的磨料喷射加工所加工的精细间隔壁在不同放大倍数下的显微照片；

图8和9是按照本发明另一个例子所述喷射加工中所用磨料在不同放大倍数下的显微照片；

图10和11是通过用图8和9所示磨料的喷射加工所加工的精细间隔壁在不同放大倍数下的显微照片。等离子体平面显示装置的总体结构

首先，根据图1，说明一种交流驱动型(AC型)等离子体平面显示装置的总体结构(以后在某些情况下简称为等离子体显示装置)。

在图1中所示的AC型等离子体平面显示装置2属于所谓的三电极型，并且放电是在一对持续放电电极12之间发生。AC型等离子体显示装置2包括一个第一面板10和一个第二面板20，上述第一面板10相当于一个前面板，而第二面板20相当于后面板，它们相互叠层。来自第二面板20上荧光粉层25R，25G，25B的光发射是例如通过第一面板10观察。也就是说，第一面板10是在显示表面侧上。

第一面板10包括：一个透明的第一基底11，多对放电持续电极12，这些对放电持续电极12以成条形图形的方式设置在第一基底11上并包括一种透明的导电材料；母线电极13，母线电极13供降低放电持续电极12的阻抗用并用一种其电阻率低于放电持续电极12电阻率的材料制成；一个介电层14，该介电层14设置在第一基底11上，包括母线电极13和放电持续电极12上的面积在内；和一个设置于其上的保护层15。附带地，保护层15可以不一定设置，但优选的是设置保护层15。

另一方面，第二面板20包括：一个第二基底21；多个地址电极(也叫做“数据电极”)22，这些地址电极22以成条纹图形的方式设置在第二基底21上；一个介电膜(图中略去)，该介电膜设置在第二基底21上，包括地址电极22上的面积在内；绝缘间隔壁24，该间隔壁24平行于在介电膜上的地址电极22延伸并延伸到相邻地址电极22之间的区域中；和若干荧光粉层，这些荧光粉层设置在范围从介电膜上的面积到间隔壁侧壁上面积的区域中。荧光粉层由红色荧光粉层25R，绿色荧光粉层25G，和蓝色荧光粉层25B组成。

图1是显示装置的局部部件分解透视图；实际上，在第二面板20这一侧上的间隔壁24顶部，与第一面板10这一侧上的保护层15接触。一对放电持续电极12与两个间隔壁24之间的地址电极22叠加的区域相当于一个放电管。放电气体密封在每个放电空间4中，该放电空间4被相邻的间隔壁24，荧光粉层25R，25G，25B，和保护层15包围。第一面板10和第二面板20与它们周边处的玻璃料玻璃相互接合。

密封在放电空间4中的放电气体未特别加以限制，并且一种惰性气体如氙(Xe)气，氖(Ne)气，氦(He)气，氩(Ar)气，氮(N₂)气等或一种这些惰性气体的混合气体都可以用。因此密封于其中的惰性气体压力未特别加以限制，并且可以是约6×10³-8×10⁴帕(Pa)。

放电持续电极12的投影图像在其中延伸方向和地址电极22的投影图象在其中延伸的方向大体上正交(然而，它们也可以不必正交)，并且一对放电持续电极12与一组用于发射三种基色光的荧光粉层25R，25G，和25B叠加的区域相当于一个像素。因为辉光放电在一对放电持续电极12之间发生，所以这种类型的等离子体显示装置叫做“平面放电型”。刚好在放电持续电极对12之间加一电压之前，面板电压低于例如放电管的放电开始电压到地址电极22上，因而在放电管(选择放电管用于显示)中积聚壁的电荷，并且表现放电开始电压降低。接下来，在放电持续电极对12之间开始的电压可以保持在一低于放电开始电压的电压处。在放电管中，通过用基于放电气体中辉光放电所产生的真空紫外幅射照射所激发的荧光粉层发射为荧光粉层材料种类所特有颜色的光。在这种情况下，产生具有按照密封于其中的放电气体种类的波长的真空紫外幅射。

按照本实施例所述的等离子体平面显示装置2是所谓的反射式等离子体显示装置，并且来自荧光粉层25R，25G，25B的光发射通过第一面板10观察。因此，构成电址电极22的导电材料可以是透明的或是不透明的，但另一方面，构成放电持续电极12的导电材料必需是透明的。这里术语“透明的”和“不透明的”是以用于为荧光粉层材料所特有的光发射波长(在可见区)的导电材料透光性能为基础。亦就是说，如果构成放电持续电极或地址电极的导电材料对荧光粉层发射的光是透明的，则可以把导电材料说成是透明的。

作为不透明的导电材料，可以使用象Ni，Al，Au，Ag，Al，Pd/Ag，Cr，Ta，Cu，Ba，LaB₆，Ca_0.2La_0.8CrO₃等这些材料，这些材料或是单独使用，或是经过适当的组合使用。透明导电材料的例子包括ITO(氧化铟锡)和SnO₂。放电持续电极12或地址电极22可以用溅射法，汽相淀积法，丝网印刷法，喷砂法，电镀法，以及提升法等形成。

放电持续电极12的宽度没有特别限制，并且可以是约200-400μm。此外，每对放电持续电极12之间的距离没有特别限制，并且优选的是约5-150μm。另外，地址电极22的宽度是例如约50-100μm。

母线电极13通常可以由一单层金属材料例如Ag，Au，Al，Ni，Cu，Mo，Cr等的金属膜，或Cr/Cu/Cr等的叠层膜组成。在反射式等离子体显示装置中，由这种金属材料形成的母线电极13可以减少在从荧光粉层发射之后穿过第一基底11透射的光量，因而可以使显示屏的亮度降低。因此，理想情况是在可以得到整个放电持续电极所需的电阻范围内，将母线电极13制成尽可能薄。具体地说，母线电极13的宽度小于放电持续电极12的宽度，并且为例如约30-20μm。母线电极13可以通过溅射法，汽相淀积法，丝网印刷法，喷砂法，电镀法，提升法等形成。

在放电持续电极12的表面上形成的介电层14优选的是以例如电子束淀积法，溅射法，汽相淀积法，丝网印刷法等为基础形成。通过提供介电层14，可以防止放电空间4中所产生的离子或电子与放电持续电极12直接接触。结果，可以消除放电持续电极12的磨损。介电层14具有聚积地址周期中产生的壁电荷的功能，作为约束过量放电电流的电阻器功能，及保持放电状态的存储器功能。介电层14通常可以用一低熔点玻璃形成，并且也可以用其它的介电材料制成。

在放电空间侧介电层14的表面上所形成的保护层15发挥防止离子或电子与放电持续电极之间直接接触的作用。结果，可以有效地防止放电持续电极12的磨损。此外，保护层15还具有释放放电所必需的二次电子的功能。用于制造保护层15的材料例子包括氧化镁(MgO)，氟化镁(MgF₂)，和氟化钙(CaF₂)。其中，氧化镁是一种优选的材料，氧化镁具有化学稳定性，低溅射因子，在荧光粉层的光发射波长处高透射比，及低放电开始电压等特有特点。附带地，保护层15可以具有至少由两种材料组成的叠层膜结构，这两种材料从包括上述材料组中选定。

构成第一基底11和第二基底21的材料例子包括一种高应变点玻璃，钠玻璃(Na₂O·CaO·SiO₂)硼桂酸盐玻璃(Na₂O·B₂O₃·SiO₂)，镁橄榄石(2MgO·SiO₂)，和铅玻璃(Na₂O·PbO·SiO₂)。构成第一基底11和第二基底21的材料可以彼此相同或彼此不同。

荧光粉层25R，25G，25B是例如由各种荧光粉层材料组成，这些荧光粉层材料从一组荧光粉层材料中选定，这组荧光粉层材料包括用于发射红光的荧光粉层材料，用于发射绿光的荧光粉层材料，及用于发射蓝光的荧光粉层材料组成，上述各种荧光粉层材料设置在地址电极22的上侧上。具体地说，例如，在等离子体显示装置预定用于彩色显示的地方，用发射红光的荧光粉层材料所形成的荧光粉层(红色荧光粉层25R)设置在一组地址电极22的上侧，用发射绿光的荧光粉层材料所形成的荧光粉层(绿色荧光粉层25G)设置在另一组地址电极22的上侧，和用发射蓝光的荧光粉层材料所形成的荧光粉层(蓝色荧光粉层25B)设置在又一组地址电极22的上侧上，并且这些构成一组的发射三基色光的荧光粉层按预定的顺序设置。如上所述，一对放电持续电极12与一组荧光粉层25R，25G，25B叠加用于发射三基色光的区域相当于一个像素。红色荧光粉层，绿色荧光粉层和蓝色荧光粉层可以按条纹图形或格式图形形成。

作为用于构成荧光粉层25R，25G，25B的荧光粉层材料，对真空紫外辐射具有高量子效率和小饱和度的那些荧光粉层材料可以适当地从通常已知的荧光粉层材料中选定并使用。在设想用彩色显示的地方，优选的是将其色纯度接近由NTSC(国家电视系统委员会)所规定的三基色的这些荧光粉层材料组合，当将三基色混合时，可以得以良好的白色平衡，余辉时间短，并且三基色的余辉时间基本上相等。

现在在下面列举一些荧光粉层材料的特殊例子。用于发射红光的荧光粉层材料的例子包括(Y₂O₃:Eu)，(YBO₃:Eu)，(YVO₄:Eu)，(Y_0.96P_0.60V_0.40O₄:Eu_0.04)，[(Y，Gd)BO₃:Eu]，(GdBO₃:Eu)，(ScBO₃:Eu)，和(3.5MgO·0.5MgF₂·GeO₂:Mn)。用于发射绿光的荧光粉层材料的例子包括(ZnSiO₂:Mn)，(BaAl₁₂O₁₉:Mn)，(BaMg₂Al₁₆O₂₇:Mn)，(MgGa₂O₄:Mn)，(YBO₃:Tb)，(LuBO₃:Tb)，和(Sr₄Si₃O₈Cl₄:Eu)。用于发射蓝光的荧光粉层材料的例子包括(Y₂SiO₅:Ce)，(CaWO₄:Pb)CaWO₄，YPO_0.85V_0.15O₄，(BaMgAl₁₄O₂₃:Eu)，(Sr₂P₂O₇:Eu)，和(Sr₂P₂O₇:Sn)。

用于形成荧光粉层25R，25G，25B的方法例子包括厚膜印刷法，喷涂荧光粉层材料粒子法，预先将一种粘性物质涂布到规定的荧光粉层形成区和然后将荧光粉层粒子粘附到粘性物质上的方法，用光敏荧光粉层浆料并通过曝光和显影使荧光粉层形成图形的方法，及在整个表面上形成荧光粉层和然后通过喷砂法除去不需要荧光粉层部分的方法。

附带地，荧光粉层25R，25G，25B可以直接在地址电极22上形成，或者可以在范围从地址电极22上面积到间隔壁24侧壁上面积的整个区域形成。或者，荧光粉层25R，25G，25B可以在设置于地址电极22上的介电膜上形成，或者可以在范围从设置于地址电极22上的介电膜上的面积到间隔壁24侧壁面积的区域形成。另外，荧光粉层25R，25G，25B可以只在间隔壁24的侧壁上形成。用于构成介电膜材料的例子包括低熔点玻璃和SiO₂。

在第二基底21上，设置了间隔壁24(肋条)，该间隔壁24如上所述平行于地址电极22延伸。附带地，间隔壁(肋条)24可以具有一个曲折的结构。在电介膜设置于第二基底21和地址电极22上的地方，间隔壁24可以在介电膜上形成。作为用于构成间隔壁24的材料，可以采用通常已知的绝缘材料。例如，可以用通过将一种金属氧化物如氧化铝混合到广泛使用的低熔点玻璃制备的材料。间隔壁24具有例如一不大于50μm，优选的是10-35μm的厚度，和一不大于300μm，优选的是100-200μm的高度。间隔壁24的间距是例如约50-400μm，优选的是不大于150μm。形成间隔壁24的方法将在后面说明。

在第二基底21上形成的一对间隔壁24，及占据被一对间隔壁24包围的区域的放电持续电极12和地址电极22与荧光粉层25R，25G，25B构成一个放电管。在每个这样的放电管内部，更具体地说，在被间隔壁包围的放电空间内部，密封一种由混合气体组成的放电气体。荧光粉层25R，25G，25B在用紫外辐射照射时发光，该紫外辐射以交流(AC)辉光放电为基础产生，上述AC辉光放电在放电空间4内部的放电气体中产生。生产等离子体显示装置的方法

下面，将说明生产按照本发明所述等离子体显示装置的方法。

第一面板10可以用如下方法生产。首先，在第一基底11上形成一个ITO层，上述第一基底11用高应变玻璃或钠玻璃通过例如溅射法制造，并将ITO层用摄影刻印技术和蚀刻技术成形为条纹形式，因而形成多对放电持续电极12。放电持续电极12朝第一方向上延伸。

接着，用例如汽相淀积法在第一基底的整个内表面上形成一个铝膜，并用摄影刻印法和蚀刻法使铝膜形成图形，因而母线电极13沿着每个放电持续电极12的边缘部分形成。此后，在具有母线电极13的第一基底11整个内表面上形成一个SiO₂制的介电层14，并通过电子束汽相淀积法在介电层14上形成一个具有厚度为0.6μm的由氧化镁(MgO)制的保护层15。通过这些步骤，第一面板10可以完成。

第二面板20用如下方法生产。首先，在一第二基底21上形成一个铝膜，上述第二基底21用高应变玻璃或钠玻璃通过例如汽相淀积法制造，并且铝膜用摄影刻印技法技术和蚀刻技术形成图形，因而形成地址电极22。地址电极22朝与第一方向正交的第二方向上延伸。接着，用丝网印刷法在整个表面上形成一个低熔点玻璃浆料层，并将低熔点玻璃浆料层烘烤，以便由此形成一个介电膜。

此后，用如下方法在相邻地址电极22之间每个区域的上侧上的介电膜上各形成一个呈细条纹图形的间隔壁24。

首先，在图2所示步骤S1中，用例如丝网印刷法或各种涂覆器法其中一种将低熔点玻璃浆料涂覆一预定的厚度，以便在第二基底21的表面上形成一个间隔壁层24a，如图3A所示。在这种情况下，构成用于形成间隔壁层24a的低熔点玻璃浆料的各种玻璃料粒子直径设置到不大于待得到的间隔壁宽度W1的1/5倍，如图3C所示。

接着，在图2所示的步骤S2中，将具有间隔壁材料24a的第二基底21令其自然直立(固化)数分钟，然后在烘炉中烘干以便蒸去间隔壁层24a中所含的溶剂成分。烘干之后间隔壁层24a的厚度不大于300μm。附带地，在图3A-3C中，图1所示的地址电极22及类似物略去。

接着，在图2所示的步骤S3中，将一光敏性干膜抗蚀剂膜30用一层压机或类似装置层压在烘干之后处于温热状态的间隔壁24a表面上，如图3A所示。抗蚀剂膜30的厚度T1不大于待得到的间隔壁24的宽度W1 1.2倍(见图3C)。光敏性抗蚀剂膜30例如具有一种层压结构，其中光敏性浆料层夹在PET膜之间。

在图2所示的步骤S4中，抗蚀剂膜30通过一个成形为预定形状的光掩膜进行曝光。接着，在图2所示的步骤S5中，将已按预定形状的图形曝光的第二基底21用一种水基溶液显影，以便除去未曝光区的抗蚀剂膜，因而得到预定间隔壁形状的抗蚀剂膜图形。这种状态在图3B中示出。

此后，在图2所示的步骤S6中，用喷砂法(一种喷射加工法)喷射磨料，以便磨光已除去抗蚀剂膜30的区域中间隔壁层24a，以便由此形成预定图形的间隔壁24。这种状态在图3C中示出。

作为本实施例的磨料，采用了由一种在其表面上涂覆有硅酮的碳酸钙粉构成的磨料。在本实施例中，如图4和5或图8和9所示，构成磨料的每种粒子都具有一种三维形状，该三维形状由不同尺寸的四角或多角的多边形层组成。此外，磨料的最大粒径不大于间隔壁24宽度W1的1/2倍，并且磨料的平均粒径不大于间隔壁24宽度W1的1/5倍。此外，磨料的最大粒径不大于10μm。

此后，在图2所示的步骤S7中，未用喷砂法除去的抗蚀剂膜30用水基氢氧化钠溶液，碳酸钠溶液等或一种抗蚀剂膜专用的脱膜溶液进行脱膜。

然后，在一预定的温度下进行烘烤，通过这样按所希望的精细图形形成间隔壁24。在这种情况下烘烤(间隔壁烘烤阶段)是在空气中于约560℃温度下进行10分钟的时间。

附带地，通过使间隔壁24变黑，可以形成所谓的黑矩阵，并可以设法增加显示屏的对比度。使间隔壁24变黑的方法其中一些例子包括一种其中使低熔点玻璃浆料与黑颜料混合形成间隔壁的方法。

接着，在第二基底21上形成的间隔壁24之间，按顺序印刷用于三基色的荧光粉层浆料。此后，在烘炉中烘烤第二基底21，以便在范围从间隔壁24之间介电膜上区域到间隔壁24的侧壁上区域的区域中形成荧光粉层25R，25G，25B。在这种情况下的烘烤(荧光体烘烤步骤)是在空气中于510℃下进行。烘烤时间约为10分钟。

接着，装配等离子体显示装置。亦就是说，首先，用例如丝网印刷法在第二面板20的周边部分上形成一个密封层。接着，如图1所示，使第一面板10和第二面板20彼此粘合于其上，接着烘烤以使密封层硬化。此后，将第一面板10和第二面板20之间形成的空间抽真空，然后将放电气体充满该空间，并将空间密封，因而平面等离子体显示装置2完成。

现在将说明如上述制造的等离子体显示装置的AC辉光放电操作的一个例子。首先，例如，在一个短时间内在一侧的所有放电持续电极12上加一高于放电开始电压的面板电压Vbd。到这时，产生辉光放电，由于在一侧放电持续电极12附近的介电层14表面上介电极化而产生壁电荷，并且壁电荷积聚，结果使表观放电开始电压降低。此后，当电压加到地址电极22上时，一个电压加到一侧的放电持续电极12上，在该侧上装入非显示放电管，因而在一侧地址电极22和放电持续电极12之间产生辉光放电，并消除了积聚的壁电荷。消除放电对每个地址电极22按顺序进行。另一方面，没有电压加到在一侧装在放电管的放电持续电极上。通过这样的方式，保持壁电荷的积聚。此后，在每对放电持续电极12之间加一预定的脉冲电压，因而每对放电持续电极12间在每个放电管内开始辉光放电，在上述每个放电中壁电荷都已积聚；在放电管中，通过用真空紫外射线照射所激发的荧光粉层发生这种荧光粉层材料所特有颜色的光线，上述真空紫外射线是基于放电空间内部放电气体中的辉光放电产生。附带地，分别加在一侧放电持续电极上和另一侧放电持续电极上的放电持续电压的相位相互错开半个周期，并且电极的极性按照AC的频率反转。

按照形成间隔壁24的方法及生产按照本实施例所述平面显示装置2的方法，显示出下列作用或效果。

亦就是说，因为采用一种其表面涂覆有硅酮的碳酸钙构成的磨料作为用来形成间隔壁24的磨料。因为磨料防水性和流动性极好，所以在形成预定精细图形的间隔壁24时，可以有效地防止磨料粘附到间隔壁24上或粘附到槽的内部并能很干净地除去。

此外，在本实施例中，因为构成磨料的每个粒子都具有三维形状，该三维形状包括许多不同尺寸的三角形或多角形多面体层，所以即使将平均粒径调刻很小，也能以良好的研磨效率和用良好的精度形成精细图形的间隔壁24。

而且，通过调节磨料的最大粒径为不大于间隔壁24宽度W1的1/2倍，和调节磨料的平均粒径为不大于间隔壁24宽度W1的1/5倍，可以加工具有精细间距和精细宽度的间隔壁24，而不损坏该间隔壁24的形状。尤其是，通过调节磨料的最大粒径为不大于10μm，可以加工具有精细间距和精细宽度的间隔壁24，而不损坏该间隔壁24的形状。

用按照本实施例所述方法形成的精细间隔壁24的间距P1没有特别限制，并可以不大于150μm。此外，间隔壁24的宽度W1可以不大于50μm，而间隔壁24的高度H1可以不大于300μm。

此外，在本实施例中，用于形成间隔壁24的抗蚀剂膜30的厚度调节到不大于间隔壁宽度W1的1.2倍。因此，可以形成一种没有剥落，塌陷或波纹的精细宽度图形，可以保证抗蚀剂膜30和由低熔点玻璃浆料制成的间隔壁层24a之间的粘合，并有利于形成具有精细间距和精细宽度的间隔壁24。

而且，因为构成用于形成间隔壁24的低熔点玻璃浆料的各种玻璃料粒径被调节到不大于间隔壁24宽度W1的1/5倍，所以能够形成精细和形状稳定的间隔壁24。其它实施例

本发明不限于上述实施例，在本发明的范围内可以进行各种改变。

例如，在本发明中，等离子体显示装置的特定结构不限于图1所示的实施例，并且可以是其它的结构。例如，尽管在图1所示实施例中作为一个例子示出了所谓的三电极式等离子显示装置，但按照本发明所述的等离子体显示装置可以是所谓的两电极式等离子体显示装置。在这种情况下，每对放电持续电极的其中之一在第一基底上形成，而另一个在第二基底上形成。此外，在一侧的放电持续电极的投影图像朝第一方向上延伸，而在另一侧的放电持续电极的投影图像朝不同于第一方向的第二方向上延伸(优选的是，第二方向基本上与第一方向正交)，并且每对放电持续电极相对地安装成彼此面对。它足以说明，在两电极式等离子体显示装置情况下，把上面实施例说明中的“地址电极”看作是另一侧上的“放电持续电极”。

此外，尽管按照上述实施例所述的等离子体显示装置是所谓反射式等离子体显示装置，其中第一面板10是在显示面板侧上，但按照本发明所述的等离子体显示装置可以是一种所谓透射式等离子显示装置。然而，在透射式等离子体显示装置中，来自荧光粉层的光发射穿过第二面板观察，因此设置在第二基底21上的地址电极22必需是透明的，不过构成放电持续电极的导电材料可以是透明的或是不透明的。

此外，按照本发明所述形成精细间隔壁的方法也可以应用于形成构造与如上述构造的等离子体显示装置不同的平面显示装置中所用精细间隔壁的情况。在那种情况下，精细间隔壁的图形不限于条纹形，并且可以是其它各种形状的任一种如矩形波形，格栅形，波纹形等。

现在，将根据更具体的例子说明本发明，但本发明不限于这些例子。

例1

首先，将具有平均粒径不大于4μm的低熔点玻璃浆料实地印刷在用高应变点玻璃或钠玻璃制的第二基底21上，以便用丝网印刷法得到一预定的高度，形成如图3A所示的间隔壁层24a。

接着，让第二基底21自然直立(固化)5分钟，然后在120℃下烘干以除去浆料中存在的溶剂成分。此后，将基底在80℃下保温。

随后，将一具有厚度为20μm的光敏性干膜抗蚀剂膜30用一层压机层压在间隔壁层24a的表面上。

接着，用一成形为90μm间距和20μm间隔壁宽度的负型光掩膜将抗蚀剂膜30进行曝光。

随后，如图3B所示，用0.2％的碳酸钠水溶液对其上具有已曝光成预定形状的抗蚀剂膜的基底21进行显影，以便形成一种预定的间隔壁图形。

接着，用一种磨料(Misaki SHE-1；在图4和5中示出)通过喷砂技术进行喷射加工，上述磨料由具有平均粒径为3μm并且其表面上涂覆有硅酮的碳酸钙组成，以便形成如图3C所示精细条纹图形的间隔壁24。

随后，用2.5％的氢氧化钠水溶液剥离剩余的抗蚀剂膜30。

照这样，得到具有90μm间距，20μm宽度，和187μm高度(烘烤前)的精细间隔壁，如图6和7所示。

例2

按与例1相同的方式形成精细间隔壁，不过利用具有厚度为16μm的光敏性干膜抗蚀剂膜30，抗蚀剂膜30的曝光用成型为间距78μm和间隔壁宽度20μm的负型掩膜进行，和喷射加工用一种磨料(Misaki#RC-1)进行，该磨料由其表面涂覆有硅酮的碳酸钙组成，如图8和9所示。

结果，得到具有78μm间距，20μm宽度，和178μm高度(烘烤前)的精细间隔壁，如图10和11所示。

Claims (16)

1.一种形成精细间隔壁的方法，其中精细间隔壁是通过用磨料的喷射加工法在一基底上形成，上述磨料由其表面上涂覆有硅酮(silicone)的碳酸钙粉组成。

2.如权利要求1所述形成精细间隔壁的方法，其中构成上述磨料的每个粒子都具有一三维形状，该三维形状包括许多不同尺寸的三角形或多角形多面体层。

3.如权利要求1或2所述形成精细间隔壁的方法，其中上述磨料的最大粒径不大于上述精细间隔壁宽度的1/2倍，和上述磨料的平均粒径不大于上述精细间隔壁宽度的1/5倍。

4.如权利要求3所述形成精细间隔壁的方法，其中上述磨料的最大粒径不大于10μm。

5.如权利要求1-4其中之一所述的形成精细间隔壁的方法，其中上述精细间隔壁的间距不大于150μm，上述精细间隔壁的宽度不大于50μm，和上述精细间隔壁的高度不大于300μm。

6.如权利要求1-5其中之一所述形成精细间隔壁的方法，其中用于按预定图形形成上述精细间隔壁的抗蚀剂层厚度不大于上述精细间隔壁宽度的1.2倍。

7.如权利要求1-6其中之一所述形成精细间隔壁的方法，其中构成用于形成上述精细间隔壁的低熔点玻璃浆料的各种玻璃料的粒径不大于上述精细间隔壁宽度的1/5倍。

8.一种生产平面显示装置的方法，该显示装置包括第一面板和第二面板，在上述第一和第二面板之间形成放电空间，其中

用于将上述放电空间间隔开的间隔壁是通过用磨料的喷射加工法在构成上述第二面板的第二基底表面上形成，上述磨料由一种其表面上涂覆有硅酮的碳酸钙粉组成。

9.如权利要求8所述生产平面显示装置的方法，其中构成上述磨料的每个粒子都具有一个三维形状，该三维形状包括许多不同尺寸的三角形或多角形多面体层。

10.如权利要求8或9所述生产平面显示装置的方法，其中上述磨料的最大粒径不大于上述精细间隔壁宽度的1/2倍，及上述磨料的平均粒径不大于上述精细间隔壁宽度的1/5倍。

11.如权利要求10所述生产平面显示装置的方法，其中上述磨料的最大粒径不大于10μm。

12.如权利要求8-11其中之一所述生产平面显示装置的方法，其中上述精细间隔壁的间距不大于150μm，上述精细间隔壁的宽度不大于50μm，及上述精细间隔壁的高度不大于300μm。

13.如权利要求8-12其中之一所述生产平面显示装置的方法，其中用于按预定图形形成上述精细间隔壁的抗蚀剂层厚度不大于上述精细间隔壁宽度的1.2倍。

14.如权利要求8-13其中之一所述生产平面显示装置的方法，其中构成用于形成上述精细间隔壁的低熔点玻璃浆料的各种玻璃料的粒径不大于上述精细间隔壁宽度的1/5倍。

15.用于喷射加工的磨料，由在其表面上涂覆有硅酮的碳酸钙粉组成，其中构成上述磨料的每个粒子都具有一三维形状，该三维形状包括许多不同尺寸的三角形或多角形多面体层。

16.如权利要求15所述用于喷射加工的磨料，其中上述磨料的最大粒径不大于10μm。

Images