JP2001167697A - プラズマディスプレイパネルのリブ形成方法 - Google Patents
プラズマディスプレイパネルのリブ形成方法Info
- Publication number
- JP2001167697A JP2001167697A JP35095199A JP35095199A JP2001167697A JP 2001167697 A JP2001167697 A JP 2001167697A JP 35095199 A JP35095199 A JP 35095199A JP 35095199 A JP35095199 A JP 35095199A JP 2001167697 A JP2001167697 A JP 2001167697A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rib
- abrasive
- rib material
- forming
- material layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/10—Greenhouse gas [GHG] capture, material saving, heat recovery or other energy efficient measures, e.g. motor control, characterised by manufacturing processes, e.g. for rolling metal or metal working
Landscapes
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 プラズマディスプレイパネルのリブをサンド
ブラスト加工法で形成するに際し、リブ材料の研削粉末
を安定的に再利用できるようにする。 【解決手段】 プラズマディスプレイパネルのリブ３を
サンドブラスト法により形成するに際し、サンドブラス
ト加工の研削材にリブ材料の構成成分を用い、サンドブ
ラスト加工時に生じる研削材粒子とリブ材料の研削粉末
との混合粉体を分級することにより当該混合粉体から研
削材粒子を除去した後、過不足分の成分を調整してリブ
材料層を形成するリブペーストに再利用する。両者が完
全に分離されていなくても、研削材混入物の影響が小さ
いことから、リブ材料の研削粉末を安定的に再利用する
ことができる。
ブラスト加工法で形成するに際し、リブ材料の研削粉末
を安定的に再利用できるようにする。 【解決手段】 プラズマディスプレイパネルのリブ３を
サンドブラスト法により形成するに際し、サンドブラス
ト加工の研削材にリブ材料の構成成分を用い、サンドブ
ラスト加工時に生じる研削材粒子とリブ材料の研削粉末
との混合粉体を分級することにより当該混合粉体から研
削材粒子を除去した後、過不足分の成分を調整してリブ
材料層を形成するリブペーストに再利用する。両者が完
全に分離されていなくても、研削材混入物の影響が小さ
いことから、リブ材料の研削粉末を安定的に再利用する
ことができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネル（以下、ＰＤＰと記す）の製造工程に関する
ものであり、詳しくはＰＤＰの放電空間を構成するリブ
をサンドブラスト加工法により形成する技術分野に属す
る。
レイパネル（以下、ＰＤＰと記す）の製造工程に関する
ものであり、詳しくはＰＤＰの放電空間を構成するリブ
をサンドブラスト加工法により形成する技術分野に属す
る。
【０００２】
【従来の技術】一般にＰＤＰは、２枚の対向するガラス
基板にそれぞれ規則的に配列した一対の電極を設け、そ
の間にＮｅ，Ｘｅ等を主体とするガスを封入した構造に
なっている。そして、これらの電極間に電圧を印加し、
電極周辺の微小なセル内で放電を発生させることによ
り、各セルを発光させて表示を行うようにしている。情
報表示をするためには、規則的に並んだセルを選択的に
放電発光させる。このＰＤＰには、電極が放電空間に露
出している直流型（ＤＣ型）と絶縁層で覆われている交
流型（ＡＣ型）の２タイプがあり、双方とも表示機能や
駆動方法の違いによって、さらにリフレッシュ駆動方式
とメモリー駆動方式とに分類される。
基板にそれぞれ規則的に配列した一対の電極を設け、そ
の間にＮｅ，Ｘｅ等を主体とするガスを封入した構造に
なっている。そして、これらの電極間に電圧を印加し、
電極周辺の微小なセル内で放電を発生させることによ
り、各セルを発光させて表示を行うようにしている。情
報表示をするためには、規則的に並んだセルを選択的に
放電発光させる。このＰＤＰには、電極が放電空間に露
出している直流型（ＤＣ型）と絶縁層で覆われている交
流型（ＡＣ型）の２タイプがあり、双方とも表示機能や
駆動方法の違いによって、さらにリフレッシュ駆動方式
とメモリー駆動方式とに分類される。
【０００３】図１にＡＣ型ＰＤＰの一構成例を示す。こ
の図は前面板と背面板を離した状態で示したもので、図
示のように２枚のガラス基板１，２が互いに平行に且つ
対向して配設されており、両者は背面板となるガラス基
板２上に互いに平行に設けられたリブ３により一定の間
隔に保持されるようになっている。前面板となるガラス
基板１の背面側には透明電極である維持電極４と金属電
極であるバス電極５とで構成される複合電極が互いに平
行に形成され、これを覆って誘電体層６が形成されてお
り、さらにその上に保護層７（ＭｇＯ層）が形成されて
いる。また、背面板となるガラス基板２の前面側には前
記複合電極と直交するようにリブ３の間に位置してアド
レス電極８が互いに平行に形成されており、これを覆っ
て誘電体層９が形成され、さらにリブ３の壁面とセル底
面を覆うようにして蛍光体層１０が設けられている。こ
のＡＣ型ＰＤＰは面放電型であって、前面板上の複合電
極間に交流電圧を印加し、放電させる構造である。そし
てこの放電により生じる紫外線により蛍光体層１０を発
光させ、前面板を透過する光を観察者が視認するように
なっている。
の図は前面板と背面板を離した状態で示したもので、図
示のように２枚のガラス基板１，２が互いに平行に且つ
対向して配設されており、両者は背面板となるガラス基
板２上に互いに平行に設けられたリブ３により一定の間
隔に保持されるようになっている。前面板となるガラス
基板１の背面側には透明電極である維持電極４と金属電
極であるバス電極５とで構成される複合電極が互いに平
行に形成され、これを覆って誘電体層６が形成されてお
り、さらにその上に保護層７（ＭｇＯ層）が形成されて
いる。また、背面板となるガラス基板２の前面側には前
記複合電極と直交するようにリブ３の間に位置してアド
レス電極８が互いに平行に形成されており、これを覆っ
て誘電体層９が形成され、さらにリブ３の壁面とセル底
面を覆うようにして蛍光体層１０が設けられている。こ
のＡＣ型ＰＤＰは面放電型であって、前面板上の複合電
極間に交流電圧を印加し、放電させる構造である。そし
てこの放電により生じる紫外線により蛍光体層１０を発
光させ、前面板を透過する光を観察者が視認するように
なっている。
【０００４】このようなＰＤＰにおける背面板上のリブ
は、従来はスクリーン印刷による重ね刷りで形成されて
いたが、最近では精度の点から所謂サンドブラスト法に
より形成されることが多くなっている。このサンドブラ
スト法でリブを形成する場合、低融点ガラスフリット、
耐火物フィラーなどの無機粉体を主成分又は成分とし、
これに適当なバインダー樹脂及び溶剤を添加してなるリ
ブペーストを基板上に塗布して乾燥させることでリブ材
料層を形成し、その上に耐サンドブラスト性の有る感光
性樹脂組成物層を設けた後、フォトリソグラフィー法で
セル画定用マスクにパターニングし、そのサンドブラス
ト用マスクを介してサンドブラスト加工を行い、マスク
を剥離除去してから焼成する手順が採られているが、そ
のサンドブラスト加工における研削材として、ガラスビ
ーズ、ＳｉＣ、ＳｉＯ2 、Ａｌ2Ｏ3 、ＺｒＯ2 等の無
機粉体が使用されている。
は、従来はスクリーン印刷による重ね刷りで形成されて
いたが、最近では精度の点から所謂サンドブラスト法に
より形成されることが多くなっている。このサンドブラ
スト法でリブを形成する場合、低融点ガラスフリット、
耐火物フィラーなどの無機粉体を主成分又は成分とし、
これに適当なバインダー樹脂及び溶剤を添加してなるリ
ブペーストを基板上に塗布して乾燥させることでリブ材
料層を形成し、その上に耐サンドブラスト性の有る感光
性樹脂組成物層を設けた後、フォトリソグラフィー法で
セル画定用マスクにパターニングし、そのサンドブラス
ト用マスクを介してサンドブラスト加工を行い、マスク
を剥離除去してから焼成する手順が採られているが、そ
のサンドブラスト加工における研削材として、ガラスビ
ーズ、ＳｉＣ、ＳｉＯ2 、Ａｌ2Ｏ3 、ＺｒＯ2 等の無
機粉体が使用されている。
【０００５】上記したサンドブラスト法によるリブ形成
では、サンドブラスト加工時に研削材粒子とリブ材料の
研削粉末が混ざった混合粉体が大量に発生する。この混
合粉体をサンドブラスト廃材としてそのまま廃棄する
と、環境上及びコスト面で大きな問題となる。そこで、
ブラスト装置にサイクロン式の分級装置を付設してお
き、この分級装置で両者を分離して研削材及びリブ材料
の再利用を図ることが行われている。
では、サンドブラスト加工時に研削材粒子とリブ材料の
研削粉末が混ざった混合粉体が大量に発生する。この混
合粉体をサンドブラスト廃材としてそのまま廃棄する
と、環境上及びコスト面で大きな問題となる。そこで、
ブラスト装置にサイクロン式の分級装置を付設してお
き、この分級装置で両者を分離して研削材及びリブ材料
の再利用を図ることが行われている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記したように、サン
ドブラスト加工時に生じる混合粉体中の研削材とリブ材
料の研削粉末とを分離し、両者を再利用する場合、研削
材の方はリブ材料が少し混ざっていても問題は少ない
が、リブ材料についてはリブの組成が変わるので研削材
の混入はなるべく防ぎたいという事情がある。すなわ
ち、リブ材料を再ペースト化する上でもっとも気をつか
うのは、元のペーストに含まれない無機成分の混入であ
る。粒径がリブフリットと差が大きいものについては分
級により取り除かれるが、粒径が近ければほぼ不可能で
ある。特に研削材として使用する無機粉体は使用してい
くうちに破砕され、粒径がリブフリット並になったもの
が多くなる。このような無機成分を取り除けない場合、
無機粉体の特性が大きく変わってしまう恐れがある。特
に熱的特性（軟化点）が変動すると、リブの焼成条件を
変更させたり、最悪の場合は焼けなくなる可能性もあ
る。しかし現実として或る程度の混入は避けられない。
ドブラスト加工時に生じる混合粉体中の研削材とリブ材
料の研削粉末とを分離し、両者を再利用する場合、研削
材の方はリブ材料が少し混ざっていても問題は少ない
が、リブ材料についてはリブの組成が変わるので研削材
の混入はなるべく防ぎたいという事情がある。すなわ
ち、リブ材料を再ペースト化する上でもっとも気をつか
うのは、元のペーストに含まれない無機成分の混入であ
る。粒径がリブフリットと差が大きいものについては分
級により取り除かれるが、粒径が近ければほぼ不可能で
ある。特に研削材として使用する無機粉体は使用してい
くうちに破砕され、粒径がリブフリット並になったもの
が多くなる。このような無機成分を取り除けない場合、
無機粉体の特性が大きく変わってしまう恐れがある。特
に熱的特性（軟化点）が変動すると、リブの焼成条件を
変更させたり、最悪の場合は焼けなくなる可能性もあ
る。しかし現実として或る程度の混入は避けられない。
【０００７】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであり、その目的とするところは、サンドブラス
ト法によりＰＤＰのリブを形成するに際し、リブ材料の
研削粉末を安定的に再利用できるようにしたＰＤＰのリ
ブ形成方法を提供することにある。
たものであり、その目的とするところは、サンドブラス
ト法によりＰＤＰのリブを形成するに際し、リブ材料の
研削粉末を安定的に再利用できるようにしたＰＤＰのリ
ブ形成方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明は、基板上にリブペーストを塗布してリブ材
料層を形成し、その上に耐サンドブラスト用マスクをパ
ターン状に形成した後、そのマスクの上方から研削材を
噴射するサンドブラスト加工によりリブ材料層の不要部
分を除去し、耐サンドブラスト用マスクを除去してか
ら、焼成工程を経て所望パターンのリブを形成する工程
からなるＰＤＰのリブ形成方法において、サンドブラス
ト加工の研削材にリブ材料の構成成分を用い、サンドブ
ラスト加工時に生じる研削材粒子とリブ材料の研削粉末
との混合粉体を分級することにより当該混合粉体から研
削材粒子を除去した後、過不足分の成分を調整してリブ
材料層を形成するリブペーストに再利用するようにした
ものである。
め、本発明は、基板上にリブペーストを塗布してリブ材
料層を形成し、その上に耐サンドブラスト用マスクをパ
ターン状に形成した後、そのマスクの上方から研削材を
噴射するサンドブラスト加工によりリブ材料層の不要部
分を除去し、耐サンドブラスト用マスクを除去してか
ら、焼成工程を経て所望パターンのリブを形成する工程
からなるＰＤＰのリブ形成方法において、サンドブラス
ト加工の研削材にリブ材料の構成成分を用い、サンドブ
ラスト加工時に生じる研削材粒子とリブ材料の研削粉末
との混合粉体を分級することにより当該混合粉体から研
削材粒子を除去した後、過不足分の成分を調整してリブ
材料層を形成するリブペーストに再利用するようにした
ものである。
【０００９】
【発明の実施の形態】ＰＤＰのリブ材料は、無機成分と
有機成分とで構成され、そのうち無機成分はガラスフリ
ット、フィラー、顔料等からなり、有機成分は樹脂、溶
剤、その他からなる。
有機成分とで構成され、そのうち無機成分はガラスフリ
ット、フィラー、顔料等からなり、有機成分は樹脂、溶
剤、その他からなる。
【００１０】ガラスフリットとしては、その軟化点が３
５０℃〜６５０℃で、熱膨張係数α 300 が６０×１０-7
／℃〜１００×１０-7／℃のものが使用される。ガラス
フリットの軟化点が６５０℃を越えると焼成温度を高く
する必要があり、その積層対象によっては熱変形したり
するので好ましくなく、また３５０℃より低いと樹脂等
が分解、揮発する前にガラスフリットが融着し、層中に
空気等が発生するので好ましくない。また、熱膨張係数
α300 が６０×１０-7／℃〜１００×１０-7／℃の範囲
外であると、ガラス基板の熱膨張係数との差が大きく、
歪み等を生じるので好ましくない。
５０℃〜６５０℃で、熱膨張係数α 300 が６０×１０-7
／℃〜１００×１０-7／℃のものが使用される。ガラス
フリットの軟化点が６５０℃を越えると焼成温度を高く
する必要があり、その積層対象によっては熱変形したり
するので好ましくなく、また３５０℃より低いと樹脂等
が分解、揮発する前にガラスフリットが融着し、層中に
空気等が発生するので好ましくない。また、熱膨張係数
α300 が６０×１０-7／℃〜１００×１０-7／℃の範囲
外であると、ガラス基板の熱膨張係数との差が大きく、
歪み等を生じるので好ましくない。
【００１１】フィラーは、焼成に際しての流延防止、緻
密性向上を目的として混合するものであり、ガラスフリ
ットより軟化点が高いものを使用する。例えば、酸化ア
ルミニウム、酸化硼素、シリカ、酸化チタン、酸化マグ
ネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化
バリウム、炭酸カルシウム、ジルコニア等の各種の無機
粉体が使用でき、平均粒径０．１μｍ〜２０μｍのもの
が例示される。
密性向上を目的として混合するものであり、ガラスフリ
ットより軟化点が高いものを使用する。例えば、酸化ア
ルミニウム、酸化硼素、シリカ、酸化チタン、酸化マグ
ネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化
バリウム、炭酸カルシウム、ジルコニア等の各種の無機
粉体が使用でき、平均粒径０．１μｍ〜２０μｍのもの
が例示される。
【００１２】顔料はリブを着色するために用いられる。
ただし、上述のフィラーの役割も同時に果たすケースが
多い。リブを暗色にする場合に用いられる耐火性の黒色
顔料として、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｍｎ−Ｆｅ、Ｃ
ｏ−Ｆｅ−Ｍｎ−Ａｌ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ−Ｆｅ、Ｃｏ
−Ｎｉ−Ｍｎ−Ｃｒ−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ａｌ−Ｃｒ−
Ｆｅ、Ｃｏ−Ｍｎ−Ａｌ−Ｃｒ−Ｆｅ−Ｓｉ等が挙げら
れる。また、リブを白色にする場合に用いられる耐火性
の白色顔料として、酸化チタン、酸化アルミニウム、シ
リカ、炭酸カルシウム等が挙げられる。
ただし、上述のフィラーの役割も同時に果たすケースが
多い。リブを暗色にする場合に用いられる耐火性の黒色
顔料として、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｍｎ−Ｆｅ、Ｃ
ｏ−Ｆｅ−Ｍｎ−Ａｌ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ−Ｆｅ、Ｃｏ
−Ｎｉ−Ｍｎ−Ｃｒ−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ａｌ−Ｃｒ−
Ｆｅ、Ｃｏ−Ｍｎ−Ａｌ−Ｃｒ−Ｆｅ−Ｓｉ等が挙げら
れる。また、リブを白色にする場合に用いられる耐火性
の白色顔料として、酸化チタン、酸化アルミニウム、シ
リカ、炭酸カルシウム等が挙げられる。
【００１３】本発明では、サンドブラスト加工の研削材
として、リブ材料の構成成分の中で焼成により軟化しな
い無機粉体であって、しかも研削材として機能するもの
を使用する。具体的には、上記したガラスフリット、フ
ィラー、顔料の中から好適なものが選択され、平均粒径
１０〜１５μｍのものが使用される。
として、リブ材料の構成成分の中で焼成により軟化しな
い無機粉体であって、しかも研削材として機能するもの
を使用する。具体的には、上記したガラスフリット、フ
ィラー、顔料の中から好適なものが選択され、平均粒径
１０〜１５μｍのものが使用される。
【００１４】ガラスフリットはいずれも研削材として使
用できる。中でも、特に環境問題を重視すると、無鉛系
ガラスフリットが好適である。この無鉛系ガラスフリッ
トを構成する成分としては、ＳｉＯ2 、Ｂ2 Ｏ3 、Ｚｎ
Ｏ、ＣａＯ、ＢａＯ、Ｂｉ2Ｏ3 が一般的である。
用できる。中でも、特に環境問題を重視すると、無鉛系
ガラスフリットが好適である。この無鉛系ガラスフリッ
トを構成する成分としては、ＳｉＯ2 、Ｂ2 Ｏ3 、Ｚｎ
Ｏ、ＣａＯ、ＢａＯ、Ｂｉ2Ｏ3 が一般的である。
【００１５】フィラーとして一般的に用いられているの
はアルミナとジルコニアであり、これらはいずれも研削
材として利用される。現在、パネルの輝度向上が要求さ
れており、リブを白色とする傾向があるが、アルミナと
ジルコニアはいずれも白色があるので好都合である。
はアルミナとジルコニアであり、これらはいずれも研削
材として利用される。現在、パネルの輝度向上が要求さ
れており、リブを白色とする傾向があるが、アルミナと
ジルコニアはいずれも白色があるので好都合である。
【００１６】顔料としては酸化チタンが研削材に利用で
きる。また、酸化チタンは白色であるので、アルミナや
ジルコニアと同様、リブを白色としてパネルの輝度向上
を図る上にもよい。
きる。また、酸化チタンは白色であるので、アルミナや
ジルコニアと同様、リブを白色としてパネルの輝度向上
を図る上にもよい。
【００１７】サンドブラスト法によりＰＤＰのリブを形
成するには通常の方法が採用される。まず、基板上にリ
ブペーストを塗布して乾燥させることでリブ材料層を形
成し、その上に耐サンドブラスト性を有する感光性樹脂
組成物層を設けた後、フォトマスクを介して活性光線を
選択的に照射し、続けて現像することでサンドブラスト
用のマスクパターンを形成した後、そのサンドブラスト
用マスクの露出部分のリブ材料層を研削材で研削する。
この場合、通常のサンドブラスト法の場合と同様、好ま
しくは噴射圧力１．０〜３．０ｋｇ／ｃｍ2 、噴射量５
〜１００ｇ／ｍｉｎで噴射することによりサンドブラス
ト加工を行う。
成するには通常の方法が採用される。まず、基板上にリ
ブペーストを塗布して乾燥させることでリブ材料層を形
成し、その上に耐サンドブラスト性を有する感光性樹脂
組成物層を設けた後、フォトマスクを介して活性光線を
選択的に照射し、続けて現像することでサンドブラスト
用のマスクパターンを形成した後、そのサンドブラスト
用マスクの露出部分のリブ材料層を研削材で研削する。
この場合、通常のサンドブラスト法の場合と同様、好ま
しくは噴射圧力１．０〜３．０ｋｇ／ｃｍ2 、噴射量５
〜１００ｇ／ｍｉｎで噴射することによりサンドブラス
ト加工を行う。
【００１８】リブ材料層を形成するためのリブペースト
を製造するには、まずガラスフリット、フィラー、顔料
などを混合した無機粉体をボールミルで粉砕してそれら
の粒度を調整する。次いで、粉砕した無機粉体を篩分け
にかけて大サイズのものを除去し、乾燥させることでフ
リットを完成し、このフリットにバインダー樹脂と溶剤
を加えてインキ化することでペーストとする。そして、
前述のように、このリブペーストを基板上に塗布して乾
燥させることによりリブ材料層を形成し、その上にサン
ドブラスト用マスクを重ねて形成した後、研削材を噴射
ノズルから噴射させてサンドブラスト加工を行う。
を製造するには、まずガラスフリット、フィラー、顔料
などを混合した無機粉体をボールミルで粉砕してそれら
の粒度を調整する。次いで、粉砕した無機粉体を篩分け
にかけて大サイズのものを除去し、乾燥させることでフ
リットを完成し、このフリットにバインダー樹脂と溶剤
を加えてインキ化することでペーストとする。そして、
前述のように、このリブペーストを基板上に塗布して乾
燥させることによりリブ材料層を形成し、その上にサン
ドブラスト用マスクを重ねて形成した後、研削材を噴射
ノズルから噴射させてサンドブラスト加工を行う。
【００１９】サンドブラスト加工時に生じる研削材粒子
とリブ材料の研削粉末との混合粉末は回収され、ブラス
ト装置に付属のサイクロンにより粗粉側と微粉側とに分
級される。このうち粗粉側は研削材であるのでそのまま
再使用される。一方、微粉側は殆どが研削されたリブ材
料であるが、一部の研削材と破砕された研削材が少量混
在する。したがって、さらに分離が必要な場合は、ブラ
スト装置に付属のサイクロンよりも分級点の小さいサイ
クロンで分級を行うことにより、一部の研削材と、破砕
された研削材及び研削されたリブ材料とに分離する。こ
のうち一部の研削材は研削材として再利用する。また、
破砕された研削材と研削されたリブ材料の混合粉のうち
の破砕された研削材は、リブ材料の一成分と同じもので
あるので、組成調整を行って再ペーストの作製に利用す
る。
とリブ材料の研削粉末との混合粉末は回収され、ブラス
ト装置に付属のサイクロンにより粗粉側と微粉側とに分
級される。このうち粗粉側は研削材であるのでそのまま
再使用される。一方、微粉側は殆どが研削されたリブ材
料であるが、一部の研削材と破砕された研削材が少量混
在する。したがって、さらに分離が必要な場合は、ブラ
スト装置に付属のサイクロンよりも分級点の小さいサイ
クロンで分級を行うことにより、一部の研削材と、破砕
された研削材及び研削されたリブ材料とに分離する。こ
のうち一部の研削材は研削材として再利用する。また、
破砕された研削材と研削されたリブ材料の混合粉のうち
の破砕された研削材は、リブ材料の一成分と同じもので
あるので、組成調整を行って再ペーストの作製に利用す
る。
【００２０】再ペーストの作製に際しては、回収された
微粉側のリブ材料には既に樹脂が混入しているので、組
成調整においてフリット組成のみならず、樹脂量の調整
も必要となる。したがって、再ペーストの作製方法は新
品ペーストとは異なり、樹脂混入フリットに不足分のフ
リットとそれに対応する樹脂を混合してペースト化した
後に、所定割合で新品ペーストを混合する。
微粉側のリブ材料には既に樹脂が混入しているので、組
成調整においてフリット組成のみならず、樹脂量の調整
も必要となる。したがって、再ペーストの作製方法は新
品ペーストとは異なり、樹脂混入フリットに不足分のフ
リットとそれに対応する樹脂を混合してペースト化した
後に、所定割合で新品ペーストを混合する。
【００２１】
【実施例】以下、ＰＤＰの基板上に高精細リブを形成す
る一連の工程を挙げて本発明を詳細に説明する。
る一連の工程を挙げて本発明を詳細に説明する。
【００２２】（実施例１）平面的な大きさが１０００×
６００ｍｍで厚さが２．８ｍｍであるガラス基板を用意
し、その片側の表面に１５０μｍの間隔で平行なストラ
イプ状をなす多数の電極をスクリーン印刷で形成した。
そして、このガラス基板の電極側の全表面に、下記組成
Ａのリブペーストをダイコーターで一括コーティング
し、１５０℃で３０分間乾燥して固化させてリブ材料層
を形成した。
６００ｍｍで厚さが２．８ｍｍであるガラス基板を用意
し、その片側の表面に１５０μｍの間隔で平行なストラ
イプ状をなす多数の電極をスクリーン印刷で形成した。
そして、このガラス基板の電極側の全表面に、下記組成
Ａのリブペーストをダイコーターで一括コーティング
し、１５０℃で３０分間乾燥して固化させてリブ材料層
を形成した。
【００２３】 −組成Ａ− ・ガラスフリット １００重量部 （主成分：ＰｂＯ、ＳｉＯ2 （無アルカリ）、平均粒径３μｍ） ・Ａｌ2 Ｏ3 （顔料） ７重量部 ・ＺｒＯ2 （骨材） ７重量部 ・エチルセルロース（樹脂） ６重量部 ・テルピネオール（溶剤） ２５重量部 ・ブチルカルビトール（溶剤） １０重量部
【００２４】次に、リブ材料層の全表面にドライフィル
ム（東京応化工業（株）製「オーディルＢＦ６０３」）
をラミネートし、露光及びそれに続く現像を行い、リブ
材料層上にサンドブラスト用マスクとしてパターン状の
レジスト層を形成した。現像液は炭酸ナトリウム０．２
％水溶液を用いた。なお、本実施例のレジスト層のパタ
ーンは幅５０μｍで間隔１００μｍの平行なストライプ
状をなしており、ガラス基板の表面上の電極がレジスト
層の間隔１００μｍの間のほぼ中央に位置するように配
置した。
ム（東京応化工業（株）製「オーディルＢＦ６０３」）
をラミネートし、露光及びそれに続く現像を行い、リブ
材料層上にサンドブラスト用マスクとしてパターン状の
レジスト層を形成した。現像液は炭酸ナトリウム０．２
％水溶液を用いた。なお、本実施例のレジスト層のパタ
ーンは幅５０μｍで間隔１００μｍの平行なストライプ
状をなしており、ガラス基板の表面上の電極がレジスト
層の間隔１００μｍの間のほぼ中央に位置するように配
置した。
【００２５】次いで、上記の基板に対しサンドブラスト
加工を行った。具体的には、基板を多数の搬送ローラ上
を搬してブラスト加工室内に搬入し、基板、すなわちガ
ラス基板の表面にリブ材料層とレジスト層を形成した被
加工物におけるリブ材料層とレジスト層の側に向けて噴
射ノズルからサンドブラスト研削材を噴射した。本実施
例では、研削材として平均粒径１１．５μｍのアルミナ
（フジミインコーポレーテッド製「ＷＡ＃１０００」）
を使用した。
加工を行った。具体的には、基板を多数の搬送ローラ上
を搬してブラスト加工室内に搬入し、基板、すなわちガ
ラス基板の表面にリブ材料層とレジスト層を形成した被
加工物におけるリブ材料層とレジスト層の側に向けて噴
射ノズルからサンドブラスト研削材を噴射した。本実施
例では、研削材として平均粒径１１．５μｍのアルミナ
（フジミインコーポレーテッド製「ＷＡ＃１０００」）
を使用した。
【００２６】基板加工室では、基板の搬送方向に直交す
る方向に往復移動するタイプの噴射ノズルを８本設けて
いる。各噴射ノズルとしては、１５０ｍｍ×０．５ｍｍ
のスリットからほぼ垂直に研削材を噴射するスリットノ
ズルを採用してある。このスリットノズルはそれ自体が
従来の丸ノズル（１０ｍｍφ）よりも広い噴射分布を持
っているが、さらに加工均一性を向上させるために、噴
射ノズルの駆動速度を速くした。
る方向に往復移動するタイプの噴射ノズルを８本設けて
いる。各噴射ノズルとしては、１５０ｍｍ×０．５ｍｍ
のスリットからほぼ垂直に研削材を噴射するスリットノ
ズルを採用してある。このスリットノズルはそれ自体が
従来の丸ノズル（１０ｍｍφ）よりも広い噴射分布を持
っているが、さらに加工均一性を向上させるために、噴
射ノズルの駆動速度を速くした。
【００２７】基板加工室内では、上記ガラス基板におけ
るレジスト層及びリブ材料層の側に研削材を圧空と共に
噴射して、レジスト層の真下のリブ材料層以外の部分の
リブ材料層を研削除去してリブをパターニングした。こ
のようにしてパターニングしたリブは、幅が５０μｍ、
高さが１５０μｍで、各リブ間の間隔は１００μｍであ
る。具体的には、ブラスト加工室内で噴射ノズルから基
板におけるレジスト層とリブ材料層の側に研削材を噴射
すると、レジスト層の真下のリブ材料層はレジストで保
護されるので研削材で研削ないし彫刻されないが、レジ
スト層の真下のリブ材料層以外の部分のリブ材料層はす
べて研削除去された。
るレジスト層及びリブ材料層の側に研削材を圧空と共に
噴射して、レジスト層の真下のリブ材料層以外の部分の
リブ材料層を研削除去してリブをパターニングした。こ
のようにしてパターニングしたリブは、幅が５０μｍ、
高さが１５０μｍで、各リブ間の間隔は１００μｍであ
る。具体的には、ブラスト加工室内で噴射ノズルから基
板におけるレジスト層とリブ材料層の側に研削材を噴射
すると、レジスト層の真下のリブ材料層はレジストで保
護されるので研削材で研削ないし彫刻されないが、レジ
スト層の真下のリブ材料層以外の部分のリブ材料層はす
べて研削除去された。
【００２８】ガラス基板の表面にリブを形成した被加工
物は、低融点ガラスの鉛ガラスが完全に溶融してバイン
ダーが焼却する温度まで徐々に加熱することにより、リ
ブを構成する低融点ガラスとレジストの各バインダーが
完全に燃焼され且つ低融点ガラスが溶解して焼成されて
リブが形成された。
物は、低融点ガラスの鉛ガラスが完全に溶融してバイン
ダーが焼却する温度まで徐々に加熱することにより、リ
ブを構成する低融点ガラスとレジストの各バインダーが
完全に燃焼され且つ低融点ガラスが溶解して焼成されて
リブが形成された。
【００２９】一方、サンドブラスト加工時に生じた研削
材粒子とリブ材料の研削粉末との混合粉体をブラスト装
置に付属するサイクロンに送給し、そこで粗粉側と微粉
側の粒子に分離した。このサイクロンの分級点は７μｍ
であり、分離された粗粉側の粒子は研削材に利用し、微
粉側の粒子は別のサイクロンへ送給した。別のサイクロ
ンの分級点は３μｍであり、そこで分離された粗粉側の
粒子は廃棄タンクに貯留し、微粉側の粒子は集塵機で集
めた。
材粒子とリブ材料の研削粉末との混合粉体をブラスト装
置に付属するサイクロンに送給し、そこで粗粉側と微粉
側の粒子に分離した。このサイクロンの分級点は７μｍ
であり、分離された粗粉側の粒子は研削材に利用し、微
粉側の粒子は別のサイクロンへ送給した。別のサイクロ
ンの分級点は３μｍであり、そこで分離された粗粉側の
粒子は廃棄タンクに貯留し、微粉側の粒子は集塵機で集
めた。
【００３０】この集塵機で集めたリブ材料の研削粉末
は、不足分のフリットとそれに対応する樹脂と溶剤を添
加して再ペースト化した。そして、このリブペーストを
使用して上述したのと同様の工程でリブを形成したとこ
ろ、特に問題は無かった。
は、不足分のフリットとそれに対応する樹脂と溶剤を添
加して再ペースト化した。そして、このリブペーストを
使用して上述したのと同様の工程でリブを形成したとこ
ろ、特に問題は無かった。
【００３１】（実施例２）サンドブラスト加工の研削材
として平均粒径１５μｍのジルコニアを用いた以外は実
施例１と同様にしてリブを形成した。そして、リブ材料
の研削粉末で再ペースト化し、このリブペーストを使用
して再度リブを形成したところ、特に問題は無かった。
として平均粒径１５μｍのジルコニアを用いた以外は実
施例１と同様にしてリブを形成した。そして、リブ材料
の研削粉末で再ペースト化し、このリブペーストを使用
して再度リブを形成したところ、特に問題は無かった。
【００３２】（実施例３）サンドブラスト加工の研削材
として平均粒径１５μｍの酸化チタンを用いた以外は実
施例１と同様にしてリブを形成した。そして、リブ材料
の研削粉末で再ペースト化し、このリブペーストを使用
して再度リブを形成したところ、特に問題は無かった。
として平均粒径１５μｍの酸化チタンを用いた以外は実
施例１と同様にしてリブを形成した。そして、リブ材料
の研削粉末で再ペースト化し、このリブペーストを使用
して再度リブを形成したところ、特に問題は無かった。
【００３３】（実施例４）サンドブラスト加工の研削材
として平均粒径１２μｍの無鉛系ガラスフリットを用い
た以外は実施例１と同様にしてリブを形成した。そし
て、リブ材料の研削粉末で再ペースト化し、このリブペ
ーストを使用して再度リブを形成したところ、特に問題
は無かった。
として平均粒径１２μｍの無鉛系ガラスフリットを用い
た以外は実施例１と同様にしてリブを形成した。そし
て、リブ材料の研削粉末で再ペースト化し、このリブペ
ーストを使用して再度リブを形成したところ、特に問題
は無かった。
【００３４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ＰＤＰのリブをサンドブラスト法により形成するに際
し、サンドブラスト加工の研削材にリブ材料の構成成分
を用い、サンドブラスト加工時に生じる研削材粒子とリ
ブ材料の研削粉末との混合粉体を分級することにより当
該混合粉体から研削材粒子を除去した後、過不足分の成
分を調整してリブ材料層を形成するリブペーストに再利
用するようにしたので、両者が完全に分離されていなく
ても、研削材混入物の影響が小さいことから、リブ材料
の研削粉末を安定的に再利用することができる。
ＰＤＰのリブをサンドブラスト法により形成するに際
し、サンドブラスト加工の研削材にリブ材料の構成成分
を用い、サンドブラスト加工時に生じる研削材粒子とリ
ブ材料の研削粉末との混合粉体を分級することにより当
該混合粉体から研削材粒子を除去した後、過不足分の成
分を調整してリブ材料層を形成するリブペーストに再利
用するようにしたので、両者が完全に分離されていなく
ても、研削材混入物の影響が小さいことから、リブ材料
の研削粉末を安定的に再利用することができる。
【図１】プラズマディスプレイパネルの一例をその前面
板と背面板とを離間状態で示す斜視図である。
板と背面板とを離間状態で示す斜視図である。
１，２ ガラス基板 ３ リブ ４ 維持電極 ５ バス電極 ６ 誘電体槽 ７ 保護槽 ８ アドレス電極 ９ 誘電体槽 １０ 蛍光体層
Claims (3)
- 【請求項１】 基板上にリブペーストを塗布してリブ材
料層を形成し、その上に耐サンドブラスト用マスクをパ
ターン状に形成した後、そのマスクの上方から研削材を
噴射するサンドブラスト加工によりリブ材料層の不要部
分を除去し、耐サンドブラスト用マスクを除去してか
ら、焼成工程を経て所望パターンのリブを形成する工程
からなるプラズマディスプレイパネルのリブ形成方法に
おいて、サンドブラスト加工の研削材にリブ材料の構成
成分を用い、サンドブラスト加工時に生じる研削材粒子
とリブ材料の研削粉末との混合粉体を分級することによ
り当該混合粉体から研削材粒子を除去した後、過不足分
の成分を調整してリブ材料層を形成するリブペーストに
再利用することを特徴とするプラズマディスプレイパネ
ルのリブ形成方法。 - 【請求項２】 リブ材料を構成する無機粉体のうち焼成
により軟化しない無機粉体を研削材に用いるようにした
請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルのリブ形
成方法。 - 【請求項３】 無鉛系ガラスフリットを研削材に用いる
ようにした請求項１に記載のプラズマディスプレイパネ
ルのリブ形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35095199A JP2001167697A (ja) | 1999-12-10 | 1999-12-10 | プラズマディスプレイパネルのリブ形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35095199A JP2001167697A (ja) | 1999-12-10 | 1999-12-10 | プラズマディスプレイパネルのリブ形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001167697A true JP2001167697A (ja) | 2001-06-22 |
Family
ID=18414027
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35095199A Withdrawn JP2001167697A (ja) | 1999-12-10 | 1999-12-10 | プラズマディスプレイパネルのリブ形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001167697A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003011526A1 (fr) * | 2001-07-30 | 2003-02-13 | Sony Corporation | Procede permettant de former une fine barriere, procede de fabrication d'un affichage planaire et abrasif pour decapage par projection |
| JP2013008705A (ja) * | 2007-04-27 | 2013-01-10 | Osram Ag | ランプ構造のためのモリブデンフィルムの製造法およびモリブデンフィルムならびにモリブデンフィルムを有するランプ |
-
1999
- 1999-12-10 JP JP35095199A patent/JP2001167697A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003011526A1 (fr) * | 2001-07-30 | 2003-02-13 | Sony Corporation | Procede permettant de former une fine barriere, procede de fabrication d'un affichage planaire et abrasif pour decapage par projection |
| US6910937B2 (en) | 2001-07-30 | 2005-06-28 | Sony Corporation | Method for forming fine barrier, method for fabricating planar display and abrasive for blast |
| US7056193B2 (en) | 2001-07-30 | 2006-06-06 | Sony Corporation | Method of forming fine partition walls, method of producing planar display device, and abrasive for jet processing |
| JP2013008705A (ja) * | 2007-04-27 | 2013-01-10 | Osram Ag | ランプ構造のためのモリブデンフィルムの製造法およびモリブデンフィルムならびにモリブデンフィルムを有するランプ |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN100577586C (zh) | 用于等离子体显示板隔离肋的无铅玻璃组合物及包含由它制备的隔离肋的等离子体显示板 | |
| KR19990081588A (ko) | 플라즈마 표시장치용 유전체 조성물 | |
| KR100326558B1 (ko) | 플라즈마용표시장치용격벽조성물 | |
| KR20040104790A (ko) | 블랙 레지스트를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽및 그 제조방법 | |
| JP2001167697A (ja) | プラズマディスプレイパネルのリブ形成方法 | |
| JP4247945B2 (ja) | プラズマディスプレイパネルのリブ形成用サンドブラスト研削材及びリブ形成方法並びにリブ形成材料回収及び再利用方法 | |
| JP2001167696A (ja) | プラズマディスプレイパネルのリブ形成方法 | |
| JP2001157966A (ja) | サンドブラスト装置及びプラズマディスプレイパネルのリブ形成方法 | |
| JP2001113464A (ja) | プラズマディスプレイパネルのリブ形成用サンドブラスト研削材及びリブ形成方法並びにリブ形成材料回収方法 | |
| US6890232B2 (en) | Method of fabricating rear plate in plasma display panel | |
| JP2001216891A (ja) | プラズマディスプレイパネルのリブ形成方法 | |
| JP2002028870A (ja) | サンドブラスト装置及びプラズマディスプレイパネルのリブ形成方法 | |
| JP2006318747A (ja) | サンドブラスト装置およびサンドブラスト加工方法 | |
| JP2001202875A (ja) | プラズマディスプレイパネルのリブ形成方法及びそれにより形成されたリブ | |
| JP3411229B2 (ja) | プラズマディスプレイパネルの隔壁形成方法 | |
| KR100292467B1 (ko) | 고휘도플라즈마디스플레이패널용격벽제조방법 | |
| JP2003117831A (ja) | サンドブラスト装置及びプラズマディスプレイパネルの障壁形成方法 | |
| KR100268587B1 (ko) | 플라즈마 표시장치용 유전체 조성물 | |
| JP2001047364A (ja) | プラズマディスプレイパネルのリブ形成方法 | |
| JP3334706B2 (ja) | プラズマディスプレイパネルの製造方法 | |
| JP3613433B2 (ja) | 障壁修正方法 | |
| JP2001113466A (ja) | プラズマディスプレイパネルのリブ形成用サンドブラスト研削材及びリブ形成方法並びにリブ形成材料回収方法及び再利用方法 | |
| JPH10269936A (ja) | ガス放電表示パネル及びその製造方法 | |
| KR20040040635A (ko) | 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 조성물과 그 제조방법및 이를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 제조방법 | |
| JP3568344B2 (ja) | プラズマディスプレイパネルの障壁形成方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060322 |
|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20080403 |