CN1319115A - 盐改性的静电消散的聚合物 - Google Patents

盐改性的静电消散的聚合物 Download PDF

Info

Publication number
CN1319115A
CN1319115A CN99811130A CN99811130A CN1319115A CN 1319115 A CN1319115 A CN 1319115A CN 99811130 A CN99811130 A CN 99811130A CN 99811130 A CN99811130 A CN 99811130A CN 1319115 A CN1319115 A CN 1319115A
Authority
CN
China
Prior art keywords
polymkeric substance
anion
salt
significant quantity
cosolvent
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN99811130A
Other languages
English (en)
Other versions
CN1185290C (zh
Inventor
Y·艾克斯坦
R·拉维克兰
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Lubrizol Advanced Materials Inc
Original Assignee
BF Goodrich Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by BF Goodrich Corp filed Critical BF Goodrich Corp
Publication of CN1319115A publication Critical patent/CN1319115A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN1185290C publication Critical patent/CN1185290C/zh
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J7/00Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
    • C08J7/12Chemical modification
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/58Structural electrical arrangements for semiconductor devices not otherwise provided for, e.g. in combination with batteries
    • H01L23/60Protection against electrostatic charges or discharges, e.g. Faraday shields
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/01Use of inorganic substances as compounding ingredients characterized by their specific function
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/28Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection
    • H01L23/29Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the material, e.g. carbon
    • H01L23/293Organic, e.g. plastic
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

Abstract

低分子量聚醚低聚物在聚醚低聚合物的扩链反应期间用盐改性由此形成静电消散聚合物产品,如聚氨酯、聚醚酰相当低的表面和体积电阻率,并且其静态衰减时间不太快或不太慢,且没过量的可提取阴离子,特别是氯阴离子、硝酸根阴离子、磷酸根阴离子和硫酸根阴离子。这些静电消散聚合物可与各种基础聚合物共混形成塑料合金,其可接着用于形成可用于制造静电敏感电子元件的制品。

Description

盐改性的静电消散的聚合物
发明背景
发明领域
本发明涉及静电消散聚合物,特别涉及由聚醚低聚物反应的盐改性的静电消散聚合物。更具体地,本发明涉及由聚醚低聚物反应的盐改性的静电消散聚合物,该聚合物显示相当低的表面和体积电阻,但通常没有过量的可提取的阴离子。
现有技术
在大多数塑料的表面上形成和保留静电荷是公知的。塑料由于低的导电率具有明显的累积静电荷的趋势。这种静电荷的形成和保留可能成为问题。如在热塑性薄膜片材上存在静电荷会引起片材彼此粘附,使其在进一步加工时分离更困难。另外,存在的静电荷引起尘土粘到如用塑料袋包装的物品上,这会减少销售的吸引力。
微电子元件的不断增加的复杂性和敏感性特别使电子工业关注静电释放。甚至低压放电也会对敏感元件造成严重的损失。需要控制静电荷累积和消散经常要求这些元件的整个组装环境由部分导电的材料构成。还要求静电保护包装物、搬运箱、包装箱和覆盖物由导电聚合物材料构成,以贮存、运输、保护或承载电子元件和设备。
通过用各种静电消散(ESD)材料来防止在制备或使用期间累积到塑料上的静电荷的形成。这些材料可作为涂料涂布,该涂料可在制造后喷涂或浸涂至制品上,尽管这种方法通常是暂时的措施。另外,这些材料也可在加工过程中加入到所用的聚合物中来制备制品,由此提供永久性的解决措施。
然而,向各种基质或基础聚合物中加入这些低分子量的静电消散材料(抗静电剂)有其自身的局限。例如,大多数聚合物加工所需的高温可损坏或破坏抗静电剂,由此使其因不具有ESD性能而毫无用处。另外,许多高分子量的ESD剂不与基质或基础聚合物混溶。
大量的抗静电剂本身是阳离子或阴离子的。这些抗静电剂有可能使塑料特别是PVC降解,并导致着色或物理性能的损失。其它抗静电剂具有比基础聚合物本身明显低的分子量。这些低分子量的抗静电剂经常具有不适宜的润滑性能且难以加入到基础聚合物中。向基础聚合物中加入这些低分子量的抗静电剂将降低基础聚合物的可模塑性,原因是抗静电剂在加工期间会迁移到塑料的表面上并经常沉积在模具表面的涂层上,有可能破坏制品的表面整饰。在严重的情形下,制品的表面变得很油滑并且弄上大理石花纹。使用低分子量的ESD剂可能出现的其它问题是由于蒸发损失了其静电消散能力,散发讨厌的臭味或在与制备的制品接触的另一制品表面上产生应力开裂或银纹。
一种公知的低分子量抗静电剂是环氧乙烷的均聚物或共聚物低聚物。通常,使用环氧乙烷的低分子量聚合物或聚醚作为抗静电剂受到有关上述的润滑性、表面问题、或不太有效的ESD性能的限制。另外,这些低分子量聚合物可容易从基础聚合物中渗出或磨蚀,从而丧失所有静电消散性能,并在一些情况下还可产生不适宜的大量不希望的可提取阴离子,特别是氯阴离子、硝酸根离子、磷酸根离子和硫酸根离子。
在现有技术中有几种高分子量静电消散剂的例子。通常,这些添加剂是环氧乙烷或其衍生物如环氧丙烷、表氯醇、缩水甘油醚等的高分子量聚合物。要求这些添加剂具有高的分子量以克服上述问题。然而,这些现有的ESD添加剂在导电性和可接受的低可提取阴离子量,特别是氯阴离子、硝酸根离子、磷酸根离子和硫酸根离子的量之间达不到所要求的平衡,这最终会引起含这些ESD添加剂的任何制品在一些最终用途中具有不能接受的性能。
本发明解决了得到显示较低的表面和体积电阻率而没有不可接受的高可提取阴离子量,特别是氯阴离子、硝酸根离子、磷酸根离子和硫酸根离子的量的静电消散聚合物或添加剂这一问题。因此这些静电消散聚合物可加入用于电子工业的基础聚合物的组合物中,而不在最终制品中产生其它不适宜的性能。
发明概述
本发明涉及用于形成用于电子元件的塑料合金的聚合物,该聚合物包括有效量的盐,该盐可与聚合物相容,该盐改性的聚合物的表面电阻率由ASTM D-257测定为约1.0×105欧姆/平方厘米至约1.0×1010欧姆/平方厘米,另外该盐改性的聚合物还具有低于约8000ppb(每10亿分之一份)的氯阴离子、硝酸根阴离子、磷酸根阴离子和硫酸根阴离子所有四种可提取阴离子总量,和低于约1000ppb的所述氯阴离子、低于约100ppb的所述硝酸根阴离子、低于约6000ppb的所述磷酸根阴离子、和低于约1000ppb的所述硫酸根阴离子。
优选实施方案的介绍
本发明涉及由低分子量聚醚低聚物反应的盐改性的静电消散聚合物,其中聚合物显示较低的表面和体积电阻,且通常没有过量的可提取阴离子。下面介绍并制备用于本发明的低分子量聚醚低聚物。
用于本发明的低分子量聚醚低聚物可包括数均分子量约为200至约5000的环氧乙烷的均聚物。低分子量聚醚低聚物也可包括两种或多种可共聚单体的共聚物,其中一种单体是环氧乙烷,且数均分子量为约200至约20000。
可与环氧乙烷共聚的单体的例子是:1,2-环氧丙烷(环氧丙烷)、1,2-环氧丁烷、2,3-环氧丁烷(顺和反式)、1,2-环氧戊烷、2,3-环氧戊烷(顺和反式)、1,2-环氧己烷、2,3-环氧己烷(顺和反式)、3,4-环氧己烷(顺和反式)、1,2-环氧庚烷、1,2-环氧癸烷、1,2-环氧十二烷、1,2-环氧十八烷、7-乙基-2-甲基-1,2-环氧十-烷、2,6,8-三甲基-1,2-环氧壬烷、氧化苯乙烯。
其它可与环氧乙烷一起用作共聚单体的共聚单体是:氧化环己烯、6-氧杂双环[3,1,0]-己烷、7-氧杂双环[4,1,0]-庚烷、3-氯-1,2-环氧丁烷、3-氯-2,3-环氧丁烷、3,3-二氯-1,2-环氧丙烷、3,3,3-三氯-1,2-环氧丙烷、3-溴-1,2-环氧丁烷、3-氟-1,2-环氧丁烷、3-碘-1,2-环氧丁烷、1,1-二氯-1-氟-2,3-环氧丙烷、1-氯-1,1-二氯-2,3-环氧丙烷、和1,1,1,2-五氯-3,4-环氧丁烷。
可用作共聚单体的有至少一个醚键的典型共聚单体是:乙基缩水甘油基醚、正丁基缩水甘油基醚、异丁基缩水甘油基醚、叔丁基缩水甘油基醚、正己基缩水甘油基醚、2-乙基己基缩水甘油基醚、七氟异丙基缩水甘油基醚、苯基缩水甘油基醚、4-甲基苯基缩水甘油基醚、苄基缩水甘油基醚、2-苯基乙基缩水甘油基醚、1,2-二氢五氟异丙基缩水甘油基醚、1,2-三氢四氟异丙基缩水甘油基醚、1,1-二氢四氟丙基缩水甘油基醚、1,1-二氢九氟戊基缩水甘油基醚、1,1-二氢十五氟辛基缩水甘油基醚、1,1-二氢十五氟辛基-α-甲基缩水甘油基醚、1,1-二氢十五氟辛基-β-甲基缩水甘油基醚、1,1-二氢十五氟辛基-α-乙基-缩水甘油基醚、和2,2,2-三氟乙基缩水甘油基醚。
其它可用作与环氧乙烷共聚的共聚单体的具有至少一个酯键的共聚单体是:乙酸缩水甘油酯、氯代乙酸缩水甘油酯、丁酸缩水甘油酯、和硬脂酸缩水甘油,等。
可与环氧乙烷共聚的典型不饱和共聚单体是:烯丙基缩水甘油基醚、4-乙烯基环己基缩水甘油基醚、α-萜品基缩水甘油基醚、环己烯基甲基缩水甘油基醚、对乙烯基苄基缩水甘油基醚、烯丙基苯基缩水甘油基醚、乙烯基缩水甘油基醚、3,4-环氧-1-戊烯、4,5-环氧-2-戊烯、1,2-环氧-5,9-环十二双烯、3,4-环氧-1-乙烯基氯己烯、1,2-环氧-5-环辛烯、丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸缩水甘油酯、巴豆酸缩水甘油酯、和4-己烯酸缩水甘油酯。
其它适宜与环氧乙烷共聚的环状单体是具有四元或更多元环的含至多25个碳原子的环状醚(但除四氢吡喃除外)和其衍生物。具有四元或更多元的环状醚的例子是氧杂环丁烷(1,3-环氧化物)、四氢呋喃(1,5-环氧化物)、和氧杂环己烷(1,6-环氧化物)和其衍生物。
其它适宜的环状单体是含有至多25个碳原子的环缩醛。环缩醛的例子是三噁烷、二氧杂环戊烷、1,3,6,9-四氧环十一烷、三氧杂环庚烷、三氧杂环辛烷、二氧杂环庚烷和其衍生物。
其它适宜的环单体是含有最多25个碳原子的环酯。环酯的例子是β-戊内酯、ε-戊内酯、ζ-庚内酯、η-辛内酯、丁内酯和其衍生物。由前面所述的方法制备的低分子量聚醚低聚物然后可与各种扩链剂反应并用选择的盐改性,从而形成本发明的静电消散聚合物添加剂或抗静电剂。
例如,上面刚介绍的聚醚低聚物可反应形成包括含一个或多个聚酯嵌段以及一个或多个低分子量聚醚低聚物嵌段的共聚醚-酯聚合物的静电消散剂。聚酯嵌段通常是由含有芳香基的二羧酸或二酯如对苯二甲酸、对苯二甲酸二甲酯等与通常含约2至约10个碳原子的二醇反应而制备。低分子量聚醚低聚物通常由如上所述制备。聚醚酯嵌段共聚可由下式表示:
-(聚酯-b-低分子量聚醚低聚物)n
聚酯-醚嵌段共聚物的一个优选实施方案包括乙二醇、对苯二甲酸或对苯二甲酸二甲酯与聚乙二醇的反应产物。可使用的另外聚酯醚共聚物的这些和其它例子描述于“聚合物科学和工程百科全书”(Encyclopedia of Polymer Science and Engineering),第12卷,John Wiley&Sons,Inc.,NY,NY,1988,第49-52页(其全文引入本文作为参考)以及US2,623,031;3,651,014;3,763,109和3,896,078中。
另外,低分子量聚醚低聚物可反应形成含有一个或多个聚酰胺嵌段和一个或多个低分子量聚醚低聚物嵌段的静电消散剂。此外,低分子量低聚物也可与聚酰胺在二酸存在下反应以形成具有下面重复结构式的聚醚酯酰胺:
-(C(=O-A-C(=0)-O-B-O)n-其中A是聚酰胺,B是低分子量聚醚低聚物。对这种聚合物的其它信息可参见US4,332,920,其内容引入本文作为参考。
可按本发明用盐改性的含有低分子量聚醚低聚物的可商购的组合物的例子包括:Stat-RiteC-2300 ESD剂,购自B.F.Goodrich公司;Pebax MX 1074和Pebax 4011 MA,购自Elf Atochem公司,工程聚合物分部;和Hytrel 8099,Hytrel 8206,Hytrel 8171和Hytrel 3548,购自杜邦公司;和Hydrin 200,购自Nippon Zeon。
在本发明的一个优选实施方案中,低分子量聚醚低聚物可反应形成聚氨酯静电消散剂,如Stat-RiteC-2300 ESD剂,购自B.F.Goodrich公司。更具体地,聚氨酯静电消散添加剂包括羟基封端的亚乙基醚低聚物中间体与非受阻的二异氰酸酯和扩链剂二醇的反应产物,其中低聚物可以是二甘醇-脂族聚酯,或聚乙二醇。
首先关于聚酯中间体,羟基封端的饱和聚酯聚合物由当量过量的二甘醇与相当低当量的脂族、优选4-10个碳原子的烷基二羧酸(其中最优选己二酸)反应合成。其它可用的二羧酸包括琥珀酸、戊二酸、庚二酸、辛二酸、壬二酸和癸二酸。最优选的聚酯中间体是聚己二酸二甘醇酯。在本发明的一方面,摩尔过量的二甘醇与较少摩尔量的二羧酸以约5摩尔%至约50摩尔%过量的二醇的量反应,得到平均分子量为约500-5000、优选约700-2500的羟基封端的聚酯低聚物。短链聚酯低聚物含有重复二亚乙基醚结构,并包括以当量计的约1.05-1.5当量的二甘醇与一当量的二羧酸反应来生成低分子量的聚酯低聚物中间体。高当量过量的二甘醇控制聚酯低聚物的分子量优选低于2500并确保羟基封端线性聚酯低聚物。聚酯低聚物由二甘酯与较少当量的二羧酸在约300-450°F温度下、在有或没有酯化催化剂如氯化亚锡存在下反应足以使酸值降至约0的时间而合成。
羟基封端的聚酯低聚物中间体进一步在所谓的一步法中与高过量当量的非受阻二异氰酸酯以及扩链剂二醇反应,或者与低聚二异氰酸酯和扩链剂二醇同时反应,生成平均分子量很宽的约60,000至约500,000、优选约80,000至约180,000、最优选约100,000-180,000的非常高的分子量的线性聚氨酯。
另外,含有聚乙二醇的亚乙基醚低聚物二醇中间体可与非受阻二异氰酸酯和扩链剂二醇共反应生成高分子量的聚氨酯聚合物。可用的聚乙二醇是通式为H-(OCH2CH2)n-OH的线性聚合物,其中n是亚乙基醚的重复单元数且n至少为11,并为11至约115。在分子量方面,可用的聚乙二醇的平均分子量为约500至约5000、优选为约700至约2500。用于本发明的可商购的聚乙二醇通常被称作聚乙二醇600、聚乙二醇1500和聚乙二醇4000。
在本发明中,高分子量热塑性聚氨酯通过优选在一步法中将亚乙基醚低聚物二醇中间体、芳香或脂族非受阻二异氰酸酯和扩链剂二醇一起反应而制备。按摩尔计,相对于每摩尔低聚物二醇中间体,扩链剂二醇的量为约0.1至约3.0摩尔,理想地约0.2至约2.1摩尔,更优选约0.5至约1.5摩尔。按摩尔计,相对于每1.0总摩尔数的扩链剂二醇和低聚物二醇(即扩链剂二醇+低聚物二醇-1.0),高分子量聚氨酯聚合物含有约0.97至约1.02摩尔、优选约1.0摩尔的非受阻二异氰酸酯。
可用的非受阻二异氰酸酯包括芳香非受阻二异氰酸酯,并包括1,4-二异氰酸苯(PPDI)、4,4′-亚甲基-双(苯基二异氰酸酯)(MDI)、1,5-萘二异氰酸酯(NDI)、间二甲苯二异氰酸酯(XDI),以及非受阻的环脂族二异氰酸酯如1,4-环己基二异氰酸酯(CHDI)和H12MDI。最优选的二异氰酸酯是MDI。适宜的扩链剂二醇(即扩链剂)是2-6个碳原子的仅含有伯醇基的脂族短链二醇。优选的二醇包括二甘醇、1,3-丙二醇、1,4-丁二醇、1,5-戊二醇、1,4-环己烷二甲醇、氢醌二(羟乙基)醚、和1,6-己二醇,最优选的二醇是1,4-丁二醇。
在本发明中,羟基封端的亚乙基醚低聚物中间体、非受阻二异氰酸酯和脂族扩链剂二醇在一步聚合法中在高于约100℃、并通常约120℃的温度下同时共反应,其中该反应是放热反应,该反应温度升至约200℃至250℃以上。
根椐本发明的一个重要特征,在一步法聚合期间加入由金属离子与非金属离子或分子的结合形成的盐、盐配合物或盐化合物。虽然向ESD聚合物反应产物中连上和/或吸附上盐的确切机理不完全清楚,但盐出乎意料地提高了所得聚合物的表面和体积电阻率而不存在不能接受的可提取阴离子。另外,静态衰减时间保持在可接受的范围,即该时间不太快或不太慢。可用于本发明的盐的例子包括:LiClO4,LiN(CF3SO2)2,LiPF6,LiAsF6,LiI,LiBr,LiSCN,LiSO3CF3,LiNO3,LiC(SO2CF3)3,Li2S,和LiMR4,其中M是Al或B,R是卤素、烷基或芳基。优选的盐是LiN(CF3SO2)2,其通常称为三氟甲烷磺酰亚胺锂。加入至一步法聚合中的选择的盐的有效量是至少约0.10份,基于100份聚合物计,理想的是至少约0.25份,优选至少约0.75份。
根椐本发明另一个重要特征,发现当盐与有效量的共溶剂一起加入时,所用盐的量可出乎意料地降低。适宜于本发明目的的共溶剂的例子包括碳酸亚乙酯、碳酸丙二醇酯、二甲亚砜、四氢噻吩砜、三和四-乙二醇二甲基醚、γ-丁内酯和N-甲基-2-吡咯烷酮。优选碳酸亚乙酯。虽然加入一种共溶剂是任选的,但在一些应用较低量的盐的情况下可能是希望的。要达到低盐用量这一结果并同时保持ESD聚合物中所要求性能的所需共溶剂的有效量是至少约0.10份,基于100份聚合物计,优选至少约0.50份、最优选至少约1.0份。因此,出乎意料地发现,加入共溶剂和较低量的盐协同降低了ESD聚合物的表面和体积电阻率,而不对存在仅相对少量的可提取阴离子起不利影响,其效果类似于当向聚合反应中仅加入稍高量的盐时所观察到的。
本发明的盐改性静电消散聚合物可与含有下列聚合物的基质或基础聚合物共混,这些聚合物包括聚氯乙烯的均聚物或共聚物,氯化聚氯乙烯,苯乙烯与丙烯腈的共聚物,苯乙烯、丙烯腈和二烯橡胶的三元共聚物,用丙烯酸酯弹性体改性的苯乙烯与丙烯腈的共聚物,用乙丙二烯单体橡胶改性的苯乙烯与丙烯腈的共聚物,聚苯乙烯和橡胶改性的耐冲击聚苯乙烯,尼龙,聚碳酸酯,包括聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯和聚醚-酯嵌段共聚物的热塑性聚酯,聚氨酯,聚苯醚,聚缩醛,聚甲基丙烯酸甲酯,聚丙烯,聚乙烯,和聚醚酰胺嵌段共聚物。ESD聚合物试剂或添加剂与基础聚合物的优选比例为,基于100份ESD添加剂/基础聚合物共混物计,为约25份ESD添加剂。优选的基础聚合物是聚对苯二甲酸乙二醇酯,它可购于Kingsport,Tennessee的Eastman Chemical Products,Inc.。
通过下面的实施例可更好地理解形成本发明的盐改性的静电消散聚合物的上述方法,该聚合物接着可与其础聚合物共混以用于制备可用于电子工业的最终制品。
                    实施例
                    实施例1
本发明的优选盐改性聚氨酯ESD聚合物添加剂通过按上述方式对聚乙二醇低聚物进行扩链而制备。如前面详述的,在聚乙二醇、二异氰酸酯和脂族扩链剂二醇的一步法聚合中加入盐以形成聚氨酯聚合物。为了相对完全,应注意:对比例X和对比例Y的聚合物与分别由其制备的改性的样品102-104和105-116聚合物的唯一区别在于:对比例X是由单一的平均分子量1,450的聚乙二醇低聚物制备,对比例Y是由两种聚乙二醇低聚物(其中一种的平均分子量为1450,而另一种的平均分子量为3350)制备的。然后将制备的聚合物和由其制备的盐和/或共溶剂改性的样品用ASTM D-257分析其表面和体积电阻率,其结果列于表1。对相同样品的一些不想要的可提取离子的量进行测试并列于表Ⅱ,静态衰减时间列于表Ⅲ。结果表明:通过在聚合期间加入盐可得到约1×107至约1×109欧姆/平方的表面电阻率和约1×106至约1×109欧姆.cm的体积电阻率。这些电阻率出乎意料地明显低于未改性对比例X和Y的表面和体积电阻率。表Ⅰ的结果也表明当单独将碳酸亚乙酯共溶剂加入对比例聚合物中(参见样品1D 105)时,电阻率实际增加了。然而,当将相同的共溶剂与相同量的盐或相对加入盐本身时所用的盐量较少量的盐一起加入时,出乎意料地再次观察到电阻率明显的改进。还出乎意料地并如表Ⅱ中所示的,在对比例聚合物X的盐改性样品102-104中的可提取阴离子的量仍保持很低,而对比例聚合物X本身显示少量的所列的可提取阴离子量。令人惊奇的是,向对比例聚合物Y(其本身具有相对大的量的所列阴离子量)的样品108-116中单独加入Li-TFMSA盐和该盐与碳酸亚乙酯共溶剂时,相对于在对比例聚合物Y中所发现的量,明显降低了单个所列的可提取阴离子的量以及在样品108-116中所有四种阴离子的总量。最后,表Ⅲ所示的静态衰减时间在不太快或不太慢的约1×10-1秒至约2.5×10-1秒的范围内。
                          表Ⅰ
          静电消散聚氨酯聚合物的表面和体积电阻
    样品     盐 份数* 表面ohm/sq.     体积ohm.cm
  对比例X     无     0     1.2×1010     2.70×109
    102     Li-TFMSA     2     3.10×107     4.00×106
    103     Li-TFMSA     1     1.30×108     1.90×107
    104     Li-TFMSAEth.Carb.     12     3.30×107     5.20×106
  对比例Y     无     0     7.80×109     1.60×109
    105     Eth.Carb.     2     1.20×1010     2.90×109
    108     Li-TFMSAEth.Carb.     0.251     1.80×108     4.20×107
    109     Li-TFMSAEth.Carb.     0.253     1.40×108     3.00×107
110 Li-TFMSA 0.5 3.40×108 1.60×108
    111     Li-TFMSAEth.Carb.     0.51     8.60×107     1.80×107
    112     Li-TFMSAEth.Carb.     0.53     6.50×107     1.50×107
    113     Li-TFMSA     1     5.70×107     8.10×106
    114     Li-TFMSAEth.Carb.     11     4.80×107     8.60×106
    115     Li-TFMSAEth.Carb.     13     3.30×107     9.10×106
    116     Li-TFMSA     2     3.00×107     8.90×106
*基于100份聚合物的盐的份数Li-TFMSA=三氟甲烷磺酰亚胺锂
              Eth.Carb.=碳酸亚乙酯
                            表Ⅱ
            自静电消散聚氨酯聚合物可提取的阴离子*
                  (ng/cm2(ppb)提取的化合物)
样品    盐   份数**     Cl  NO3-     HPO4     SO4    总计***
    对比例X     无     0     97.5  23.75     1312.5     38.75     1472.5
    102     Li-TFMSA     2     346.25  37.5     620     262.5     1266.25
    103     Li-TFMSA     1     75  <31.25     1587.5     83.75     1777.5
    104     Li-TFMSAEth.Carb.     12     68.75  31.25     3162.5     68.75     3331.5
    对比例Y     无     0     1022.5  103.75     6010     108.75     7245
    105     无Eth.Carb.     02     248.75  98.75     3045     155     3547.5
    108     Li-TFMSAEth.Carb.     0.251     33.75  <31.25     3297.5     80     3442.5
    109     Li-TFMSAEth.Carb.     0.253     18.75  <31.25     3105     97.5     3252.5
    110     Li-TFMSA     0.5     210  72.5     4061.25     226.25     4570
    111     Li-TFMSAEth.Carb.     0.51     48.75  36.25     3431.25     163.75     3680
    112     Li-TFMSAEth.Carb.     0.53     25  <31.25     3887.5     85     4028.75
    113     Li-TFMSA     1     148.75  57.5     3956.25     118.75     4281.25
    114     Li-TFMSAEth.Carb.     11     43.75  <31.25     2851.25     100     3026.25
    115     Li-TFMSAEth.Carb.     13     43.75  <31.25     2992.5     61.25     3128.75
    116     Li-TFMSA     2     328.75  30     5300     445     6103.75
*通过将8cm2、40密耳厚的聚氨酯样品放入10ml去离子水中,然后在85℃下加热1小时测量。
**基於100份聚合物的盐份数。
***所有四种阴离子的。
Li-TFMSA=三氟甲烷磺酰亚胺锂
Eth.carb.=碳酸亚乙酯
                            表Ⅲ
静电消散聚氨酯聚合物在1000V(51%相对湿度)和5000V(11.5%相对湿度)下的静
    态衰减时间(秒)
样品ID  盐 份数** +1 KV -1 KV +5 KV -5 KV
对比例X  无  0  0.1  0.2  0.10  0.22
 102  Li-TFMSA  2  0.1  0.1  0.10  0.10
 103  Li-TFMSA  1  0.1  0.1  0.10  0.16
 104  Li-TFMSAEth.Carb.  12  0.1  0.1  0.10  0.16
对比例Y  无Eth.Carb.  0  0.2  0.2  0.10  0.14
 105  无Eth.Carb.  02  0.4  0.3  0.22  0.20
 108  Li-TFMSAEth.Carb.  0.251  0.1  0.1  0.10  0.10
 109  Li-TFMSAEth.Carb.  0.253  0.1  0.1  0.10  0.10
 110  Li-TFMSA  0.5  0.1  0.1  0.10  0.18
 111  Li-TFMSAEth.Carb.  0.51  0.1  0.1  0.10  0.16
 112  Li-TFMSAEth.Carb.  0.53  0.1  0.1  0.10  0.14
 113  Li-TFMSA  1  0.1  0.1  0.10  0.20
 114  Li-TFMSAEth.Carb.  11  0.1  0.1  0.10  0.16
 115  Li-TFMSAEth.Carb.  13  0.1  0.1  0.10  0.10
 116  Li-TFMSA  2  0.1  0.1  0.10  0.12
*对于5000V值按照FTMS1001C测量,在1000V时的测量值用充电
板监测器测量。
**基於100份聚合物的盐份数。
Li-TFMSA=三氟甲烷磺酰亚胺锂
Eth.carb.=碳酸亚乙酯
尽管按照专利法给出了本发明的最佳模式和优选实施方案,但本发明的范围并不局限于此,而由权利要求限定。

Claims (70)

1.一种可用于形成用于电子元件的塑料合金的聚合物,所述聚合物包括:
有效量的盐,所述盐可与该聚合物相容,所述盐改性聚合物的表面电阻率由ASTM D-257测定为约1.0×106欧姆/平方至约1.0×1010欧姆/平方,并且所述聚合物的体积电阻率由ASTM D-257测定为约1.0×106欧姆-cm至约1.0×1010欧姆-cm。
2.权利要求1的聚合物,其中所述聚合物具有低于约8000ppb的氯阴离子、硝酸根阴离子、磷酸根阴离子和硫酸根阴离子所有四种可提取阴离子总量,和低于约1000ppb的所述氯阴离子、低于约100ppb的所述硝酸根阴离子、低于约6000ppb的所述磷酸根阴离子、和低于约1000ppb的所述硫酸根阴离子。
3.权利要求2的聚合物,其中所述聚合物具有低于约7,200ppb的氯阴离子、硝酸根阴离子、磷酸根阴离子和硫酸根阴离子所有四种可提取阴离子总量,和低于约700ppb的所述氯阴离子、低于约90ppb的所述硝酸根阴离子、低于约5700ppb的所述磷酸根阴离子、和低于约750ppb的所述硫酸根阴离子。
4.权利要求3的聚合物,其中所述聚合物具有低于约6,200ppb的氯阴离子、硝酸根阴离子、磷酸根阴离子和硫酸根阴离子所有四种可提取阴离子总量,和低于约350ppb的所述氯阴离子、低于约75ppb的所述硝酸根阴离子、低于约5350ppb的所述磷酸根阴离子、和低于约450ppb的所述硫酸根阴离子。
5.权利要求1的聚合物,其中所述聚合物的表面电阻率为约1.0×106至约1.0×109
6.权利要求5的聚合物,其中所述聚合物的表面电阻率为约1.0×107至约1.0×108
7.权利要求1的聚合物,其中所述聚合物的体积电阻率为约1.0×106至约1.0×109
8.权利要求7的聚合物,其中所述聚合物的体积电阻率为约1.0×107至约1.0×108
9.权利要求1的聚合物,其中所述盐的所述有效量为至少约0.1份,基于100份所述聚合物计。
10.权利要求9的聚合物,其中所述盐的所述有效量为至少约0.25份。
11.权利要求10的聚合物,其中所述盐的所述有效量为至少约0.75份。
12.权利要求1的聚合物,其中所述聚合物包括有效量的共溶剂。
13.权利要求12的聚合物,其中所述共溶剂的所述有效量为至少约0.1份,基于100份所述聚合物计。
14.权利要求13的聚合物,其中所述共溶剂的所述有效量为至少约0.5份,基于100份所述聚合物计。
15.权利要求14的聚合物,其中所述共溶剂的所述有效量为至少约1份,基于100份所述聚合物计。
16.权利要求12的聚合物,其中所述共溶剂选自碳酸亚乙酯、碳酸丙二醇酯、二甲亚砜、四氢噻吩砜、三和四-乙二醇二甲基醚、γ-丁内酯和N-甲基-2-吡咯烷酮。
17.权利要求16的聚合物,其中所述共溶剂为碳酸亚乙酯。
18.权利要求1的聚合物,其中所述盐选自三氟甲烷磺酰亚胺锂、LiClO4,LiPF6,LiAsF6,LiI,LiBr,LiSCN,LiSO3CF3,LiNO3,LiC(SO2CF3)3,Li2S,和LiMR4,其中M是A1或B,R是卤素、烷基或芳基。
19.权利要求18的聚合物,其中所述盐为三氟甲烷磺酰亚胺锂。
20.权利要求1的聚合物,其中所述聚合物是扩链聚醚低聚物的反应产物。
21.权利要求20的聚合物,其中所述聚合物选自热塑性聚氨酯、聚醚酰胺嵌段共聚物、和聚醚-酯嵌段共聚物。
22.权利要求21的聚合物,其中所述聚合物为热塑性聚氨酯。
23.权利要求21的聚合物,其中所述聚合物在1000V和51%相对湿度下的静态衰减时间用充电板监视器测定为约1.0×10-1至约2.5×10-1;以及其中所述聚合物在5000V和11.5%相对湿度下的静态衰减时间用FTMS 1001C测定为约1.0×10-1至约2.5×10-1
24.一种可用于形成用于电子元件的塑料合金的聚合物,所述聚合物包括:
有效量的盐,所述盐可与该聚合物相容,所述盐改性聚合物的表面电阻率由ASTM D-257测定为约1.0×106欧姆/平方至约1.0×1010欧姆/平方,并且所述聚合物具有低于约8000ppb的氯阴离子、硝酸根阴离子、磷酸根阴离子和硫酸根阴离子的所有四种可提取阴离子总量,和低于约1000ppb的所述氯阴离子、低于约100ppb的所述硝酸根阴离子、低于约6000ppb的所述磷酸根阴离子、和低于约1000ppb的所述硫酸根阴离子。
25.权利要求24的聚合物,其中所述聚合物具有低于约7,200ppb的氯阴离子、硝酸根阴离子、磷酸根阴离子和硫酸根阴离子的所有四种可提取阴离子总量,和低于约700ppb的所述氯阴离子、低于约90ppb的所述硝酸根阴离子、低于约5700ppb的所述磷酸根阴离子、和低于约750ppb的所述硫酸根阴离子。
26.权利要求25的聚合物,其中所述聚合物具有低于约6,200ppb的氯阴离子、硝酸根阴离子、磷酸根阴离子和硫酸根阴离子的所有四种可提取阴离子总量,和低于约350ppb的所述氯阴离子、低于约75ppb的所述硝酸根阴离子、低于约5350ppb的所述磷酸根阴离子、和低于约450ppb的所述硫酸根阴离子。
27.权利要求24的聚合物,其中所述聚合物的体积电阻率由ASTMD-257测定为1.0×106欧姆-厘米至约1.0×1010欧姆-厘米。
28.权利要求27的聚合物,其中所述聚合物的体积电阻率为约1.0×106至约1.0×109
29.权利要求28的聚合物,其中所述聚合物的体积电阻率为约1.0×107至约1.0×108
30.权利要求24的聚合物,其中所述聚合物的表面电阻率为约1.0×106至约1.0×109
31.权利要求30的聚合物,其中所述聚合物的表面电阻率为约1.0×107至约1.0×108
32.权利要求24的聚合物,其中所述盐的所述有效量为至少约0.1份,基于100份所述聚合物计。
33.权利要求32的聚合物,其中所述盐的所述有效量为至少约0.25份。
34.权利要求33的聚合物,其中所述盐的所述有效量为至少约0.75份。
35.权利要求24的聚合物,其中所述聚合物包括有效量的共溶剂。
36.权利要求35的聚合物,其中所述共溶剂的所述有效量为至少约0.1份,基于100份所述聚合物计。
37.权利要求36的聚合物,其中所述共溶剂的所述有效量为至少约0.5份,基于100份所述聚合物计。
38.权利要求37的聚合物,其中所述共溶剂的所述有效量为至少约1份,基于100份所述聚合物计。
39.权利要求35的聚合物,其中所述共溶剂选自碳酸亚乙酯、碳酸丙二醇酯、二甲亚砜、四氢噻吩砜、三和四-乙二醇二甲基醚、γ-丁内酯和N-甲基-2-吡咯烷酮。
40.权利要求39的聚合物,其中所述共溶剂为碳酸亚乙酯。
41.权利要求24的聚合物,其中所述盐选自三氟甲烷磺酰亚胺锂、LiClO4,LiPF6,LiAsF6,LiI,LiBr,LiSCN,LiSO3CF3,LiNO3,LiC(SO2CF3)3,Li2S,和LiMR4,其中M是A1或B,R是卤素、烷基或芳基。
42.权利要求41的聚合物,其中所述盐为三氟甲烷磺酰亚胺锂。
43.权利要求24的聚合物,其中所述聚合物是扩链聚醚低聚物的反应产物。
44.权利要求43的聚合物,其中所述聚合物选自热塑性聚氨酯、聚醚酰胺嵌段共聚物、和聚醚-酯嵌段共聚物。
45.权利要求44的聚合物,其中所述聚合物为热塑性聚氨酯。
46.权利要求24的聚合物,其中所述聚合物在1000V和51%相对湿度下的静态衰减时间用充电板监视器测定为约1.0×10-1至约2.5×10-1;以及其中所述聚合物在5000V和11.5%相对湿度下的静态衰减时间用FTMS 1001C测定为约1.0×10-1至约2.5×10-1
47.一种可用于形成用于电子元件的塑料合金的聚合物,所述聚合物包括:
有效量的盐,所述盐可与该聚合物相容,所述盐改性聚合物的表面电阻率由ASTM D-257测定为约1.0×106欧姆/平方至约1.0×1010欧姆/平方。
48.权利要求47的聚合物,其中所述聚合物具有低于约8000ppb的氯阴离子、硝酸根阴离子、磷酸根阴离子和硫酸根阴离子的所有四种可提取阴离子总量,和低于约1000ppb的所述氯阴离子、低于约100ppb的所述硝酸根阴离子、低于约6000ppb的所述磷酸根阴离子、和低于约1000ppb的所述硫酸根阴离子。
49.权利要求48的聚合物,其中所述聚合物具有低于约7,200ppb的氯阴离子、硝酸根阴离子、磷酸根阴离子和硫酸根阴离子的所有四种可提取阴离子总量,和低于约700ppb的所述氯阴离子、低于约90ppb的所述硝酸根阴离子、低于约5700ppb的所述磷酸根阴离子、和低于约750ppb的所述硫酸根阴离子。
50.权利要求49的聚合物,其中所述聚合物具有低于约6,200ppb的氯阴离子、硝酸根阴离子、磷酸根阴离子和硫酸根阴离子的所有四种可提取阴离子总量,和低于约350ppb的所述氯阴离子、低于约75ppb的所述硝酸根阴离子、低于约5350ppb的所述磷酸根阴离子、和低于约450ppb的所述硫酸根阴离子。
51.权利要求47的聚合物,其中所述聚合物的表面电阻率为约1.0×106至约1.0×109
52.权利要求51的聚合物,其中所述聚合物的表面电阻率为约1.0×107至约1.0×108
53.权利要求47的聚合物,其中所述聚合物的体积电阻率由ASTMD-257测定为1.0×106欧姆-cm至约1.0×1010欧姆-cm。
54.权利要求53的聚合物,其中所述聚合物的体积电阻率为约1.0×106至约1.0×109
55.权利要求54的聚合物,其中所述聚合物的体积电阻率为约1.0×107至约1.0×108
56.权利要求47的聚合物,其中所述盐的所述有效量为至少约0.1份,基于100份所述聚合物计。
57.权利要求56的聚合物,其中所述盐的所述有效量为至少约0.25份。
58.权利要求57的聚合物,其中所述盐的所述有效量为至少约0.75份。
59.权利要求47的聚合物,其中所述聚合物包括有效量的共溶剂。
60.权利要求59的聚合物,其中所述共溶剂的所述有效量为至少约0.1份,基于100份所述聚合物计。
61.权利要求60的聚合物,其中所述共溶剂的所述有效量为至少约0.5份,基于100份所述聚合物计。
62.权利要求61的聚合物,其中所述共溶剂的所述有效量为至少约1份,基于100份所述聚合物计。
63.权利要求59的聚合物,其中所述共溶剂选自碳酸亚乙酯、碳酸丙二醇酯、二甲亚砜、四氢噻吩砜、三和四-乙二醇二甲基醚、γ-丁内酯和N-甲基-2-吡咯烷酮。
64.权利要求63的聚合物,其中所述共溶剂为碳酸亚乙酯。
65.权利要求47的聚合物,其中所述盐选自三氟甲烷磺酰亚胺锂、LiClO4,LiPF6,LiAsF6,LiI,LiBr,LiSCN,LiSO3CF3,LiNO3,LiC(SO2CF3)3,Li2S,和LiMR4,其中M是A1或B,R是卤素、烷基或芳基。
66.权利要求65的聚合物,其中所述盐为三氟甲烷磺酰亚胺锂。
67.权利要求47的聚合物,其中所述聚合物是扩链聚醚低聚物的反应产物。
68.权利要求67的聚合物,其中所述聚合物选自热塑性聚氨酯、聚醚酰胺嵌段共聚物、和聚醚-酯嵌段共聚物。
69.权利要求68的聚合物,其中所述聚合物为热塑性聚氨酯。
70.权利要求47的聚合物,其中所述聚合物的静态衰减时间在1000V和51%相对湿度下用充电板监视器测定为约1.0×10-1至约2.5×10-1;以及其中所述聚合物在5000V和11.5%相对湿度下的静态衰减时间用FTMS 1001C测定为约1.0×10-1至约2.5×10-1
CNB998111309A 1998-09-21 1999-09-16 盐改性的静电消散的聚合物组合物及其应用 Expired - Lifetime CN1185290C (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US09/157,460 US6140405A (en) 1998-09-21 1998-09-21 Salt-modified electrostatic dissipative polymers
US09/157,460 1998-09-21

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1319115A true CN1319115A (zh) 2001-10-24
CN1185290C CN1185290C (zh) 2005-01-19

Family

ID=22563819

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNB998111309A Expired - Lifetime CN1185290C (zh) 1998-09-21 1999-09-16 盐改性的静电消散的聚合物组合物及其应用

Country Status (11)

Country Link
US (1) US6140405A (zh)
EP (1) EP1115781B1 (zh)
JP (1) JP2002526582A (zh)
KR (1) KR100706459B1 (zh)
CN (1) CN1185290C (zh)
AT (1) ATE296852T1 (zh)
DE (1) DE69925613T2 (zh)
HK (1) HK1042718B (zh)
MY (1) MY128839A (zh)
TW (1) TW495529B (zh)
WO (1) WO2000017262A1 (zh)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102051131A (zh) * 2009-10-27 2011-05-11 琳得科株式会社 光学用粘合剂组合物、光学用粘合剂和光学膜
CN102597038A (zh) * 2009-10-15 2012-07-18 路博润高级材料公司 静电消散的tpu和其组合物
CN102884119A (zh) * 2010-04-01 2013-01-16 路博润高级材料公司 盐改性静电消散聚合物
CN103250469A (zh) * 2010-10-26 2013-08-14 路博润高级材料公司 盐改性的固有静电耗散性聚合物
CN105504784A (zh) * 2011-03-01 2016-04-20 路博润高级材料公司 阻燃热塑性聚氨酯组合物
CN105814104A (zh) * 2013-10-15 2016-07-27 巴斯夫欧洲公司 导电的热塑性聚氨酯

Families Citing this family (39)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6534422B1 (en) * 1999-06-10 2003-03-18 National Semiconductor Corporation Integrated ESD protection method and system
EP1273629B1 (en) * 2000-04-12 2014-07-30 Sanko Chemical Industry Co., Ltd. Antistatic composition
US20040058604A1 (en) 2001-01-15 2004-03-25 Rene Jud Antistatic flexible intermediate bulk container
JP2002226704A (ja) * 2001-02-06 2002-08-14 Riken Technos Corp 制電性組成物
JP2002317114A (ja) * 2001-04-20 2002-10-31 Bando Chem Ind Ltd Oa機器用導電性部材
JP3942841B2 (ja) * 2001-04-20 2007-07-11 バンドー化学株式会社 Oa機器用導電性部材
US6740410B2 (en) * 2001-05-16 2004-05-25 Noveon Ip Holdings Corp. Electrostatic dissipating polymeric multi-layer article or laminate
US7110163B2 (en) 2001-07-09 2006-09-19 E Ink Corporation Electro-optic display and lamination adhesive for use therein
US7535624B2 (en) 2001-07-09 2009-05-19 E Ink Corporation Electro-optic display and materials for use therein
US7375150B2 (en) * 2001-07-30 2008-05-20 Sanko Chemical Industry Co., Ltd. Anti-static composition and method for production thereof
SE519706C2 (sv) * 2001-08-03 2003-04-01 Flexlink Components Ab Arbetsmodul för anslutning till en huvudtransportör i ett konveyersystem innefattande en ändlös kedja, samt en transportenhet
US7358295B2 (en) * 2002-04-05 2008-04-15 Lubrizol Advanced Materials, Inc. Hybrid polymer composition, and article therefrom
US7202322B2 (en) * 2002-11-08 2007-04-10 Noveon, Inc. Heat resistant high moisture vapor transmission thermoplastic polyurethane
US20070179255A1 (en) * 2002-11-08 2007-08-02 Noveon, Inc. Heat Resistant High Moisture Vapor Transmission Thermoplastic Polyurethane
ATE517151T1 (de) * 2002-11-25 2011-08-15 Ineos Abs Jersey Ltd Schlagzähmodifizierte polymer-zusammensetzungen
EP1616217B1 (en) 2003-03-27 2010-10-20 E Ink Corporation Electro-optic assemblies
US7005458B2 (en) 2003-06-20 2006-02-28 Foamex L.P. Static dissipative polyurethane foams
CN1871304B (zh) * 2003-07-31 2010-04-21 大日本油墨化学工业株式会社 聚氨酯树脂模塑体及其制造方法
WO2005029458A1 (en) 2003-09-19 2005-03-31 E Ink Corporation Methods for reducing edge effects in electro-optic displays
US20050070665A1 (en) * 2003-09-26 2005-03-31 Ludlow James M. Transparent thermoplastic blend of a cycloolefin copolymer and a thermoplastic polyurethane
JP5337344B2 (ja) 2003-11-05 2013-11-06 イー インク コーポレイション 電気光学ディスプレイ
US20110164301A1 (en) 2003-11-05 2011-07-07 E Ink Corporation Electro-optic displays, and materials for use therein
US7672040B2 (en) 2003-11-05 2010-03-02 E Ink Corporation Electro-optic displays, and materials for use therein
KR100607709B1 (ko) * 2004-03-08 2006-08-01 에스케이케미칼주식회사 정전 분산능을 가지는 고분자 수지 및 고분자 수지혼합물의 제조방법
US20060020100A1 (en) * 2004-07-20 2006-01-26 Shirley Lee Conductive agents for polyurethane
US7173805B2 (en) * 2004-07-20 2007-02-06 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Polymer material
KR100812507B1 (ko) * 2005-08-19 2008-03-11 주식회사 엘지화학 아크릴계 점착제 조성물
US20070154716A1 (en) * 2005-12-30 2007-07-05 Saint-Gobain Performance Plastics Corporation Composite material
US20070152195A1 (en) * 2005-12-30 2007-07-05 Saint-Gobain Performance Plastics Corporation Electrostatic dissipative composite material
US20070155949A1 (en) * 2005-12-30 2007-07-05 Saint-Gobain Performance Plastics Corporation Thermally stable composite material
US20070154717A1 (en) * 2005-12-30 2007-07-05 Saint-Gobain Performance Plastics Corporation Thermally stable composite material
US7476339B2 (en) * 2006-08-18 2009-01-13 Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. Highly filled thermoplastic composites
US20090122389A1 (en) 2007-11-14 2009-05-14 E Ink Corporation Electro-optic assemblies, and adhesives and binders for use therein
TWI378960B (en) * 2008-03-20 2012-12-11 Ind Tech Res Inst Organic/inorganic hybrid material of dielectric composition with electrostatic discharge protection property
US8193280B2 (en) 2008-07-04 2012-06-05 Az Technology, Inc. Ionic liquid epoxy resins
US20110168043A1 (en) * 2010-01-11 2011-07-14 Lubrizol Advanced Materials, Inc. Thermoplastic Polyurethane For Printing Blankets
US9650514B2 (en) * 2011-04-21 2017-05-16 Lubrizol Advanced Materials, Inc. Electrostatic dissipative polycarbonate compositions
JP2015505861A (ja) * 2011-10-28 2015-02-26 ルブリゾル アドバンスド マテリアルズ, インコーポレイテッド 電気化学セルのためのポリウレタンに由来する膜および/またはセパレーター
US10907030B2 (en) 2019-01-31 2021-02-02 Bae Systems Controls Inc. Process for mitigation of whisker growth on a metallic substrate

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3454540A (en) * 1965-03-12 1969-07-08 Rohm & Haas Antistatic plastic compositions
US4480001A (en) * 1983-09-30 1984-10-30 Westinghouse Electric Corp. Antistatic laminates containing metal salts
JPS62139628A (ja) * 1985-12-13 1987-06-23 タキロン株式会社 イオン導電性高分子粘着剤
JPH01178554A (ja) * 1988-01-07 1989-07-14 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd 熱可塑性樹脂組成物
JP2503051B2 (ja) * 1988-06-22 1996-06-05 東レ株式会社 ポリアセタ―ル樹脂組成物
US5043195A (en) * 1988-10-28 1991-08-27 Minnesota Mining & Manufacturing Company Static shielding film
EP0373116A3 (de) * 1988-12-06 1992-01-22 Ciba-Geigy Ag Ionenleitende Zusammensetzungen und deren Verwendung
US5159053A (en) * 1989-08-28 1992-10-27 The B. F. Goodrich Company Polyurethane for use in electrostatic dissipating applications
ATE121115T1 (de) * 1990-01-05 1995-04-15 Goodrich Co B F Kettenverlängerte niedrige molekulargewichte aufzeigende polyoxirane zu elektrostatischen anwendungen.
US5574104A (en) * 1990-01-05 1996-11-12 The B. F. Goodrich Company Chain extended low molecular weight polyoxiranes and electrostatic dissipating blend compositions based thereon
US5188783A (en) * 1990-02-20 1993-02-23 Hughes Aircraft Company Method of making articles containing an ion-conductive polymer
JPH0733483B2 (ja) * 1990-04-16 1995-04-12 第一工業製薬株式会社 帯電防止性樹脂組成物
JPH059253A (ja) * 1991-02-19 1993-01-19 Sanyo Chem Ind Ltd 高分子固体電解質
CA2085266A1 (en) * 1991-12-20 1993-06-21 Biing-Lin Lee Chain extended low molecular weight polyoxirane salt complexes for electrostatic applications
CA2088338A1 (en) * 1992-01-29 1993-07-30 Peter Malcolm Goman Anti-static agent for thermoplastic polymers
JPH06200171A (ja) * 1992-07-23 1994-07-19 Sumitomo Seika Chem Co Ltd 制電性にすぐれた樹脂組成物
RU2097390C1 (ru) * 1993-06-07 1997-11-27 Виталий Ильич Крыштоб Способ получения основы для антистатических полимерных покрытий
GB9407803D0 (en) * 1994-04-20 1994-06-15 Ici Plc Polymeric film
US5631311A (en) * 1994-08-18 1997-05-20 E. I. Du Pont De Nemours And Company Transparent static dissipative formulations for coatings
US5677357A (en) * 1995-07-05 1997-10-14 Cellular Technology International, Inc. Antistatic additive for organic polymer compositions
JP3262708B2 (ja) * 1996-03-26 2002-03-04 日本電信電話株式会社 複合高分子電解質膜
JP3233602B2 (ja) * 1996-11-18 2001-11-26 サムスン・ディスプレイ・デバイセス・カンパニー・リミテッド 固体高分子電解質
US5766797A (en) * 1996-11-27 1998-06-16 Medtronic, Inc. Electrolyte for LI/SVO batteries
FR2766295B1 (fr) * 1997-07-17 1999-09-24 Alsthom Cge Alcatel Separateur polymerique, procede de fabrication et generateur electrochimique le comprenant

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102597038A (zh) * 2009-10-15 2012-07-18 路博润高级材料公司 静电消散的tpu和其组合物
CN102051131A (zh) * 2009-10-27 2011-05-11 琳得科株式会社 光学用粘合剂组合物、光学用粘合剂和光学膜
CN102884119A (zh) * 2010-04-01 2013-01-16 路博润高级材料公司 盐改性静电消散聚合物
CN102884119B (zh) * 2010-04-01 2014-08-13 路博润高级材料公司 盐改性静电消散聚合物
CN103250469A (zh) * 2010-10-26 2013-08-14 路博润高级材料公司 盐改性的固有静电耗散性聚合物
CN105504784A (zh) * 2011-03-01 2016-04-20 路博润高级材料公司 阻燃热塑性聚氨酯组合物
CN105814104A (zh) * 2013-10-15 2016-07-27 巴斯夫欧洲公司 导电的热塑性聚氨酯
CN105814104B (zh) * 2013-10-15 2019-10-18 巴斯夫欧洲公司 导电的热塑性聚氨酯

Also Published As

Publication number Publication date
DE69925613D1 (de) 2005-07-07
HK1042718B (zh) 2005-07-08
JP2002526582A (ja) 2002-08-20
US6140405A (en) 2000-10-31
EP1115781A1 (en) 2001-07-18
MY128839A (en) 2007-02-28
EP1115781B1 (en) 2005-06-01
WO2000017262A1 (en) 2000-03-30
HK1042718A1 (en) 2002-08-23
CN1185290C (zh) 2005-01-19
KR20010075256A (ko) 2001-08-09
KR100706459B1 (ko) 2007-04-10
ATE296852T1 (de) 2005-06-15
DE69925613T2 (de) 2006-04-27
TW495529B (en) 2002-07-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1185290C (zh) 盐改性的静电消散的聚合物组合物及其应用
EP2633739B1 (en) Salt modified inherently electrostatic dissipative polymers
EP0287092B1 (en) Antistatic Polymer Composition and Production thereof
US5574104A (en) Chain extended low molecular weight polyoxiranes and electrostatic dissipating blend compositions based thereon
EP0507873B1 (en) Chain extended low molecular weight polyoxiranes for electrostatic applications
CN101277996A (zh) 具有改进的抗静电性的抗静电聚合物膜
US6740410B2 (en) Electrostatic dissipating polymeric multi-layer article or laminate
US6284839B1 (en) Blends of thermoplastic polymers, electrostatic dissipative polymers and electrostatic dissipative enhancers
US20130022877A1 (en) Salt Modified Electrostatic Dissipative Polymers
EP0548741A2 (en) Chain extended low molecular weight polyoxirane salt complexes for electrostatic applications
KR100248366B1 (ko) 사슬연장된 저분자폴리옥시란 및 이를 기재로하는 정전기소산성 배합 조성물
EP0332441A2 (en) Permanent antistatic resin composition
JPH04218563A (ja) プラスチック材料に静電散逸性を付与する添加剤、およびその製造方法
EP0536890B1 (en) Antistatic polymeric compositions
Dahman All polymeric compounds: conductive and dissipative polymers in ESD control materials
EP0431634A2 (en) Vinyl halide polymer compositions having antistatic properties
KR100252336B1 (ko) 사슬 연장된 저분자 폴리옥시란 및 이를 기재로 하는 정전기소산성 배합 조성물
CA2079849C (en) Antistatic polymeric compositions

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
ASS Succession or assignment of patent right

Owner name: PMD HOLDING CO.,LTD.

Free format text: FORMER OWNER: B.F.GOODRICH CO. (US) 500 SOUTH MAIN STREET AKRON, OHIO 44318, USA

Effective date: 20020130

C41 Transfer of patent application or patent right or utility model
TA01 Transfer of patent application right

Effective date of registration: 20020130

Address after: ohio

Applicant after: PMD Holdings

Address before: North Carolina

Applicant before: B. F. Goodrich Company

C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
C56 Change in the name or address of the patentee

Owner name: NOVEON INC.

Free format text: FORMER NAME OR ADDRESS: THE NORWON IP HOLDINGS CORP.

CP01 Change in the name or title of a patent holder

Address after: ohio

Patentee after: Noveon Inc.

Address before: ohio

Patentee before: Novoeon IP Holding Co.

CX01 Expiry of patent term
CX01 Expiry of patent term

Granted publication date: 20050119