CN118159883A - 光学层叠体 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种光学层叠体，其为具备光学各向异性层的长条状的光学层叠体，其即使在制成卷状态的情况下也不易发生粘连。提供光学层叠体，其为长条状的光学层叠体，包含基材层和配置于其一个面上的光学各向异性层，基材层中的和光学各向异性层相反侧的表面、与光学各向异性层中的和基材层相反侧的表面的动摩擦系数为0.7以下。

Description

光学层叠体

技术领域

本发明涉及光学层叠体。

背景技术

在以液晶显示装置、有机电致发光(EL)显示装置为代表的图像显示装置中，以光学补偿为目的、或者为了抑制由外部光的反射导致的视觉辨认性的降低，使用包含直线偏光板和相位差层的圆偏光板来提高防反射性能是已知的〔例如，日本特开2020-134934号公报(专利文献1)〕。作为相位差层，有时使用作为聚合性液晶化合物的固化物层的液晶固化相位差层。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2020-134934号公报

发明内容

发明所要解决的课题

圆偏光板的制造中使用的膜部件通常以长条膜的卷(卷绕物)的形态置备。作为上述膜部件，可举出具备上述相位差层的光学层叠体。

本发明的目的在于提供具备光学各向异性层的长条状的光学层叠体，其即使在制成卷状态的情况下也不易发生粘连(膜彼此的贴附)。

用于解决课题的手段

本发明提供以下的光学层叠体。

[1]光学层叠体，其为长条状的光学层叠体，

前述光学层叠体包含基材层、和配置于其一个面上的光学各向异性层，

前述基材层中的和前述光学各向异性层相反侧的表面、与前述光学各向异性层中的和前述基材层相反侧的表面的动摩擦系数为0.7以下。

[2]如[1]所述的光学层叠体，其中，前述基材层中的和前述光学各向异性层相反侧的表面的最大高低差Sz为500nm以下。

[3]如[1]或[2]所述的光学层叠体，其中，前述光学各向异性层包含含有氟原子或硅原子的聚合物成分。

[4]如[1]～[3]中任一项所述的光学层叠体，其中，前述光学各向异性层具有逆波长分散性。

[5]如[1]～[4]中任一项所述的光学层叠体，其中，前述光学各向异性层的对波长550nm的光的面内相位差值为100nm以上160nm以下。

[6]如[1]～[5]中任一项所述的光学层叠体，其中，前述光学各向异性层具有相对于前述基材层的长尺寸方向而言倾斜方向的光轴。

[7]如[1]～[6]中任一项所述的光学层叠体，其中，前述光学各向异性层的厚度为0.1μm以上5μm以下。

[8]如[1]～[7]中任一项所述的光学层叠体，其中，前述基材层包含(甲基)丙烯酸系树脂层。

[9]如[1]～[8]中任一项所述的光学层叠体，其在前述基材层与前述光学各向异性层之间还包含取向层，

前述取向层为由包含光反应性基团的光取向性聚合物形成的光取向膜。

发明效果

本发明能够提供一种光学层叠体，其为具备光学各向异性层的长条状的光学层叠体，其即使在制成卷状态的情况下也不易发生粘连。

附图说明

图1为示出光学层叠体的层构成的一例的概略截面图。

图2为示出光学层叠体的层构成的另一例的概略截面图。

图3为示意性地说明卷绕偏移量的截面图。

具体实施方式

以下，参照附图对本发明的实施方式进行说明，但本发明不限于以下的实施方式。以下的所有附图是为了帮助理解本发明而示出的，附图所示的各构成要素的尺寸、形状不必然与实际的构成要素的尺寸、形状一致。

<光学层叠体>

(1)光学层叠体的构成

图1为示出本发明涉及的光学层叠体(以下，也简称为“光学层叠体”。)的层构成的一例的概略截面图。图1所示的光学层叠体1包含：基材层10；和配置其一个面上的光学各向异性层(以下，也称为“相位差层”。)11。取向层12可以介于基材层10与光学各向异性层11之间。光学各向异性层11与取向层12通常相接。

图2为示出光学层叠体的层构成的一例的概略截面图。如图2所示的光学层叠体2这样，光学层叠体可以在基材层10与光学各向异性层11之间还包含底涂层13。

光学层叠体为长条状(带状)的层叠膜。光学层叠体的长度例如为500m以上20000m以下，可以为800m以上15000m以下。光学层叠体的宽度例如为0.5m以上3m以下，可以为0.8m以上2m以下。

光学层叠体例如能够作为用于制造圆偏光板的部件使用。圆偏光板能够适用于液晶显示装置、有机EL显示装置等图像显示装置。

圆偏光板通常配置于液晶显示元件、有机EL显示元件等图像显示元件的视觉辨认侧。需要说明的是，术语“圆偏光板”包括椭圆偏光板。

基材层10中的和光学各向异性层11相反侧的表面A、与光学各向异性层11中的和基材层10相反侧的表面B的动摩擦系数为0.7以下。通过使动摩擦系数为上述范围，能够防止或抑制将长条状的光学层叠体以卷状态放置时可能发生的表面A与表面B贴附的现象即粘连。在卷放置在高温下或高温高湿下时，一般容易发生粘连，但根据本发明涉及的光学层叠体，即使在这样的环境下也能够防止或抑制粘连。

此处，所谓卷状态，是指以基材层10中的和光学各向异性层11相反侧的表面A、与光学各向异性层11中的和基材层10相反侧的表面B相接的方式进行卷绕而成为卷绕体的状态。

从更有效地防止或抑制粘连的观点考虑，上述动摩擦系数优选为0.68以下，更优选为0.65以下，进一步优选为0.60以下，还进一步优选为0.58以下，尤其优选为0.55以下。上述动摩擦系数通常为0.2以上，可以为0.3以上。

上述动摩擦系数按照JIS K7125：1999来测定。本说明书中，动摩擦系数为25℃时的动摩擦系数。

基材层10中的和光学各向异性层11相反侧的表面A的最大高低差Sz优选为500nm以下。从防止或抑制将长条状的光学层叠体以卷状态放置时可能发生的卷绕偏移的方面考虑，表面A的最大高低差Sz为上述范围是有利的。所谓卷绕偏移，是指以所期望的卷绕姿态卷成卷状态并放置时，卷形状逐渐崩塌，宽度方向两短边的位置从期望位置偏移的现象。

图3为示意性地对卷绕偏移量进行说明的、卷状态的光学层叠体的截面图。图3中，长条状的光学层叠体100卷绕于卷芯200。卷绕偏移量105是指期望位置101与位置102的距离，所述位置102是发生卷绕偏移的宽度方向两短边的位置之中与期望位置101的距离变得最大的位置。需要说明的是，与期望位置101的距离变得最大的位置102不限于存在于经卷绕的光学层叠体的最外侧的层，位置102也可存在于内部层。

从更有效地防止或抑制卷绕偏移的观点考虑，上述最大高低差Sz更优选为450nm以下，进一步优选为400nm以下，还进一步优选为390以下，尤其优选为350nm以下。上述最大高低差Sz通常为50nm以上，可以为100nm以上。

表面A的最大高低差Sz可使用非接触表面形状计测装置来测定。从94μm×70μm的测定视野中任意选择5处，对该5处中的最大高低差进行测定，将此时的这些测定值的平均值作为表面A的最大高低差Sz。本说明书中，最大高低差被定义为表面A中的最高点与最低点在高度方向上的距离。

以下，详细地对构成或可构成光学层叠体的要素进行说明。

(2)基材层

作为基材层10，可以使用由热塑性树脂形成的透光性(优选为光学透明)的膜。

作为热塑性树脂，可举出：三乙酸纤维素等纤维素树脂；聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯树脂；聚醚砜树脂；聚砜树脂；聚碳酸酯树脂；尼龙、芳香族聚酰胺等聚酰胺树脂；聚酰亚胺树脂；聚乙烯、聚丙烯、乙烯·丙烯共聚物等聚烯烃树脂；具有环系及降冰片烯结构的环状聚烯烃树脂(也称为降冰片烯系树脂)；(甲基)丙烯酸树脂；聚芳酯树脂；聚苯乙烯树脂；聚乙烯醇树脂；以及它们的混合物。

需要说明的是，本说明书中，“(甲基)丙烯酸-”是指可以为丙烯酸-或甲基丙烯酸-中的任意。(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酰基等的“(甲基)”也为同样的含义。

其中，从加工性的观点考虑，构成基材层10的热塑性树脂优选选自纤维素树脂、聚酯树脂、环状聚烯烃树脂及(甲基)丙烯酸树脂，更优选选自环状聚烯烃树脂及(甲基)丙烯酸树脂。1个优选实施方式中，基材层10包含(甲基)丙烯酸系树脂层，基材层10也可以由(甲基)丙烯酸系树脂层组成。

基材层10优选为不具有相位差、或相位差值小的膜。具体而言，基材层10在波长550nm处的面内相位差值优选为0nm以上10nm以下，在波长550nm处的厚度方向的相位差值优选为-10nm以上+10nm以下。基材层10可以进一步与光学各向异性层11之间具有底涂层13。

从能够进行实用的操作的方面考虑，基材层10的厚度优选薄，但若过薄，则有强度降低、加工性差的趋势。基材层10的厚度优选为2μm以上，更优选为5μm以上，进一步优选为10μm以上，可以为30μm以上。基材层10的厚度优选为150μm以下，更优选为100μm以下，进一步优选为80μm以下，还进一步优选为60μm以下，可以为50μm以下。

基材层10可以含有添加剂。作为添加剂，例如，可举出紫外线吸收剂、抗氧化剂、润滑剂、增塑剂、脱模剂、防着色剂、阻燃剂、成核剂、抗静电剂、填料、颜料、及着色剂等。

含有(甲基)丙烯酸系树脂的基材层10可包含作为填料的橡胶粒子。通过包含橡胶粒子，能够提高基材层10的韧性。另外，该橡胶粒子可成为后述的对表面A赋予凹凸的处理中使用的填料。

橡胶粒子为包含显示出橡胶弹性的层的橡胶弹性体粒子。橡胶粒子可以为仅由显示出橡胶弹性的层形成的粒子，也可以为在具有显示出橡胶弹性的层的同时还具有其它层的多层结构的粒子。作为橡胶弹性体，例如，可举出烯烃系弹性聚合物、二烯系弹性聚合物、苯乙烯-二烯系弹性共聚物、丙烯酸系弹性聚合物等。其中，从基材层10的耐光性及透明性的观点考虑，优选使用丙烯酸系弹性聚合物。

丙烯酸系弹性聚合物可以为以丙烯酸烷基酯为主体的、即以全部单体量为基准包含50质量％以上的来自丙烯酸烷基酯的结构单元的聚合物。丙烯酸系弹性聚合物可以为丙烯酸烷基酯的均聚物，也可以为共聚物，所述共聚物包含：50质量％以上的来自丙烯酸烷基酯的结构单元；和50质量％以下的来自其它聚合性单体的结构单元。

作为构成丙烯酸系弹性聚合物的丙烯酸烷基酯，通常使用其烷基的碳原子数为4～8的物质。

作为上述其它聚合性单体，例如，可举出：甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯等甲基丙烯酸烷基酯；苯乙烯、烷基苯乙烯等苯乙烯系单体；丙烯腈、甲基丙烯腈等不饱和腈等单官能单体；以及(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸甲基烯丙酯等不饱和羧酸的烯基酯；马来酸二烯丙酯等二元酸的二烯基酯；亚烷基二醇二(甲基)丙烯酸酯等二醇类的不饱和羧酸二酯等多官能单体。

包含丙烯酸系弹性聚合物的橡胶粒子优选为具有丙烯酸系弹性聚合物的层的多层结构的粒子。具体而言，可举出：在丙烯酸系弹性聚合物的层的外侧具有以甲基丙烯酸烷基酯为主体的硬质的聚合物层的二层结构的粒子；进一步在丙烯酸系弹性聚合物的层的内侧具有以甲基丙烯酸烷基酯为主体的硬质的聚合物层的三层结构的粒子。甲基丙烯酸烷基酯优选为甲基丙烯酸甲酯。

橡胶粒子优选直至其中含有的橡胶弹性体层(丙烯酸系弹性聚合物的层)为止的平均粒径处于10nm以上350nm以下的范围内。该平均粒径更优选为30nm以上，进一步优选为50nm以上，另外更优选为320nm以下，进一步优选为300nm以下。

橡胶粒子的直至橡胶弹性体层(丙烯酸系弹性聚合物的层)为止的平均粒径可以以下述方式测定。即，若将这样的橡胶粒子混合至(甲基)丙烯酸系树脂中并进行膜化，且用氧化钌的水溶液将其截面染色，则仅橡胶弹性体层着色而观察到大致为圆形，母层的(甲基)丙烯酸系树脂没有被染色。因此，使用切片机等，由以这样的方式染色的膜截面制备薄片，用电子显微镜对其进行观察。此后，随机地提取100个经染色的橡胶粒子，算出各自的粒径(直至橡胶弹性体层为止的直径)后，将其数均值作为上述平均粒径。由于利用这样的方法进行测定，因此所得的上述平均粒径为数均粒径。

在作为最外层是以甲基丙烯酸甲酯为主体的硬质的聚合物、且在其中包入有橡胶弹性体层(丙烯酸系弹性聚合物的层)的橡胶粒子的情况下，若将其混合至母体的(甲基)丙烯酸系树脂中，则橡胶粒子的最外层与母体的(甲基)丙烯酸系树脂混合。因此，若用氧化钌将其截面染色、且用电子显微镜进行观察，则橡胶粒子以除去了最外层的状态的粒子的形态被观察到。具体而言，在作为内层是丙烯酸系弹性聚合物、外层是以甲基丙烯酸甲酯为主体的硬质的聚合物的二层结构的橡胶粒子的情况下，内层的丙烯酸系弹性聚合物部分被染色而以单层结构的粒子的形态被观察到。另外，在作为最内层是以甲基丙烯酸甲酯为主体的硬质的聚合物、中间层是丙烯酸系弹性聚合物、最外层是以甲基丙烯酸甲酯为主体的硬质的聚合物的三层结构的橡胶粒子的情况下，以最内层的粒子中心部分未被染色、而是仅中间层的丙烯酸系弹性聚合物部分被染色的二层结构的粒子的形态被观察到。

相对于(甲基)丙烯酸系树脂(A)100质量份而言，橡胶粒子的含量优选为10质量份以上45质量份以下，更优选为15质量份以上40质量份以下，进一步优选为15质量份以上35质量份以下。

优选以上述动摩擦系数处于上述范围内的方式、进一步优选上述最大高低差Sz处于上述范围内的方式，对基材层10的表面A进行表面处理。作为表面处理，例如，可举出通过使基材层10含有填料从而对表面A赋予凹凸的处理、脱模处理、喷砂处理、压花处理等。可以将2种以上的表面处理组合。脱模处理为形成涂布有具有脱模性的成分的脱模层的处理，作为具有脱模性的成分，例如，可举出氟化合物、有机硅化合物等。

基于填料的赋予凹凸的处理、喷砂处理及压花处理有使动摩擦系数变小、使Sz变大的趋势。脱模处理有使动摩擦系数变小、使Sz变小的趋势。

(3)底涂层

如图2所示，光学层叠体可以在基材层10与光学各向异性层11之间还包含底涂层13。底涂层13通常直接层叠于基材层10中的光学各向异性层11侧的表面。通过形成底涂层13，能够实现基材层10与取向层12的密合性提高、基材层的硬度提高、取向层的取向性提高、取向层用组合物的涂布性提高(抑制缩孔)等。

作为底涂层13的主成分，可举出环氧聚合物、丙烯酸聚合物、氨基甲酸酯聚合物、聚酰亚胺聚合物、芳族聚酰胺聚合物等。可以通过将在溶剂中溶解聚合物成分而得到的底涂组合物涂布于基材上并进行干燥而形成，或者，通过将包含聚合性材料的底涂组合物涂布于基材上，并照射活性能量射线或热能使其固化而形成。

作为底涂组合物，可举出包含环氧聚合物、丙烯酸聚合物、氨基甲酸酯聚合物、聚酰亚胺聚合物、芳族聚酰胺聚合物等的物质。

底涂组合物可以还包含溶剂、添加剂等。作为添加剂，可举出无机粒子、流平剂、稳定剂、表面活性剂、抗静电剂、润滑剂、防污剂等。

底涂层13的厚度优选为0.5μm以上，更优选为1μm以上，进一步优选为3μm以上，可以为4μm以上。另外，底涂层13的厚度优选为30μm以下，更优选为20μm以下，进一步优选为10μm以下。

(4)光学各向异性层及取向层

光学各向异性层(相位差层)11是将含有聚合性液晶化合物的组合物(以下，也称为“相位差层形成用组合物”。)涂布形成于透明基材上、由聚合性液晶化合物进行了取向的聚合物形成的层。

光学各向异性层11通常为聚合性液晶化合物以取向的状态固化而得到的层，为了在视觉辨认面内产生相位差，需要为在聚合性液晶化合物相对于基材面在水平方向上取向的状态下聚合性基团聚合而成的固化膜。此时，聚合性液晶化合物为棒状的液晶的情况下，为正A板即可，若聚合性液晶化合物为圆盘状的液晶，则为负A板即可。另外，可以在棒状的液晶中添加手性剂等而形成螺旋取向。

光学各向异性层11优选为λ/4层、λ/2层、或正C层。光学各向异性层11可以包含2层以上的光学各向异性层。作为2层以上的光学各向异性层的组合，例如，可举出λ/4层与λ/2层的组合、λ/4层与正C层的组合等。光学各向异性层11包含2层以上的光学各向异性层的情况下，光学各向异性层11可以包含用于将这些光学各向异性层彼此贴合的贴合层(粘合剂层或粘接剂层)。

就光学各向异性层11而言，对波长λnm的光的面内相位差即Re(λ)优选满足下述式(1)所示的光学特性，优选满足下述式(1)、下述式(2)及下述式(3)所示的光学特性。

100nm<Re(550)<160nm···(1)

(式中，Re(550)表示对波长550nm的光的面内相位差值(面内延迟)。)

Re(450)/Re(550)≤1.0···(2)

1.00≤Re(650)/Re(550)··(3)

(式中，Re(450)表示对波长450nm的光的面内相位差值，Re(550)表示对波长550nm的光的面内相位差值，Re(650)表示对波长650nm的光的面内相位差值。)

光学各向异性层11优选具有逆波长分散性，具体而言，优选满足式(2)及式(3)。若光学各向异性层11的“Re(450)/Re(550)”超过1.0，则具备该光学各向异性层的椭圆偏光板中的短波长侧处的漏光变大。优选为0.7以上1.0以下，更优选为0.80以上0.95以下，进一步优选为0.80以上0.92以下，尤其优选为0.82以上0.88以下。“Re(450)/Re(550)”的值可以通过调整聚合性液晶化合物的混合比率、多个光学各向异性层11的层叠角度、相位差值而任意地调整。

光学各向异性层11的面内相位差值可以通过光学各向异性层11的厚度而进行调整。面内相位差值由下述式(4)决定，因此为了得到所期望的面内相位差值(Re(λ))，调整Δn(λ)和膜厚d即可。光学各向异性层11的厚度可以利用干涉膜厚计、激光显微镜或触针式膜厚计进行测定。

需要说明的是，Δn(λ)依赖于后述的聚合性液晶化合物的分子结构。

Re(λ)＝d×Δn(λ)···(4)

(式中，Re(λ)表示波长λnm处的面内相位差值，d表示膜厚，Δn(λ)表示波长λnm处的双折射率。)

另外，正C层在波长550nm处的厚度方向的相位差值Rth(550)通常为-170nm以上-10nm以下的范围，优选为-150nm以上-20nm以下的范围，更优选为-100nm以上-40nm的范围。若厚度方向的相位差值为该范围，则能够进一步提高防止来自倾斜方向的反射的特性。

作为聚合性液晶化合物，可举出棒状的聚合性液晶化合物及圆盘状的聚合性液晶化合物，可以使用这些之中的一者，也可以使用包含这两者的混合物。棒状的聚合性液晶化合物相对于基材层10进行水平取向或垂直取向的情况下，该聚合性液晶化合物的光轴与该聚合性液晶化合物的长轴方向一致。圆盘状的聚合性液晶化合物进行了取向的情况下，该聚合性液晶化合物的光轴存在于与该聚合性液晶化合物的圆盘面正交的方向上。作为棒状的聚合性液晶化合物，例如，可优选使用日本特表平11-513019号公报(权利要求1等)中记载的聚合性液晶化合物。作为圆盘状的聚合性液晶化合物，可优选使用日本特开2007-108732号公报(段落[0020]～[0067]等)、日本特开2010-244038号公报(段落[0013]～[0108]等)中记载的聚合性液晶化合物。

为了使通过将聚合性液晶化合物聚合而形成的光学各向异性层呈现出面内相位差，使聚合性液晶化合物在合适的方向上取向即可。聚合性液晶化合物为棒状的情况下，通过使该聚合性液晶化合物的光轴相对于基材层10的长尺寸方向(基材层10的平面)水平地取向，从而呈现出面内相位差，该情况下，光轴方向与慢轴方向一致。聚合性液晶化合物为圆盘状的情况下，通过使该聚合性液晶化合物的光轴相对于基材层10的长尺寸方向(基材层10的平面)水平地取向，从而呈现出面内相位差，该情况下，光轴与慢轴正交。或者，从光学补偿的观点考虑，光学各向异性层11可以具有相对于基材层10的长尺寸方向(基材层10的平面)而言倾斜方向的光轴。光学各向异性层11也可以具有相对于基材层10的长尺寸方向(基材层10的平面)而言垂直方向的光轴。聚合性液晶化合物的取向状态(进而光学各向异性层11的光轴的取向)可以通过取向层12与聚合性液晶化合物的组合而进行调整。

聚合性液晶化合物是具有至少一个聚合性基团、并且具有液晶性的化合物。将两种以上的聚合性液晶化合物并用的情况下，优选至少一种在分子内具有2个以上的聚合性基团。聚合性基团是指参与聚合反应的基团，优选为光聚合性基团。光聚合性基团是指通过由光聚合引发剂产生的活性自由基、酸等而能够参与聚合反应的基团。

作为聚合性基团，可举出乙烯基、乙烯基氧基、1-氯乙烯基、异丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯酰基氧基、甲基丙烯酰基氧基、环氧乙烷基、氧杂环丁基、苯乙烯基、烯丙基等。其中，优选为丙烯酰基氧基、甲基丙烯酰基氧基、乙烯基氧基、环氧乙烷基及氧杂环丁基，更优选为丙烯酰基氧基。聚合性液晶化合物所具有的液晶性可以为热致性液晶，也可以为溶致性液晶，从能够进行精密的膜厚控制的方面考虑，优选热致性液晶。另外，作为热致性液晶中的相有序结构，可以为向列型液晶，也可以为近晶型液晶。

作为聚合性液晶化合物，从呈现逆波长分散性的观点考虑，优选为在与分子长轴方向垂直的方向上进一步具有双折射性的、以T字型或H型具有介晶结构的液晶，从可获得更强的分散的观点考虑，更优选为T字型液晶，作为T字型液晶的结构，具体而言，例如，可举出下述式(I)表示的化合物：

[化学式1]

式(I)中，Ar表示可具有取代基的二价芳香族基团。该二价芳香族基团中，优选包含氮原子、氧原子、硫原子中的至少一个以上。在二价基团Ar中包含的芳香族基团为2个以上的情况下，2个以上的芳香族基团彼此可以通过单键、-CO-O-、-O-等二价键合基团进行键合。

G¹及G²各自独立地表示二价芳香族基团或二价脂环式烃基。此处，该二价芳香族基团或二价脂环式烃基中包含的氢原子可以被卤素原子、碳原子数1～4的烷基、碳原子数1～4的氟烷基、碳原子数1～4的烷氧基、氰基或硝基取代，构成该二价芳香族基团或二价脂环式烃基的碳原子可以替换为氧原子、硫原子或氮原子。

L¹、L²、B¹及B²各自独立地为单键或二价连接基团。

k、l各自独立地表示0～3的整数，满足1≤k+l的关系。此处，2≤k+l的情况下，B¹及B²、G¹及G²各自可以彼此相同，也可以不同。

E¹及E²各自独立地表示碳原子数1～17的烷烃二基，此处，烷烃二基中包含的氢原子可以被卤素原子取代，该烷烃二基中包含的-CH₂-可以被-O-、-S-、-COO-替换，在具有多个-O-、-S-、-COO-的情况下，彼此不相邻。P¹及P²彼此独立地表示聚合性基团或氢原子，至少一个为聚合性基团。

G¹及G²各自独立地优选为可以被选自由卤素原子及碳原子数1～4的烷基组成的组中的至少1个取代基取代的1,4-亚苯基二基、可以被选自由卤素原子及碳原子数1～4的烷基组成的组中的至少1个取代基取代的1,4-环己烷二基，更优选为被甲基取代的1,4-亚苯基二基、未取代的1,4-亚苯基二基、或未取代的1,4-反式-环己烷二基，尤其优选为未取代的1,4-亚苯基二基、或未取代的1,4-反式环己烷二基。

另外，优选存在有多个的G¹及G²中的至少1个为二价脂环式烃基，另外，更优选与L¹或L²键合的G¹及G²中的至少1个为二价脂环式烃基。

L¹及L²各自独立地优选为单键、碳原子数1～4的亚烷基、-O-、-S-、-R^a1OR^a2-、-R^a3COOR^a4-、-R^a5OCOR^a6-、R^a7OC＝OOR^a8-、-N＝N-、-CR^c＝CR^d-、或C≡C-。此处，R^a1～R^a8各自独立地表示单键、或碳原子数1～4的亚烷基，R^c及R^d表示碳原子数1～4的烷基或氢原子。L¹及L²各自独立地更优选为单键、-OR^a2-1-、-CH₂-、-CH₂CH₂-、-COOR^a4-1-、或OCOR^a6-1-。此处，R^a2-1、R^a4-1、R^a6-1各自独立地表示单键、-CH₂-、-CH₂CH₂-中的任一者。L¹及L²各自独立地进一步优选为单键、-O-、-CH₂CH₂-、-COO-、-COOCH₂CH₂-、或OCO-。

B¹及B²各自独立地优选为单键、碳原子数1～4的亚烷基、-O-、-S-、-R^a9OR^a10-、-R^a11COOR^a12-、-R^a13OCOR^a14-、或R^a15OC＝OOR^a16-。此处，R^a9～R^a16各自独立地表示单键、或碳原子数1～4的亚烷基。B¹及B²各自独立地更优选为单键、-OR^a10-1-、-CH₂-、-CH₂CH₂-、-COOR^{a12 -1}-、或OCOR^a14-1-。此处，R^a10-1、R^a12-1、R^a14-1各自独立地表示单键、-CH₂-、-CH₂CH₂-中的任一者。B¹及B²各自独立地进一步优选为单键、-O-、-CH₂CH₂-、-COO-、-COOCH₂CH₂-、-OCO-、或OCOCH₂CH₂-。

就k及l而言，从呈现逆波长分散性的观点考虑，优选2≤k+l≤6的范围，优选k+l＝4，更优选k＝2并且l＝2。k＝2并且l＝2时呈对称结构，故优选。

E¹及E²各自独立地优选为碳原子数1～17的烷烃二基，更优选为碳原子数4～12的烷烃二基。

作为P¹或P²表示的聚合性基团，可举出环氧基、乙烯基、乙烯基氧基、1-氯乙烯基、异丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯酰基氧基、甲基丙烯酰基氧基、环氧乙烷基、及氧杂环丁基等。其中，优选为丙烯酰基氧基、甲基丙烯酰基氧基、乙烯基氧基、环氧乙烷基及氧杂环丁基，更优选为丙烯酰基氧基。

Ar优选具有选自可具有取代基的芳香族烃环、可具有取代基的芳香族杂环、及吸电子性基团中的至少一者。作为该芳香族烃环，例如，可举出苯环、萘环、蒽环等，优选为苯环、萘环。作为该芳香族杂环，可举出呋喃环、苯并呋喃环、吡咯环、吲哚环、噻吩环、苯并噻吩环、吡啶环、吡嗪环、嘧啶环、三唑环、三嗪环、吡咯啉环、咪唑环、吡唑环、噻唑环、苯并噻唑环、噻吩并噻唑环、噁唑环、苯并噁唑环、及菲咯啉环等。其中，优选具有噻唑环、苯并噻唑环、或苯并呋喃环，进一步优选具有苯并噻唑基。另外，在Ar中含有氮原子的情况下，该氮原子优选具有π电子。

式(I)中，Ar表示的2价芳香族基团中包含的π电子的总数Nπ优选为8以上，更优选为10以上，进一步优选为14以上，特别优选为16以上。另外，优选为30以下，更优选为26以下，进一步优选为24以下。

作为Ar表示的芳香族基团，例如可优选举出以下的基团。

[化学式2]

式(Ar-1)～式(Ar-23)中，符号*表示连接部，Z⁰、Z¹及Z²各自独立地表示氢原子、卤素原子、碳原子数1～12的烷基、氰基、硝基、碳原子数1～12的烷基亚磺酰基、碳原子数1～12的烷基磺酰基、羧基、碳原子数1～12的氟烷基、碳原子数1～6的烷氧基、碳原子数1～12的烷基硫基、碳原子数1～12的N-烷基氨基、碳原子数2～12的N,N-二烷基氨基、碳原子数1～12的N-烷基氨磺酰基或碳原子数2～12的N,N-二烷基氨磺酰基。

Q¹、Q²及Q³各自独立地表示-CR^2’R^3’-、-S-、-NH-、-NR^2’-、-CO-或O-，R^2’及R^3’各自独立地表示氢原子或碳原子数1～4的烷基。

J¹、及J²各自独立地表示碳原子、或氮原子。

Y¹、Y²及Y³各自独立地表示可被取代的芳香族烃基或芳香族杂环基。

W¹及W²各自独立地表示氢原子、氰基、甲基或卤素原子，m表示0～6的整数。

作为Y¹、Y²及Y³中的芳香族烃基，可举出苯基、萘基、蒽基、菲基、联苯基等碳原子数6～20的芳香族烃基，优选为苯基、萘基，更优选为苯基。作为芳香族杂环基，可举出呋喃基、吡咯基、噻吩基、吡啶基、噻唑基、苯并噻唑基等包含至少1个氮原子、氧原子、硫原子等杂原子的碳原子数4～20的芳香族杂环基，优选为呋喃基、噻吩基、吡啶基、噻唑基、苯并噻唑基。

Y¹、Y²及Y³各自独立地可以为可经取代的多环系芳香族烃基或多环系芳香族杂环基。多环系芳香族烃基是指稠合多环系芳香族烃基、或源自芳香环集合的基团。多环系芳香族杂环基是指稠合多环系芳香族杂环基、或源自芳香环集合的基团。

Z⁰、Z¹及Z²各自独立地优选为氢原子、卤素原子、碳原子数1～12的烷基、氰基、硝基、碳原子数1～12的烷氧基，Z⁰进一步优选为氢原子、碳原子数1～12的烷基、氰基，Z¹及Z²进一步优选为氢原子、氟原子、氯原子、甲基、氰基。

Q¹、Q²及Q³优选为-NH-、-S-、-NR^2’-、-O-，R^2’优选为氢原子。其中，尤其优选-S-、-O-、-NH-。

式(Ar-1)～(Ar-23)中，式(Ar-6)及式(Ar-7)从分子的稳定性的观点考虑是优选的。

式(Ar-16)～(Ar-23)中，Y¹可以与其所键合的氮原子及Z⁰一起形成芳香族杂环基。作为芳香族杂环基，可举出作为Ar可以具有的芳香族杂环而在前文叙述的例子，例如，可举出吡咯环、咪唑环、吡咯啉环、吡啶环、吡嗪环、嘧啶环、吲哚环、喹啉环、异喹啉环、嘌呤环、吡咯烷环等。该芳香族杂环基可具有取代基。另外，Y¹也可以与其所键合的氮原子及Z⁰一起形成为前述的可经取代的多环系芳香族烃基或多环系芳香族杂环基。例如，可举出苯并呋喃环、苯并噻唑环、苯并噁唑环等。

聚合性液晶化合物中，优选极大吸收波长为300nm以上400nm以下的化合物。在聚合性液晶组合物中含有光聚合引发剂的情况下，有在长期保存时进行聚合性液晶化合物的聚合反应及凝胶化的担忧。但是，聚合性液晶化合物的极大吸收波长为300nm以上400nm以下时，即使在保存期间暴露于紫外光，也能够有效地抑制源自光聚合引发剂的反应活性种的产生及由该反应活性种引起的聚合性液晶化合物的聚合反应及凝胶化的进行。因此，从聚合性液晶组合物的长期稳定性的方面来看是有利的，能够提高得到的液晶固化膜的取向性及膜厚的均匀性。需要说明的是，聚合性液晶化合物的极大吸收波长可以在溶剂中使用紫外可见分光光度计来测定。该溶剂是能将聚合性液晶化合物溶解的溶剂，例如可举出氯仿等。

相对于聚合性液晶组合物的固态成分100质量份，聚合性液晶组合物中的聚合性液晶化合物的含量例如为70质量份以上99.5质量份以下，优选为80质量份以上99质量份以下，更优选为85质量份以上98质量份以下，进一步优选为90质量份以上95质量份以下。聚合性液晶化合物的含量在上述范围内时，从得到的光学各向异性层的取向性的观点考虑是有利的。需要说明的是，本说明书中，聚合性液晶组合物的固态成分是指从聚合性液晶组合物中除去有机溶剂等挥发性成分后的全部成分。

光学层叠体可以包含取向层12。取向层12具有使聚合性液晶化合物在所期望的方向上取向的取向控制力。

取向层12使聚合性液晶化合物的液晶取向变得容易。水平取向、垂直取向、混合取向、倾斜取向等液晶取向的状态根据取向层12及聚合性液晶化合物的性质而变化，其组合可任意地选择。例如，取向层12是作为取向控制力使其水平取向的材料时，聚合性液晶化合物能够形成水平取向或混合取向，是使其垂直取向的材料时，聚合性液晶化合物能够形成垂直取向或倾斜取向。水平、垂直等表述表示以光学各向异性层平面为基准时的、进行了取向的聚合性液晶化合物的长轴的方向。例如，所谓垂直取向，是指在相对于光学各向异性层平面垂直的方向上具有进行了取向的聚合性液晶化合物的长轴。此处所谓垂直，是指相对于光学各向异性层平面呈90°±20°。

取向层12由取向性聚合物形成的情况下，取向控制力可通过表面状态、摩擦条件而任意地调整，取向层12由光取向性聚合物形成的情况下，可通过偏振光照射条件等而任意地调整。另外，也可以通过选择聚合性液晶化合物的表面张力、液晶性等物性来控制液晶取向。

作为在基材层10与光学各向异性层11之间形成的取向层12，优选不溶于在取向层12上形成光学各向异性层11时所使用的溶剂中，另外，具有用于溶剂的除去、液晶的取向的加热处理中的耐热性。作为取向层12，可举出由取向性聚合物形成的取向层、光取向层及凹槽(groove)取向层、在取向方向上进行了拉伸的拉伸膜等，在应用于长条的卷状膜的情况下，从能够容易地控制取向方向的方面考虑，优选光取向层。

取向层12的厚度通常为10nm以上5000nm以下的范围，优选为10nm以上1000nm以下的范围，更优选为30nm以上300nm以下。

作为摩擦取向层中使用的取向性聚合物，可举出在分子内具有酰胺键的聚酰胺、明胶类、在分子内具有酰亚胺键的聚酰亚胺及作为其水解物的聚酰胺酸、聚乙烯醇、烷基改性聚乙烯醇、聚丙烯酰胺、聚噁唑、聚乙烯亚胺、聚苯乙烯、聚乙烯吡咯烷酮、聚丙烯酸及聚丙烯酸酯类等。其中，优选为聚乙烯醇。这些取向性聚合物可以单独使用，也可以组合使用2种以上。

作为摩擦的方法，可举出下述方法：使通过将取向性聚合物组合物涂布于基材层并进行退火而在基材层表面形成的取向性聚合物的膜、与缠绕有摩擦布并旋转着的摩擦辊进行接触。

光取向层是由包含光反应性基团的光取向性聚合物、光取向性低聚物或光取向性单体形成的光取向膜。光取向层通过照射偏振光而得到取向控制力。从通过对照射的偏振光的偏振方向进行选择而能够任意地控制取向控制力的方向的方面考虑，更优选光取向层。

所谓光反应性基团，是指通过照射光而产生液晶取向能力的基团。具体而言，为发生通过照射光而发生的分子的取向诱发或异构化反应、二聚化反应、光交联反应或光分解反应这样的成为液晶取向能力的来源的光反应的基团。该光反应性基团中，引起二聚化反应或光交联反应的基团从取向性优异的方面考虑是优选的。作为可发生以上这样的反应的光反应性基团，优选为具有不饱和键、特别是双键的基团，更优选为具有选自由碳-碳双键(C＝C键)、碳-氮双键(C＝N键)、氮-氮双键(N＝N键)及碳-氧双键(C＝O键)组成的组中的至少一种的基团。

作为具有C＝C键的光反应性基团，例如可举出乙烯基、多烯基、茋基、茋唑基(stilbazole group)、茋唑鎓基(stilbazolium group)、查尔酮基及肉桂酰基等。从反应性的控制容易这样的方面、光取向时的取向控制力呈现的观点考虑，优选查尔酮基及肉桂酰基。作为具有C＝N键的光反应性基团，可举出具有芳香族席夫碱及芳香族腙等结构的基团。作为具有N＝N键的光反应性基团，可举出偶氮苯基、偶氮萘基、芳香族杂环偶氮基、双偶氮基及甲臜(formazan)基等、以氧化偶氮苯为基本结构的基团。作为具有C＝O键的光反应性基团，可举出二苯甲酮基、香豆素基、蒽醌基及马来酰亚胺基等。这些基团可以具有烷基、烷氧基、芳基、烯丙基氧基、氰基、烷氧基羰基、羟基、磺酸基及卤代烷基等取代基。

此外，为了与基材层、光学各向异性层获得密合，可以在具有光反应性基团的聚合物侧链具有密合性基团。作为密合性基团，可举出环氧基、氧杂环丁烷基、(甲基)丙烯酰基等。

照射偏振光时，可以是从膜面直接照射偏振光的形式，也可以是从基材层侧照射偏振光、使偏振光透过而进行照射的形式。另外，尤其优选该偏振光实质上为平行光。照射的偏振光的波长优选为具有光反应性基团的聚合物或单体的光反应性基团能够吸收光能的波长区域的波长。具体而言，尤其优选波长250nm以上400nm以下的范围的UV(紫外光)。作为该偏振光照射中使用的光源，可举出氙灯、高压汞灯、超高压汞灯、金属卤化物灯、KrF、ArF等紫外光激光等，更优选为高压汞灯、超高压汞灯及金属卤化物灯。这些灯因波长313nm的紫外光的发光强度大，因此优选。通过使来自前述光源的光从适当的偏光片通过而进行照射，从而能照射偏振光。作为所述偏光片，可以使用偏振滤光片、格兰-汤普森、格兰-泰勒等的偏光棱镜、线栅型的偏光片。

光学各向异性层11(包含2种以上的光学各向异性层的情况下，为各层)的厚度例如为0.1μm以上、0.5μm以上、1μm以上或2μm以上。另外，该厚度优选为10μm以下，可以为8μm以下，可以为5μm以下或3μm以下。

光学各向异性层可以通过在基材层10上涂布包含聚合性液晶化合物的相位差层形成用组合物、并干燥，使聚合性液晶化合物聚合而形成。相位差层形成用组合物可以涂布于形成于基材层10上的取向层12上。

相位差层形成用组合物除了包含聚合性液晶化合物以外，还可以进一步包含溶剂、聚合引发剂、流平剂、抗氧化剂、光敏化剂、垂直取向促进剂、聚合性非液晶化合物等添加剂。这些成分各自可以仅使用1种，也可以组合使用2种以上。

聚合引发剂为能够引发聚合性液晶化合物等的聚合反应的化合物。作为聚合引发剂，从不依赖于热致液晶的相状态这样的观点考虑，优选通过光的作用而产生活性自由基的光聚合引发剂。

作为光聚合引发剂，可以使用已知的光聚合引发剂，例如，作为产生活性自由基的光聚合引发剂，可以使用自裂解型的苯偶姻系化合物、苯乙酮系化合物、羟基苯乙酮系化合物、α-氨基苯乙酮系化合物、肟酯系化合物、酰基氧化膦系化合物、偶氮系化合物等，可以使用夺氢型的二苯甲酮系化合物、烷基苯酮系化合物、苯偶姻醚系化合物、苯偶酰缩酮系化合物、二苯并环庚酮系化合物、蒽醌系化合物、呫吨酮系化合物、噻吨酮系化合物、卤代苯乙酮系化合物、二烷氧基苯乙酮系化合物、卤代双咪唑系化合物、卤代三嗪系化合物、三嗪系化合物等。作为产生酸的光聚合引发剂，可以使用碘鎓盐及锍盐等。从低温时的反应效率优异这样的观点考虑，优选自裂解型的光聚合引发剂，尤其优选苯乙酮系化合物、羟基苯乙酮系化合物、α-氨基苯乙酮系化合物、肟酯系化合物。

相位差层形成用组合物中的聚合引发剂的含量可根据聚合性液晶化合物的种类及其量而适当调节，相对于聚合性液晶化合物的含量100质量份，通常为0.1质量份以上30质量份以下，优选为0.5质量份以上10质量份以下，更优选为0.5质量份以上8质量份以下。聚合引发剂的含量在上述范围内时，能够在不扰乱聚合性液晶化合物的取向的情况下进行聚合。

流平剂是具有调节相位差层形成用组合物的流动性、使涂布相位差层形成用组合物而得到的涂膜更平坦的功能的添加剂，例如，优选为含有氟原子或硅原子的聚合物成分或聚丙烯酸酯系聚合物，更优选为以含有氟原子或硅原子的聚合物成分作为主成分的表面活性剂。具体而言，可举出有机改性硅油系、聚丙烯酸酯系及全氟烷基系的流平剂。其中，优选聚丙烯酸酯系流平剂及全氟烷基系流平剂。相对于聚合性液晶化合物100质量份而言，流平剂的含量优选为0.01质量份以上5质量份以下，更优选为0.05质量份以上3质量份以下，进一步优选为0.05质量份以上1质量份以下。若流平剂的含量在上述范围内，则有容易使聚合性液晶化合物进行水平取向，并且使得到的光学各向异性层更平滑的趋势。若流平剂相对于聚合性液晶化合物而言的含量超过上述范围，则有得到的光学各向异性层中容易产生不均的趋势。需要说明的是，相位差层形成用组合物可以含有2种以上的流平剂。

光学各向异性层11优选包含含有氟原子的成分。通过使光学各向异性层11包含含有氟原子的成分，能够易于将上述动摩擦系数调节至上述规定的范围内。作为含有氟原子的成分，没有特别限制，其一例为上述的氟系流平剂。相对于聚合性液晶化合物100质量份而言，含有氟原子的成分的含量优选为0.01质量份以上10质量份以下，更优选为0.05质量份以上3质量份以下。

实施例

以下，示出实施例及比较例来进一步具体地说明本发明，但本发明不受这些例子限定。只要没有特别记载，例中的“％”及“份”为质量％及质量份。

<实施例1>

〔1〕基材层的制造

用超级混合器将70％(甲基)丙烯酸系树脂及30％橡胶粒子混合，用双螺杆挤出机进行熔融混炼，形成粒料。作为(甲基)丙烯酸系树脂，使用甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸甲酯＝96％/4％(质量比)的共聚物。作为橡胶粒子，使用为三层结构的弹性体粒子、且直至作为下述中间层的弹性体为止的平均粒径为240nm的粒子，所述三层结构的最内层由在甲基丙烯酸甲酯中使用少量的甲基丙烯酸烯丙酯进行聚合而得的硬质的聚合物形成，中间层由以丙烯酸丁酯为主成分、进一步使用苯乙烯及少量的甲基丙烯酸烯丙酯进行聚合而得的软质的弹性体形成，最外层由在甲基丙烯酸甲酯中使用少量的丙烯酸乙酯进行聚合而得的硬质的聚合物形成。在该橡胶粒子中，最内层与中间层的合计质量为粒子整体的70％。

将上述粒料投入直径65mm的单螺杆挤出机中，经由设定温度为275℃的T型模头挤出，将所挤出的树脂用经粗糙化的压花辊和橡胶制弹性辊夹持，得到基材层(1)。基材层(1)的厚度为80μm。

〔2〕取向层形成用组合物的制备

将下述成分混合，将得到的混合物于80℃搅拌1小时，由此得到取向层形成用组合物(1)。

下述式表示的光取向性材料：2份

[化学式3]

溶剂环戊酮：98份

〔3〕相位差层形成用组合物(1)的制备

将下述成分混合，将得到的混合物于80℃搅拌1小时，由此得到相位差层形成用组合物(1)。

下述式表示的聚合性液晶化合物(A11-1)：100份

[化学式4]

下述式表示的聚合性液晶化合物(x-1)：33份

[化学式5]

光聚合引发剂(2-二甲基氨基-2-苄基-1-(4-吗啉代苯基)丁烷-1-酮(Irgacure(注册商标)369；BASF JAPAN公司制)：8份

丙烯酸系流平剂(BYK361N；BYK-Chemie公司制)：0.1份

溶剂环戊酮：546份

溶剂N-甲基吡咯烷酮：364份

〔4〕光学层叠体的制造

利用模涂法，将取向层形成用组合物(1)涂布于长条状的基材层(1)的压花处理面的相反面，形成第1涂布膜。将得到的第1涂布膜于80℃干燥2分钟后，冷却至室温，形成第1干燥被膜。然后，将偏振光紫外线以取向控制力的方向相对于基材层(1)的搬运方向(长尺寸方向)成为45°的角度的方式照射100mJ(313nm基准)，在基材层(1)上形成长条状的取向层。偏振光紫外线从相对于第1干燥被膜的长尺寸方向及短尺寸方向而言垂直的方向照射至第1干燥被膜。

接着，在长条状的取向层之上，以第2涂布膜的膜厚成为17μm的方式利用模涂法涂布相位差层形成用组合物(1)，形成第2涂布膜。将第2涂布膜于90℃加热干燥2分钟，冷却至室温，由此形成第2干燥被膜。使用紫外线照射装置，将曝光量为500mJ/cm²(365nm基准)的紫外线照射至第2干燥被膜，由此得到形成有长条状的光学各向异性层的光学层叠体(1)。

〔5〕测定及评价

〔5-1〕膜厚的测定

从光学层叠体(1)切出样品片(4cm×4cm)，使用激光显微镜(LEXT3000；Olympus公司制)测定膜厚。结果，长条状的取向层的膜厚为200nm，长条状的光学各向异性层的膜厚为2.1μm。

〔5-2〕动摩擦系数的测定

按照JIS K7125：1999，对基材层中的和光学各向异性层相反侧的表面A、与光学各向异性层中的和基材层相反侧的表面B的25℃时的动摩擦系数进行测定。结果，动摩擦系数为0.62。

〔5-3〕基材层的表面形状的测定

使用株式会社菱化系统公司制的VertScan，对基材层中的和光学各向异性层相反侧的表面A的最大高低差Sz进行测定。从94μm×70μm的测定视野中选择任意5处，将测定该5处的最大高低差时的这些测定值的平均值作为最大高低差Sz。结果，表面A的最大高低差Sz为387nm。

〔5-4〕粘连的评价

从光学层叠体(1)的任意部位切出两张10cm×10cm的样品片，在以基材层的表面A与光学各向异性层的表面B相接的方式叠合的状态下，在80℃的烘箱中加热10分钟。从烘箱中取出而冷却，然后求出2张样品片的贴附面积，按照以下的基准进行评价。光学层叠体(1)的评价为A。

A：贴附的面积为整体的0％以上且小于20％

B：贴附的面积为整体的20％以上且小于50％

C：贴附的面积为整体的50％以上

〔5-5〕卷绕偏移的评价

将1000m光学层叠体(1)卷绕于内径152.55mm、外径167mm的芯上，按照上述的定义测定膜的卷绕偏移量，按照以下的基准进行评价。光学层叠体(1)的卷绕偏移量为1.5mm，评价为A。

A：卷绕偏移量小于2mm

B：卷绕偏移量为2mm以上且小于5mm

C：卷绕偏移量为5mm以上

〔5-6〕密合性的评价

从光学层叠体(1)的任意部位切出样品片，按照JIS K5400对光学各向异性层的密合性进行评价。光学层叠体(1)的评价为C。

A：任意格子均没有剥离

B：涂膜部分地、整面地剥离(1％以上且小于50％)

C：涂膜部分地、整面地剥离(50％以上)

<实施例2>

在制备相位差层形成用组合物(1)时，添加6.7份具有下述结构的化合物(LALOMERLR9000；BASF JAPAN公司制)并混合，将得到的混合物于80℃搅拌1小时，由此得到相位差层形成用组合物(2)。接下来，除了代替相位差层形成用组合物(1)而使用相位差层形成用组合物(2)以外，与实施例1同样地操作，得到光学层叠体(2)。

[化学式6]

<实施例3>

除了代替丙烯酸系流平剂0.1份而使用氟系流平剂(Megaface F556；DIC公司制)0.1份以外，与实施例2同样地操作，得到相位差层形成用组合物(3)。接下来，除了代替相位差层形成用组合物(2)而使用相位差层形成用组合物(3)以外，与实施例2同样地操作，得到光学层叠体(3)。

<实施例4>

除了将氟系流平剂的添加量从0.1份变更为0.3份以外，与实施例2同样地操作，得到相位差层形成用组合物(4)。接下来，除了代替相位差层形成用组合物(2)而使用相位差层形成用组合物(4)以外，与实施例2同样地操作，得到光学层叠体(4)。

<实施例5>

除了代替丙烯酸系流平剂0.1份而使用硅系流平剂(BYK330；BYK-Chemie公司制)0.1份以外，与实施例2同样地操作，得到相位差层形成用组合物(5)。接下来，除了代替相位差层形成用组合物(2)而使用相位差层形成用组合物(5)以外，与实施例2同样地操作，得到光学层叠体(5)。

<实施例6>

〔1〕基材层的制造

用超级混合器将(甲基)丙烯酸系树脂混合，用双螺杆挤出机进行熔融混炼，形成粒料。作为(甲基)丙烯酸系树脂，使用甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸甲酯＝96％/4％(质量比)的共聚物。

将上述粒料熔融挤出，用2个镜面辊夹持，得到基材层(2)。基材层(2)的厚度为40μm。进一步地，在基材层(2)的单面涂布具有脱模性的成分而形成脱模层，得到基材层(3)。基材层(3)的脱模层表面的最大高低差Sz为289nm。

〔2〕光学层叠体的制造

在基材层(3)中的和脱模层相反侧的表面，与实施例3同样地形成长条状的取向层及长条状的光学各向异性层，得到光学层叠体(6)。

<实施例7>

〔1〕基材层的制造

与实施例4同样地操作，得到基材层(2)。对基材层(2)的单面进行吹送研磨剂的喷砂处理，使表面粗糙化而得到基材层(4)。基材层(4)的喷砂处理面的最大高低差Sz为350nm。

〔2〕光学层叠体的制造

在基材层(4)中的和喷砂处理面相反侧的表面，与实施例3同样地形成长条状的取向层及长条状的光学各向异性层，得到光学层叠体(7)。

<实施例8>

〔1〕基材层的制造

除了变更喷砂的处理条件以外，与实施例5〔1〕同样地进行喷砂处理，得到基材层(5)。基材层(5)的喷砂处理面的最大高低差Sz为994nm。

〔2〕光学层叠体的制造

在基材层(5)中的和喷砂处理面相反侧的表面，与实施例3同样地形成长条状的取向层及长条状的光学各向异性层，得到光学层叠体(8)。

<实施例9>

〔1〕基材层的制造

除了变更喷砂的处理条件以外，与实施例5〔1〕同样地进行喷砂处理，得到基材层(6)。基材层(6)的喷砂处理面的最大高低差Sz为461nm。

〔2〕光学层叠体的制造

在基材层(6)中的和喷砂处理面相反侧的表面，与实施例3同样地形成长条状的取向层及长条状的光学各向异性层，得到光学层叠体(9)。

<实施例10>

〔1〕基材层的制造

在环状聚烯烃系树脂膜(ZF-14；日本Zeon公司制，厚度40μm)的单面，与实施例5同样地实施喷砂处理，得到基材层(7)。基材层(7)的喷砂处理面的最大高低差Sz为391nm。

〔2〕光学层叠体的制造

在基材层(7)中的和喷砂处理面相反侧的表面，与实施例3同样地形成长条状的取向层及长条状的光学各向异性层，得到光学层叠体(10)。

<比较例1>

作为基材层(8)，使用环状聚烯烃系树脂膜(ZF-14；日本Zeon公司制，厚度40μm)。在基材层(8)的单面，与实施例2同样地形成长条状的取向层及长条状的光学各向异性层，得到光学层叠体(11)。

<比较例2>

作为基材层(9)，使用双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(DIAFOIL，三菱树脂公司制，厚度100μm)。在基材层(9)的单面，与实施例2同样地形成长条状的取向层及长条状的光学各向异性层，得到光学层叠体(12)。

将各实施例及比较例中的动摩擦系数及最大高低差Sz的测定结果、以及粘连、卷绕偏移及密合性的评价示于表1。

[表1]

附图标记说明

1、2光学层叠体；10基材层；11光学各向异性层；12取向层；13底涂层；100光学层叠体；101期望位置；102与期望位置的距离变得最大的位置；105卷绕偏移量；200卷芯。

Claims (9)

1.光学层叠体，其为长条状的光学层叠体，

所述光学层叠体包含基材层、和配置于其一个面上的光学各向异性层，

所述基材层中的和所述光学各向异性层相反侧的表面、与所述光学各向异性层中的和所述基材层相反侧的表面的动摩擦系数为0.7以下。

2.如权利要求1所述的光学层叠体，其中，所述基材层中的和所述光学各向异性层相反侧的表面的最大高低差Sz为500nm以下。

3.如权利要求1或2所述的光学层叠体，其中，所述光学各向异性层包含含有氟原子或硅原子的聚合物成分。

4.如权利要求1～3中任一项所述的光学层叠体，其中，所述光学各向异性层具有逆波长分散性。

5.如权利要求1～4中任一项所述的光学层叠体，其中，所述光学各向异性层的对波长550nm的光的面内相位差值为100nm以上160nm以下。

6.如权利要求1～5中任一项所述的光学层叠体，其中，所述光学各向异性层具有相对于所述基材层的长度方向而言倾斜方向的光轴。

7.如权利要求1～6中任一项所述的光学层叠体，其中，所述光学各向异性层的厚度为0.1μm以上5μm以下。

8.如权利要求1～7中任一项所述的光学层叠体，其中，所述基材层包含(甲基)丙烯酸系树脂层。

9.如权利要求1～8中任一项所述的光学层叠体，其在所述基材层与所述光学各向异性层之间还包含取向层，

所述取向层为由包含光反应性基团的光取向性聚合物形成的光取向膜。