CN117620882B - 一种低污染的高精度双端面研磨设备 - Google Patents

Abstract

本发明提供了应用于研磨设备领域的一种低污染的高精度双端面研磨设备，本申请通过净化桶整体跟随轴套旋转的设置，使进入除杂仓内的研磨废液利用离心力依次通过过滤膜、油水分离膜，进而将研磨杂质、水和油分别对应分离在除杂仓、水仓、油仓内，进行初级的废水分离作业，进而降低高精度双端面研磨设备排放废水的污染性，降低后期废水的处理难度，利用上研磨砂盘的下移，使带有气密胶圈的负压罩跟随下移，使下研磨砂盘与上研磨砂盘的研磨间隙形成密封状态，避免产生粉尘污染和噪音污染，研磨过程中污染性小，具有市场前景，适合推广应用。

Description

一种低污染的高精度双端面研磨设备

技术领域

本申请涉及研磨设备领域，特别涉及一种低污染的高精度双端面研磨设备。

背景技术

双端面研磨机是一种用于工业生产的机械器具，用于同时研磨产品的上下两端，使产品的厚度和光滑度达到设计要求，在研磨过程中为增加研磨效果，通常配合研磨液进行研磨加工，研磨液是一种常用的研磨介质，通常由水、油、表面活性剂和磨料等成分组成，在进行研磨过程中，研磨液不仅可以起到冷却和润滑的作用，还可以防止磨料的颗粒粘连，提高研磨效率和加工质量。

但是，在使用研磨液之后需要进行相应的处理，以保证研磨液的质量和环保要求，经过过滤和净化后的研磨液可以进行回收利用，减少资源浪费和环境污染，现有的双端面研磨设备缺乏必要的研磨废液预处理功能，通常将研磨液直接排出存储，达一定存储量时再转运进入专业的循环回收厂，增加了研磨废液处理难度，降低了处理效率，为此提出一种低污染的高精度双端面研磨设备来解决以上问题。

发明内容

本申请目的在于解决双端面研磨设备缺乏必要的研磨废液预处理功能，增加了研磨废液处理难度和处理效率低的技术问题，相比现有技术提供一种低污染的高精度双端面研磨设备，包括机架和设置在机架上的下研磨砂盘、主驱动盘及上研磨砂盘，上研磨砂盘通过升降机构上下滑动连接在机架上，下研磨砂盘、主驱动盘均转动连接在机架上，下研磨砂盘、主驱动盘及上研磨砂盘均由驱动机构进行同步驱动，主驱动盘的底部固定有主驱动轴，下研磨砂盘呈圆环状，下研磨砂盘套接在主驱动盘的圆周外侧，主驱动盘的底部固定有轴套，轴套套接在主驱动轴外侧，主驱动轴与轴套间通过行星齿轮组进行方向相反的旋转动作；

上研磨砂盘的顶部设有用于加注研磨液的注液孔，机架在下研磨砂盘的底部设有承接研磨废液的储液环槽，储液环槽的内侧槽壁上设有溢液孔，轴套的底部一侧固定有净化桶，净化桶呈圆柱形结构，净化桶自内而外依次设有除杂仓、水仓、油仓和泡沫仓，除杂仓与水仓间设有过滤膜，水仓和油仓间设有油水分离膜，水仓、油仓的底部还设有供气仓，供气仓的输出端分别与水仓、油仓连通设置，供气仓的输出端上设有第二防水透气膜，供气仓的输入端连接有供气单元。

优选的，除杂仓的输入端设置在顶部并呈敞口结构，净化桶的顶部呈碗状结构，溢液孔的输出端通过管道延伸至除杂仓输入端的敞口处。

优选的，除杂仓、水仓、油仓的外侧仓壁均呈上窄下宽的锥形结构，除杂仓、水仓、油仓的外侧仓壁的高度依次递减，水仓、油仓的外侧仓壁顶部分别固定有第一泡沫导板和第二泡沫导板。

优选的，水仓、油仓的仓壁顶部均固定有液位传感器，水仓、油仓的底部分别设有电磁阀，机架底部设有与电磁阀输出端相对应的排放环槽。

优选的，供气单元包括固定在主驱动轴上的涡轮叶片，轴套上固定有与涡轮叶片相匹配的蜗壳，主驱动轴在涡轮叶片的上下两侧分别设有负压通道、正压通道，正压通道的输出端与供气仓的输入端连通设置。

优选的，储液环槽的外侧槽壁沿竖直方向滑动连接有下滑环，下滑环的顶部固定有锥形过滤板，储液环槽的外侧槽壁上设有与锥形过滤板相对应的分离豁口，下滑环与储液环槽的外侧槽壁间夹接有第二复位弹簧；

储液环槽的内侧槽壁沿竖直方向滑动连接有上滑环，储液环槽的外侧槽壁顶部设有导流斜坡，上滑环的圆周外侧固定有与导流斜坡相对应的封堵垫，上滑环的底部固定有与锥形过滤板相对应的弹性橡胶环，上滑环的圆周内侧固定有压板，压板与储液环槽内侧槽壁间胶接有囊体，负压通道的输入端通过导气滑环与囊体连通设置，储液环槽的内侧槽壁顶等角度均分固定有若干气缸，压板的底部固定有与气缸相匹配的活塞杆，活塞杆的底部固定有活塞，活塞杆的外侧套接有第一复位弹簧，活塞杆内设有分流通道，储液环槽的内侧槽壁上还设有溢气孔。

优选的，分流通道的一端与囊体内部连通设置，分流通道的另一端设置在活塞杆与活塞的连接节点处，分流通道上封装有第一防水透气膜。

优选的，分离豁口的上端口固定胶接有密封垫，第二复位弹簧具有驱使下滑环上移并使下滑环挤压密封垫形变密封的弹力。

优选的，第一复位弹簧具有驱使上滑环上移的弹力，第一复位弹簧在自由状态下，弹性橡胶环的底部与锥形过滤板的外锥面相抵触，弹性橡胶环的下口厚度小于上口厚度。

优选的，上研磨砂盘的圆周外侧转动连接有负压罩，导流斜坡的外侧设有气密环槽，负压罩下端口固定有与气密环槽相对应的气密胶圈。

相比于现有技术，本申请的优点在于：

（1）本申请通过主驱动轴带动轴套旋转，使下研磨砂盘与上研磨砂盘发生相对旋转，在对工件进行双端面研磨的过程中，利用离心力将使用过的研磨液排入储液环槽内，当储液环槽内的研磨废液高过溢液孔时，利用管道导入除杂仓内，由于净化桶整体固定在轴套上并跟随轴套旋转，因此进入除杂仓内的研磨废液利用离心力依次通过过滤膜、油水分离膜，进而将研磨杂质、水和油分别对应分离在除杂仓、水仓、油仓内，进行初级的废水分离作业，进而降低高精度双端面研磨设备排放废水的污染性，降低后期废水的处理难度。

（2）本申请在使用时，当下研磨砂盘上的研磨废液下流进入储液环槽内时，由于弹性橡胶环与锥形过滤板的封堵，研磨废液优先通过导流斜坡进入下滑环的锥形过滤板上，此时下滑环利用第二复位弹簧的弹力挤压密封垫封闭分离豁口的上端口，研磨废液上的较大颗粒废物被锥形过滤板分离，进行初步分离作业，从而降低除杂仓内过滤膜的过滤压力和堵塞概率。

（3）本申请利用上研磨砂盘的下移，使带有气密胶圈的负压罩跟随下移，并将负压罩的下端口插入气密环槽内，使下研磨砂盘、与上研磨砂盘的研磨间隙形成密封状态，一方面在防止研磨粉尘的外泄，避免产生粉尘污染，另一方面，涡轮叶片的负压通道产生的负压，逐步进入下研磨砂盘、与上研磨砂盘间，进而达到减弱研磨噪音传递的目的，避免产生噪音污染，同时负压进一步阻止了研磨粉尘的外流。

附图说明

图1为本申请的正面结构示意图；

图2为本申请的底面结构示意图；

图3为本申请的剖面结构示意图；

图4为图3中A部的放大结构示意图；

图5为本申请中提出的净化桶的剖面结构示意图；

图6为本申请中提出的轴套及主驱动轴的剖面结构示意图；

图7为图3中B部的放大结构示意图；

图8为本申请中提出上滑环及下滑环的剖面结构示意图；

图9为本申请中提出上滑环及下滑环上移时的结构示意图；

图10为本申请中提出上滑环及下滑环下移时的结构示意图。

图中标号说明：

机架1、排放环槽101、下研磨砂盘11、轴套111、蜗壳112、主驱动盘12、主驱动轴121、上研磨砂盘13、负压罩131、注液孔132、研磨治具14、储液环槽15、溢液孔151、溢气孔152、第一防水透气膜153、气缸154、分离豁口155、气密环槽16、导流斜坡161、密封垫162、驱动机构17、涡轮叶片2、负压通道21、正压通道22、净化桶3、电磁阀301、除杂仓31、过滤膜311、水仓32、油水分离膜321、第一泡沫导板322、油仓33、第二泡沫导板331、泡沫仓34、供气仓35、第二防水透气膜351、液位传感器36、上滑环4、封堵垫41、弹性橡胶环42、压板43、囊体5、第一复位弹簧51、活塞杆52、分流通道521、下滑环6、锥形过滤板61、第二复位弹簧62、行星齿轮组7。

具体实施方式

实施例将结合说明书附图，对本申请技术方案进行清楚、完整地描述，基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

实施例1：

本发明提供了一种低污染的高精度双端面研磨设备，请参阅图1-10，包括机架1和设置在机架1上的下研磨砂盘11、主驱动盘12及上研磨砂盘13，上研磨砂盘13通过升降机构上下滑动连接在机架1上，通过升降机构调节上研磨砂盘13与下研磨砂盘11间的研磨间隙，下研磨砂盘11、主驱动盘12均转动连接在机架1上，下研磨砂盘11、主驱动盘12及上研磨砂盘13均由驱动机构17进行同步驱动，主驱动盘12的底部固定有主驱动轴121，下研磨砂盘11呈圆环状，下研磨砂盘11套接在主驱动盘12的圆周外侧，主驱动盘12的底部固定有轴套111，轴套111套接在主驱动轴121外侧，主驱动轴121与轴套111间通过行星齿轮组7进行方向相反的旋转动作，其中驱动机构17通过齿轮组直接驱动主驱动轴121的底部，驱动机构17通过传动皮带与上研磨砂盘13间进行动力传输，下研磨砂盘11上设有用于固定研磨件的研磨治具14，研磨治具14呈薄片齿轮状，主驱动盘12的圆周外侧与下研磨砂盘11圆周外侧均设有与研磨治具14相啮合的齿槽；

请参阅图1-5，上研磨砂盘13的顶部设有用于加注研磨液的注液孔132，机架1在下研磨砂盘11的底部设有承接研磨废液的储液环槽15，储液环槽15的内侧槽壁上设有溢液孔151，轴套111的底部一侧固定有净化桶3，净化桶3呈圆柱形结构，净化桶3自内而外依次设有除杂仓31、水仓32、油仓33和泡沫仓34，除杂仓31与水仓32间设有过滤膜311，水仓32和油仓33间设有油水分离膜321，水仓32、油仓33的底部还设有供气仓35，供气仓35的输出端分别与水仓32、油仓33连通设置，供气仓35的输出端上设有第二防水透气膜351，为提升过滤膜311、油水分离膜321和第二防水透气膜351的结构强度，过滤膜311、油水分离膜321和第二防水透气膜351均通过双层网板进行夹接固定。

本申请通过主驱动轴121带动轴套111旋转，使下研磨砂盘11与上研磨砂盘13发生相对旋转，在对工件进行双端面研磨的过程中，利用离心力将使用过的研磨液排入储液环槽15内，当储液环槽15内的研磨废液高过溢液孔151时，利用管道导入除杂仓31内，由于净化桶3整体固定在轴套111上并跟随轴套111旋转，因此进入除杂仓31内的研磨废液利用离心力依次通过过滤膜311、油水分离膜321，进而将研磨杂质、水和油分别对应分离在除杂仓31、水仓32、油仓33内，进行初级的废水分离作业，进而降低高精度双端面研磨设备排放废水的污染性，降低后期废水的处理难度。

请参阅图2和图6，供气仓35的输入端连接有供气单元，供气单元包括固定在主驱动轴121上的涡轮叶片2，轴套111上固定有与涡轮叶片2相匹配的蜗壳112，主驱动轴121在涡轮叶片2的上下两侧分别设有负压通道21、正压通道22，正压通道22的输出端与供气仓35的输入端连通设置。

请参阅图4-5，除杂仓31的输入端设置在顶部并呈敞口结构，净化桶3的顶部呈碗状结构，溢液孔151的输出端通过管道延伸至除杂仓31输入端的敞口处。

同时本通过主驱动轴121研磨作业时的旋转动力带动涡轮叶片2进行旋转，并通过正压通道22将涡轮叶片2产生正压排入水仓32内，经过第二防水透气膜351的细化导流，分别在水仓32、油仓33的底部产生气泡，利用气泡的浮力和粘连力，进而带动水仓32、油仓33内的液体内残留的杂质上浮，并在水仓32、油仓33内的液体表面产生泡沫，结合净化桶3旋转离心力逐步上移，并通过第一泡沫导板322和第二泡沫导板331导入泡沫仓34内，进一步对水仓32、油仓33内的液体进行除杂作业。

请参阅图4，水仓32、油仓33的仓壁顶部均固定有液位传感器36，水仓32、油仓33的底部分别设有电磁阀301，机架1底部设有与电磁阀301输出端相对应的排放环槽101。

液位传感器36、电磁阀301均通过导电滑环进行供电和信号传输，为达到实时监测液面值的目的，液位传感器36采用红外传感类型，当液位传感器36检测到水仓32、油仓33内液位高度达到设计值时，液位传感器36通过PLC控制单元将信息反馈至电磁阀301，利用电磁阀301将水仓32、油仓33内的储液进行排放至最低值，为防止液体表面的含杂质浮沫的排出，水仓32、油仓33内储液高度的最低设计值不小于0，通过排放环槽101的结构设计，可实现净化桶3在旋转过程中，进行不停机的废液排放作业。

除杂仓31、水仓32、油仓33的外侧仓壁均呈上窄下宽的锥形结构，通过锥形结构的外侧仓壁设计，使除杂仓31内过滤膜311过滤侧较重的杂质会堆积在过滤膜311的底部，进而减小过滤膜311的堵塞概率，提升过滤膜311的使用寿命，同时在水仓32、油仓33的内，液面会呈外环侧高、内环侧低的状态，便于含杂泡沫的溢出，为避免水仓32内的含杂泡沫溢入油仓33内，造成二次污染的现象，除杂仓31、水仓32、油仓33的外侧仓壁的高度依次递减，水仓32、油仓33的外侧仓壁顶部分别固定有第一泡沫导板322和第二泡沫导板331。

请参阅图1-10，储液环槽15的外侧槽壁沿竖直方向滑动连接有下滑环6，下滑环6的顶部固定有锥形过滤板61，储液环槽15的外侧槽壁上设有与锥形过滤板61相对应的分离豁口155，下滑环6与储液环槽15的外侧槽壁间夹接有第二复位弹簧62；

储液环槽15的内侧槽壁沿竖直方向滑动连接有上滑环4，储液环槽15的外侧槽壁顶部设有导流斜坡161，上滑环4的底部固定有与锥形过滤板61相对应的弹性橡胶环42，上滑环4的圆周内侧固定有压板43，压板43与储液环槽15内侧槽壁间胶接有囊体5，负压通道21的输入端通过导气滑环与囊体5连通设置，储液环槽15的内侧槽壁顶等角度均分固定有若干气缸154，压板43的底部固定有与气缸154相匹配的活塞杆52，活塞杆52的底部固定有活塞，活塞杆52的外侧套接有第一复位弹簧51，活塞杆52内设有分流通道521，储液环槽15的内侧槽壁上还设有溢气孔152。

需要说明的是，分离豁口155的上端口固定胶接有密封垫162，第二复位弹簧62具有驱使下滑环6上移并使下滑环6挤压密封垫162形变密封的弹力，第一复位弹簧51具有驱使上滑环4上移的弹力，第一复位弹簧51在自由状态下，弹性橡胶环42的底部与锥形过滤板61的外锥面相抵触，弹性橡胶环42的下口厚度小于上口厚度，分流通道521的一端与囊体5内部连通设置，分流通道521的另一端设置在活塞杆52与活塞的连接节点处，分流通道521上封装有第一防水透气膜153。

请参阅图9，在本实施例中，当下研磨砂盘11上的研磨废液下流进入储液环槽15内时，由于弹性橡胶环42与锥形过滤板61的封堵，研磨废液优先通过导流斜坡161进入下滑环6的锥形过滤板61上，此时下滑环6利用第二复位弹簧62的弹力挤压密封垫162封闭分离豁口155的上端口，研磨废液上的较大颗粒废物被锥形过滤板61分离，进行初步分离作业，从而降低除杂仓31内过滤膜311的过滤压力和堵塞概率。

请参阅图10，当涡轮叶片2旋转产生的负压通过负压通道21传递至囊体5内时，囊体5受压强影响逐步收缩，进而使上滑环4克服第一复位弹簧51的弹力整体下移，在上滑环4在下移的过程中，一方面使弹性橡胶环42跟随锥形过滤板61的外形进行喇叭状形变，进而刮除锥形过滤板61上表面堆积的大颗粒杂质，达到防止锥形过滤板61堵塞的目的，另一方面，活塞杆52及活塞跟随下移，当上滑环4下移至最大行程时，囊体5通过分流通道521与溢气孔152连通，此时负压传导至储液环槽15内，利用负压使锥形过滤板61上残留的研磨废液快速下落，达到固液快速分离的目的。

更进一步的，在本实施例中，当上滑环4下移至最大行程时，弹性橡胶环42对锥形过滤板61的挤压力达到最大值，进而压迫下滑环6克服第二复位弹簧62的弹力下移，使分离豁口155开启，一方面使完成固液分离的杂质通过锥形过滤板61的斜面和弹性橡胶环42的形变挤压力自动排出，另一方面使负压通道21的输入端通过分离豁口155连接外界，此时囊体5内的负压力减小，配合第一复位弹簧51的弹力进行上滑环4的上移复位动作，下滑环6利用第二复位弹簧62实现同步上移复位，实现循环作业。

为避免分离豁口155开启的过程中，下研磨砂盘11上的研磨废液外溢，上滑环4的圆周外侧固定有与导流斜坡161相对应的封堵垫41，当上滑环4下移至最大行程时，封堵垫41挤压导流斜坡161，防止研磨废液的外溢。

请参阅图1和9，上研磨砂盘13的圆周外侧转动连接有负压罩131，导流斜坡161的外侧设有气密环槽16，负压罩131下端口固定有与气密环槽16相对应的气密胶圈。

在本实施例中，利用上研磨砂盘13的下移，使带有气密胶圈的负压罩131跟随下移，并将负压罩131的下端口插入气密环槽16内，使下研磨砂盘11、与上研磨砂盘13的研磨间隙形成密封状态，一方面在防止研磨粉尘的外泄，避免产生粉尘污染，另一方面，涡轮叶片2的负压通道21产生的负压，逐步进入下研磨砂盘11、与上研磨砂盘13间，进而达到减弱研磨噪音传递的目的，避免产生噪音污染，同时负压进一步阻止了研磨粉尘的外流。

以上所述，仅为本申请结合当前实际需求采用的最佳实施方式，但本申请的保护范围并不局限于此。

Claims (9)

1.一种低污染的高精度双端面研磨设备，包括机架（1）和设置在机架（1）上的下研磨砂盘（11）、主驱动盘（12）及上研磨砂盘（13），所述上研磨砂盘（13）通过升降机构上下滑动连接在机架（1）上，所述下研磨砂盘（11）、主驱动盘（12）均转动连接在机架（1）上，所述下研磨砂盘（11）、主驱动盘（12）及上研磨砂盘（13）均由驱动机构（17）进行同步驱动，其特征在于，所述主驱动盘（12）的底部固定有主驱动轴（121），所述下研磨砂盘（11）呈圆环状，所述下研磨砂盘（11）套接在主驱动盘（12）的圆周外侧，所述主驱动盘（12）的底部固定有轴套（111），所述轴套（111）套接在主驱动轴（121）外侧，所述主驱动轴（121）与轴套（111）间通过行星齿轮组（7）进行方向相反的旋转动作；

所述上研磨砂盘（13）的顶部设有用于加注研磨液的注液孔（132），所述机架（1）在下研磨砂盘（11）的底部设有承接研磨废液的储液环槽（15），所述储液环槽（15）的内侧槽壁上设有溢液孔（151），所述轴套（111）的底部一侧固定有净化桶（3），所述净化桶（3）呈圆柱形结构，所述净化桶（3）自内而外依次设有除杂仓（31）、水仓（32）、油仓（33）和泡沫仓（34），所述除杂仓（31）与水仓（32）间设有过滤膜（311），所述水仓（32）和油仓（33）间设有油水分离膜（321），所述水仓（32）、油仓（33）的底部还设有供气仓（35），所述供气仓（35）的输出端分别与水仓（32）、油仓（33）连通设置，所述供气仓（35）的输出端上设有第二防水透气膜（351），所述供气仓（35）的输入端连接有供气单元；

所述除杂仓（31）的输入端设置在顶部并呈敞口结构，所述净化桶（3）的顶部呈碗状结构，所述溢液孔（151）的输出端通过管道延伸至除杂仓（31）输入端的敞口处。

2.根据权利要求1所述的一种低污染的高精度双端面研磨设备，其特征在于，所述除杂仓（31）、水仓（32）、油仓（33）的外侧仓壁均呈上窄下宽的锥形结构，所述除杂仓（31）、水仓（32）、油仓（33）的外侧仓壁的高度依次递减，所述水仓（32）、油仓（33）的外侧仓壁顶部分别固定有第一泡沫导板（322）和第二泡沫导板（331）。

3.根据权利要求1所述的一种低污染的高精度双端面研磨设备，其特征在于，所述水仓（32）、油仓（33）的仓壁顶部均固定有液位传感器（36），所述水仓（32）、油仓（33）的底部分别设有电磁阀（301），所述机架（1）底部设有与电磁阀（301）输出端相对应的排放环槽（101）。

4.根据权利要求1所述的一种低污染的高精度双端面研磨设备，其特征在于，所述供气单元包括固定在主驱动轴（121）上的涡轮叶片（2），所述轴套（111）上固定有与涡轮叶片（2）相匹配的蜗壳（112），所述主驱动轴（121）在涡轮叶片（2）的上下两侧分别设有负压通道（21）、正压通道（22），所述正压通道（22）的输出端与供气仓（35）的输入端连通设置。

5.根据权利要求4所述的一种低污染的高精度双端面研磨设备，其特征在于，所述储液环槽（15）的外侧槽壁沿竖直方向滑动连接有下滑环（6），所述下滑环（6）的顶部固定有锥形过滤板（61），所述储液环槽（15）的外侧槽壁上设有与锥形过滤板（61）相对应的分离豁口（155），所述下滑环（6）与储液环槽（15）的外侧槽壁间夹接有第二复位弹簧（62）；

所述储液环槽（15）的内侧槽壁沿竖直方向滑动连接有上滑环（4），所述储液环槽（15）外侧槽壁的顶部设有导流斜坡（161），所述上滑环（4）的圆周外侧固定有与导流斜坡（161）相对应的封堵垫（41），所述上滑环（4）的底部固定有与锥形过滤板（61）相对应的弹性橡胶环（42），所述上滑环（4）的圆周内侧固定有压板（43），所述压板（43）与储液环槽（15）内侧槽壁间胶接有囊体（5），所述负压通道（21）的输入端通过导气滑环与囊体（5）连通设置，所述储液环槽（15）的内侧槽壁顶等角度均分固定有若干气缸（154），所述压板（43）的底部固定有与气缸（154）相匹配的活塞杆（52），所述活塞杆（52）的底部固定有活塞，所述活塞杆（52）的外侧套接有第一复位弹簧（51），所述活塞杆（52）内设有分流通道（521），所述储液环槽（15）的内侧槽壁上还设有溢气孔（152）。

6.根据权利要求5所述的一种低污染的高精度双端面研磨设备，其特征在于，所述分流通道（521）的一端与囊体（5）内部连通设置，所述分流通道（521）的另一端设置在活塞杆（52）与活塞的连接节点处，所述分流通道（521）上封装有第一防水透气膜（153）。

7.根据权利要求5所述的一种低污染的高精度双端面研磨设备，其特征在于，所述分离豁口（155）的上端口固定胶接有密封垫（162），所述第二复位弹簧（62）具有驱使下滑环（6）上移并使下滑环（6）挤压密封垫（162）形变密封的弹力。

8.根据权利要求5所述的一种低污染的高精度双端面研磨设备，其特征在于，所述第一复位弹簧（51）具有驱使上滑环（4）上移的弹力，所述第一复位弹簧（51）在自由状态下，所述弹性橡胶环（42）的底部与锥形过滤板（61）的外锥面相抵触，所述弹性橡胶环（42）的下口厚度小于上口厚度。

9.根据权利要求5所述的一种低污染的高精度双端面研磨设备，其特征在于，所述上研磨砂盘（13）的圆周外侧转动连接有负压罩（131），所述导流斜坡（161）的外侧设有气密环槽（16），所述负压罩（131）下端口固定有与气密环槽（16）相对应的气密胶圈。