CN117417127A - 一种用釉料制备幻影陶瓷制品的方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种用釉料制备幻影陶瓷制品的方法，属于釉料技术领域，釉料由第一釉料、第二釉料、第三釉料组成，所述第一釉料由釉粉、石英、熔块、贵州土、反应剂组成，第二釉料由钠长石、方解石、微晶石、氧化锌、熔块、贵州土、反应剂、艳黑、锆铁红、钴蓝组成，第三釉料由釉粉、氧化钴组成；将所述第一釉料、第二釉料、第三釉料分别进行湿磨，得到第一釉浆、第二釉浆、第三釉浆；在已经经过第一次烧制成型的坯上施用第一釉浆施釉，自然干燥；在已经上好第一釉浆的坯体施用第二釉浆，自然干燥；在已经上好第二釉浆的坯体施用第三釉浆，自然干燥；在高温还原气氛中烧制，缓慢降温，出窑自然冷却，得到所述幻影陶瓷制品。
Description
技术领域
本发明属于釉料技术领域，具体涉及一种用釉料制备幻影陶瓷制品的方法。
背景技术
现有装饰在陶瓷表面的陶瓷釉料有很多种类型。按外表特征可分为透明釉，浮浊釉、颜色釉、无光釉，裂纹釉、结晶釉和半无光釉等。反应艺术釉，是一种独特的结晶艺术釉，其特征是釉色既明亮又深沉，利用现代的釉色在生产制作过程中，采用了不同的原料搭配和工序以及技术，让釉色发生变化，呈现出独特的技艺效果。成品呈现的花色复杂，别具一格，有着与现代瓷器不同的视觉体验感，有着独特的魅力。
其难点在于如何烧制出釉料最后所呈现出的幻影效果。技术要求必须精准控制窑炉还原气氛烧制的温度，窑炉烧制温度太低，则无法显现出所需的幻影效果；温度太高，则最后釉面流动性太强无法形成花面并会导致瓷器结底，综上，所以要求对于烧制温度精确把握不得有差池。
发明内容
本发明的目的在于提供一种用釉料制备幻影陶瓷制品的方法，所述釉色新颖，配方科学，操作简单，得到的陶瓷制品釉面光滑，质感细腻，色泽醇厚；解决了如何将釉料烧制出幻影效果的技术问题。
本发明的目的可以通过以下技术方案实现：
一种用釉料制备幻影陶瓷制品的方法，釉料由第一釉料、第二釉料、第三釉料组成，其特征在于，所述第一釉料、第二釉料、第三釉料分别由以下重量份的原料组成：
第一釉料：B-600釉粉30-50，石英20-30，A8熔块20-25，贵州土5-10，反应剂7-13；
第二釉料：钠长石40-60，方解石10-15，微晶石20-30，氧化锌10-15，A8熔块10-20，贵州土5-10，反应剂5-10，艳黑2-4，锆铁红2-5，钴蓝2-6；
第三釉料：下陷釉粉80-100，氧化钴6-9；
所述反应剂由70％金红石型二氧化钛、10％磷酸钙、10％三氧化二硼、10％熔融方石英组成。
一种用釉料制备幻影陶瓷制品的方法，其特征在于，包括以下制备方法：
将所述第一釉料、第二釉料、第三釉料分别进行湿磨；其中，所述第一釉料湿磨得到第一釉浆；所述第二釉料湿磨得到第二釉浆；所述第三釉料湿磨得到第三釉浆；所述第一釉浆、第二釉浆、第三釉浆的细度分别为0.1-0.2％；
进一步的，所述制备方法还包括以下步骤：
(1)在已经经过第一次烧制成型的坯上施用第一釉浆施釉，自然干燥；
(2)在已经上好第一釉浆的坯体施用第二釉浆，自然干燥；
(3)在已经上好第二釉浆的坯体施用第三釉浆，自然干燥；
其中，所述第三釉浆通过压缩空气将釉浆通过喷枪，在上好内外釉的坯体上喷上一层，控制厚度，优选地为0.4-0.9mm；
(4)在1150℃-1180℃下，在还原气氛中，持续烧制200-350分钟，高温保温20-50分钟，缓慢降温，出窑自然冷却，得到幻影陶瓷制品；
其中，所述还原气氛是指三氧化二铁还原成氧化亚铁的过程。
本发明的有益效果：
(1)本发明先将釉粉、石英、熔块、贵州土、反应剂组成的第一釉料湿磨得到第一釉浆，在已经经过第一次烧制成型的坯上施用第一釉浆施釉；然后再将钠长石、方解石、微晶石、氧化锌、熔块、贵州土、反应剂、艳黑、锆铁红、钴蓝组成的第二釉料湿磨得到第二釉浆，在已经上好第一釉浆的坯体施用第二釉浆；最后将釉粉、氧化钴组成的第三釉料湿磨得到第三釉浆，在已经上好第二釉浆的坯体施用第三釉浆，干燥，在高温还原气氛中烧制，得到具有幻影效果的陶瓷制品。
(2)金红石型二氧化钛与釉熔体中的氧化钙、二氧化硅等生成钙钛型晶体，与釉熔体中的氧化镁、二氧化硅等形成结晶体。
磷酸钙与釉熔体中的二氧化硅独立形成磷酸盐玻璃相，与硅酸盐玻璃相不互融而单独形成新相；
三氧化二硼有助融、降温的作用，并且有助于釉熔体中新的晶相的形成，三氧化二硼有降低釉膨胀系数的作用，避免釉面龟裂。
熔融方石英：最主要的作用是参与形成硅酸盐玻璃相，降低釉面的膨胀系数，避免釉面开裂，提高釉熔体的高温粒度，有助于晶体在高温阶段的生成和长大。
(3)本发明提供了一种用于陶瓷制品的幻影釉料，所述釉色新颖，配方科学，操作简单，得到的陶瓷制品釉面光滑，质感细腻，色泽醇厚；按本发明所述方法施釉能烧制出具有幻影效果的陶瓷制品。
(4)幻影釉料是一种特殊的陶瓷釉料，也被称为变幻釉料或光变釉料。与传统的固定颜色釉料不同，幻影釉料在不同角度和光线条件下会产生独特的颜色变化效果。
幻影釉料的变幻效果通常是由于其成分中含有特定的金属氧化物或颜色调节剂，这些成分与光线的反射、折射和干涉作用相互作用。在不同的角度和光线照射下，幻影釉料会呈现出多种颜色和光泽的变化，如金属光泽、闪光或类似宝石的色彩。
幻影釉料的应用范围广泛，包括陶瓷艺术品、装饰品、建筑瓷砖等。它可以为陶瓷制品带来独特的视觉效果和艺术价值，增加了作品的观赏性和吸引力。
附图说明
下面结合附图对本发明作进一步的说明。
图1是本发明陶瓷制品的整体效果图；
图2是本发明陶瓷制品的局部细节图；
具体实施方式
下面将结合本发明实施例，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例1
一种用釉料制备幻影陶瓷制品的方法，釉料由第一釉料、第二釉料、第三釉料组成，其特征在于，所述第一釉料、第二釉料、第三釉料分别由以下重量份的原料组成：
第一釉料：B-600釉粉30，石英20，A8熔块20，贵州土5，反应剂7；
第二釉料：钠长石40，方解石10，微晶石20，氧化锌10，A8熔块10，贵州土5，反应剂5，艳黑2，锆铁红2，钴蓝2；
第三釉料：下陷釉粉80，氧化钴6；
所述反应剂由70％金红石型二氧化钛、10％磷酸钙、10％三氧化二硼、10％熔融方石英组成。
一种用釉料制备幻影陶瓷制品的方法，其特征在于，包括以下制备方法：
将所述第一釉料、第二釉料、第三釉料分别进行湿磨；其中，所述第一釉料湿磨得到第一釉浆；所述第二釉料湿磨得到第二釉浆；所述第三釉料湿磨得到第三釉浆；所述第一釉浆、第二釉浆、第三釉浆的细度分别为0.1％；
进一步的，所述制备方法还包括以下步骤：
(1)在已经经过第一次烧制成型的坯上施用第一釉浆施釉，自然干燥；
(2)在已经上好第一釉浆的坯体施用第二釉浆，自然干燥；
(3)在已经上好第二釉浆的坯体施用第三釉浆，自然干燥；
(4)在1150℃下，在还原气氛中，持续烧制200分钟，高温保温20分钟，缓慢降温，出窑自然冷却，得到幻影陶瓷制品。
其中，所述第三釉浆通过压缩空气将釉浆通过喷枪，在上好内外釉的坯体上喷上一层，控制厚度，优选地为0.4mm。
实施例2
一种用釉料制备幻影陶瓷制品的方法，釉料由第一釉料、第二釉料、第三釉料组成，其特征在于，所述第一釉料、第二釉料、第三釉料分别由以下重量份的原料组成：
第一釉料：B-600釉粉50，石英30，A8熔块25，贵州土10，反应剂13；
第二釉料：钠长石60，方解石15，微晶石30，氧化锌15，A8熔块20，贵州土10，反应剂10，艳黑4，锆铁红5，钴蓝6；
第三釉料：下陷釉粉100，氧化钴9；
所述反应剂由70％金红石型二氧化钛、10％磷酸钙、10％三氧化二硼、10％熔融方石英组成。
一种用釉料制备幻影陶瓷制品的方法，其特征在于，包括以下制备方法：
将所述第一釉料、第二釉料、第三釉料分别进行湿磨；其中，所述第一釉料湿磨得到第一釉浆；所述第二釉料湿磨得到第二釉浆；所述第三釉料湿磨得到第三釉浆；所述第一釉浆、第二釉浆、第三釉浆的细度分别为0.2％；
进一步的，所述制备方法还包括以下步骤：
(1)在已经经过第一次烧制成型的坯上施用第一釉浆施釉，自然干燥；
(2)在已经上好第一釉浆的坯体施用第二釉浆，自然干燥；
(3)在已经上好第二釉浆的坯体施用第三釉浆，自然干燥；
(4)在1160℃下，在还原气氛中，持续烧制350分钟，高温保温50分钟，缓慢降温，出窑自然冷却，得到幻影陶瓷制品。
其中，所述第三釉浆通过压缩空气将釉浆通过喷枪，在上好内外釉的坯体上喷上一层，控制厚度，优选地为0.9mm。
实施例3
一种用釉料制备幻影陶瓷制品的方法，釉料由第一釉料、第二釉料、第三釉料组成，其特征在于，所述第一釉料、第二釉料、第三釉料分别由以下重量份的原料组成：
第一釉料：B-600釉粉40，石英25，A8熔块23，贵州土7，反应剂11；
第二釉料：钠长石50，方解石13，微晶石25，氧化锌12，A8熔块15，贵州土8，反应剂7，艳黑3，锆铁红4，钴蓝5；
第三釉料：下陷釉粉90，氧化钴8；
所述反应剂由70％金红石型二氧化钛、10％磷酸钙、10％三氧化二硼、10％熔融方石英组成。
一种用釉料制备幻影陶瓷制品的方法，其特征在于，包括以下制备方法：
将所述第一釉料、第二釉料、第三釉料分别进行湿磨；其中，所述第一釉料湿磨得到第一釉浆；所述第二釉料湿磨得到第二釉浆；所述第三釉料湿磨得到第三釉浆；所述第一釉浆、第二釉浆、第三釉浆的细度分别为0.15％；
进一步的，所述制备方法还包括以下步骤：
(1)在已经经过第一次烧制成型的坯上施用第一釉浆施釉，自然干燥；
(2)在已经上好第一釉浆的坯体施用第二釉浆，自然干燥；
(3)在已经上好第二釉浆的坯体施用第三釉浆，自然干燥；
(4)在1170℃下，在还原气氛中，持续烧制250分钟，高温保温45分钟，缓慢降温，出窑自然冷却，得到幻影陶瓷制品。
实施例4
一种用釉料制备幻影陶瓷制品的方法，釉料由第一釉料、第二釉料、第三釉料组成，其特征在于，所述第一釉料、第二釉料、第三釉料分别由以下重量份的原料组成：
第一釉料：B-600釉粉45，石英17，A8熔块22，贵州土9，反应剂10；
第二釉料：钠长石55，方解石13，微晶石27，氧化锌12，A8熔块17，贵州土9，反应剂6，艳黑3，锆铁红4，钴蓝5；
第三釉料：下陷釉粉85，氧化钴8；
所述反应剂由70％金红石型二氧化钛、10％磷酸钙、10％三氧化二硼、10％熔融方石英组成。
一种用釉料制备幻影陶瓷制品的方法，其特征在于，包括以下制备方法：
将所述第一釉料、第二釉料、第三釉料分别进行湿磨；其中，所述第一釉料湿磨得到第一釉浆；所述第二釉料湿磨得到第二釉浆；所述第三釉料湿磨得到第三釉浆；所述第一釉浆、第二釉浆、第三釉浆的细度分别为0.1-0.2％；
进一步的，所述制备方法还包括以下步骤：
(1)在已经经过第一次烧制成型的坯上施用第一釉浆施釉，自然干燥；
(2)在已经上好第一釉浆的坯体施用第二釉浆，自然干燥；
(3)在已经上好第二釉浆的坯体施用第三釉浆，自然干燥；
(4)在1180℃下，在还原气氛中，持续烧制300分钟，高温保温40分钟，缓慢降温，出窑自然冷却，得到幻影陶瓷制品。
对比例1：和实施例1相比，只施用第一釉浆，其余步骤均相同。
对比例2：和实施例1相比，只施用第二釉浆，其余步骤均相同。
对比例3：和实施例1相比，只施用第三釉浆，其余步骤均相同。
对比例4：和实施例1相比，省略了第一釉料中的反应剂，其余步骤均相同。
对比例5：和实施例1相比，省略了第二釉料中的反应剂，其余步骤均相同。
对比例6：和实施例1相比，省略了第一釉料和第二釉料中的反应剂，其余步骤均相同。
对比例7：和实施例2相比，省略了第一釉料，先施用第二釉浆再施用第三釉浆，其余步骤均相同。
对比例8：和实施例2相比，省略了第一釉料，先施用第三釉浆再施用第二釉浆，其余步骤均相同。
对比例9：和实施例2相比，省略了第二釉料，先施用第一釉浆再施用第三釉浆，其余步骤均相同。
对比例10：和实施例2相比，省略了第二釉料，先施用第三釉浆再施用第一釉浆，其余步骤均相同。
对比例11：和实施例2相比，省略了第三釉料，先施用第一釉浆再施用第二釉浆，其余步骤均相同。
对比例12：和实施例2相比，省略了第三釉料，先施用第二釉浆再施用第一釉浆，其余步骤均相同。
对比例13：和实施例3相比，先用第一釉浆施釉，再施用第三釉浆，最后施用第二釉浆，其余步骤均相同。
对比例14：和实施例3相比，先用第二釉浆施釉，再施用第一釉浆，最后施用第三釉浆，其余步骤均相同。
对比例15：和实施例3相比，先用第二釉浆施釉，再施用第三釉浆，最后施用第一釉浆，其余步骤均相同。
对比例16：和实施例3相比，先用第三釉浆施釉，再施用第一釉浆，最后施用第二釉浆，其余步骤均相同。
对比例17：和实施例3相比，先用第三釉浆施釉，再施用第二釉浆，最后施用第一釉浆，其余步骤均相同。
对比例18：和实施例4相比，还原气氛的烧制温度为1120℃，其余步骤均相同。
对比例19：和实施例4相比，还原气氛的烧制温度为1130℃，其余步骤均相同。
对比例20：和实施例4相比，还原气氛的烧制温度为1140℃，其余步骤均相同。
对比例21：和实施例4相比，还原气氛的烧制温度为1190℃，其余步骤均相同。
对比例22：和实施例4相比，还原气氛的烧制温度为1200℃，其余步骤均相同。
对比例23：和实施例4相比，还原气氛的烧制温度为1210℃，其余步骤均相同。
观察实施例1-4和对比例1-23烧制的陶瓷制品是否具有幻影效果，结果如表1所示：
表1
由表1可以看出，只有实施例1-4能制得具有幻影效果的陶瓷制品，即只有先施用第一釉浆、再施用第二釉浆、最后施用第三釉浆，且在还原气氛中的烧制温度为1150-1180℃时，才能烧制得到具有幻影效果的陶瓷制品。
对比例1-3只施用第一釉浆、第二釉浆、第三釉浆中的某一种釉浆，无法制得具有幻影效果的陶瓷制品；对比例4-6省略了第一釉浆、第二釉浆中的反应剂，也无法制得具有幻影效果的陶瓷制品。
对比例7-12中省略第一釉浆、第二釉浆、第三釉浆中的某一种釉浆，也无法制得具有幻影效果的陶瓷制品。
对比例13-17中，改变了第一釉浆、第二釉浆、第三釉浆的施釉顺序，也无法制得具有幻影效果的陶瓷制品。
在对比例18-23中，改变了在还原气氛中的烧制温度，也无法制得具有幻影效果的陶瓷制品。
需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (5)
1.一种用釉料制备幻影陶瓷制品的方法，釉料由第一釉料、第二釉料、第三釉料组成，其特征在于，所述第一釉料、第二釉料、第三釉料分别由以下重量份的原料组成：
第一釉料：釉粉30-50，石英20-30，熔块20-25，贵州土5-10，反应剂7-13；
第二釉料：钠长石40-60，方解石10-15，微晶石20-30，氧化锌10-15，熔块10-20，贵州土5-10，反应剂5-10，艳黑2-4，锆铁红2-5，钴蓝2-6；
第三釉料：釉粉80-100，氧化钴6-9。
2.根据权利要求1所述的一种用釉料制备幻影陶瓷制品的方法，其特征在于，所述反应剂由70％金红石型二氧化钛、10％磷酸钙、10％三氧化二硼、10％熔融方石英组成。
3.根据权利要求1所述的一种用釉料制备幻影陶瓷制品的方法，其特征在于，包括以下制备方法：
将所述第一釉料、第二釉料、第三釉料分别进行湿磨；其中，所述第一釉料湿磨得到第一釉浆；所述第二釉料湿磨得到第二釉浆；所述第三釉料湿磨得到第三釉浆；所述第一釉浆、第二釉浆、第三釉浆的细度分别为0.1-0.2％。
4.根据权利要求3所述的一种用釉料制备幻影陶瓷制品的方法，其特征在于，所述制备方法还包括以下步骤：
(1)在已经经过第一次烧制成型的坯上施用第一釉浆施釉，自然干燥；
(2)在已经上好第一釉浆的坯体施用第二釉浆，自然干燥；
(3)在已经上好第二釉浆的坯体施用第三釉浆，自然干燥；
(4)在1150℃-1180℃下，在还原气氛中，持续烧制200-350分钟，高温保温20-50分钟，缓慢降温，出窑自然冷却，得到幻影陶瓷制品。
5.根据权利要求4所述的一种用釉料制备幻影陶瓷制品的方法，其特征在于，所述第三釉浆通过压缩空气将釉浆通过喷枪，在上好内外釉的坯体上喷上一层，控制厚度，优选为0.4-0.9mm。
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