CN117083309A - 光固化性组合物及图案形成方法 - Google Patents

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森莉纱子
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Abstract

一种光固化性组合物，其含有金属氧化物纳米粒子(X)、光聚合性化合物(B)和光自由基聚合引发剂(C)，相对于前述金属氧化物纳米粒子(X)及前述光聚合性化合物(B)的合计含量100质量份而言，前述光自由基聚合引发剂(C)的含量为10质量份以上。

Description

光固化性组合物及图案形成方法
技术领域
本发明涉及光固化性组合物及图案形成方法。
本申请以于2021年3月16日在日本提出申请的日本特愿2021-042611号为基础来主张优先权，并将其内容并入本文中。
背景技术
光刻技术是半导体器件的制造工艺中的核心技术，伴随着近年来的半导体集成电路(IC)的高集成化，正在进行布线的进一步微细化。作为微细化方法，通常有使用更短波长的光源、例如KrF准分子激光、ArF准分子激光、F2激光、EUV(极紫外光)、EB(电子射线)、X射线等的光源波长的短波长化、曝光装置的透镜的开口数(NA)的大口径化(高NA化)等。
这样的方法中，作为半导体的微细图案形成方法，纳米压印光刻(将具有规定图案的模具按压于形成在基板上的固化性膜，从而在该固化性膜上转印前述模具的图案)从生产率等方面考虑而受到期待。
在纳米压印光刻中，使用了含有在光(紫外线、电子射线)的作用下进行固化的光固化性化合物的光固化性组合物。在所述情况下，将具有规定图案的模具按压于包含光固化性化合物的固化性膜，接着，照射光从而使光固化性化合物固化，其后，将模具从固化膜剥离，由此得到转印图案(结构体)。
作为对用于纳米压印光刻的光固化性组合物要求的特性，可举出通过旋转涂布等而在基板上涂布时的涂布性、基于加热、曝光的固化性。若向基板的涂布性差，则涂布于基板上的光固化性组合物的膜厚产生偏差，在将模具按压于固化性膜时容易导致图案转印性的降低。另外，固化性从将通过模具按压形成的图案维持为所期望的尺寸的方面来看是重要的特性。此外，对于光固化性组合物，还要求将模具从固化膜剥离时的模具脱模性良好。
近年来，为了自动驾驶用的3D传感器、AR(增强现实)眼镜的AR波导的高功能化，研究了应用纳米压印光刻。在3D传感器、AR眼镜中，要求构成器件的一部分的永久膜材料的高折射率化。作为纳米压印材料的高折射率化的一个手段，添加金属氧化物纳米粒子是已知的。例如，在专利文献1中，记载了通过配合氧化钛或氧化锆等金属氧化物纳米粒子而实现了高折射率化的光固化性树脂组合物。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本专利第5952040号公报
发明内容
发明所要解决的课题
为了纳米压印材料的进一步的高折射率化，考虑了增加金属氧化物纳米粒子的含量、或者增大金属氧化物纳米粒子的粒径。然而，若通过增大粒径来实现高折射率化，则存在可见光区域中的雾度劣化这样的问题。
本发明是鉴于上述情况而作出的，其课题在于提供高折射率并且雾度得以被降低的光固化性组合物及图案形成方法。
用于解决课题的手段
为了解决上述的课题，本发明采用了以下的构成。
即，本发明的第1方式为光固化性组合物，其含有金属氧化物纳米粒子(X)、光聚合性化合物(B)和光自由基聚合引发剂(C)，相对于前述金属氧化物纳米粒子(X)及前述光聚合性化合物(B)的合计含量100质量份而言，前述光自由基聚合引发剂(C)的含量为10质量份以上。
本发明的第2方式为图案形成方法，其包括：使用前述第1方式涉及的光固化性组合物在基板上形成光固化性膜的工序；将具有凹凸图案的模具按压于前述光固化性膜，从而在前述光固化性膜上转印前述凹凸图案的工序；在将前述模具按压于前述光固化性膜的同时，对转印有前述凹凸图案的光固化性膜进行曝光，从而形成固化膜的工序；以及，将前述模具从前述固化膜剥离的工序。
发明效果
根据本发明，可以提供高折射率并且雾度得以被降低的光固化性组合物及图案形成方法。
附图说明
[图1]为对纳米压印图案形成方法的一实施方式进行说明的概略工序图。
[图2]为对任选工序的一个例子进行说明的概略工序图。
具体实施方式
本说明书及本权利要求书中，所谓“脂肪族”，是相对于芳香族而言的相对概念，其定义是指不具有芳香性的基团、化合物等。
只要没有特别的说明，“烷基”包括直链状、支链状及环状的1价的饱和烃基。烷氧基中的烷基也同样。
“(甲基)丙烯酸酯”是指丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯中的至少一者。
记载为“可具有取代基”的情况下，包括用1价基团取代氢原子(-H)的情况、和用2价基团取代亚甲基(-CH2-)的情况这两者。
“曝光”是包括所有的放射线照射的概念。
(光固化性组合物)
本发明的第1方式的光固化性组合物含有金属氧化物纳米粒子(X)(以下也称为“(X)成分”)、光聚合性化合物(B)(以下也称为“(B)成分”)和光自由基聚合引发剂(C)(以下也称为“(C)成分”)，相对于前述(X)成分及前述(B)成分的合计含量100质量份而言，前述(C)成分的含量为10质量份以上。
<(X)成分>
(X)成分为金属氧化物纳米粒子。
所谓“纳米粒子”，是指具有纳米量级(小于1000nm)的体积平均一次粒径的粒子。所谓金属氧化物纳米粒子，是具有纳米量级的体积平均一次粒径的金属氧化物粒子。
(X)成分的平均一次粒径优选为100nm以下。(X)成分的体积平均一次粒径优选为0.1～100nm，更优选为1～60nm，进一步优选为1～50nm，进一步更优选为1～45nm，特别优选为1～40nm。(X)成分的平均一次粒径进一步优选为5～30nm、5～25nm、或5～30nm。通过使(X)成分的金属纳米粒子的体积平均一次粒径在上述优选范围内，从而金属氧化物纳米粒子在光固化性组合物中良好地分散。另外，折射率变得良好。前述体积平均一次粒径是利用动态光散射法测定的值。
作为(X)成分，可以使用市售的金属氧化物纳米粒子。作为金属氧化物，例如，可举出钛(Ti)、锆(Zr)、铝(Al)、硅(Si)、锌(Zn)或镁(Mg)的氧化物粒子。其中，作为(X)成分，从折射率的观点考虑，优选为二氧化钛(TiO2)纳米粒子或氧化锆(Zr O2)纳米粒子。
本实施方式中，作为(X)成分，可以使用市售的金属氧化物纳米粒子。
作为市售的二氧化钛纳米粒子，例如可举出石原产业(株)制TTO系列(TTO-51(A)、TTO-51(C)等)、TTO-S、V系列(TT O-S-1、TTO-S-2、TTO-V-3等)、石原产业(株)制TitaniaSol LDB-014-35、TAYCA(株)制MT系列(MT-01、MT-05、MT-100SA、MT-500SA等)、日记触媒化成(株)制ELECOM V-9108、Sa kai Chemical Industry Co.,Ltd.制STR-100A-LP等。
作为市售的氧化锆纳米粒子，例如，可举出UEP(第一稀元素化学工业(株)制)、PCS(日本电工(株)制)、JS-01、JS-03、JS-04(日本电工(株)制)、UEP-100(第一稀元素化学工业(株)制)等。
本实施方式的光固化性组合物中，(X)成分可以单独使用1种，也可以组合2种以上而使用。
相对于(X)成分与后述的(B)成分的合计100质量份而言，本实施方式的光固化性组合物中的(X)成分的含量可以设定为10～99质量份。相对于(X)成分与后述的(B)成分的合计100质量份而言，本实施方式的光固化性组合物中的(X)成分的含量优选为60～90质量份，更优选为60～85质量份，进一步优选为60～80质量份，特别优选为60～75质量份。
若(X)成分的含量为前述优选范围的下限值以上，则使用光固化性组合物形成的固化膜的光学特性变得更良好。另一方面，若(X)成分的含量为前述优选范围的上限值以下，则光固化性组合物向模具中的填充性变得良好。
<(B)成分>
(B)成分是具有聚合性官能团的光聚合性化合物。
所谓“聚合性官能团”，是使化合物彼此能够通过自由基聚合等而进行聚合的基团，例如是指包含烯键式双键等碳原子间的重键的基团。
作为聚合性官能团，例如，可举出乙烯基、烯丙基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、氟乙烯基、二氟乙烯基、三氟乙烯基、二氟三氟甲基乙烯基、三氟烯丙基、全氟烯丙基、三氟甲基丙烯酰基、壬基氟丁基丙烯酰基、乙烯基醚基、含氟乙烯基醚基、烯丙基醚基、含氟烯丙基醚基、苯乙烯基、乙烯基萘基、含氟苯乙烯基、含氟乙烯基萘基、降冰片基、含氟降冰片基、甲硅烷基等。它们之中，优选为乙烯基、烯丙基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基，更优选为丙烯酰基、甲基丙烯酰基。
作为具有1个聚合性官能团的光聚合性化合物(单官能单体)，例如可举出：(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸1-金刚烷基酯、(甲基)丙烯酸2-甲基-2-金刚烷基酯、(甲基)丙烯酸2-乙基-2-金刚烷基酯、(甲基)丙烯酸冰片基酯、(甲基)丙烯酸三环癸酯等包含脂肪族多环结构的(甲基)丙烯酸酯(以下称为“(B1)成分”)；(甲基)丙烯酸双环戊基酯、(甲基)丙烯酸双环戊烯基酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸4-丁基环己酯、丙烯酰基吗啉等包含脂肪族单环结构的(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丁酯、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸戊基酯(amyl(meth)acrylate)、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸新戊基酯(pentyl(meth)ac rylate)、(甲基)丙烯酸异戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸异癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷基酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯、(甲基)丙烯酸月桂基酯、(甲基)丙烯酸硬脂基酯、(甲基)丙烯酸异硬脂基酯等包含链状结构的(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸苯氧基-2-甲基乙酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3-苯氧基-2-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸2-苯基苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸4-苯基苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3-(2-苯基苯基)-2-羟基丙酯、EO改性对枯基苯酚的(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸2-溴苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2,4-二溴苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2,4,6-三溴苯氧基乙酯、EO改性(甲基)丙烯酸苯氧基酯、PO改性(甲基)丙烯酸苯氧基酯、聚氧乙烯壬基苯基醚(甲基)丙烯酸酯等包含芳香族环结构的(甲基)丙烯酸酯(以下称为“(B2)成分”)；(甲基)丙烯酸四氢糠基酯、(甲基)丙烯酸丁氧基乙酯、乙氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、甲氧基乙二醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯、甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯；二丙酮(甲基)丙烯酰胺、异丁氧基甲基(甲基)丙烯酰胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯酰胺、叔辛基(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯酸二甲基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸二乙基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸7-氨基-3,7-二甲基辛酯、N,N-二乙基(甲基)丙烯酰胺、N,N-二甲基氨基丙基(甲基)丙烯酰胺；单末端甲基丙烯酸系硅氧烷单体等。
作为该单官能单体的市售品，例如，可举出ARONIX M101、M102、M110、M111、M113、M117、M5700、TO-1317、M120、M150、M156(以上为东亚合成株式会社制)；MEDOL10、MIBDOL10、CHDOL10、MMDOL30、MEDOL30、MIBDOL30、CHDOL30、LA、IBXA、2-MTA、HPA、Viscoat#150、#155、#158、#190、#192、#193、#220、#2000、#2100、#2150(以上为大阪有机化学工业株式会社制)；LIGHT ACRYLATE BO-A、EC-A、DMP-A、THF-A、HOP-A、HOA-MPE、HOA-MPL、HOA(N)、PO-A、P-200A、NP-4EA、NP-8EA、IB-XA、Epoxy Ester M-600A(以上为共荣社化学株式会社制)；KAYARAD TC110S、R-564、R-128H(以上为日本化药株式会社制)；NK ester AMP-10G、AMP-20G(以上为新中村化学工业株式会社制)；FA-511A、FA-512A、FA-513A、FA-BZA(以上为日立化成株式会社制)；PHE、CEA、PHE-2、PH E-4、BR-31、BR-31M、BR-32(以上为第一工业制药株式会社制)；VP(BASF制)；ACMO、DMAA、DMAPAA(以上为株式会社兴人制)；X-22-2404(信越化学工业株式会社制)等。
作为具有2个聚合性官能团的光聚合性化合物(2官能单体)，例如，可举出三羟甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、双(羟基甲基)三环癸烷二(甲基)丙烯酸酯等。
作为该2官能单体的市售品，例如，可举出LIGHT ACRYLAT E 3EG-A、4EG-A、9EG-A、NP-A、DCP-A、BP-4EAL、BP-4PA(以上为共荣社化学株式会社制)等。
作为具有3个以上的聚合性官能团的光聚合性化合物，可举出光聚合性硅氧烷化合物、光聚合性倍半硅氧烷化合物、具有3个以上的聚合性官能团的多官能单体等。
作为光聚合性硅氧烷化合物，例如，可举出在分子内具有烷氧基甲硅烷基和聚合性官能团的化合物。
作为该光聚合性硅氧烷化合物的市售品，例如，可举出信越化学工业株式会社制的制品名“KR-513”、“X-40-9296”、“KR-511”、“X-12-1048”、“X-12-1050”等。
作为光聚合性倍半硅氧烷化合物，可举出主链骨架由Si-O键形成的、由以下化学式：[(RSiO3/2)n](式中，R表示有机基团，n表示自然数。)表示的化合物。
R表示1价有机基团，作为1价有机基团，可举出可具有取代基的1价烃基。作为该烃基，可举出脂肪族烃基、芳香族烃基。作为脂肪族烃基，可举出甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、仲丁基、叔丁基、戊基、己基、庚基、2-乙基己基、辛基、壬基、癸基、十一烷基、十二烷基等碳原子数1～20的烷基，优选为碳原子数1～12的烷基。
作为芳香族烃基，可举出苯基、萘基、苄基、甲苯基、苯乙烯基等碳原子数6～20的芳香族烃基。
作为1价烃基可具有的取代基，可举出(甲基)丙烯酰基、羟基、硫烷基、羧基、异氰酸酯基、氨基、脲基等。另外，1价烃基中包含的-CH2-可以置换为-O-、-S-、羰基等。
其中，光聚合性倍半硅氧烷化合物具有3个以上的聚合性官能团。作为此处的聚合性官能团，可举出乙烯基、烯丙基、甲基丙烯酰基、丙烯酰基等。
化学式：[(RSiO3/2)n]表示的化合物可以为笼型、梯子型或无规型中的任意型。笼型的倍半硅氧烷化合物可以为完全的笼型，也可以为笼的一部分已打开这样的不完全的笼型。
作为该光聚合性倍半硅氧烷化合物的市售品，例如，可举出东亚合成株式会社制的制品名“MAC-SQ LP-35”、“MAC-SQ TM-100”、“MAC-SQ SI-20”、“MAC-SQ HDM”等。
作为具有3个以上的聚合性官能团的多官能单体，例如，可举出乙氧基化(3)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、乙氧基化(3)三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、乙氧基化(6)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、乙氧基化(9)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、乙氧基化(15)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、乙氧基化(20)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇三甲基丙烯酸酯、丙氧基化(3)甘油三丙烯酸酯、丙氧基化(3)甘油三丙烯酸酯、丙氧基化(5.5)甘油三丙烯酸酯、丙氧基化(3)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、丙氧基化(6)三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、三-(2-羟基乙基)-异氰脲酸酯三丙烯酸酯、三-(2-羟基乙基)-异氰脲酸酯三甲基丙烯酸酯、ε-己内酯改性三-(2-丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯、EO改性三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、PO改性三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、EO、PO改性三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯等3官能单体；双三羟甲基丙烷四丙烯酸酯、乙氧基化(4)季戊四醇四丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯等4官能单体；二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯等5官能以上的单体等。
作为该多官能单体的市售品，例如，可举出新中村化学工业株式会社制的制品名“A-9300-1CL”、“AD-TMP”、“A-9550”、“A-DPH”、日本化药株式会社制的制品名“KAYARADDPHA”、共荣社化学株式会社制的制品名“LIGHT ACRYLATE TMP-A”等。
(B)成分可以为光聚合性硫化合物(以下也称为(BS)成分)。所谓“光聚合性硫化合物”，是在分子中包含硫原子的光聚合性化合物。即，光聚合性硫化合物是包含硫原子并且具有聚合性官能团的单体。
作为(BS)成分，例如，可举出具有二芳基硫醚骨架的化合物。作为具有二芳基硫醚骨架的化合物，例如，可举出下述通式(bs-1)表示的化合物。
[化学式1]
[式中，R11～R14及R21～R24各自独立地表示氢原子、烷基或卤原子，R5表示聚合性官能团。]
前述式(bs-1)中，R11～R14及R21～R24各自独立地表示氢原子、烷基或卤原子。
对于前述烷基而言，优选碳原子数为1～10，更优选碳原子数为1～6，进一步优选碳原子数为1～4，特别优选碳原子数为1～3。
前述烷基可以为直链状，也可以为支链状，还可以为环状。前述烷基优选为直链状或支链状。
作为直链状烷基，可举出甲基、乙基、正丙基、正丁基等。
作为支链状烷基，可举出异丙基、仲丁基、叔丁基等。
其中，前述烷基优选为甲基或乙基，更优选为甲基。
作为前述R11～R14及R21～R24中的卤原子，可举出氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等。作为前述卤原子，优选为氯原子。
R11～R14及R21～R24优选为氢原子或烷基，更优选为氢原子、甲基或乙基，进一步优选为氢原子。
前述式(bs-1)中，R5表示聚合性官能团。
作为聚合性官能团，可举出与前文中举出的聚合性官能团同样的聚合性官能团。其中，作为聚合性基团，优选为乙烯基、烯丙基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基，更优选为丙烯酰基、甲基丙烯酰基。
R5优选为丙烯酰基或甲基丙烯酰基，更优选为丙烯酰基或甲基丙烯酰基。
作为(BS)成分，例如，可举出双(4-甲基丙烯酰基硫代苯基)硫醚、双(4-丙烯酰基硫代苯基)硫醚。其中，作为(BS)成分，优选为双(4-甲基丙烯酰基硫代苯基)硫醚。
本实施方式的光固化性组合物中，(B)成分可以单独使用1种，也可以组合2种以上而使用。
(B)成分优选包含除(BS)成分以外的(B)成分(以下也称为(B1)成分)，更优选并用(B1)成分和(BS)成分。通过并用(B1)成分和(BS)成分，从而使采用光固化性组合物形成的固化膜的折射率进一步提高。
相对于前述(X)成分与(B)成分的合计100质量份而言，(B)成分的含量可以设定为5～80质量份。相对于前述(X)成分与(B)成分的合计100质量份而言，(B)成分的含量优选为10～40质量份，更优选为15～40质量份，进一步优选为20～40质量份，特别优选为25～40质量份。
若(B)成分的含量为前述优选范围的下限值以上，则使用光固化性组合物形成的树脂固化膜的固化性、流动性变得良好。另一方面，若(B)成分的含量为前述优选范围的上限值以下，则(X)成分在光固化性组合物中的分散性变得良好。
在并用(B1)成分和(BS)成分的情况下，(B1)成分与(BS)成分的质量比例如可以设定为(B1)成分:(B2)成分＝1:10～10:1。对于(B1)成分与(BS)成分的质量比而言，优选(B1)成分:(B2)成分＝1:5～5:1，更优选为1:3～3:1，进一步优选为1:2～2:1。
若(B1)成分与(BS)成分的质量比在前述的优选范围内，则使用光固化性组合物形成的固化膜的折射率及雾度变得更良好。
<(C)成分>
(C)成分为光自由基聚合引发剂。
(C)成分中，可使用通过曝光而引发前述(B)成分的聚合、或促进聚合的化合物。
作为(C)成分，例如，可举出1-羟基环己基苯基酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1-[4-(2-羟基乙氧基)苯基]-2-羟基-2-甲基-1-丙烷-1-酮、1-(4-异丙基苯基)-2-羟基-2-甲基丙烷-1-酮、1-(4-十二烷基苯基)-2-羟基-2-甲基丙烷-1-酮、2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙烷-1-酮、双(4-二甲基氨基苯基)酮、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉基丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉基苯基)-1-丁酮、乙酮-1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]-1-(o-乙酰基肟)、双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)-苯基氧化膦、4-苯甲酰基-4’-甲基二甲基硫醚、4-二甲基氨基苯甲酸、4-二甲基氨基苯甲酸甲酯、4-二甲基氨基苯甲酸乙酯、4-二甲基氨基苯甲酸丁酯、4-二甲基氨基-2-乙基己基苯甲酸、4-二甲基氨基-2-异戊基苯甲酸、苄基-β-甲氧基乙基乙缩醛、苯偶酰二甲基缩酮、1-苯基-1,2-丙二酮-2-(o-乙氧基羰基)肟、邻苯甲酰基苯甲酸甲酯、2,4-二乙基噻吨酮、2-氯噻吨酮、2,4-二甲基噻吨酮、1-氯-4-丙氧基噻吨酮、噻吨、2-氯噻吨、2,4-二乙基噻吨、2-甲基噻吨、2-异丙基噻吨、2-乙基蒽醌、八甲基蒽醌、1,2-苯并蒽醌、2,3-二苯基蒽醌、偶氮二异丁腈、过氧化苯甲酰、枯基过氧化氢、2-巯基苯并咪唑、2-巯基苯并噁唑、2-巯基苯并噻唑、2-(邻氯苯基)-4,5-二(间甲氧基苯基)-咪唑基二聚物、二苯甲酮、2-氯二苯甲酮、p,p’-双二甲基氨基二苯甲酮、4,4’-双二乙基氨基二苯甲酮、4,4’-二氯二苯甲酮、3,3-二甲基-4-甲氧基二苯甲酮、苯甲酰、苯偶姻、苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻异丙基醚、苯偶姻正丁基醚、苯偶姻异丁基醚、苯偶姻丁基醚、苯乙酮、2,2-二乙氧基苯乙酮、对二甲基苯乙酮、对二甲基氨基苯丙酮、二氯苯乙酮、三氯苯乙酮、对叔丁基苯乙酮、对二甲基氨基苯乙酮、对叔丁基三氯苯乙酮、对叔丁基二氯苯乙酮、α,α-二氯-4-苯氧基苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、噻吨酮、2-甲基噻吨酮、2-异丙基噻吨酮、二苯并环庚酮、4-二甲基氨基苯甲酸戊酯、9-苯基吖啶、1,7-双(9-吖啶基)庚烷、1,5-双(9-吖啶基)戊烷、1,3-双(9-吖啶基)丙烷、对甲氧基三嗪、2,4,6-三(三氯甲基)均三嗪、2-甲基-4,6-双(三氯甲基)均三嗪、2-[2-(5-甲基呋喃-2-基)乙烯基]-4,6-双(三氯甲基)均三嗪、2-[2-(呋喃-2-基)乙烯基]-4,6-双(三氯甲基)均三嗪、2-[2-(4-二乙基氨基-2-甲基苯基)乙烯基]-4,6-双(三氯甲基)均三嗪、2-[2-(3,4-二甲氧基苯基)乙烯基]-4,6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(4-甲氧基苯基)-4,6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(4-乙氧基苯乙烯基)-4,6-双(三氯甲基)均三嗪、2-(4-正丁氧基苯基)-4,6-双(三氯甲基)均三嗪、2,4-双-三氯甲基-6-(3-溴-4-甲氧基)苯基均三嗪、2,4-双-三氯甲基-6-(2-溴-4-甲氧基)苯基均三嗪、2,4-双-三氯甲基-6-(3-溴-4-甲氧基)苯乙烯基苯基均三嗪、2,4-双-三氯甲基-6-(2-溴-4-甲氧基)苯乙烯基苯基均三嗪；甲基乙基酮过氧化物、甲基异丁基酮过氧化物、环己酮过氧化物等酮过氧化物类；过氧化异丁酰(isobutyrylperoxide)、双(3,5,5-三甲基己酰基)过氧化物等二酰基过氧化物类；过氧化氢对薄荷烷、1,1,3,3-四甲基丁基过氧化氢等过氧化氢类；2,5-二甲基-2,5-双(叔丁基过氧化)己烷等二烷基过氧化物类；1,1-双(叔丁基过氧化)-3,3,5-三甲基环己烷等过氧缩酮类；过氧化新癸酸叔丁酯、过氧化新癸酸1,1,3,3-四甲基酯等过氧化酯类；过氧化二碳酸二正丙酯、过氧化二碳酸二异丙酯等过氧化二碳酸酯类；偶氮二异丁腈、2,2’-偶氮双(2,4-二甲基戊腈)、2,2’-偶氮双异丁酸酯等偶氮化合物类等。
上述之中，优选1-羟基环己基苯基酮、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉基丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉基苯基)-1-丁酮、双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)-苯基氧化膦、2,2-二甲氧基-2
-苯基苯乙酮。
对于(C)成分而言，可以获得市售品而使用。
作为(C)成分的市售品，可举出BASF公司制的制品名“IRG ACURE 907”、BASF公司制的制品名“IRGACURE 369”、BASF公司制的制品名“IRGACURE 819”、IGM Resins B.V.公司制的制品名“Omnirad 184”、“Omnirad 651”、“Omnirad 819”、“Omnirad 184”等。
(C)成分的分子量越小越优选。若(C)成分的分子量小，则有雾度被进一步降低的倾向。(C)成分的分子量例如优选为500以下，更优选为400以下，进一步优选为350以下，特别优选为300以下。(C)成分的分子量的下限值没有特别限定，可举出100以上、150以上、或200以上。(C)成分的分子量例如可以设定为100～500，优选为150～500，更优选为150～400，进一步优选为150～350，特别优选为150～300。
本实施方式的光固化性组合物中，(C)成分可以单独使用1种，也可以组合2种以上而使用。
本实施方式的光固化性组合物中，相对于前述(X)成分及前述(B)成分的合计含量100质量份而言，(C)成分的含量为10质量份以上。如后述的实施例中所示，通过使(C)成分的含量为前述下限值以上，能够将使用本实施方式的光固化性组合物形成的固化膜的雾度值维持在0.4％以下。
对于3D传感器及AR眼镜等器件而言，要求高折射率，并且要求高透明性。然而，若实现高折射率化，则可见光区域中的雾度劣化而透明性降低。因此，就以往的光固化性组合物而言，难以同时实现高折射率化和雾度的降低。就本实施方式的光固化性组合物而言，通过使(C)成分的含量为前述下限值以上，能够维持高折射率，并且降低雾度。
相对于前述(X)成分及前述(B)成分的合计含量100质量份而言，(C)成分的含量优选为15质量份以上，更优选为20质量份以上，进一步优选为25质量份以上。(C)成分的含量的上限值没有特别限定，例如，相对于前述(X)成分及前述(B)成分的合计含量100质量份而言，优选为50质量份以下，更优选为45质量份以下，进一步优选为40质量份以下，特别优选为30质量份以下。通过使(C)成分的含量为前述上限值以下，能够良好地维持折射率。相对于前述(X)成分及前述(B)成分的合计含量100质量份而言，(C)成分的含量优选为1～50质量份，更优选为15～45质量份，进一步优选为20～40质量份，特别优选为20～30质量份。
<任选成分>
在实施方式的光固化性组合物中，可以除了(X)成分、(B)成分及(C)成分之外还含有其他成分。作为任选成分，例如，可举出溶剂(以下，也称为“(S)成分”)、混溶性的某种添加剂(例如，防劣化剂、脱模剂、稀释剂、抗氧化剂、热稳定剂、阻燃剂、增塑剂及表面活性剂、其他用于改良固化膜的特性的添加剂等)等。
《溶剂：(S)成分》
本实施方式的光固化性组合物可以含有溶剂((S)成分)。(S)成分用于使上述(X)成分、(B)成分及(C)成分、以及所期望的任选成分溶解或分散并进行混合。
作为(S)成分，例如可举出甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正戊醇、仲戊醇、叔戊醇、异戊醇、2-甲基-1-丙醇、2-乙基丁醇、新戊醇、正丁醇、仲丁醇、叔丁醇、1-丙醇、正己醇、2-庚醇、3-庚醇、2-甲基-1-丁醇、2-甲基-2-丁醇、4-甲基-2-戊醇、1-丁氧基-2-丙醇、丙二醇单丙基醚、5-甲基-1-己醇、6-甲基-2-庚醇、1-辛醇、2-辛醇、3-辛醇、4-辛醇、2-乙基-1-己醇、2-(2-丁氧基乙氧基)乙醇等链状结构的醇类；环戊烷甲醇、1-环戊基乙醇、环己醇、环己烷甲醇、环己烷乙醇、1,2,3,6-四氢苯甲醇、外型-降冰片(exo-norborneol)、2-甲基环己醇、环庚醇、3,5-二甲基环己醇、苯甲醇、萜品醇(terpine ol)等具有环状结构的醇类；乙二醇单乙酸酯、二乙二醇单乙酸酯、丙二醇单乙酸酯、或二丙二醇单乙酸酯等具有酯键的化合物、前述多元醇类或前述具有酯键的化合物的单甲基醚、单乙基醚、单丙基醚、单丁基醚等单烷基醚或单苯基醚等具有醚键的化合物等多元醇类的衍生物[它们之中，优选丙二醇单甲基醚乙酸酯(PGMEA)、丙二醇单甲基醚(PGME)]等。
本实施方式的光固化性组合物中，(S)成分可以单独使用1种，也可以组合2种以上而使用。
上述之中，作为(S)成分，优选为选自由丙二醇单甲基醚乙酸酯(PGMEA)、丙二醇单甲基醚(PGME)组成的组中的至少1种。
(S)成分的使用量没有特别限定，根据光固化性组合物的涂布膜厚而适当地设定即可。关于光固化性组合物中的(S)成分的含量，例如，可以以相对于前述(X)成分及前述(B)成分的合计含量100质量份而言成为100～500质量份左右的方式使用。
《表面活性剂：(E)成分》
本实施方式的光固化性组合物可以为了调整涂布性等而含有表面活性剂。
作为表面活性剂，例如，可举出有机硅系表面活性剂、氟系表面活性剂。作为有机硅系表面活性剂，例如可以使用BYK-077、BY K-085、BYK-300、BYK-301、BYK-302、BYK-306、BYK-307、BY K-310、BYK-320、BYK-322、BYK-323、BYK-325、BYK-330、BY K-331、BYK-333、BYK-335、BYK-341、BYK-344、BYK-345、BY K-346、BYK-348、BYK-354、BYK-355、BYK-356、BYK-358、BY K-361、BYK-370、BYK-371、BYK-375、BYK-380、BYK-390(以上为BYK Chemie公司制)等。作为氟系表面活性剂，例如可以使用F-114、F-177、F-410、F-411、F-450、F-493、F-494、F-443、F-444、F-445、F-446、F-470、F-471、F-472SF、F-474、F-475、F-477、F-478、F-479、F-480SF、F-482、F-483、F-484、F-486、F-487、F-172D、MCF-350SF、TF-1025SF、TF-1117SF、TF-1026SF、TF-1128、TF-1127、TF-1129、TF-1126、TF-1130、TF-1116SF、TF-1131、TF-1132、TF-1027SF、TF-1441、TF-1442(以上为DIC株式公司制)；PolyFox系列的PF-636、PF-6320、PF-656、PF-6520(以上为Omno va公司制)等。
本实施方式的光固化性组合物中，表面活性剂可以单独使用1种，也可以组合2种以上而使用。
在本实施方式的光固化性组合物含有表面活性剂的情况下，相对于前述(X)成分及前述(B)成分的合计含量100质量份而言，表面活性剂的含量优选为0.01～3质量份，更优选为0.02～1质量份，进一步优选为0.03～0.5质量份。
若表面活性剂的含量在前述优选范围内，则光固化性组合物的涂布性变得良好。
对于利用本实施方式的光固化性组合物形成的固化膜而言，通常，波长530nm处的折射率为1.70以上。本实施方式的光固化性组合物能够形成如上所述的高折射率的固化膜，因此，也可以优选用于3D传感器、AR(增强现实)眼镜的AR波导等要求高折射率化的用途中。固化膜的折射率可以利用分光椭圆率计来测定。
对于使用本实施方式的光固化性组合物形成的膜厚600nm的固化膜而言，通常，依照ASTM D100测定的雾度值为0.4％以下。本实施方式的光固化性组合物能够形成如上所述的低雾度值的固化膜，因此，也可以优选用于3D传感器、AR(增强现实)眼镜的AR波导等要求高透明度的用途。固化膜的雾度值可以利用依照ASTM D100的雾度计来测定。
以上说明的本实施方式的光固化性组合物含有(X)成分、(B)成分及(C)成分，相对于(X)成分及(B)成分的合计含量100质量份而言，(C)成分的含量为10质量份以上。就本实施方式的光固化性组合物而言，通过使(C)成分的含量为前述规定值以上，能够实现固化膜的高折射率化，并且降低雾度。本实施方式的光固化性组合物实现如上所述的效果的理由虽不明确，但认为是如下所述的理由。
认为在包含(X)成分的光固化性组合物的固化膜中，在(X)成分与存在于其周边的(B)成分的聚合物的界面处发生光的散射，可见光区域中的雾度劣化。就本实施方式的光固化性组合物而言，针对(C)成分的含量，通过使(C)成分的含量相对于(X)成分及(B)成分的合计含量100质量份而言为10质量份以上，从而在光到达至(X)成分与(B)成分的聚合物的界面之前，光被(C)成分吸收。由此，推测(X)成分与(B)成分的聚合物的界面处的光的散射、经由界面反射现象而发生的二次、三次散射被抑制，雾度降低。此外，认为通过使(C)成分的含量为前述规定值以上，从而(B)成分的交联密度提高。由此，推测(X)成分与(B)成分的聚合物的界面处的折射率差被降低，光的散射被抑制，雾度降低。
所述光固化性组合物作为利用压印技术在基板上形成微细图案的材料是有用的，特别优选用于光压印光刻用途。尤其在自动驾驶用的3D传感器、AR(增强现实)眼镜的AR波导等要求高折射率及低雾度的用途中取得有利的效果。
另外，本实施方式的光固化性组合物作为例如防反射膜的材料也是有用的。
(图案形成方法)
本发明的第2方式的图案形成方法包括下述工序：使用上述的第1方式的光固化性组合物在基板上形成光固化性膜的工序(以下称为“工序(i)”)；将具有凹凸图案的模具按压于前述光固化性膜，从而在前述光固化性膜上转印前述凹凸图案的工序(以下称为“工序(ii)”)；在将前述模具按压于前述光固化性膜的同时，对转印有前述凹凸图案的光固化性膜进行曝光，从而形成固化膜的工序(以下称为“工序(iii)”)；以及，将前述模具从前述固化膜剥离的工序(以下称为“工序(iv)”)。
图1为对图案形成方法的一实施方式进行说明的概略工序图。
[工序(i)]
工序(i)中，使用上述的第1方式的光固化性组合物在基板上形成光固化性膜。
如图1(A)所示，在基板1涂布上述的第1方式的光固化性组合物，形成光固化性膜2。需要说明的是，图1(A)中，在光固化性膜2的上方配置有模具3。
基板1可以根据各种用途来选择，例如，可举出电子部件用的基板、在其上形成规定的布线图案而得到的基板等。更具体而言，可举出硅、氮化硅、铜、铬、铁、铝等金属制的基板、玻璃基板等。作为布线图案的材料，例如可举出铜、铝、镍、金等。
基板1的形状没有特别限定，可以为板状，也可以为卷状。作为基板1，可以根据与模具的组合等而选择透光性或非透光性的基板。
作为在基板1上涂布光固化性组合物的方法，可举出旋涂法、喷雾法、喷射法、辊涂法、旋涂法等。光固化性膜2在可随后进行的基板1的蚀刻工序中作为掩模发挥功能，因此，优选涂布于基板1时的膜厚均匀。从这一点考虑，在基板1上涂布光固化性组合物时，旋涂法是优选的。
光固化性膜2的膜厚可以根据用途而适当地选择，例如，可以设定为0.05～30μm左右。
[工序(ii)]
工序(ii)中，将具有凹凸图案的模具按压于前述光固化性膜，从而在前述光固化性膜上转印前述凹凸图案。
如图1(B)所示，将在表面具有微细的凹凸图案的模具3以与光固化性膜2相对的方式按压在形成有光固化性膜2的基板1上。由此，使光固化性膜2与模具3的凹凸结构一致地变形。
模具3的按压时的对于光固化性膜2的压力优选为10MPa以下，更优选为5MPa以下，特别优选为1MPa以下。
通过将模具3按压于光固化性膜2，位于模具3的凸部的光固化性组合物被容易地推挤到模具3的凹部侧，模具3的凹凸结构被转印至光固化性膜2。
模具3所具有的凹凸图案可以通过例如光刻、电子射线描绘法等、根据所期望的加工精度而形成。
模具3优选为透光性模具。透光性模具的材料没有特别限定，只要具有规定的强度、耐久性即可。具体而言，可例示玻璃、石英、聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯树脂等光透明性树脂膜、透明金属蒸镀膜、聚二甲基硅氧烷等柔软膜、光固化膜、金属膜等。
[工序(iii)]
工序(iii)中，在将前述模具按压于前述光固化性膜的同时，对转印有前述凹凸图案的光固化性膜进行曝光，从而形成树脂固化膜。
如图1(C)所示，在已将模具3按压于光固化性膜2的状态下，对转印有凹凸图案的光固化性膜2进行曝光。具体而言，向光固化性膜2照射紫外线(UV)等电磁波。通过曝光，在按压有模具3的状态下使光固化性膜2进行固化，形成了转印有模具3的凹凸图案的固化膜(固化图案)。
图1(C)中的模具3对于电磁波具有透过性。
用于使光固化性膜2进行固化的光没有特别限定，例如，可举出高能电离放射线、近紫外线、远紫外线、可见光线、红外线等区域的波长的光或放射线。放射线中，也可以优选使用例如微波、EU V、LED、半导体激光、或者248nm的KrF准分子激光或193nm的ArF准分子激光等在半导体的微细加工中使用的激光。这些光可以使用单色光，也可以为多种波长不同的光(混合光)。
[工序(iv)]
工序(iv)中，将前述模具从前述固化膜剥离。
如图1(D)所示，将模具3从固化膜剥离。由此，由转印有凹凸图案的固化膜形成的图案2’(固化图案)被图案化于基板1上。
以上说明的本实施方式的图案形成方法中，使用含有上述的(X)成分、(T)成分、(B)成分及(C)成分的光固化性组合物。由于使用所述光固化性组合物，因此能够形成具有高折射率并且耐光性优异的图案。
本实施方式中，可以在模具3的与光固化性膜2接触的面31上涂布脱模剂(图1(A))。由此，可提高模具与固化膜的脱模性。
作为此处的脱模剂，例如，可举出硅系脱模剂、氟系脱模剂、聚乙烯系脱模剂、聚丙烯系脱模剂、石蜡系脱模剂、褐煤蜡系脱模剂、巴西棕榈蜡系脱模剂等。它们之中，优选氟系脱模剂。例如，可以优选使用Daikin Industries,Ltd.制的OPTOOL DSX等市售的涂布型脱模剂。脱模剂可以单独使用一种，也可以并用两种以上。
另外，本实施方式中，可以在基板1与光固化性膜2之间设置有机物层。由此，通过将光固化性膜2及有机物层作为掩模而对基板1进行蚀刻，能够简便并且可靠地在基板1上形成所期望的图案。有机物层的膜厚根据基板1被加工(蚀刻)的深度而适当地调整即可，例如优选为0.02～2.0μm。有机物层的材料优选为与光固化性组合物相比对于氧系气体的耐蚀刻性低、并且较之基板1而言对于卤素系气体的耐蚀刻性高的材料。形成有机物层的方法没有特别限定，例如可举出溅射法、旋涂法。
第2方式的图案形成方法可以除了工序(i)～(iv)以外还具有其他工序(任选工序)。
作为任选工序，可举出蚀刻工序(工序(v))、蚀刻处理后的固化膜(固化图案)除去工序(工序(vi))等。
[工序(v)]
工序(v)中，例如，将通过上述的工序(i)～(iv)得到的图案2’作为掩模而对基板1进行蚀刻。
如图2(E)所示，对形成有图案2’的基板1照射等离子体及反应性离子中的至少一者(以箭头进行图示)，由此，通过蚀刻而将在图案2’侧露出的基板1部分除去至规定深度。
工序(v)中使用的等离子体或反应性离子的气体只要是在干式蚀刻领域中通常使用的气体，就没有特别限定。
[工序(vi)]
工序(vi)中，将在工序(v)中的蚀刻处理后残留的固化膜除去。
如图2(F)所示，为下述工序：在基板1的蚀刻处理后，将残留于基板1上的固化膜(图案2’)除去。
将残留于基板1上的固化膜(图案2’)除去的方法没有特别限定，例如，可举出使用固化膜能溶解的溶液对基板1进行清洗的处理等。
实施例
以下，利用实施例来更详细地说明本发明，但本发明不受这些例子的限定。
<光固化性组合物的制备>
配合表1～6所示的各成分，分别制备各例的光固化性组合物。
[表1]
[表2]
[表3]
[表4]
[表5]
[表6]
表1～6中，各缩写分别具有以下的含义。[]内的数值为配合量(质量份)。
·(X)成分(金属氧化物纳米粒子)
(X)-1：二氧化钛粒子，日挥触媒化成株式会社制，制品名“ELECOM V-9108”。体积平均一次粒径为15nm。
(X)-2：二氧化钛粒子，TAYCA株式会社制，制品名“NS405”。体积平均一次粒径为15nm。
(X)-3：二氧化钛粒子，石原产业株式会社制，制品名“LDB-014-35”。体积平均一次粒径为15nm。
(X)-4：氧化锆粒子，第一稀元素化学工业株式会社制，制品名“UEP-100”。体积平均一次粒径为15nm。
·(B)成分(光聚合性化合物)
(B1)-1：多官能丙烯酸酯，日本化药株式会社制，制品名“KAYARAD DPHA”。
(B1)-2：三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，共荣社化学株式会社制，制品名“LIGHTACRYLATE TMP-A”。
(BS)-1：双(4-甲基丙烯酰基硫代苯基)硫醚，东京化成工业株式会社制，产品代码“B1662”。
·(C)成分(光自由基聚合引发剂)
(C)-1：2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮，IGM Resins B.V.公司制，制品名“Omnirad651”。分子量为256.3。
(C)-2：双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)-苯基氧化膦，IGM Resi ns B.V.公司制，制品名“Omnirad 819”。分子量为418.5。
(C)-3：1-羟基环己基苯基酮，IGM Resins B.V.公司制，制品名“Omnirad 184”。分子量为204.3。
·(E)成分
(E)-1：氟系表面活性剂，OMNOVA公司制，制品名“PolyF ox PF656”
·(S)成分(溶剂)
(S)-1：丙二醇单甲基醚乙酸酯(PGMEA)
(S)-2：丙二醇单甲基醚(PGME)
<评价>
对于各例的光固化性组合物，通过以下所示的各方法，对压印转印性、折射率及雾度进行评价。将它们的结果示于表7～12。
[压印转印性]
在硅基板上，以膜厚成为600nm的方式调整并旋涂涂布光固化性组合物。接着，于100℃进行1分钟预烘烤，使用东芝机械公司制压印装置ST-200，在转印压力为0.5MPa、转印时间为30秒、曝光量为1J/cm2(真空200Pa气氛下)的条件下进行转印试验，按照下述基准对微细图案的转印性、及填充性进行评价。模具使用了综研化学公司制标准膜模具LSP70-140(70nm Line&Space(线与间隔))。
良好：95％以上(在利用SEM进行确认的情况下，在模具中实现100％填充，能够转印图案)
不良：小于95％
[折射率]
在硅基板上，以膜厚成为600nm的方式调整并旋涂涂布光固化性组合物。接着，于100℃进行1分钟预烘烤，使用东芝机械公司制压印装置ST-200，在曝光量为1J/cm2(真空200Pa气氛下)的条件下进行光固化处理，得到固化膜。对于得到的固化膜，使用J.A.Woollam公司制分光椭圆率计M2000，对波长530nm处的折射率进行测定。
[雾度]
在Eagle X玻璃基板上，以厚度成为600nm的方式调整并旋涂涂布光固化性组合物。接着，于100℃进行1分钟预烘烤，使用东芝机械公司制压印装置ST-200，在曝光量为1J/cm2(真空200Pa气氛下)的条件下进行光固化处理，得到固化膜。对于得到的固化膜，使用日本色工业株式会社制雾度计COH7700，利用C光源(380～780nm)来测定雾度。
[表7]
[表8]
[表9]
[表10]
[表11]
[表12]
根据表7～12的结果，实施例1～58的光固化性组合物的折射率为1.70以上，具有高折射率。另外，雾度值被降低至0.4％以下。另一方面，比较例1～25的光固化性组合物虽然折射率为1.70以上，但雾度值为0.5％以上。
由这些结果确认到，实施例的光固化性组合物能够维持高折射率，并且，与比较例的光固化性组合物相比，能够降低雾度。
以上，对本发明的优选的实施例进行了说明，但本发明不限定于这些实施例。可以在不脱离本发明的主旨的范围内进行构成的加成、省略、替换及其他变更。本发明不受前述说明的限定，而仅由所附的权利要求的范围限定。
附图标记说明
1基板，2光固化性膜，3模具

Claims (7)

1.光固化性组合物，其含有：
金属氧化物纳米粒子(X)，
光聚合性化合物(B)，和
光自由基聚合引发剂(C)；
相对于所述金属氧化物纳米粒子(X)及所述光聚合性化合物(B)的合计含量100质量份而言，所述光自由基聚合引发剂(C)的含量为10质量份以上。
2.如权利要求1所述的光固化性组合物，其中，所述金属氧化物纳米粒子(X)的体积平均一次粒径为100nm以下。
3.如权利要求1或2所述的光固化性组合物，其中，相对于所述金属氧化物纳米粒子(X)及所述光聚合性化合物(B)的合计含量100质量份而言，所述金属氧化物纳米粒子(X)的含量为60～90质量份，所述光聚合性化合物(B)的含量为10～40质量份。
4.如权利要求1～3中任一项所述的光固化性组合物，其中，使用所述光固化性组合物形成的固化膜的波长530nm处的折射率为1.70以上。
5.如权利要求1～4中任一项所述的光固化性组合物，其中，使用所述光固化性组合物形成的膜厚600nm的固化膜的依照ASTM D100测定的雾度值为0.4％以下。
6.如权利要求1～5中任一项所述的光固化性组合物，其用于光压印光刻。
7.图案形成方法，其包括：
使用权利要求1～6中任一项所述的光固化性组合物在基板上形成光固化性膜的工序；
将具有凹凸图案的模具按压于所述光固化性膜，从而在所述光固化性膜上转印所述凹凸图案的工序；
在将所述模具按压于所述光固化性膜的同时，对转印有所述凹凸图案的光固化性膜进行曝光，从而形成固化膜的工序；以及
将所述模具从所述固化膜剥离的工序。
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