CN117070924B - 一种化学气相沉积气流调节装置 - Google Patents
一种化学气相沉积气流调节装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN117070924B CN117070924B CN202311104211.5A CN202311104211A CN117070924B CN 117070924 B CN117070924 B CN 117070924B CN 202311104211 A CN202311104211 A CN 202311104211A CN 117070924 B CN117070924 B CN 117070924B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- negative pressure
- bin
- shell
- conveying pipe
- circulating water
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 title claims abstract description 28
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 146
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims abstract description 36
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract description 20
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 19
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 claims abstract description 15
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims abstract description 8
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 108
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 21
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 20
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 18
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 14
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 4
- 238000007790 scraping Methods 0.000 claims description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 6
- 239000010408 film Substances 0.000 description 19
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 11
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 8
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 6
- 238000010517 secondary reaction Methods 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
- C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
本发明涉及一种化学气相沉积气流调节装置；涉及化学气相沉积技术领域，包括外壳，该外壳的内部上端为负压仓，负压仓下方为冷却仓，外壳的下端为喷料口；外壳的内侧设有输送管，且输送管与外壳呈同心圆设置；输送管的下端外侧滑动连接有循环水仓，该循环水仓位于外壳的冷却仓中；输送管的下方设有移动块，该移动块呈圆锥状且内部设有水槽，且水槽的两端均套接有循环水管；输送管的下端外侧设置的循环水仓中循环流动有冷却水，循环水仓和移动块均能够对输送管中的高温混合气体进行降温，让输送管中的高温混合气体温度降低，防止混合气体因为过高的温度而在喷料口发生提前反应，从而保证生成的薄膜具有良好的厚度、成分以及光学和电性能。
Description
技术领域
本发明涉及化学气相沉积技术领域，具体涉及一种化学气相沉积气流调节装置。
背景技术
化学气相沉积是一种化工技术，该技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法。化学气相淀积是近几十年发展起来的制备无机材料的新技术。化学气相淀积法已经广泛用于提纯物质、研制新晶体、淀积各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料，目前，化学气相淀积已成为无机合成化学的一个新领域。
化学气相沉积生成薄膜是将含有薄膜元素的多种气体加热混合，然后通过喷洒装置将加热后的混合气体喷洒进气相沉积炉中，气相沉积炉内部呈真空高温状态，混合气体在气相沉积炉中沉淀到物品表面并在物品表面发生化学反应生成薄膜；中国专利公告号CN101492812 B公开了一种可连续大面积均匀化学气相沉积的喷头系统,包括输送管路、固定面板、安装在固定面板上部的一次反应气体混合腔体、安装在固定面板下部的喷管,喷管具有喷气口,在固定面板的上部还安装了循环水冷却系统，在固定面板的下部还安装了二次反应气体混合腔体，喷管罩在二次反应气体混合腔体中,二次反应气体混合腔体的横截面呈“V”字型,二次反应气体混合腔体的底部开有单缝隙喷嘴。
上述专利中的化学气相沉积的喷头系统是通过输送管路将混合气体运输进一次反应气体混合腔体中，然后混合气体通过一次反应气体混合腔体进入二次反应气体混合腔的腔体中，最后通过二次反应气体混合腔的腔体下方的单缝隙喷嘴喷出，混合气体在进入一次反应气体混合腔体中时，一次反应气体混合腔体外部的循环冷却水管流动的冷却水能够对混合气体进行降温；上述化学气相沉积的喷头系统虽然能够对混合气体进行降温防止混合气体发生提前反应，但是，进行气相沉积工作时，不同的物品所需要的薄膜的厚度、成分以及薄膜的光学和电性能均不相同，混合气体气流分布的不同能够改变其形成的薄膜的厚度、成分以及光学和电性能，因此对不同的物品进行气相沉积覆膜时所需要的混合气体气流分布也不尽相同，此外，物品的形状及体积的不同，对混合气体的气流分布的需要也不相同，上述化学气相沉积的喷头系统只能够防止混合气体发生提前反应，而不能改变混合气体的气流分布，使得其无法对不同品类、不同形状尺寸的物品进行气相沉积覆膜。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术的不足,适应现实需要,提供一种能够改变混合气体气流分布的设备，以解决上述技术问题。
为了实现本发明的目的,本发明所采用的技术方案为：
一种化学气相沉积气流调节装置，包括外壳，该外壳的内部上端为负压仓，负压仓下方为冷却仓，外壳的下端为喷料口；外壳的内侧设有输送管，且输送管与外壳成同心圆设置；输送管的下端外侧滑动连接有循环水仓，该循环水仓位于外壳的冷却仓中；输送管的下方设有移动块，该移动块呈圆锥状且内部设有水槽，且水槽的两端均套接有循环水管；循环水仓的内侧对称设有两个过滤嘴，两个过滤嘴的底部分别与两个循环水管远离移动块的一端固定连接；
所述的输送管的下端内侧滑动连接有滑动环，该滑动环与输送管呈同心圆设置；移动块的一端与滑动环的中间焊接；滑动环上设有多个供混合气体通过的通槽；输送管的中端外侧套接有弹簧，输送管的上端外侧滑动连接有挡板，且挡板与输送管呈同心圆设置；弹簧的顶部与挡板的底部焊接，弹簧的底部与循环水仓的顶部焊接；循环水仓的顶部固定连接有输水管，弹簧和输水管均位于外壳的负压仓中；外壳中端一侧设有供输水管通过的密封口，输水管通过外壳的密封口延伸至外壳外侧并与循环水源连接；
所述的挡板呈圆环状，且挡板将负压仓分为上下两层；外壳的中端外侧固定连接有第一负压泵，该第一负压泵与负压仓的下层连通；第一负压泵的上方设有第二负压泵，该第二负压泵与外壳固定连接并与负压仓的上层连通；
所述的输送管的上端延伸至外壳的顶部外侧，该外壳的顶部焊接有封盖；外壳的顶部中间设有密封套环，该密封套环与输送管呈同心圆设置；输送管的上端与密封套环内侧套接；输送管的上端设有进料口，该进料口位于外壳的上方。
作为本发明的进一步技术方案，所述的喷料口呈圆锥形且喷料口与输送管呈同心圆设置；外壳的负压仓和冷却仓均呈圆筒状，且冷却仓与负压仓的下层连通。
作为本发明的进一步技术方案，所述的挡板的上方对称设有两个凸轮，两个凸轮分别位于输送管的两侧；两个凸轮均固定连接有传动轴；外壳的上端对称设有两个通孔，两个传动轴分别通过外壳的两个通孔延伸至外壳的外侧。
作为本发明的进一步技术方案，两个所述的传动轴远离凸轮的一端均与旋转握把套接，该旋转握把位于外壳的外侧且呈倾斜设置；旋转握把远离外壳的一端设有方便工作人员握住发力的通槽。
作为本发明的进一步技术方案，所述的旋转握把的两侧外侧均设有导向框架，两个导向框架分别与两个传动轴为圆心呈弧形；两个导向框架的中间均设有导向槽，且导向槽的弧度与导向框架的弧度相同。
作为本发明的进一步技术方案，两个所述的导向框架的导向槽中均设有固定螺栓；旋转握把的两侧均设有螺纹孔，旋转握把的两侧分别通过固定螺栓与导向框架固定连接；两个导向框架分别位于外壳的两侧并与外壳的外侧焊接。
作为本发明的进一步技术方案，所述的外壳的喷料口位于气相沉积炉的内部，外壳的负压仓和冷却仓位于气相沉积炉的外侧；输送管的进料口与气体混合装置连接。
一种化学气相沉积气流调节装置的调节方法,包括如下步骤：
步骤一，通入混合气体，多种含有薄膜元素的气体在气体混合装置中被加热并充分混合后，通过进料口进入输送管中，然后混合气体自输送管的上端移动至输送管的下端并进入外壳的喷料口中，最后通过喷料口喷射进气相沉积炉的内部；气相沉积炉的内部为高温真空状态，混合气体接触到气相沉积炉内部的物品后，会在物品的衬底表面上进行化学反应并生成薄膜；输送管的下端外侧设置的循环水仓中循环流动有冷却水，且循环水仓通过两个循环水管与移动块内部的水槽连通，使得冷却水也能够在移动块内部循环流动，让循环水仓和移动块均能够对输送管中的高温混合气体进行降温，让输送管中的高温混合气体温度降低，防止混合气体因为过高的温度而在喷料口发生提前反应，从而保证生成的薄膜具有良好的厚度、成分以及光学和电性能；
步骤二，气流调节，外壳的负压仓被挡板分隔为上下两层，且负压仓的上下两层互不连通；通过第一负压泵来改变负压仓下层的负压状态，让负压仓下层的负压加强，此时循环水仓在加强后负压的作用下向上滑动，循环水仓在滑动的同时，能够通过两个循环水管带动移动块同步上移，移动块呈圆锥状，随着移动块逐渐上移，其与输送管内壁之间供混合气体通过的缝隙会逐渐减小，缝隙大小不同，混合气体通过时的速度及气流分布也不同，通过工作的具体需要改变移动块与输送管内壁之间的间距，能够让混合气体形成的薄膜满足不同工艺的需求；输水管为软管，在起到支撑运输冷却水的同时，还不会对循环水仓的移动造成影响，让循环水仓和移动块的移动更加顺滑；
步骤三，刮蹭输送管内壁，负压仓下层负压增加后，循环水仓在带动移动块移动的同时，移动块也会同步带动滑动环移动；滑动环在移动时候，会对输送管的内壁进行刮动，小部分混合气体在输送管中会提前发生化学反应，使得输送管的内壁上会产生少量的固体物质，滑动环刮动输送管的内壁时，能够将输送管内壁上的固体物质剥离，防止输送管内壁上固体物质堆积过多而影响混合气体的正常移动；此外，滑动环上设有多个供混合气体通过的通槽，混合气体能够通过滑动环的多个通槽穿过滑动环，让滑动环能够在保证混合气体正常通过的前提下对输送管的内壁进行刮动，不影响化学气相沉积工作的正常进行；
步骤四，平衡负压仓上层和下层的负压值，在第一负压泵运作改变负压仓下层的负压大小时，第二负压泵也会同步运作，让负压仓上层的负压值与负压仓下层的负压值相同，保证负压仓上层和下层的压力平衡，能够防止挡板因为负压仓上层和下层负压不同而产生位移，从而保证挡板的稳定性；
步骤五，保证弹簧的弹性，在第一负压泵改变负压值控制循环水仓位移时，弹簧产生的弹力也会施加到循环水仓上，能够限制循环水仓的位移距离，防止循环水仓因为移动距离过大使得移动块将输送管堵住导致混合气体无法进入喷料口，同时还能够让循环水仓的位移更加平缓，防止循环水仓与输送管外壁摩擦过度对防止循环水仓和输送管造成损坏；此外，弹簧在长时间使用后会产生弹力疲劳，使得弹簧的弹力降低，弹簧弹力降低后其对循环水仓的控制效果也会降低；通过手动转动旋转握把，旋转握把通过两个传动轴能够同步带动两个凸轮旋转，两个凸轮旋转时，其凸起部分能够顶动挡板，让挡板向下移动，挡板则带动弹簧的上端向下移动，让弹簧的长度减小，能够将弹簧的弹力疲劳抵消掉，使得弹簧的弹力恢复正常，让弹簧能够正常起到牵制循环水仓的作用。
(3)有益效果：
A、本发明中，多种含有薄膜元素的气体在气体混合装置中被加热并充分混合后，通过进料口进入输送管中，然后混合气体自输送管的上端移动至输送管的下端并进入外壳的喷料口中，最后通过喷料口喷射进气相沉积炉的内部；气相沉积炉的内部为高温真空状态，混合气体接触到气相沉积炉内部的物品后，会在物品的衬底表面上进行化学反应并生成薄膜；输送管的下端外侧设置的循环水仓中循环流动有冷却水，且循环水仓通过两个循环水管与移动块内部的水槽连通，使得冷却水也能够在移动块内部循环流动，让循环水仓和移动块均能够对输送管中的高温混合气体进行降温，让输送管中的高温混合气体温度降低，防止混合气体因为过高的温度而在喷料口发生提前反应，从而保证生成的薄膜具有良好的厚度、成分以及光学和电性能；
B、本发明中，外壳的负压仓被挡板分隔为上下两层，且负压仓的上下两层互不连通；通过第一负压泵来改变负压仓下层的负压状态，让负压仓下层的负压加强，此时循环水仓在加强后负压的作用下向上滑动，循环水仓在滑动的同时，能够通过两个循环水管带动移动块同步上移，移动块呈圆锥状，随着移动块逐渐上移，其与输送管内壁之间供混合气体通过的缝隙会逐渐减小，缝隙大小不同，混合气体通过时的速度及气流分布也不同，通过工作的具体需要改变移动块与输送管内壁之间的间距，能够让混合气体形成的薄膜满足不同工艺的需求；输水管为软管，在起到支撑运输冷却水的同时，还不会对循环水仓的移动造成影响，让循环水仓和移动块的移动更加顺滑；
C、本发明中，负压仓下层负压增加后，循环水仓在带动移动块移动的同时，移动块也会同步带动滑动环移动；滑动环在移动时候，会对输送管的内壁进行刮动，小部分混合气体在输送管中会提前发生化学反应，使得输送管的内壁上会产生少量的固体物质，滑动环刮动输送管的内壁时，能够将输送管内壁上的固体物质剥离，防止输送管内壁上固体物质堆积过多而影响混合气体的正常移动；此外，滑动环上设有多个供混合气体通过的通槽，混合气体能够通过滑动环的多个通槽穿过滑动环，让滑动环能够在保证混合气体正常通过的前提下对输送管的内壁进行刮动，不影响化学气相沉积工作的正常进行；
D、本发明中，在第一负压泵运作改变负压仓下层的负压大小时，第二负压泵也会同步运作，让负压仓上层的负压值与负压仓下层的负压值相同，保证负压仓上层和下层的压力平衡，能够防止挡板因为负压仓上层和下层负压不同而产生位移，从而保证挡板的稳定性；
E、本发明中，在第一负压泵改变负压值控制循环水仓位移时，弹簧产生的弹力也会施加到循环水仓上，能够限制循环水仓的位移距离，防止循环水仓因为移动距离过大使得移动块将输送管堵住导致混合气体无法进入喷料口，同时还能够让循环水仓的位移更加平缓，防止循环水仓与输送管外壁摩擦过度对防止循环水仓和输送管造成损坏；此外，弹簧在长时间使用后会产生弹力疲劳，使得弹簧的弹力降低，弹簧弹力降低后其对循环水仓的控制效果也会降低；通过手动转动旋转握把，旋转握把通过两个传动轴能够同步带动两个凸轮旋转，两个凸轮旋转时，其凸起部分能够顶动挡板，让挡板向下移动，挡板则带动弹簧的上端向下移动，让弹簧的长度减小，能够将弹簧的弹力疲劳抵消掉，使得弹簧的弹力恢复正常，让弹簧能够正常起到牵制循环水仓的作用。
附图说明
图1为本发明的立体结构示意图；
图2为本发明中图1的侧视图；
图3为本发明中图1的内部结构示意图；
图4为本发明中图3的部分结构示意图；
图5为本发明中外壳组件的立体结构示意图；
图6为本发明中图5的内部结构示意图；
图7为本发明中弹力调节组件的立体结构示意图；
图8为本发明中图7的部分结构示意图；
图9为本发明中输送管与循环水仓的连接示意图；
图10为本发明中图9的内部结构示意图；
图11为本发明中循环水仓与循环水管的连接示意图；
图12为发明中图11的内部结构示意图；
图13为本发明中移动块与滑动环的连接示意图；
图14为发明中图13的内部结构示意图。
图中：1-输送管，2-移动块，3-滑动环，4-循环水仓，5-过滤嘴，6-循环水管，7-外壳，8-弹簧，9-挡板，10-输水管，11-第一负压泵，12-第二负压泵，13-凸轮，14-传动轴，15-旋转握把，16-导向框架，17-固定螺栓，18-密封套环，19-封盖，20-进料口，21-水槽；
701-负压仓，702-冷却仓，703-喷料口。
具体实施方式
请参阅图1-14，一种化学气相沉积气流调节装置,包括外壳7，该外壳7的内部上端为负压仓701，负压仓701下方为冷却仓702，外壳7的下端为喷料口703；外壳7的内侧设有输送管1，且输送管1与外壳7成同心圆设置；输送管1的下端外侧滑动连接有循环水仓4，该循环水仓4位于外壳7的冷却仓702中；输送管1的下方设有移动块2，该移动块2呈圆锥状且内部设有水槽21，且水槽21的两端均套接有循环水管6；循环水仓4的内侧对称设有两个过滤嘴5，两个过滤嘴5的底部分别与两个循环水管6远离移动块2的一端固定连接；
所述的输送管1的下端内侧滑动连接有滑动环3，该滑动环3与输送管1呈同心圆设置；移动块2的一端与滑动环3的中间焊接；滑动环3上设有多个供混合气体通过的通槽；输送管1的中端外侧套接有弹簧8，输送管1的上端外侧滑动连接有挡板9，且挡板9与输送管1呈同心圆设置；弹簧8的顶部与挡板9的底部焊接，弹簧8的底部与循环水仓4的顶部焊接；循环水仓4的顶部固定连接有输水管10，弹簧8和输水管10均位于外壳7的负压仓701中；外壳7中端一侧设有供输水管10通过的密封口，输水管10通过外壳7的密封口延伸至外壳7外侧并与循环水源连接；
通过采用上述技术方案，多种含有薄膜元素的气体在气体混合装置中被加热并充分混合后，通过进料口20进入输送管1中，然后混合气体自输送管1的上端移动至输送管1的下端并进入外壳7的喷料口703中，最后通过喷料口703喷射进气相沉积炉的内部；气相沉积炉的内部为高温真空状态，混合气体接触到气相沉积炉内部的物品后，会在物品的衬底表面上进行化学反应并生成薄膜；输送管1的下端外侧设置的循环水仓4中循环流动有冷却水，且循环水仓4通过两个循环水管6与移动块2内部的水槽21连通，使得冷却水也能够在移动块2内部循环流动，让循环水仓4和移动块2均能够对输送管1中的高温混合气体进行降温，让输送管1中的高温混合气体温度降低，防止混合气体因为过高的温度而在喷料口703发生提前反应，从而保证生成的薄膜具有良好的厚度、成分以及光学和电性能。
所述的挡板9呈圆环状，且挡板9将负压仓701分为上下两层；外壳7的中端外侧固定连接有第一负压泵11，该第一负压泵11与负压仓701的下层连通；第一负压泵11的上方设有第二负压泵12，该第二负压泵12与外壳7固定连接并与负压仓701的上层连通；
通过采用上述技术方案，在第一负压泵11运作改变负压仓701下层的负压大小时，第二负压泵12也会同步运作，让负压仓701上层的负压值与负压仓701下层的负压值相同，保证负压仓701上层和下层的压力平衡，能够防止挡板9因为负压仓701上层和下层负压不同而产生位移，从而保证挡板9的稳定性。
本实施例中，所述的输送管1的上端延伸至外壳7的顶部外侧，该外壳7的顶部焊接有封盖19；外壳7的顶部中间设有密封套环18，该密封套环18与输送管1呈同心圆设置；输送管1的上端与密封套环18内侧套接；输送管1的上端设有进料口20，该进料口20位于外壳7的上方。
通过采用上述技术方案，外壳7的负压仓701被挡板9分隔为上下两层，且负压仓701的上下两层互不连通；通过第一负压泵11来改变负压仓701下层的负压状态，让负压仓701下层的负压加强，此时循环水仓4在加强后负压的作用下向上滑动，循环水仓4在滑动的同时，能够通过两个循环水管6带动移动块2同步上移，移动块2呈圆锥状，随着移动块2逐渐上移，其与输送管1内壁之间供混合气体通过的缝隙会逐渐减小，缝隙大小不同，混合气体通过时的速度及气流分布也不同，通过工作的具体需要改变移动块2与输送管1内壁之间的间距，能够让混合气体形成的薄膜满足不同工艺的需求；输水管10为软管，在起到支撑运输冷却水的同时，还不会对循环水仓4的移动造成影响，让循环水仓4和移动块2的移动更加顺滑。
本实施例中，所述的喷料口703呈圆锥形且喷料口703与输送管1呈同心圆设置；外壳7的负压仓701和冷却仓702均呈圆筒状，且冷却仓702与负压仓701的下层连通。
具体一点的，所述的外壳7的喷料口703位于气相沉积炉的内部，外壳7的负压仓701和冷却仓702位于气相沉积炉的外侧；输送管1的进料口20与气体混合装置连接。
通过采用上述技术方案，负压仓701下层负压增加后，循环水仓4在带动移动块2移动的同时，移动块2也会同步带动滑动环3移动；滑动环3在移动时候，会对输送管1的内壁进行刮动，小部分混合气体在输送管1中会提前发生化学反应，使得输送管1的内壁上会产生少量的固体物质，滑动环3刮动输送管1的内壁时，能够将输送管1内壁上的固体物质剥离，防止输送管1内壁上固体物质堆积过多而影响混合气体的正常移动；此外，滑动环3上设有多个供混合气体通过的通槽，混合气体能够通过滑动环3的多个通槽穿过滑动环3，让滑动环3能够在保证混合气体正常通过的前提下对输送管1的内壁进行刮动，不影响化学气相沉积工作的正常进行。
本实施例中，所述的挡板9的上方对称设有两个凸轮13，两个凸轮13分别位于输送管1的两侧；两个凸轮13均固定连接有传动轴14；外壳7的上端对称设有两个通孔，两个传动轴14分别通过外壳7的两个通孔延伸至外壳7的外侧。
具体一点的，两个所述的传动轴14远离凸轮13的一端均与旋转握把15套接，该旋转握把15位于外壳7的外侧且呈倾斜设置；旋转握把15远离外壳7的一端设有方便工作人员握住发力的通槽；
所述的旋转握把15的两侧外侧均设有导向框架16，两个导向框架16分别与两个传动轴14为圆心呈弧形；两个导向框架16的中间均设有导向槽，且导向槽的弧度与导向框架16的弧度相同；
两个所述的导向框架16的导向槽中均设有固定螺栓17；旋转握把15的两侧均设有螺纹孔，旋转握把15的两侧分别通过固定螺栓17与导向框架16固定连接；两个导向框架16分别位于外壳7的两侧并与外壳7的外侧焊接。
通过采用上述技术方案，在第一负压泵11改变负压值控制循环水仓4位移时，弹簧8产生的弹力也会施加到循环水仓4上，能够限制循环水仓4的位移距离，防止循环水仓4因为移动距离过大使得移动块2将输送管1堵住导致混合气体无法进入喷料口703，同时还能够让循环水仓4的位移更加平缓，防止循环水仓4与输送管1外壁摩擦过度对防止循环水仓4和输送管1造成损坏；此外，弹簧8在长时间使用后会差生弹力疲劳，使得弹簧8的弹力降低，弹簧8弹力降低后其对循环水仓4的控制效果也会降低；通过手动转动旋转握把15，旋转握把15通过两个传动轴14能够同步带动两个凸轮13旋转，两个凸轮13旋转时，其凸起部分能够顶动挡板9，让挡板9向下移动，挡板9则带动弹簧8的上端向下移动，让弹簧8的长度减小，能够将弹簧8的弹力疲劳抵消掉，使得弹簧8的弹力恢复正常，让弹簧8能够正常起到牵制循环水仓4的作用。
一种化学气相沉积气流调节装置的调节方法,包括如下步骤：
步骤一，通入混合气体，多种含有薄膜元素的气体在气体混合装置中被加热并充分混合后，通过进料口20进入输送管1中，然后混合气体自输送管1的上端移动至输送管1的下端并进入外壳7的喷料口703中，最后通过喷料口703喷射进气相沉积炉的内部；气相沉积炉的内部为高温真空状态，混合气体接触到气相沉积炉内部的物品后，会在物品的衬底表面上进行化学反应并生成薄膜；输送管1的下端外侧设置的循环水仓4中循环流动有冷却水，且循环水仓4通过两个循环水管6与移动块2内部的水槽21连通，使得冷却水也能够在移动块2内部循环流动，让循环水仓4和移动块2均能够对输送管1中的高温混合气体进行降温，让输送管1中的高温混合气体温度降低，防止混合气体因为过高的温度而在喷料口703发生提前反应，从而保证生成的薄膜具有良好的厚度、成分以及光学和电性能；
步骤二，气流调节，外壳7的负压仓701被挡板9分隔为上下两层，且负压仓701的上下两层互不连通；通过第一负压泵11来改变负压仓701下层的负压状态，让负压仓701下层的负压加强，此时循环水仓4在加强后负压的作用下向上滑动，循环水仓4在滑动的同时，能够通过两个循环水管6带动移动块2同步上移，移动块2呈圆锥状，随着移动块2逐渐上移，其与输送管1内壁之间供混合气体通过的缝隙会逐渐减小，缝隙大小不同，混合气体通过时的速度及气流分布也不同，通过工作的具体需要该改变移动块2与输送管1内壁之间的间距，能够让混合气体形成的薄膜满足不同工艺的需求；输水管10为软管，在起到支撑运输冷却水的同时，还不会对循环水仓4的移动造成影响，让循环水仓4和移动块2的移动更加顺滑；
步骤三，刮蹭输送管内壁，负压仓701下层负压增加后，循环水仓4在带动移动块2移动的同时，移动块2也会同步带动滑动环3移动；滑动环3在移动时候，会对输送管1的内壁进行刮动，小部分混合气体在输送管1中会提前发生化学反应，使得输送管1的内壁上会产生少量的固体物质，滑动环3刮动输送管1的内壁时，能够将输送管1内壁上的固体物质剥离，防止输送管1内壁上固体物质堆积过多而影响混合气体的正常移动；此外，滑动环3上设有多个供混合气体通过的通槽，混合气体能够通过滑动环3的多个通槽穿过滑动环3，让滑动环3能够在保证混合气体正常通过的前提下对输送管1的内壁进行刮动，不影响化学气相沉积工作的正常进行；
步骤四，平衡负压仓上层和下层的负压值，在第一负压泵11运作改变负压仓701下层的负压大小时，第二负压泵12也会同步运作，让负压仓701上层的负压值与负压仓701下层的负压值相同，保证负压仓701上层和下层的压力平衡，能够防止挡板9因为负压仓701上层和下层负压不同而产生位移，从而保证挡板9的稳定性；
步骤五，保证弹簧的弹性，在第一负压泵11改变负压值控制循环水仓4位移时，弹簧8产生的弹力也会施加到循环水仓4上，能够限制循环水仓4的位移距离，防止循环水仓4因为移动距离过大使得移动块2将输送管1堵住导致混合气体无法进入喷料口703，同时还能够让循环水仓4的位移更加平缓，防止循环水仓4与输送管1外壁摩擦过度对防止循环水仓4和输送管1造成损坏；此外，弹簧8在长时间使用后会产生弹力疲劳，使得弹簧8的弹力降低，弹簧8弹力降低后其对循环水仓4的控制效果也会降低；通过手动转动旋转握把15，旋转握把15通过两个传动轴14能够同步带动两个凸轮13旋转，两个凸轮13旋转时，其凸起部分能够顶动挡板9，让挡板9向下移动，挡板9则带动弹簧8的上端向下移动，让弹簧8的长度减小，能够将弹簧8的弹力疲劳抵消掉，使得弹簧8的弹力恢复正常，让弹簧8能够正常起到牵制循环水仓4的作用。
本发明的实施例公布的是较佳的实施例,但并不局限于此,本领域的普通技术人员,极易根据上述实施例,领会本发明的精神,并做出不同的引申和变化,但只要不脱离本发明的精神,都在本发明的保护范围内。
Claims (5)
1.一种化学气相沉积气流调节装置，其特征在于：包括外壳（7），该外壳（7）的内部上端为负压仓（701），负压仓（701）下方为冷却仓（702），外壳（7）的下端为喷料口（703）；外壳（7）的内侧设有输送管（1），且输送管（1）与外壳（7）成同心圆设置；输送管（1）的下端外侧滑动连接有循环水仓（4），该循环水仓（4）位于外壳（7）的冷却仓（702）中；输送管（1）的下方设有移动块（2），该移动块（2）呈圆锥状且内部设有水槽（21），且水槽（21）的两端均套接有循环水管（6）；循环水仓（4）的内侧对称设有两个过滤嘴（5），两个过滤嘴（5）的底部分别与两个循环水管（6）远离移动块（2）的一端固定连接；
所述的输送管（1）的下端内侧滑动连接有滑动环（3），该滑动环（3）与输送管（1）呈同心圆设置；移动块（2）的一端与滑动环（3）的中间焊接；滑动环（3）上设有多个供混合气体通过的通槽；输送管（1）的中端外侧套接有弹簧（8），输送管（1）的上端外侧滑动连接有挡板（9），且挡板（9）与输送管（1）呈同心圆设置；弹簧（8）的顶部与挡板（9）的底部焊接，弹簧（8）的底部与循环水仓（4）的顶部焊接；循环水仓（4）的顶部固定连接有输水管（10），弹簧（8）和输水管（10）均位于外壳（7）的负压仓（701）中；外壳（7）中端一侧设有供输水管（10）通过的密封口，输水管（10）通过外壳（7）的密封口延伸至外壳（7）外侧并与循环水源连接；
所述的挡板（9）呈圆环状，且挡板（9）将负压仓（701）分为上下两层；外壳（7）的中端外侧固定连接有第一负压泵（11），该第一负压泵（11）与负压仓（701）的下层连通；第一负压泵（11）的上方设有第二负压泵（12），该第二负压泵（12）与外壳（7）固定连接并与负压仓（701）的上层连通；
所述的输送管（1）的上端延伸至外壳（7）的顶部外侧，该外壳（7）的顶部焊接有封盖（19）；外壳（7）的顶部中间设有密封套环（18），该密封套环（18）与输送管（1）呈同心圆设置；输送管（1）的上端与密封套环（18）内侧套接；输送管（1）的上端设有进料口（20），该进料口（20）位于外壳（7）的上方。
2.如权利要求1所述的化学气相沉积气流调节装置,其特征在于：所述的喷料口（703）呈圆锥形且喷料口（703）与输送管（1）呈同心圆设置；外壳（7）的负压仓（701）和冷却仓（702）均呈圆筒状，且冷却仓（702）与负压仓（701）的下层连通。
3.如权利要求2所述的化学气相沉积气流调节装置,其特征在于：所述的挡板（9）的上方对称设有两个凸轮（13），两个凸轮（13）分别位于输送管（1）的两侧；两个凸轮（13）均固定连接有传动轴（14）；外壳（7）的上端对称设有两个通孔，两个传动轴（14）分别通过外壳（7）的两个通孔延伸至外壳（7）的外侧；两个所述的传动轴（14）远离凸轮（13）的一端均与旋转握把（15）套接，该旋转握把（15）位于外壳（7）的外侧且呈倾斜设置；旋转握把（15）远离外壳（7）的一端设有方便工作人员握住发力的通槽；所述的旋转握把（15）的两侧外侧均设有导向框架（16），两个导向框架（16）分别以两个传动轴（14）为圆心呈弧形；两个导向框架（16）的中间均设有导向槽，且导向槽的弧度与导向框架（16）的弧度相同；两个所述的导向框架（16）的导向槽中均设有固定螺栓（17）；旋转握把（15）的两侧均设有螺纹孔，旋转握把（15）的两侧分别通过固定螺栓（17）与导向框架（16）固定连接；两个导向框架（16）分别位于外壳（7）的两侧并与外壳（7）的外侧焊接；通过手动转动旋转握把（15），旋转握把（15）通过两个传动轴（14）能够同步带动两个凸轮（13）旋转，两个凸轮（13）旋转时，其凸起部分能够顶动挡板（9），让挡板（9）向下移动，挡板（9）则带动弹簧（8）的上端向下移动，让弹簧（8）的长度减小，能够将弹簧（8）的弹力疲劳抵消掉，使得弹簧（8）的弹力恢复正常，让弹簧（8）能够正常起到牵制循环水仓（4）的作用。
4.如权利要求3所述的化学气相沉积气流调节装置,其特征在于：所述的外壳（7）的喷料口（703）位于气相沉积炉的内部，外壳（7）的负压仓（701）和冷却仓（702）位于气相沉积炉的外侧；输送管（1）的进料口（20）与气体混合装置连接。
5.一种采用权利要求1-4任一项所述的化学气相沉积气流调节装置的调节方法,其特征在于：包括如下步骤：
步骤一，通入混合气体，多种含有薄膜元素的气体在气体混合装置中被加热并充分混合后，通过进料口（20）进入输送管（1）中，然后混合气体自输送管（1）的上端移动至输送管（1）的下端并进入外壳（7）的喷料口（703）中，最后通过喷料口（703）喷射进气相沉积炉的内部；输送管（1）的下端外侧设置的循环水仓（4）中循环流动有冷却水，且循环水仓（4）通过两个循环水管（6）与移动块（2）内部的水槽（21）连通，使得冷却水也能够在移动块（2）内部循环流动，让循环水仓（4）和移动块（2）均能够对输送管（1）中的高温混合气体进行降温；
步骤二，气流调节，外壳（7）的负压仓（701）被挡板（9）分隔为上下两层，且负压仓（701）的上下两层互不连通；通过第一负压泵（11）来改变负压仓（701）下层的负压状态，让负压仓（701）下层的负压加强，此时循环水仓（4）在加强后负压的作用下向上滑动，循环水仓（4）在滑动的同时，能够通过两个循环水管（6）带动移动块（2）同步上移，移动块（2）呈圆锥状，随着移动块（2）逐渐上移，其与输送管（1）内壁之间供混合气体通过的缝隙会逐渐减小，缝隙大小不同，混合气体通过时的速度及气流分布也不同，通过工作的具体需要改变移动块（2）与输送管（1）内壁之间的间距；
步骤三，刮蹭输送管内壁，负压仓（701）下层负压增加后，循环水仓（4）在带动移动块（2）移动的同时，移动块（2）也会同步带动滑动环（3）移动；滑动环（3）在移动时候，会对输送管（1）的内壁进行刮动；此外，滑动环（3）上设有多个供混合气体通过的通槽，混合气体能够通过滑动环（3）的多个通槽穿过滑动环（3）；
步骤四，平衡负压仓上层和下层的负压值，在第一负压泵（11）运作改变负压仓（701）下层的负压大小时，第二负压泵（12）也会同步运作，让负压仓（701）上层的负压值与负压仓（701）下层的负压值相同，保证负压仓（701）上层和下层的压力平衡；
步骤五，保证弹簧的弹性，在第一负压泵（11）改变负压值控制循环水仓（4）位移时，弹簧（8）产生的弹力也会施加到循环水仓（4）上，当弹簧（8）长时间使用后产生弹力疲劳时，通过手动转动旋转握把（15），旋转握把（15）通过两个传动轴（14）能够同步带动两个凸轮（13）旋转，两个凸轮（13）旋转时，其凸起部分能够顶动挡板（9），让挡板（9）向下移动，挡板（9）则带动弹簧（8）的上端向下移动，让弹簧（8）的长度减小，将弹簧（8）的弹力疲劳抵消掉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202311104211.5A CN117070924B (zh) | 2023-08-30 | 2023-08-30 | 一种化学气相沉积气流调节装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202311104211.5A CN117070924B (zh) | 2023-08-30 | 2023-08-30 | 一种化学气相沉积气流调节装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN117070924A CN117070924A (zh) | 2023-11-17 |
| CN117070924B true CN117070924B (zh) | 2024-04-26 |
Family
ID=88702121
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202311104211.5A Active CN117070924B (zh) | 2023-08-30 | 2023-08-30 | 一种化学气相沉积气流调节装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN117070924B (zh) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN117737687B (zh) * | 2024-02-09 | 2024-05-10 | 上海谙邦半导体设备有限公司 | 一种用于钨沉积设备的混气结构及混气方法 |
Citations (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000001007A1 (fr) * | 1998-06-30 | 2000-01-06 | Tokyo Electron Limited | Procede de traitement au plasma |
| CN1584110A (zh) * | 2003-08-06 | 2005-02-23 | 爱发科股份有限公司 | 薄膜制造装置以及制造方法 |
| CN101492812A (zh) * | 2008-11-24 | 2009-07-29 | 招商局漳州开发区创大太阳能有限公司 | 一种可连续大面积均匀化学气相沉积的喷头系统 |
| JP2011035201A (ja) * | 2009-08-03 | 2011-02-17 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 気相処理装置、気相処理方法および基板 |
| KR20160035824A (ko) * | 2014-09-24 | 2016-04-01 | 울산과학기술원 | 열 화학기상증착 장치 및 열 화학기상증착 방법 |
| CN105986244A (zh) * | 2015-02-16 | 2016-10-05 | 中微半导体设备(上海)有限公司 | 一种化学气相沉积装置及其清洁方法 |
| CN110777367A (zh) * | 2019-10-15 | 2020-02-11 | 江苏卓高新材料科技有限公司 | 一种可调节的微孔薄膜沉积装置及使用方法 |
| CN113862646A (zh) * | 2021-09-27 | 2021-12-31 | 杭州中欣晶圆半导体股份有限公司 | 一种apcvd沉积过程颗粒物控制系统及其控制方法 |
| CN216006009U (zh) * | 2021-05-24 | 2022-03-11 | 江西环境工程职业学院 | 一种化学气相沉积设备 |
| CN216337937U (zh) * | 2021-10-21 | 2022-04-19 | 福建华佳彩有限公司 | 一种化学气相沉积设备 |
| CN217239399U (zh) * | 2022-02-14 | 2022-08-19 | 江苏艾匹克半导体设备有限公司 | 一种用于硅外延工艺的气流控制装置 |
| CN116555728A (zh) * | 2022-01-29 | 2023-08-08 | 黄永钦 | 一种半导体衬底覆盖膜的气相生长装置 |
-
2023
- 2023-08-30 CN CN202311104211.5A patent/CN117070924B/zh active Active
Patent Citations (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000001007A1 (fr) * | 1998-06-30 | 2000-01-06 | Tokyo Electron Limited | Procede de traitement au plasma |
| CN1584110A (zh) * | 2003-08-06 | 2005-02-23 | 爱发科股份有限公司 | 薄膜制造装置以及制造方法 |
| CN101492812A (zh) * | 2008-11-24 | 2009-07-29 | 招商局漳州开发区创大太阳能有限公司 | 一种可连续大面积均匀化学气相沉积的喷头系统 |
| JP2011035201A (ja) * | 2009-08-03 | 2011-02-17 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 気相処理装置、気相処理方法および基板 |
| KR20160035824A (ko) * | 2014-09-24 | 2016-04-01 | 울산과학기술원 | 열 화학기상증착 장치 및 열 화학기상증착 방법 |
| CN105986244A (zh) * | 2015-02-16 | 2016-10-05 | 中微半导体设备(上海)有限公司 | 一种化学气相沉积装置及其清洁方法 |
| CN110777367A (zh) * | 2019-10-15 | 2020-02-11 | 江苏卓高新材料科技有限公司 | 一种可调节的微孔薄膜沉积装置及使用方法 |
| CN216006009U (zh) * | 2021-05-24 | 2022-03-11 | 江西环境工程职业学院 | 一种化学气相沉积设备 |
| CN113862646A (zh) * | 2021-09-27 | 2021-12-31 | 杭州中欣晶圆半导体股份有限公司 | 一种apcvd沉积过程颗粒物控制系统及其控制方法 |
| CN216337937U (zh) * | 2021-10-21 | 2022-04-19 | 福建华佳彩有限公司 | 一种化学气相沉积设备 |
| CN116555728A (zh) * | 2022-01-29 | 2023-08-08 | 黄永钦 | 一种半导体衬底覆盖膜的气相生长装置 |
| CN217239399U (zh) * | 2022-02-14 | 2022-08-19 | 江苏艾匹克半导体设备有限公司 | 一种用于硅外延工艺的气流控制装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN117070924A (zh) | 2023-11-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN117070924B (zh) | 一种化学气相沉积气流调节装置 | |
| KR101177983B1 (ko) | 화학 기상 증착 반응기 | |
| US20070218702A1 (en) | Semiconductor-processing apparatus with rotating susceptor | |
| FR2490246B1 (zh) | ||
| US5778911A (en) | Liquid supplying apparatus | |
| CN1031146C (zh) | 截球形基质镀膜的装置和设备 | |
| JPH02138473A (ja) | 縦型熱処理装置 | |
| CN110904432A (zh) | 一种mocvd反应器 | |
| CN112695302A (zh) | 一种mocvd反应器 | |
| CN208944414U (zh) | 一种瓶盖生产用喷涂装置 | |
| KR20150114697A (ko) | 원자층 증착 시스템 | |
| US20180195172A1 (en) | Chemical vapor deposition apparatus and chemical vapor deposition method | |
| TWI512139B (zh) | 薄膜製程設備及其製作流程 | |
| CN201071403Y (zh) | 一种上进上出的垂直喷淋式mocvd反应器 | |
| CN217110317U (zh) | 一种氧分子筛加工用干燥装置 | |
| CN113862646B (zh) | 一种apcvd沉积过程颗粒物控制系统及其控制方法 | |
| JP4445226B2 (ja) | 薄膜製造装置 | |
| KR20060110451A (ko) | 증착용기를 구비하는 증착장치 | |
| RU2359895C2 (ru) | Устройство и способ нанесения покрытий на таблетки с помощью вращающегося барабана | |
| KR20120107806A (ko) | 박막 균일도 개선을 위한 수직형 박막증착장치 | |
| JPS6335776A (ja) | 気相化学蒸着装置 | |
| JPS59159980A (ja) | 気相成長装置 | |
| JPH06338466A (ja) | 気相成長装置 | |
| CN115595662B (zh) | 一种碳化硅外延化学气相沉积系统供气装置 | |
| CN216591752U (zh) | 一种用于化工厂废气的高效燃烧处理设备 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant |