CN116917430A - 光学构件用粘合带 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种光学构件用粘合带，其依次具有脱模衬、光学构件保护用粘合带、保持带，即使该光学构件保护用粘合带所具有的粘合剂层较薄，也能够抑制将脱模衬剥离时的剥离异常。本发明的实施方式的光学构件用粘合带具有：在基材膜(1)的一面具有粘合剂层(1)的光学构件保护用粘合带(I)、直接层叠于该光学构件保护用粘合带(I)的该粘合剂层(1)的相反侧的最外面的保持带(II)、以及直接层叠于该光学构件保护用粘合带(I)所具有的该粘合剂层(1)的露出面的脱模衬(III)，在1个该保持带(II)上以具有间隙的排布层叠有2个以上该光学构件保护用粘合带(I)，该粘合剂层(1)的厚度小于25μm，在夹着该间隙而相邻的2个该光学构件保护用粘合带(I)的相对的侧面形成的角部中的至少一个为倒角部。

Description

光学构件用粘合带
技术领域
本发明涉及光学构件用粘合带。
背景技术
已知有为了将2个以上光学构件保护用粘合带无错位地粘贴于被粘附物而利用1个保持带设置有间隙地保持该2个以上光学构件保护用粘合带的背面侧(与粘合剂层相反的一侧)、且为了保护该光学构件保护用粘合带的粘合剂层的露出面的清洁而用脱模衬进行了保护的由多片组合而成的光学构件用粘合带(参照专利文献1-3)。这样的光学构件用粘合带如下所述地被使用。
首先，将保护着2个以上光学构件保护用粘合带的粘合剂层的露出面的1个脱模衬剥离。接下来，在2个以上光学构件保护用粘合带被1个保持带所保持着的状态下，一边与被粘附物对齐一边进行贴附。接下来，将保持带剥离，可得到在期望的被粘附物上贴附有2个以上光学构件保护用粘合带的状态。
这里，在将光学构件用粘合带贴附于被粘附物的前阶段，从光学构件用粘合带将脱模衬剥离时，必须对该光学构件保护用粘合带与该脱模衬之间的剥离力及该光学构件保护用粘合带与该保持带之间的粘合力进行适当的调整，以使得不会在光学构件保护用粘合带与保持带之间发生剥离。另一方面，在从光学构件用粘合带将脱模衬剥离并贴附于被粘附物的后阶段，从光学构件用粘合带剥离保持带时，必须对该光学构件保护用粘合带与该被粘附物之间的粘合力及该光学构件保护用粘合带与该保持带之间的剥离力进行适当的调整，以使得不会对该被粘附物造成损伤。在光学构件用粘合带的设计中，为了如上所述地适当调整粘合力及剥离力，必须要精致地设计光学构件用粘合带所具备的粘合剂层。
最近，使用光学构件用粘合带的对象构件、对象产品的薄型化成为趋势，因而要求光学构件保护用粘合带所具有的粘合剂层的薄型化。
然而，如果将光学构件保护用粘合带所具有的粘合剂层减薄，则存在发生如下所述的剥离异常的隐患，所述剥离异常是在将脱模衬剥离时，被保持带所保持的2个以上光学构件保护用粘合带中的若干个以附着于脱模衬的形态而从保持带剥离的情况。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2017-142375号公报
专利文献2：日本特开2017-212038号公报
专利文献3：日本特开2017-219843号公报
发明内容
发明所要解决的问题
本发明的课题在于提供依次具有脱模衬、光学构件保护用粘合带、保持带的光学构件用粘合带，其中，即使该光学构件保护用粘合带所具有的粘合剂层较薄，也能够抑制将脱模衬剥离时的剥离异常。
解决问题的方法
本发明的实施方式的光学构件用粘合带具有：
在基材膜(1)的一面具有粘合剂层(1)的光学构件保护用粘合带(I)、直接层叠于该光学构件保护用粘合带(I)的该粘合剂层(1)的相反侧的最外面的保持带(II)、以及
直接层叠于该光学构件保护用粘合带(I)所具有的该粘合剂层(1)的露出面的脱模衬(III)，
在1个该保持带(II)上，以具有间隙的排布层叠有2个以上该光学构件保护用粘合带(I)，
该粘合剂层(1)的厚度小于25μm，
在夹着该间隙而相邻的2个该光学构件保护用粘合带(I)的相对的侧面形成的角部中的至少一个为倒角部。
在一个实施方式中，上述倒角部为C面，该倒角部的倒角量为C 0.05mm以上。
在一个实施方式中，上述倒角部为R面，该倒角部的倒角量为R 0.05mm以上。
在一个实施方式中，上述光学构件用粘合带在温度23℃、湿度50％RH的环境中，将上述脱模衬(III)剥离时的剥离力A小于将上述保持带(II)剥离时的粘合力B。
在一个实施方式中，构成上述粘合剂层(1)的粘合剂在23℃下的储能模量G’为5.0×105Pa以下。
在一个实施方式中，在沿着上述1个该保持带(II)的长度方向层叠的2个以上该光学构件保护用粘合带(I)的侧面中，在长度方向上的两端的侧面形成的角部中的至少一个为倒角部。
发明的效果
根据本发明，可以提供依次具有脱模衬、光学构件保护用粘合带、保持带的光学构件用粘合带，其中，即使该光学构件保护用粘合带所具有的粘合剂层较薄，也能够抑制将脱模衬剥离时的剥离异常。
附图说明
图1是本发明的光学构件用粘合带的一个实施方式的剖面示意图。
图2是示出了在1个保持带(II)上以具有间隙的排布层叠有2个以上光学构件保护用粘合带(I)的若干个实施方式的俯视示意图。
图3是从本发明的实施方式的光学构件用粘合带剥离脱模衬(III)后的层叠体的从粘合剂层(1)侧观察到的一个实施方式的俯视示意图。
图4是示出了在光学构件保护用粘合带(I)的侧面可能形成的角部和倒角部的若干个实施方式的立体示意图。
符号说明
光学构件用粘合带 1000
光学构件保护用粘合带(I) 100、101、102、103
保持带(II) 200
粘合剂层(1) 11
基材膜(1) 12
粘合剂层(2) 21
基材膜(2) 22
脱模衬(III) 30
间隙 L
角部 1a、1b、1c、1d、2a、2b、2c、2d
倒角部 1Ca、1Cb
表面 10
背面 20
侧面 40、50、60、70
具体实施方式
本说明书中，“(甲基)丙烯酸”是指选自丙烯酸及甲基丙烯酸中的至少1种，“(甲基)丙烯酸酯”是指选自丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯中的至少1种，“(甲基)丙烯酰基”是指选自丙烯酰基及甲基丙烯酰基中的至少1种。
《《A.光学构件用粘合带》》
本发明的实施方式的光学构件用粘合带具有：在基材膜(1)的一面具有粘合剂层(1)的光学构件保护用粘合带(I)、直接层叠于该光学构件保护用粘合带(I)的该粘合剂层(1)的相反侧的最外面的保持带(II)、以及直接层叠于该光学构件保护用粘合带(I)所具有的该粘合剂层(1)的露出面的脱模衬(III)，在1个该保持带(II)上，以具有间隙的排布层叠有2个以上该光学构件保护用粘合带(I)。
在本发明的实施方式的光学构件用粘合带中，保持带(II)代表性地在基材膜(2)的一面具有粘合剂层(2)。
因此，代表性地，在本发明的实施方式的光学构件用粘合带中，在基材膜(1)的一面具有粘合剂层(1)的光学构件保护用粘合带(I)和在基材膜(2)的一面具有粘合剂层(2)的保持带(II)直接层叠，该光学构件保护用粘合带(I)的该粘合剂层(1)的相反侧的最外面和该粘合剂层(2)直接层叠，在该光学构件保护用粘合带(I)所具有的该粘合剂层(1)的露出面直接层叠有脱模衬(III)，其中，在1个该保持带(II)上，以具有间隙的排布层叠有2个以上该光学构件保护用粘合带(I)。
本发明的实施方式的光学构件用粘合带如上所述，若更简洁地进行说明，则该光学构件用粘合带是依次具有脱模衬(III)、粘合剂层(1)、基材膜(1)、粘合剂层(2)、基材膜(2)的、层叠数最少的部位为3层以上、且层叠数最多的部位为5层以上的层叠体，并且，该粘合剂层(1)和该基材膜(1)是光学构件保护用粘合带(I)的构成要素，该粘合剂层(2)和该基材膜(2)是保持带(II)的构成要素，该光学构件保护用粘合带(I)的该粘合剂层(1)的相反侧的最外面与该粘合剂层(2)直接层叠在一起，在该粘合剂层(1)的露出面直接层叠有脱模衬(III)，在1个该保持带(II)上以具有间隙的排布层叠有2个以上该光学构件保护用粘合带(I)。
本发明的实施方式的光学构件用粘合带中的脱模衬(III)、粘合剂层(1)、基材膜(1)、粘合剂层(2)、基材膜(2)分别既可以仅由1层形成，也可以由2层以上形成。
本发明的实施方式的光学构件用粘合带只要具有上述的构成，则也可以在不损害本发明效果的范围内具有任意适当的其它层。其它层可以仅为1种，也可以为2种以上。其它层的合计数可以仅为1层，也可以为2层以上。作为其它层，例如可举出后述的抗静电层等。
本发明的实施方式的光学构件用粘合带的层叠数最少的部位的层叠数根据上述的其它层的数量，优选为3层～8层、更优选为3层～6层、进一步优选为3层～5层、特别优选为3层～4层、最优选为3层。
本发明的实施方式的光学构件用粘合带的层叠数最多的部位的层叠数根据上述的其它层的数量，优选为5层～10层、更优选为5层～8层、进一步优选为5层～7层、特别优选为5层～6层、最优选为5层。
本发明的光学构件用粘合带的一个实施方式如图1所示，在光学构件用粘合带1000中，脱模衬(III)30、粘合剂层(1)11、基材膜(1)12、粘合剂层(2)21、基材膜(2)22依次直接层叠在一起，粘合剂层(1)11和基材膜(1)12构成光学构件保护用粘合带(I)100，粘合剂层(2)21、基材膜(2)22构成保持带(II)200，在1个保持带(II)200上以具有间隙的排布层叠有2个以上光学构件保护用粘合带(I)(在图1的实施方式中为2个光学构件保护用粘合带(I)101、102)。
保持带(II)的形状只要为具有厚度的带状(也称为片状)，则可以在不损害本发明效果的范围内采用任意适当的形状。作为这样的形状，代表性地为将实质上相互正交的长度方向和宽度方向分别作为长边和短边的形状。
光学构件保护用粘合带(I)的形状只要为具有厚度的带状(也称为片状)，则可以在不损害本发明效果的范围内采用任意适当的形状。作为这样的形状，可以与被粘附物的形状相应地采用任意适当的形状。作为这样的形状，代表性地为将实质上相互正交的长度方向和宽度方向分别作为长边和短边的形状。
本发明的光学构件用粘合带所具有的2个以上光学构件保护用粘合带(I)可以为相同的大小，也可以至少2个为不同的大小。
2个以上该光学构件保护用粘合带(I)中，夹着间隙而相邻的2个光学构件保护用粘合带(I)的间隔L优选为0.1mm～5.0mm、更优选为0.2mm～3.0mm、进一步优选为0.3mm～2.0mm、特别优选为0.5mm～1.5mm、最优选为0.7mm～1.5mm。
在本发明的实施方式的光学构件用粘合带中，在1个保持带(II)上以具有间隙的排布层叠的光学构件保护用粘合带(I)可以为2个，也可以为3个以上。
在本发明的实施方式的光学构件用粘合带中，代表性地，在1个保持带(II)上以具有间隙的排布层叠的2个以上光学构件保护用粘合带(I)中的至少2个沿着该保持带(II)的长度方向配置。在1个保持带(II)上以具有间隙的排布层叠的光学构件保护用粘合带(I)为2个的情况下，如图2(a)的俯视示意图所示，在1个保持带(II)200上，2个光学构件保护用粘合带(I)101、102沿着该保持带(II)的长度方向以具有间隙的排布层叠。在1个保持带(II)上以具有间隙的排布层叠的光学构件保护用粘合带(I)为3个情况下，在1个保持带(II)200上，3个光学构件保护用粘合带(I)101、102、103例如可以如图2(b)的俯视示意图所示地配置，也可以如图2(c)的俯视示意图所示地配置。
在本发明的实施方式的光学构件用粘合带中，粘合剂层(1)的厚度薄，代表性地小于30μm，优选为28μm以下、更优选为26μm以下、进一步优选为21μm以下、特别优选为16μm以下。粘合剂层(1)的厚度的下限值优选为5μm以上、更优选为8μm以上、进一步优选为10μm以上、特别优选为12μm以上。粘合剂层(1)的厚度在上述范围内时，能够保持对粘合剂层(1)要求的粘合性能，并且能够对应使用本发明的实施方式的光学构件用粘合带的对象构件、对象产品的薄型化。
在本发明的实施方式的光学构件用粘合带中，脱模衬(III)、粘合剂层(1)、基材膜(1)、粘合剂层(2)、基材膜(2)分别可以在其至少一面具有抗静电层。
在本发明的实施方式的光学构件用粘合带中，光学构件保护用粘合带(I)可以在其至少一面具有抗静电层。
在本发明的实施方式的光学构件用粘合带中，保持带(II)可以在其至少一面具有抗静电层。
在本发明的实施方式的光学构件用粘合带中，粘合剂层(1)可以包含导电成分。导电成分可以仅为1种，也可以为2种以上。
在本发明的实施方式的光学构件用粘合带中，粘合剂层(2)可以包含导电成分。导电成分可以仅为1种，也可以为2种以上。
在本发明的实施方式的光学构件用粘合带中，在夹着间隙而相邻的2个光学构件保护用粘合带(I)的相对的侧面形成的角部中的至少一个为倒角部。图3是从本发明的实施方式的光学构件用粘合带剥离脱模衬(III)后的层叠体的从粘合剂层(1)侧观察到的一个实施方式的俯视示意图。图3中，在1个保持带(II)200上以具有间隙的排布层叠有2个光学构件保护用粘合带(I)101、102。图3中，2个光学构件保护用粘合带(I)101、102夹着间隙而相邻，光学构件保护用粘合带(I)101在侧面具备角部1a、1b、1c、1d，光学构件保护用粘合带(I)102在侧面具备角部2a、2b、2c、2d。图3中，在这些角部中，角部1a、1b、2c、2d相当于在2个光学构件保护用粘合带(I)101、102的相对的侧面形成的角部。因此，在图3中，在2个光学构件保护用粘合带(I)101、102的相对的侧面形成的角部1a、1b、2c、2d中的至少一个为倒角部。
如上所述，以往，如果将光学构件保护用粘合带所具有的粘合剂层减薄，则在将脱模衬剥离时，会观察到被保持带所保持的2个以上光学构件保护用粘合带中的若干个光学构件保护用粘合带以附着于脱模衬的形态从保持带剥离的剥离异常，导致了成品率降低等严重的问题。在本发明的实施方式的光学构件用粘合带中，通过使在夹着间隙而相邻的2个光学构件保护用粘合带(I)的相对的侧面形成的角部中的至少一个为倒角部，将脱模衬(III)剥离时，在1个保持带(II)上以具有间隙的排布层叠的2个以上光学构件保护用粘合带(I)能够以良好地保持于保持带(II)的状态在脱模衬(III)与光学构件保护用粘合带(I)的界面切实剥离。这是因为，通过使在夹着间隙而相邻的2个光学构件保护用粘合带(I)的相对的侧面形成的角部中的至少一个为倒角部，将脱模衬(III)剥离时，欲使脱模衬(III)从光学构件保护用粘合带(I)脱离的力、和欲使光学构件保护用粘合带(I)从保持带(II)脱离的力能够以适当的平衡发生作用，能够抑制以往的剥离异常的发生。
在图3中，2个光学构件保护用粘合带(I)101、102是分别将实质上相互正交的长度方向和宽度方向作为长边和短边的形状(长方形状)，因此，在侧面分别具备4个角部，但在光学构件保护用粘合带(I)不是如上所述的长方形状的情况下，角部的数量可能包括小于4个的情况、为5个以上的情况。
倒角部的形状可以在不损害本发明效果的范围内采用任意适当的形状。从能够进一步展现出本发明的效果的方面考虑，倒角部优选为选自C面及R面中的至少1种。
在倒角部为C面的情况下，从能够进一步展现出本发明的效果的方面考虑，该倒角部的倒角量优选为C 0.05mm以上、更优选为C 0.05mm～C5mm、进一步优选为C 0.1mm～C1mm、特别优选为C 0.15mm～C 0.5mm。
在倒角部为R面的情况下，从能够进一步展现出本发明的效果的方面考虑，该倒角部的倒角量优选为R 0.05mm以上、更优选为R 0.05mm～R5mm、进一步优选为R 0.1～R1mm、特别优选为R 0.15mm～R 0.5mm。
图4是示出了在光学构件保护用粘合带(I)的侧面可能形成的角部和倒角部的若干个实施方式的立体示意图。
图4(a)示出具备4个角部1a、1b、1c、1d的光学构件保护用粘合带(I)101。图4(a)中，光学构件保护用粘合带(I)101具备表面10、背面20以及侧面40、50、60、70，侧面40和侧面50形成角部1a，侧面50和侧面60形成角部1b，侧面60和侧面70形成角部1c，侧面70和侧面40形成角部1d。图4(a)中的4个角部1a、1b、1c、1d均未被实施倒角。
图4(b)是对图4(a)所示的光学构件保护用粘合带(I)101所具备的角部1a和1b实施了C面的倒角的情况，其具备倒角部1Ca、倒角部1Cb、角部1c、角部1d。
图4(c)是对图4(a)所示的光学构件保护用粘合带(I)101所具备的角部1a和1b实施了R面的倒角的情况，其具备倒角部1Ra、倒角部1Rb、角部1c、角部1d。
在本发明的实施方式的光学构件用粘合带中，从能够进一步展现出本发明的效果的方面考虑，优选在沿着1个保持带(II)的长度方向层叠的2个以上光学构件保护用粘合带(I)的侧面中，在长度方向上的两端的侧面形成的角部中的至少一个为倒角部。该在长度方向上的两端的侧面形成的角部例如在图3所示的实施方式中，相当于2个光学构件保护用粘合带(I)101、102的角部中的角部1c、1d、2a、2b。如果在沿1个保持带(II)的长度方向层叠的2个以上光学构件保护用粘合带(I)的侧面中，在长度方向上的两端的侧面形成的角部中的至少一个为倒角部，则在将脱模衬(III)剥离时，欲使脱模衬(III)从光学构件保护用粘合带(I)脱离的力与欲使光学构件保护用粘合带(I)从保持带(II)脱离的力能够以适当的平衡发生作用，能够进一步抑制以往的剥离异常的发生。
在本发明的实施方式的光学构件用粘合带中，在温度23℃、湿度50％RH的环境中将脱模衬(III)剥离时的剥离力A优选为0.15N/25mm以下、更优选为0.001N/25mm～0.10N/25mm、进一步优选为0.005N/25mm～0.07N/25mm、特别优选为0.01N/25mm～0.05N/25mm。通过将上述剥离力A调整为上述范围内，从光学构件用粘合带剥离脱模衬时，在该光学构件保护用粘合带与该保持带之间不易发生剥离。关于上述剥离力A的测定方法的详细情况，在后面叙述。
在本发明的实施方式的光学构件用粘合带中，在温度23℃、湿度50％RH的环境中将保持带(II)剥离时的粘合力B优选为1.00N/25mm以下、更优选为0.01N/25mm～0.50N/25mm、进一步优选为0.02N/25mm～0.30N/25mm、特别优选为0.02N/25mm～0.10N/25mm。通过将上述粘合力B调整为上述范围内，低于上限时，在从将脱模衬剥离并贴附于被粘附物的光学构件用粘合带剥离保持带时，能够不对该被粘附物造成损伤，高于下限时，能够防止由搬运导致的意图外的剥离。另外，关于上述粘合力B的测定方法的详细情况，在后面叙述。
在本发明的实施方式的光学构件用粘合带中，进一步更加优选为上述剥离力A和上述粘合力B而言，优选上述剥离力A小于上述粘合力B。通过将上述剥离力A调整为小于上述粘合力B，从光学构件用粘合带剥离脱模衬时，在该光学构件保护用粘合带与该保持带之间更加不易发生剥离，而且，在从将脱模衬剥离并贴附于被粘附物的光学构件用粘合带剥离保持带时，更加能够不对该被粘附物造成损伤。
在本发明的实施方式的光学构件用粘合带中，构成粘合剂层(1)的粘合剂在23℃下的储能模量G’优选为5.0×105Pa以下、更优选为1.0×104Pa～3.0×105Pa、进一步优选为1.0×104Pa～2.0×105Pa、特别优选为1.0×104Pa～1.0×105Pa。构成粘合剂层(1)的粘合剂在23℃下的储能模量G’在上述范围内时，能够进一步展现出本发明的效果。
本发明的实施方式的光学构件用粘合带的全光线透过率优选为20％以上、更优选为30％～100％、进一步优选为50％～100％、特别优选为83％～100％、最优选为85％～100％。关于上述全光线透过率的测定方法，在后面叙述。
本发明的实施方式的光学构件用粘合带的雾度优选为20％以下、更优选为0％～20％、进一步优选为0％～15％、特别优选为0％～12％、最优选为0％～10％。关于上述雾度的测定方法，在后面叙述。
本发明的实施方式的光学构件用粘合带可以在各种用途中采用。从能够更有效地利用本发明的效果的方面考虑，本发明的实施方式的光学构件用粘合带优选为对折叠式构件、卷轴式构件的粘贴用光学构件用粘合带。在该情况下，折叠式构件、卷轴式构件的代表例为OLED。
《A-1.脱模衬(III)》
作为脱模衬(III)的厚度，从能够进一步展现出本发明的效果的方面考虑，优选为1μm～300μm、更优选为10μm～200μm、进一步优选为20μm～150μm、特别优选为35μm～100μm、最优选为50μm～80μm。脱模衬(III)的厚度与上述范围相比过小时，存在卷曲的抑制效果降低的隐患。脱模衬(III)的厚度与上述范围相比过大时，存在在弯曲时容易发生本发明的实施方式的光学构件用粘合带的翘起等隐患。
脱模衬(III)包含树脂基材膜(IIIa)。
作为树脂基材膜(IIIa)，例如可举出：由聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚对苯二甲酸丁二醇酯(PBT)等聚酯类树脂形成的塑料膜；由聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚甲基戊烯(PMP)、乙烯-丙烯共聚物、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物(EVA)等以α-烯烃作为单体成分的烯烃类树脂形成的塑料膜；由聚氯乙烯(PVC)形成的塑料膜；由乙酸乙烯酯类树脂形成的塑料膜；由聚碳酸酯(PC)形成的塑料膜；由聚苯硫醚(PPS)形成的塑料膜；由聚酰胺(尼龙)、全芳香族聚酰胺(芳族聚酰胺)等酰胺类树脂形成的塑料膜；由聚酰亚胺类树脂形成的塑料膜；由聚醚醚酮(PEEK)形成的塑料膜；由聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)等烯烃类树脂形成的塑料膜；由聚四氟乙烯、聚三氟氯乙烯、聚氟乙烯、聚偏氟乙烯、四氟乙烯-六氟丙烯共聚物、氯氟乙烯-偏二氟乙烯共聚物等氟类树脂等形成的塑料膜；等等。
树脂基材膜(IIIa)可以仅为1层，也可以为2层以上。树脂基材膜(IIIa)也可以是经过了拉伸的膜。
树脂基材膜(IIIa)可以被实施了表面处理。作为表面处理，例如可举出：电晕处理、等离子体处理、铬酸处理、臭氧暴露、火焰暴露、高压电击暴露、离子化放射线处理、利用底涂剂的涂敷处理等。
在不损害本发明效果的范围内，可以在树脂基材膜(IIIa)中包含任意适当的添加剂。
为了提高从粘合剂层(1)的剥离性，脱模衬(III)可以具有脱模层(IIIb)。在脱模衬(III)具有脱模层(IIIb)的情况下，代表性地，脱模层(IIIb)侧直接层叠于粘合剂层(1)。
脱模层(IIIb)的形成材料可以在不损害本发明效果的范围内采用任意适当的形成材料。作为这样的形成材料，例如可举出：有机硅类脱模剂、氟类脱模剂、长链烷基类脱模剂、脂肪酸酰胺类脱模剂等。这些中，优选有机硅类脱模剂。脱模层(IIIb)可以以涂布层的形式形成。
作为脱模层(IIIb)的厚度，在不损害本发明效果的范围内，可以根据目的采用任意适当的厚度。作为这样的厚度，优选为10nm～2000nm、更优选为10nm～1500nm、进一步优选为10nm～1000nm、特别优选为10nm～500nm。
脱模层(IIIb)可以仅为1层，也可以为2层以上。
作为有机硅类脱模层，例如可举出加成反应型有机硅树脂。作为加成反应型有机硅树脂，具体可举出例如：信越化学工业制造的KS-774、KS-775、KS-778、KS-779H、KS-847H、KS-847T；东芝有机硅制造的TPR-6700、TPR-6710、TPR-6721；Toray Dow Corning制造的SD7220、SD7226；等等。有机硅类脱模层的涂布量(干燥后)优选为0.01g/m2～2g/m2、更优选为0.01g/m2～1g/m2、进一步优选为0.01g/m2～0.5g/m2。
脱模层(IIIb)的形成例如可以如下所述地进行：利用反向凹版涂布法、棒涂法、模涂法等现有公知的涂布方式将上述的形成材料涂布于任意适当的层上，然后，通常在120～200℃左右下实施热处理，由此使其固化。另外，根据需要，也可以组合使用热处理和紫外线照射等活性能量射线照射。
脱模衬(III)可以具有抗静电层(IIIc)。
作为抗静电层(IIIc)的厚度，可以在不损害本发明效果的范围内采用任意适当的厚度。作为这样的厚度，优选为1nm～1000nm、更优选为5nm～900nm、进一步优选为7.5nm～800nm、特别优选为10nm～700nm。
抗静电层(IIIc)可以仅为1层，也可以为2层以上。
作为抗静电层(IIIc)，只要是能够发挥出抗静电效果的层，则可以在不损害本发明效果的范围内采用任意适当的抗静电层。作为这样的抗静电层，优选为将包含导电性聚合物的导电涂布液涂敷于任意适当的基材层上而形成的抗静电层。具体而言，例如为将包含导电性聚合物的导电涂布液涂敷于树脂基材膜(IIIa)上而形成的抗静电层。作为具体的涂敷方法，可举出辊涂法、棒涂法、凹版涂布法等。
作为导电性聚合物，可以在不损害本发明效果的范围内采用任意适当的导电性聚合物。作为这样的导电性聚合物，例如可举出：在π共轭类导电性聚合物中掺杂有聚阴离子的导电性聚合物等。作为π共轭类导电性聚合物，可举出聚噻吩、聚吡咯、聚苯胺、聚乙炔等链状导电性聚合物。作为聚阴离子，可举出聚苯乙烯磺酸、聚异戊二烯磺酸、聚乙烯基磺酸、聚烯丙基磺酸、聚丙烯酸乙基磺酸、聚甲基丙烯酰基羧酸等。导电性聚合物可以仅为1种，也可以为2种以上。
脱模衬(III)的一个实施方式依次包含树脂基材膜(IIIa)和脱模层(IIIb)。代表性地，该实施方式由树脂基材膜(IIIa)和脱模层(IIIb)构成。
脱模衬(III)的一个实施方式依次包含树脂基材膜(IIIa)、抗静电层(IIIc)以及脱模层(IIIb)。代表性地，该实施方式由树脂基材膜(IIIa)、抗静电层(IIIc)以及脱模层(IIIb)构成。
脱模衬(III)的另一个实施方式依次包含抗静电层(IIIc)、树脂基材膜(IIIa)、抗静电层(IIIc)以及脱模层(IIIb)。代表性地，该实施方式由抗静电层(IIIc)、树脂基材膜(IIIa)、抗静电层(IIIc)以及脱模层(IIIb)构成。
《A-2.粘合剂层(1)》
粘合剂层(1)可以在不损害本发明效果的范围内采用任意适当的粘合剂层。粘合剂层(1)可以仅为1层，也可以为2层以上。
从能够进一步展现出本发明的效果的方面考虑，粘合剂层(1)的厚度代表性地小于30μm，优选为28μm以下、更优选为26μm以下、进一步优选为21μm以下、特别优选为16μm以下。粘合剂层(1)的厚度的下限值优选为5μm以上、更优选为8μm以上、进一步优选为10μm以上、特别优选为12μm以上。粘合剂层(1)的厚度在上述范围内时，能够保持对粘合剂层(1)要求的粘合性能，并且能够对应使用本发明的实施方式的光学构件用粘合带的对象构件、对象产品的薄型化。
粘合剂层(1)优选由选自丙烯酸类粘合剂(1)、氨基甲酸酯类粘合剂(1)、橡胶类粘合剂(1)、有机硅类粘合剂(1)中的至少1种形成。从能够进一步展现出本发明的效果的方面考虑，粘合剂层(1)更优选为丙烯酸类粘合剂(1)。
粘合剂层(1)可以通过任意适当的方法形成。作为这样的方法，例如可举出：将形成构成粘合剂层(1)的粘合剂的粘合剂组合物(选自丙烯酸类粘合剂组合物(1)、氨基甲酸酯类粘合剂组合物(1)、橡胶类粘合剂组合物(1)、有机硅类粘合剂组合物(1)中的至少1种)涂布于任意适当的基材(例如，基材膜(1))上，根据需要进行加热/干燥、并根据需要使其固化从而在该基材上形成粘合剂层的方法。作为这样的涂布的方法，例如可举出：凹版辊涂法、反向辊涂法、辊舐涂布法、浸渍辊涂法、线棒涂布器、刮涂法、气刀涂布法、喷涂法、逗号(comma)涂布法、直接涂布法、辊刷涂布法等方法。
粘合剂层(1)也可以包含其它成分(1)。其它成分(1)可以仅为1种，也可以为2种以上。作为其它成分(1)，可以在不损害本发明效果的范围内采用任意适当的其它成分。作为这样的其它成分(1)，例如可举出：其它聚合物成分、交联促进剂、交联催化剂、硅烷偶联剂、增粘树脂(松香衍生物、聚萜烯树脂、石油树脂、油溶性酚等)、防老化剂、无机填充剂、有机填充剂、金属粉、着色剂(颜料、染料等)、箔状物、紫外线吸收剂、抗氧剂、光稳定剂、链转移剂、增塑剂、软化剂、表面活性剂、导电成分、稳定剂、表面润滑剂、流平剂、防腐蚀剂、耐热稳定剂、阻聚剂、润滑剂、溶剂、催化剂等。
作为其它成分(1)，代表性地，可举出导电成分。导电成分可以仅为1种，也可以为2种以上。作为导电成分，可以在不损害本发明效果的范围内采用任意适当的导电成分。作为这样的导电成分，例如可举出：离子性液体、离子导电聚合物、离子导电填料、导电聚合物等。
＜A-2-1.丙烯酸类粘合剂(1)＞
粘合剂层(1)优选由丙烯酸类粘合剂(1)形成。
丙烯酸类粘合剂(1)由丙烯酸类粘合剂组合物(1)形成。
丙烯酸类粘合剂组合物(1)包含(甲基)丙烯酸类树脂(1)。(甲基)丙烯酸类树脂(1)可以仅为1种，也可以为2种以上。
丙烯酸类粘合剂组合物(1)中的(甲基)丙烯酸类树脂(1)的含有比例以固体成分换算优选为60重量％～99.9重量％、更优选为65重量％～99.9重量％、进一步优选为70重量％～99.9重量％、特别优选为75重量％～99.9重量％、最优选为80重量％～99.9重量％。
作为(甲基)丙烯酸类树脂(1)，可以在不损害本发明效果的范围内采用任意适当的(甲基)丙烯酸类树脂。
从能够进一步展现出本发明的效果的方面考虑，(甲基)丙烯酸类树脂(1)的重均分子量优选为30万～250万、更优选为35万～200万、进一步优选为40万～180万、特别优选为50万～150万。
丙烯酸类粘合剂组合物(1)也可以包含交联剂。通过使用交联剂，能提高丙烯酸类粘合剂(1)的凝聚力，能够进一步展现出本发明的效果。交联剂可以仅为1种，也可以为2种以上。
作为交联剂，除了多官能异氰酸酯类交联剂、环氧类交联剂、三聚氰胺类交联剂、过氧化物类交联剂以外，还可以举出脲类交联剂、金属醇盐类交联剂、金属螯合物类交联剂、金属盐类交联剂、碳二亚胺类交联剂、唑啉类交联剂、氮丙啶类交联剂、胺类交联剂等。这些中，从能够进一步展现出本发明的效果的方面考虑，优选为选自多官能异氰酸酯类交联剂及环氧类交联剂中的至少1种。
作为多官能异氰酸酯类交联剂，例如可举出：1,2-亚乙基二异氰酸酯、1,4-亚丁基二异氰酸酯、1,6-六亚甲基二异氰酸酯等低级脂肪族多异氰酸酯类；亚环戊基二异氰酸酯、亚环己基二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、氢化甲苯二异氰酸酯、氢化二甲苯二异氰酸酯等脂环族多异氰酸酯类；2,4-甲苯二异氰酸酯、2,6-甲苯二异氰酸酯、4,4'-二苯基甲烷二异氰酸酯、苯二亚甲基二异氰酸酯等芳香族多异氰酸酯类等。作为多官能异氰酸酯类交联剂，例如还可以举出：三羟甲基丙烷/甲苯二异氰酸酯加成物(日本聚氨酯工业株式会社制、商品名“CORONATE L”)、三羟甲基丙烷/六亚甲基二异氰酸酯加成物(日本聚氨酯工业株式会社制、商品名“CORONATE HL”)、商品名“CORONATE HX”(日本聚氨酯工业株式会社)、三羟甲基丙烷/苯二亚甲基二异氰酸酯加成物(三井化学株式会社制、商品名“Takenate 110N”)等市售品。
作为环氧类交联剂(多官能环氧化合物)，除了例如N,N,N’,N’-四缩水甘油基间二甲苯二胺、二缩水甘油基苯胺、1,3-双(N,N-二缩水甘油基氨基甲基)环己烷、1,6-己二醇二缩水甘油醚、新戊二醇二缩水甘油醚、乙二醇二缩水甘油醚、丙二醇二缩水甘油醚、聚乙二醇二缩水甘油醚、聚丙二醇二缩水甘油醚、山梨糖醇聚缩水甘油醚、甘油聚缩水甘油醚、季戊四醇聚缩水甘油醚、聚甘油聚缩水甘油醚、山梨糖醇酐聚缩水甘油醚、三羟甲基丙烷聚缩水甘油醚、己二酸二缩水甘油酯、邻苯二甲酸二缩水甘油酯、三缩水甘油基三(2-羟乙基)异氰脲酸酯、间苯二酚二缩水甘油醚、双酚-S-二缩水甘油醚以外，还可以举出在分子内具有2个环氧基的环氧类树脂等。作为环氧类交联剂，还可以举出商品名“TETRAD C”(三菱瓦斯化学株式会社制)等市售品。
丙烯酸类粘合剂组合物(1)中的交联剂的含量可以在不损害本发明效果的范围内采用任意适当的含量。作为这样的含量，例如从能够进一步展现出本发明的效果的方面考虑，相对于(甲基)丙烯酸类树脂(1)的固体成分(100重量份)，优选为30重量份以下、更优选为0.05重量份～20重量份、进一步优选为0.1重量份～18重量份、特别优选为0.5重量份～15重量份、最优选为0.5重量份～10重量份。
丙烯酸类粘合剂组合物(1)可以在不损害本发明效果的范围内包含任意适当的其它成分。作为这样的其它成分，例如可举出：除(甲基)丙烯酸类树脂(1)以外的聚合物成分、交联促进剂、交联催化剂、硅烷偶联剂、增粘树脂(松香衍生物、聚萜烯树脂、石油树脂、油溶性酚等)、防老化剂、无机填充剂、有机填充剂、金属粉、着色剂(颜料、染料等)、箔状物、紫外线吸收剂、抗氧剂、光稳定剂、链转移剂、增塑剂、软化剂、表面活性剂、抗静电剂、导电剂、稳定剂、表面润滑剂、流平剂、防腐蚀剂、耐热稳定剂、阻聚剂、润滑剂、溶剂、催化剂等。
[A-2-1-1.(甲基)丙烯酸类树脂(1)的优选实施方式1]
作为(甲基)丙烯酸类树脂(1)的优选实施方式1，从能够进一步展现出本发明的效果的方面考虑，优选为由包含(a成分)烷基酯部分的烷基的碳原子数为1～12的(甲基)丙烯酸烷基酯、(b成分)选自具有OH基的(甲基)丙烯酸酯及(甲基)丙烯酸中的至少1种的组合物(A)经聚合而形成的(甲基)丙烯酸类树脂(A)。
作为(甲基)丙烯酸类树脂(A)，从能够进一步展现出本发明的效果的方面考虑，优选为由包含烷基酯部分的烷基的碳原子数为1～12的(甲基)丙烯酸烷基酯作为(a成分)、并且包含(甲基)丙烯酸而不含具有OH基的(甲基)丙烯酸酯作为(b成分)的组合物(A)经聚合而形成的(甲基)丙烯酸类树脂(A)，更优选为由包含烷基酯部分的烷基的碳原子数为1～8的(甲基)丙烯酸烷基酯作为(a成分)、并且包含丙烯酸而不含具有OH基的(甲基)丙烯酸酯作为(b成分)的组合物(A)经聚合而形成的(甲基)丙烯酸类树脂(A)，进一步优选为由包含烷基酯部分的烷基的碳原子数为1～6的(甲基)丙烯酸烷基酯作为(a成分)、并且包含丙烯酸而不含具有OH基的(甲基)丙烯酸酯作为(b成分)的组合物(A)经聚合而形成的(甲基)丙烯酸类树脂(A)。
(a成分)、(b成分)各自独立地可以仅为1种，也可以为2种以上。。
作为烷基酯部分的烷基的碳原子数为1～12的(甲基)丙烯酸烷基酯(a成分)，例如可举出：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸仲丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸异壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸异癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷基酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯等。这些中，从能够进一步展现出本发明的效果的方面考虑，优选为(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯，更优选为丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸2-乙基己酯。
作为选自具有OH基的(甲基)丙烯酸酯及(甲基)丙烯酸中的至少1种(b成分)，例如可举出：(甲基)丙烯酸羟基乙酯、(甲基)丙烯酸羟基丙酯、(甲基)丙烯酸羟基丁酯等具有OH基的(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸等。这些中，从能够进一步展现出本发明的效果的方面考虑，优选为(甲基)丙烯酸羟基乙酯、(甲基)丙烯酸，更优选为丙烯酸羟基乙酯、丙烯酸。
组合物(A)也可以包含除(a)成分及(b)成分以外的共聚性单体。共聚性单体可以仅为1种，也可以为2种以上。作为这样的共聚性单体，例如可举出：烷基酯部分的烷基的碳原子数为1～3的(甲基)丙烯酸烷基酯；衣康酸、马来酸、富马酸、巴豆酸、异巴豆酸、它们的酸酐(例如，马来酸酐、衣康酸酐等含酸酐基单体)等含羧基单体(其中，(甲基)丙烯酸除外)；(甲基)丙烯酰胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯酰胺、N-羟甲基(甲基)丙烯酰胺、N-甲氧基甲基(甲基)丙烯酰胺、N-丁氧基甲基(甲基)丙烯酰胺、N-羟乙基(甲基)丙烯酰胺等含酰胺基单体；(甲基)丙烯酸氨基乙酯、(甲基)丙烯酸二甲基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸叔丁基氨基乙酯等含氨基单体；(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸甲基缩水甘油酯等含环氧基单体；丙烯腈、甲基丙烯腈等含氰基单体；N-乙烯基-2-吡咯烷酮、(甲基)丙烯酰基吗啉、N-乙烯基哌啶酮、N-乙烯基哌嗪、N-乙烯基吡咯、N-乙烯基咪唑、乙烯基吡啶、乙烯基嘧啶、乙烯基唑等含杂环乙烯基类单体；乙烯基磺酸钠等含磺酸基单体；2-羟乙基丙烯酰基磷酸酯等含磷酸基单体；环己基马来酰亚胺、异丙基马来酰亚胺等含酰亚胺基单体；2-甲基丙烯酰氧基乙基异氰酸酯等含异氰酸酯基单体；(甲基)丙烯酸环戊酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯等具有脂环式烃基的(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸苄酯等具有芳香族烃基的(甲基)丙烯酸酯；乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯等乙烯基酯；苯乙烯、乙烯基甲苯等芳香族乙烯基化合物；乙烯、丁二烯、异戊二烯、异丁烯等烯烃类、二烯类；乙烯基烷基醚等乙烯基醚类；氯乙烯；等等。
作为共聚性单体，也可以采用多官能单体。多官能单体是指，在1分子中具有2个以上烯属不饱和基团的单体。作为烯属不饱和基团，可以在不损害本发明效果的范围内采用任意适当的烯属不饱和基团。作为这样的烯属不饱和基团，例如可举出：乙烯基、丙烯基、异丙烯基、乙烯基醚基(乙烯氧基)、烯丙基醚基(烯丙氧基)等自由基聚合性官能团。作为多官能单体，例如可举出：己二醇二(甲基)丙烯酸酯、丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、(聚)乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、(聚)丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、四羟甲基甲烷三(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸乙烯酯、二乙烯基苯、环氧丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、氨基甲酸酯丙烯酸酯等。这样的多官能单体可以仅为1种，也可以为2种以上。
作为共聚性单体，也可以采用(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯。作为(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯，例如可举出：(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸甲氧基三乙二醇酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丙酯、(甲基)丙烯酸3-乙氧基丙酯、(甲基)丙烯酸4-甲氧基丁酯、(甲基)丙烯酸4-乙氧基丁酯等。(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯可以仅为1种，也可以为2种以上。
从能够进一步展现出本发明的效果的方面考虑，相对于构成(甲基)丙烯酸类树脂(A)的单体成分总量(100重量％)，烷基酯部分的烷基的碳原子数为1～12的(甲基)丙烯酸烷基酯(a成分)的含量优选为30重量％以上、更优选为35重量％～99重量％、进一步优选为40重量％～98重量％、特别优选为50重量％～95重量％。
从能够进一步展现出本发明的效果的方面考虑，烷基酯部分的烷基的碳原子数为1～12的(甲基)丙烯酸烷基酯(a成分)总量(100重量％)中的烷基酯部分的烷基的碳原子数为2～12(优选为2～10、更优选为2～8、进一步优选为2～6)的(甲基)丙烯酸烷基酯的含有比例优选为30重量％以上、更优选为35重量％～100重量％、进一步优选为40重量％～100重量％、特别优选为45重量％～100重量％。
从能够进一步展现出本发明的效果的方面考虑，相对于构成(甲基)丙烯酸类树脂(A)的单体成分总量(100重量％)，选自具有OH基的(甲基)丙烯酸酯及(甲基)丙烯酸中的至少1种(b成分)的含量优选为1重量％以上、更优选为1重量％～30重量％、进一步优选为2重量％～20重量％、特别优选为3重量％～15重量％。
组合物(A)也可以在不损害本发明效果的范围内含有任意适当的其它成分。作为这样的其它成分，例如可举出：聚合引发剂、链转移剂、溶剂等。这些其它成分的含量可以在不损害本发明效果的范围内采用任意适当的含量。
聚合引发剂可以根据聚合反应的种类而采用热聚合引发剂、光聚合引发剂(光引发剂)等。聚合引发剂可以仅为1种，也可以为2种以上。
热聚合引发剂优选可以在通过溶液聚合得到(甲基)丙烯酸类树脂(A)时采用。作为这样的热聚合引发剂，例如可举出：偶氮类聚合引发剂、过氧化物类聚合引发剂(例如，过氧化二苯甲酰、过氧化马来酸叔丁酯等)、氧化还原类聚合引发剂等。这些热聚合引发剂中，特别优选为在日本特开2002-69411号公报中公开的偶氮类引发剂。这样的偶氮类聚合引发剂从聚合引发剂的分解物不易作为成为加热产生气体(排气)的产生原因的部分残留于(甲基)丙烯酸类树脂(A)中的方面考虑是优选的。作为偶氮类聚合引发剂，可举出2,2’-偶氮二异丁腈(以下，有时称为AIBN)、2,2’-偶氮二-2-甲基丁腈(以下，有时称为AMBN)、2,2’-偶氮二(2-甲基丙酸)二甲酯、4,4’-偶氮二-4-氰基戊酸等。
光聚合引发剂优选可以在通过活性能量射线聚合得到(甲基)丙烯酸类树脂(A)时采用。作为光聚合引发剂，例如可举出：苯偶姻醚类光聚合引发剂、苯乙酮类光聚合引发剂、α-醇酮类光聚合引发剂、芳香族磺酰氯类光聚合引发剂、光活性肟类光聚合引发剂、苯偶姻类光聚合引发剂、苯偶酰类光聚合引发剂、二苯甲酮类光聚合引发剂、缩酮类光聚合引发剂、噻吨酮类光聚合引发剂等等。
作为苯偶姻醚类光聚合引发剂，例如可举出：苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻丙基醚、苯偶姻异丙基醚、苯偶姻异丁基醚、2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙烷-1-酮、苯甲醚甲基醚等。作为苯乙酮类光聚合引发剂，例如可举出：2,2-二乙氧基苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、1-羟基环己基苯基酮、4-苯氧基二氯苯乙酮、4-(叔丁基)二氯苯乙酮等。作为α-醇酮类光聚合引发剂，例如可举出：2-甲基-2-羟基苯丙酮、1-[4-(2-羟乙基)苯基]-2-甲基丙烷-1-酮等。作为芳香族磺酰氯类光聚合引发剂，例如可举出：2-萘磺酰氯等。作为光活性肟类光聚合引发剂，例如可举出：1-苯基-1,1-丙二酮-2-(邻乙氧基羰基)-肟等。作为苯偶姻类光聚合引发剂，例如可举出：苯偶姻等。苯偶酰类光聚合引发剂，例如可举出：苯偶酰等。作为二苯甲酮类光聚合引发剂，例如可举出：二苯甲酮、苯甲酰基苯甲酸、3,3'-二甲基-4-甲氧基二苯甲酮、聚乙烯基二苯甲酮、α-羟基环己基苯基酮等。作为缩酮类光聚合引发剂，例如可举出：安息香双甲醚等。作为噻吨酮类光聚合引发剂，例如可举出：噻吨酮、2-氯噻吨酮、2-甲基噻吨酮、2,4-二甲基噻吨酮、异丙基噻吨酮、2,4-二异丙基噻吨酮、十二烷基噻吨酮等。
[A-2-1-2.(甲基)丙烯酸类树脂(1)的优选实施方式2]
作为(甲基)丙烯酸类树脂(1)的优选实施方式2，从能够进一步展现出本发明的效果的方面考虑，优选为由包含在分子内具有环状结构的(甲基)丙烯酸酯作为单体成分的组合物(B)经聚合而形成的(甲基)丙烯酸类树脂(B)，更优选为由包含在分子内具有环状结构的(甲基)丙烯酸酯、及具有直链或支链状的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯作为单体成分的组合物(B)经聚合而形成的(甲基)丙烯酸类树脂(B)。
在分子内具有环状结构的(甲基)丙烯酸酯(以下，有时称为“含环(甲基)丙烯酸酯”)的环状结构(环)可以为芳香族环、非芳香族环中的任意环状结构。作为芳香族环，例如可举出：芳香族碳环(例如，苯环等单环碳环、萘环等稠合碳环等)、各种芳香族杂环等。作为非芳香族环，例如可举出：非芳香族脂肪族环(非芳香族脂环式环)(例如，环戊烷环、环己烷环、环庚烷环、环辛烷环等环烷烃环；环己烯环等环烯烃环；等等)、非芳香族桥环(例如，蒎烷、蒎烯、冰片烷、降冰片烷、降冰片烯等二环式烃环；金刚烷等三环以上的脂肪族烃环(桥式烃环)等)、非芳香族杂环(例如，环氧环、氧杂环戊烷环、氧杂环丁烷环等)等。
作为三环以上的脂肪族烃环(三环以上的桥式烃环)，例如可举出：二环戊基、二环戊烯基、金刚烷基、三环戊基、三环戊烯基等。
即，作为含环(甲基)丙烯酸酯，例如可举出：(甲基)丙烯酸环戊酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸环庚酯、(甲基)丙烯酸环辛酯等(甲基)丙烯酸环烷基酯；(甲基)丙烯酸异冰片酯等具有二环式的脂肪族烃环的(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸二环戊酯、(甲基)丙烯酸二环戊氧基乙酯、(甲基)丙烯酸三环戊酯、(甲基)丙烯酸1-金刚烷酯、(甲基)丙烯酸2-甲基-2-金刚烷酯、(甲基)丙烯酸2-乙基-2-金刚烷酯等具有三环以上的脂肪族烃环的(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸苯酯等(甲基)丙烯酸芳酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯等(甲基)丙烯酸芳氧基烷基酯、(甲基)丙烯酸苄酯等(甲基)丙烯酸芳基烷基酯等具有芳香族环的(甲基)丙烯酸酯；等等。这些中，作为含环(甲基)丙烯酸酯，优选为含非芳香族环(甲基)丙烯酸酯，更优选为丙烯酸环己酯(CHA)、甲基丙烯酸环己酯(CHMA)、丙烯酸二环戊酯(DCPA)、甲基丙烯酸二环戊酯(DCPMA)，进一步优选为丙烯酸二环戊酯(DCPA)、甲基丙烯酸二环戊酯(DCPMA)。
含环(甲基)丙烯酸酯可以为1种，也可以为2种以上。
从能够进一步展现出本发明的效果的方面考虑，相对于构成(甲基)丙烯酸类树脂(B)的单体成分总量(100重量％)，含环(甲基)丙烯酸酯的含量优选为10重量％以上、更优选为20重量％～90重量％、进一步优选为30重量％～80重量％、特别优选为40重量％～70重量％。
作为具有直链或支链状的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯，例如可举出：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸仲丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸异戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸异壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸异癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷基酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯、(甲基)丙烯酸十三烷基酯、(甲基)丙烯酸十四烷基酯、(甲基)丙烯酸十五烷基酯、(甲基)丙烯酸十六烷基酯、(甲基)丙烯酸十七烷基酯、(甲基)丙烯酸十八烷基酯、(甲基)丙烯酸十九烷基酯、(甲基)丙烯酸二十烷基酯、(甲基)丙烯酸月桂酯等烷基的碳原子数为1～20的(甲基)丙烯酸烷基酯。这些中，作为具有直链或支链状的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯，优选为甲基丙烯酸甲酯(MMA)、(甲基)丙烯酸月桂酯。
具有直链或支链状的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯可以为1种，也可以为2种以上。
从能够进一步展现出本发明的效果的方面考虑，相对于构成(甲基)丙烯酸类树脂(B)的单体成分总量(100重量％)，具有直链或支链状的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯的含量优选为10重量％以上、更优选为20重量％～90重量％、进一步优选为25重量％～80重量％、特别优选为30重量％～70重量％、最优选为30重量％～60重量％。
组合物(B)也可以包含除含环(甲基)丙烯酸酯、具有直链或支链状的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯以外的共聚性单体。共聚性单体可以仅为1种，也可以为2种以上。作为这样的共聚性单体，例如可举出：(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸甲氧基三乙二醇酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丙酯、(甲基)丙烯酸3-乙氧基丙酯、(甲基)丙烯酸4-甲氧基丁酯、(甲基)丙烯酸4-乙氧基丁酯等(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯；(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丁酯、(甲基)丙烯酸3-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羟基丁酯、(甲基)丙烯酸6-羟基己酯、乙烯醇、烯丙醇等含羟基单体；(甲基)丙烯酰胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯酰胺、N-羟甲基(甲基)丙烯酰胺、N-甲氧基甲基(甲基)丙烯酰胺、N-丁氧基甲基(甲基)丙烯酰胺、N-羟乙基(甲基)丙烯酰胺等含酰胺基单体；(甲基)丙烯酸氨基乙酯、(甲基)丙烯酸二甲基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸叔丁基氨基乙酯等含氨基单体；丙烯腈、甲基丙烯腈等含氰基单体；乙烯基磺酸钠等含磺酸基单体；2-羟乙基丙烯酰基磷酸酯等含磷酸基单体；2-甲基丙烯酰氧基乙基异氰酸酯等含异氰酸酯基单体；环己基马来酰亚胺、异丙基马来酰亚胺等含酰亚胺基单体；等等。
作为共聚性单体，也可以采用多官能单体。多官能单体是指，在1分子中具有2个以上烯属不饱和基团的单体。作为烯属不饱和基团，可以在不损害本发明效果的范围内采用任意适当的烯属不饱和基团。作为这样的烯属不饱和基团，例如可举出：乙烯基、丙烯基、异丙烯基、乙烯基醚基(乙烯氧基)、烯丙基醚基(烯丙氧基)等自由基聚合性官能团。作为多官能单体，例如可举出：己二醇二(甲基)丙烯酸酯、丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、(聚)乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、(聚)丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、四羟甲基甲烷三(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸乙烯酯、二乙烯基苯、环氧丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、氨基甲酸酯丙烯酸酯等。这样的多官能单体可以仅为1种，也可以为2种以上。
组合物(B)可以在不损害本发明效果的范围内含有任意适当的其它成分。作为这样的其它成分，例如可举出：聚合引发剂、链转移剂、溶剂等。这些其它成分的含量可以在不损害本发明效果的范围内采用任意适当的含量。
聚合引发剂可以根据聚合反应的种类而采用热聚合引发剂、光聚合引发剂(光引发剂)等。聚合引发剂可以仅为1种，也可以为2种以上。
作为热聚合引发剂、光聚合引发剂(光引发剂)，可以援用在[A-2-1-1.(甲基)丙烯酸类树脂(1)的优选实施方式1]一项中的说明。
＜A-2-2.氨基甲酸酯类粘合剂(1)＞
作为氨基甲酸酯类粘合剂(1)，在不损害本发明效果的范围内，例如可以采用日本特开2017-039859号公报等中记载的公知的氨基甲酸酯类粘合剂等任意适当的氨基甲酸酯类粘合剂。作为这样的氨基甲酸酯类粘合剂(1)，例如为由氨基甲酸酯类粘合剂组合物形成的氨基甲酸酯类粘合剂，且该氨基甲酸酯类粘合剂组合物包含选自氨基甲酸酯预聚物及多元醇中的至少1种、和交联剂。氨基甲酸酯类粘合剂(1)可以仅为1种，也可以为2种以上。氨基甲酸酯类粘合剂(1)可以在不损害本发明效果的范围内含有任意适当的成分。
＜A-2-3.橡胶类粘合剂(1)＞
作为橡胶类粘合剂(1)，在不损害本发明效果的范围内，例如可以采用日本特开2015-074771号公报等中记载的公知的橡胶类粘合剂等任意适当的橡胶类粘合剂。橡胶类粘合剂(1)可以仅为1种，也可以为2种以上。橡胶类粘合剂(1)可以在不损害本发明效果的范围内含有任意适当的成分。
＜A-2-4.有机硅类粘合剂(1)＞
作为有机硅类粘合剂(1)，在不损害本发明效果的范围内，例如可以采用日本特开2014-047280号公报等中记载的公知的有机硅类粘合剂等任意适当的有机硅类粘合剂。有机硅类粘合剂(1)可以仅为1种，也可以为2种以上。有机硅类粘合剂(1)可以在不损害本发明效果的范围内含有任意适当的成分。
《A-3.基材膜(1)》
作为基材膜(1)的厚度，在不损害本发明效果的范围内，可以根据目的而采用任意适当的厚度。作为这样的厚度，从能够进一步展现出本发明的效果的方面考虑，优选为20μm～500μm、更优选为20μm～300μm、进一步优选为20μm～200μm、特别优选为20μm～100μm、最优选为20μm～80μm。
基材膜(1)包含树脂基材膜(1a)。
作为树脂基材膜(1a)，可以援用在《A-1.脱模衬(III)》一项中的树脂基材膜(IIIa)的说明。
基材膜(1)可以具有导电层(1b)。导电层(1b)例如可以配置于粘合剂层(1)与树脂基材膜(1a)之间。
导电层(1b)可以仅为1层，也可以为2层以上。
导电层(1b)可以通过形成于任意适当的基材上而设置。作为这样的基材，优选树脂基材膜(1a)。
对于导电层(1b)而言，例如利用真空蒸镀法、溅射法、离子镀法、喷射热分解法、非电镀法、电镀法、或它们组合而成的方法等任意适当的薄膜形成法，在任意适当的基材(优选为树脂基材膜(1a))上形成导电层。这些薄膜形成法中，从导电层的形成速度、大面积膜的形成性、生产性等方面出发，优选真空蒸镀法、溅射法。
作为用于形成导电层(1b)的材料，例如可举出：由金、银、铂、钯、铜、铝、镍、铬、钛、铁、钴、锡、这些合金等形成的金属类材料；由氧化铟、氧化锡、氧化钛、氧化镉、它们的混合物等形成的金属氧化物类材料；由碘化铜等形成的其它金属化合物；等等。
作为导电层(1b)的厚度，在不损害本发明效果的范围内，可以根据目的采用任意适当的厚度。作为这样的厚度，例如在由金属类材料形成的情况下，优选为在由金属氧化物类材料形成的情况下，优选为/>
导电层(1b)的表面电阻值优选为1.0×1010Ω/□以下、更优选为1.0×109Ω/□以下、进一步优选为1.0×108Ω/□以下、特别优选为1.0×107Ω/□以下。
将导电层形成于任意适当的基材(优选为树脂基材膜(1a))上时，也可以对该基材(优选为树脂基材膜(1a))的表面实施电晕放电处理、紫外线照射处理、等离子体处理、溅射蚀刻处理、底涂处理等任意适当的前处理，来提高导电层与该基材(优选为树脂基材膜(1a))的密合性。
基材膜(1)可以具有抗静电层(1c)。抗静电层(1c)代表性地可以配置于粘合剂层(1)与树脂基材膜(1a)之间、和/或树脂基材膜(1a)与粘合剂层(2)之间。
抗静电层(1c)可以仅为1层，也可以为2层以上。
作为抗静电层(1c)的厚度，在不损害本发明效果的范围内，可以根据目的采用任意适当的厚度。作为这样的厚度，优选为1nm～1000nm、更优选为5nm～900nm、进一步优选为7.5nm～800nm、特别优选为10nm～700nm。
抗静电层(1c)的表面电阻值优选为1.0×1010Ω/□以下、更优选为8.0×109Ω/□以下、进一步优选为5.0×109Ω/□以下、特别优选为1.0×109Ω/□以下。
作为抗静电层(1c)，只要是能够发挥出抗静电效果的层，则可以在不损害本发明效果的范围内采用任意适当的抗静电层。作为这样的抗静电层(1c)，可以援用在《A-1.脱模衬(III)》一项中的抗静电层(IIIc)的说明。
《A-4.粘合剂层(2)》
粘合剂层(2)可以在不损害本发明效果的范围内采用任意适当的粘合剂层。粘合剂层(2)可以仅为1层，也可以为2层以上。
从能够进一步展现出本发明的效果的方面考虑，粘合剂层(2)的厚度优选为0.5μm～150μm、更优选为1μm～100μm、进一步优选为2μm～80μm、特别优选为3μm～50μm、最优选为5μm～24μm。
粘合剂层(2)可以通过任意适当的方法形成。作为这样的方法，例如可举出：将形成构成粘合剂层(2)的粘合剂的粘合剂组合物(优选为丙烯酸类粘合剂组合物(2))涂布于任意适当的基材(例如，基材膜(2))上，根据需要进行加热/干燥，并根据需要使其固化，从而在该基材上形成粘合剂层的方法。作为这样的涂布的方法，例如可举出：凹版辊涂法、反向辊涂法、辊舐涂布法、浸渍辊涂法、线棒涂布器、刮涂法、气刀涂布法、喷涂法、逗号涂布法、直接涂布法、辊刷涂布法等方法。
粘合剂层(2)也可以包含其它成分(2)。其它成分(2)可以仅为1种，也可以为2种以上。作为其它成分(2)，可以在不损害本发明效果的范围内采用任意适当的其它成分。作为这样的其它成分(1)，例如可举出：其它聚合物成分、交联促进剂、交联催化剂、硅烷偶联剂、增粘树脂(松香衍生物、聚萜烯树脂、石油树脂、油溶性酚等)、防老化剂、无机填充剂、有机填充剂、金属粉、着色剂(颜料、染料等)、箔状物、紫外线吸收剂、抗氧剂、光稳定剂、链转移剂、增塑剂、软化剂、表面活性剂、导电成分、稳定剂、表面润滑剂、流平剂、防腐蚀剂、耐热稳定剂、阻聚剂、润滑剂、溶剂、催化剂等。
作为其它成分(2)，代表性地可举出导电成分。导电成分可以仅为1种，也可以为2种以上。作为导电成分，可以在不损害本发明效果的范围内采用任意适当的导电成分。作为这样的导电成分，例如可举出：离子性液体、离子导电聚合物、离子导电填料、导电聚合物等。
＜A-4-1.丙烯酸类粘合剂＞
粘合剂层(2)优选由丙烯酸类粘合剂(2)形成。
丙烯酸类粘合剂(2)由丙烯酸类粘合剂组合物(2)形成。
从能够进一步展现出本发明的效果的方面考虑，丙烯酸类粘合剂组合物(2)优选包含丙烯酸类聚合物(C)。
丙烯酸类聚合物(C)是在丙烯酸类粘合剂的领域中被称为所谓的基础聚合物的物质。丙烯酸类聚合物可以仅为1种，也可以为2种以上。
丙烯酸类粘合剂组合物(2)中的丙烯酸类聚合物(C)的含有比例以固体成分换算优选为60重量％～99.9重量％、更优选为65重量％～99.9重量％、进一步优选为70重量％～99.9重量％、特别优选为75重量％～99.9重量％、最优选为80重量％～99.9重量％。
作为丙烯酸类聚合物(C)，可以在不损害本发明效果的范围内采用任意适当的丙烯酸类聚合物。
从能够进一步展现出本发明的效果的方面考虑，丙烯酸类聚合物(C)的重均分子量优选为30万～250万、更优选为35万～200万、进一步优选为40万～180万、特别优选为50万～150万。
丙烯酸类粘合剂组合物(2)可以包含交联剂。通过使用交联剂，能够提高丙烯酸类粘合剂的凝聚力，能够进一步展现出本发明的效果。交联剂可以仅为1种，也可以为2种以上。
作为交联剂，可以援用在＜A-2-1.丙烯酸类粘合剂(1)＞一项中的说明。
丙烯酸类粘合剂组合物(2)中的交联剂的含量可以在不损害本发明效果的范围内采用任意适当的含量。作为这样的含量，例如从能够进一步展现出本发明的效果的方面考虑，相对于丙烯酸类聚合物(C)的固体成分(100重量份)，优选为0.05重量份～20重量份、更优选为0.1重量份～18重量份、进一步优选为0.5重量份～15重量份、特别优选为0.5重量份～10重量份。
丙烯酸类粘合剂组合物(2)可以在不损害本发明效果的范围内含有任意适当的其它成分。作为这样的其它成分，例如可举出：丙烯酸类聚合物以外的聚合物成分、交联促进剂、交联催化剂、硅烷偶联剂、增粘树脂(松香衍生物、聚萜烯树脂、石油树脂、油溶性酚等)、防老化剂、无机填充剂、有机填充剂、金属粉、着色剂(颜料、染料等)、箔状物、紫外线吸收剂、抗氧剂、光稳定剂、链转移剂、增塑剂、软化剂、表面活性剂、抗静电剂、导电剂、稳定剂、表面润滑剂、流平剂、防腐蚀剂、耐热稳定剂、阻聚剂、润滑剂、溶剂、催化剂等。
作为丙烯酸类聚合物(C)，从能够进一步展现出本发明的效果的方面考虑，优选为由包含(a成分)烷基酯部分的烷基的碳原子数为4～12的(甲基)丙烯酸烷基酯、和(b成分)选自具有OH基的(甲基)丙烯酸酯及(甲基)丙烯酸中的至少1种的组合物(C)经聚合而形成的丙烯酸类聚合物(C)。(a成分)、(b成分)各自独立地可以仅为1种，也可以为2种以上。。
作为烷基酯部分的烷基的碳原子数为4～12的(甲基)丙烯酸烷基酯(a成分)，例如可举出：(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸仲丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸异壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸异癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷基酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯等。这些中，从能够进一步展现出本发明的效果的方面考虑，优选为(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯，更优选为丙烯酸正丁酯、丙烯酸2-乙基己酯。
作为选自具有OH基的(甲基)丙烯酸酯及(甲基)丙烯酸中的至少1种(b成分)，例如可举出：(甲基)丙烯酸羟基乙酯、(甲基)丙烯酸羟基丙酯、(甲基)丙烯酸羟基丁酯等具有OH基的(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸等。这些中，从能够进一步展现出本发明的效果的方面考虑，优选为(甲基)丙烯酸羟基乙酯、(甲基)丙烯酸，更优选为丙烯酸羟基乙酯、丙烯酸。
组合物(C)可以包含除(a)成分及(b)成分以外的共聚性单体。共聚性单体可以仅为1种，也可以为2种以上。作为这样的共聚性单体，例如可举出：衣康酸、马来酸、富马酸、巴豆酸、异巴豆酸、它们的酸酐(例如，马来酸酐、衣康酸酐等含酸酐基单体)等含羧基单体(其中，(甲基)丙烯酸除外)；(甲基)丙烯酰胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯酰胺、N-羟甲基(甲基)丙烯酰胺、N-甲氧基甲基(甲基)丙烯酰胺、N-丁氧基甲基(甲基)丙烯酰胺、N-羟乙基(甲基)丙烯酰胺等含酰胺基单体；(甲基)丙烯酸氨基乙酯、(甲基)丙烯酸二甲基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸叔丁基氨基乙酯等含氨基单体；(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸甲基缩水甘油酯等含环氧基单体；丙烯腈、甲基丙烯腈等含氰基单体；N-乙烯基-2-吡咯烷酮、(甲基)丙烯酰基吗啉、N-乙烯基哌啶酮、N-乙烯基哌嗪、N-乙烯基吡咯、N-乙烯基咪唑、乙烯基吡啶、乙烯基嘧啶、乙烯基唑等含杂环乙烯基类单体；乙烯基磺酸钠等含磺酸基单体；2-羟乙基丙烯酰基磷酸酯等含磷酸基单体；环己基马来酰亚胺、异丙基马来酰亚胺等含酰亚胺基单体；2-甲基丙烯酰氧基乙基异氰酸酯等含异氰酸酯基单体；(甲基)丙烯酸环戊酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯等具有脂环式烃基的(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸苄酯等具有芳香族烃基的(甲基)丙烯酸酯；乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯等乙烯基酯；苯乙烯、乙烯基甲苯等芳香族乙烯基化合物；乙烯、丁二烯、异戊二烯、异丁烯等烯烃类、二烯类；乙烯基烷基醚等乙烯基醚类；氯乙烯；等等。
作为共聚性单体，也可以采用多官能单体。多官能单体是指，在1分子中具有2个以上烯属不饱和基团的单体。作为烯属不饱和基团，可以在不损害本发明效果的范围内采用任意适当的烯属不饱和基团。作为这样的烯属不饱和基团，例如可举出：乙烯基、丙烯基、异丙烯基、乙烯基醚基(乙烯氧基)、烯丙基醚基(烯丙氧基)等自由基聚合性官能团。作为多官能单体，例如可举出：己二醇二(甲基)丙烯酸酯、丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、(聚)乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、(聚)丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、四羟甲基甲烷三(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸乙烯酯、二乙烯基苯、环氧丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、氨基甲酸酯丙烯酸酯等。这样的多官能单体可以仅为1种，也可以为2种以上。
作为共聚性单体，也可以采用(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯。作为(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯，例如可举出：(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸甲氧基三乙二醇酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丙酯、(甲基)丙烯酸3-乙氧基丙酯、(甲基)丙烯酸4-甲氧基丁酯、(甲基)丙烯酸4-乙氧基丁酯等。(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯可以仅为1种，也可以为2种以上。
从能够进一步展现出本发明的效果的方面考虑，相对于构成丙烯酸类聚合物(C)的单体成分总量(100重量％)，烷基酯部分的烷基的碳原子数为4～12的(甲基)丙烯酸烷基酯(a成分)的含量优选为30重量％以上、更优选为50重量％～99重量％、进一步优选为70重量％～98重量％、特别优选为90重量％～98重量％。
从能够进一步展现出本发明的效果的方面考虑，相对于构成丙烯酸类聚合物(C)的单体成分总量(100重量％)，选自具有OH基的(甲基)丙烯酸酯及(甲基)丙烯酸中的至少1种(b成分)的含量优选为1重量％以上、更优选为1重量％～30重量％、进一步优选为2重量％～20重量％、特别优选为3重量％～10重量％、最优选为3重量％～6重量％。
组合物(C)可以在不损害本发明效果的范围内含有任意适当的其它成分。作为这样的其它成分，例如可举出：聚合引发剂、链转移剂、溶剂等。这些其它成分的含量可以在不损害本发明效果的范围内采用任意适当的含量。
聚合引发剂可以根据聚合反应的种类而采用热聚合引发剂、光聚合引发剂(光引发剂)等。聚合引发剂可以仅为1种，也可以为2种以上。
作为热聚合引发剂、光聚合引发剂(光引发剂)，可以援用在[A-2-1-1.(甲基)丙烯酸类树脂(1)的优选实施方式1]一项中的说明。
＜A-4-2.导电成分＞
粘合剂层(2)可以包含导电成分。导电成分可以仅为1种，也可以为2种以上。作为导电成分，可以在不损害本发明效果的范围内采用，任意适当的导电成分。作为这样的导电成分，例如可举出：离子性液体、离子导电聚合物、离子导电填料、导电聚合物等。
《A-5.基材膜(2)》
从能够进一步展现出本发明的效果的方面考虑，基材膜(2)的厚度优选为10μm～300μm、更优选为20μm～200μm、进一步优选为30μm～150μm、特别优选为35μm～100μm、最优选为35μm～80μm。
基材膜(2)包含树脂基材膜(2a)。
作为树脂基材膜(2a)，可以援用在《A-1.脱模衬(III)》一项中的树脂基材膜(IIIa)的说明。
基材膜(2)可以具有导电层(2b)。导电层(2b)可以配置于粘合剂层(2)与树脂基材膜(2a)之间。
导电层(2b)可以仅为1层，也可以为2层以上。
作为导电层(2b)，可以援用在《A-3.基材膜(1)》一项中的导电层(1b)的说明。
基材膜(2)可以具有抗静电层(2c)。抗静电层(2c)可以配置于粘合剂层(2)与树脂基材膜(2a)之间、和/或树脂基材膜(2a)的粘合剂层(2)的相反侧。
抗静电层(2c)可以仅为1层，也可以为2层以上。
作为抗静电层(2c)的厚度，在不损害本发明效果的范围内，可以根据目的采用任意适当的厚度。作为这样的厚度，优选为1nm～1000nm、更优选为5nm～900nm、进一步优选为7.5nm～800nm、特别优选为10nm～700nm。
作为抗静电层(2c)，可以援用对《A-3.基材膜(1)》一项中的抗静电层(1c)的说明。
抗静电层(2c)也可以在不损害本发明效果的范围内包含任意适当的其它成分。
《《B.光学构件用粘合带的制造方法》》
在不损害本发明效果的范围内，本发明的实施方式的光学构件用粘合带可以通过任意适当的方法制造。
作为本发明的实施方式的光学构件用粘合带的制造方法的代表例，针对如下情况进行说明：本发明的实施方式的光学构件用粘合带是依次具有脱模衬(III)、粘合剂层(1)、基材膜(1)、粘合剂层(2)、基材膜(2)、层叠数最少的部位为3层以上、且层叠数最多的部位为5层以上的层叠体，其中，该粘合剂层(1)和该基材膜(1)是光学构件保护用粘合带(I)的构成要素，该粘合剂层(2)和该基材膜(2)是保持带(II)的构成要素，该光学构件保护用粘合带(I)的该粘合剂层(1)的相反侧的最外面与该粘合剂层(2)直接层叠在一起，在该粘合剂层(1)的露出面直接层叠有脱模衬(III)，在1个该保持带(II)上以具有间隙的排布层叠有2个以上该光学构件保护用粘合带(I)。
在本发明的实施方式的光学构件用粘合带的制造方法的一个实施方式中，分别制造依次具有脱模衬(III)、粘合剂层(1)、基材膜(1)并且由这些构成要素构成的层叠体(X)(即，脱模衬(III)与光学构件保护用粘合带(I)的层叠体)、和依次具有粘合剂层(2)和基材膜(2)并且由这些构成要素构成的保持带(II)，然后，在1个保持带(II)上，将层叠体(X)的基材膜(1)的面与保持带(II)的粘合剂层(2)的面粘贴在一起、并使得2个以上光学构件保护用粘合带(I)成为具有间隙的排布。
层叠体(X)例如可以如下所述地制造：将形成构成粘合剂层(1)的粘合剂的粘合剂组合物(选自丙烯酸类粘合剂组合物(1)、氨基甲酸酯类粘合剂组合物(1)、橡胶类粘合剂组合物(1)、有机硅类粘合剂组合物(1)中的至少1种)涂布于基材膜(1)上，根据需要进行加热/干燥、并根据需要使其固化从而在该基材膜(1)上形成该粘合剂层(1)，然后在该粘合剂层(1)的与该基材膜(1)相反侧的一面粘贴脱模衬(III)(具有脱模层(IIIb)时为该脱模层(IIIb)侧)而制造。
对于保持带(II)而言，例如，将形成构成粘合剂层(2)的粘合剂的粘合剂组合物(优选为选自丙烯酸类粘合剂(2)及氨基甲酸酯类粘合剂(2)中的至少1种)涂布于基材膜(2)上，根据需要进行加热/干燥、并根据需要使其固化从而在该基材膜(2)上形成该粘合剂层(2)。需要说明的是，为了在直到将层叠体(X)与保持带(II)粘贴之前保护粘合剂层(2)的露出面，可以粘贴任意适当的隔膜(例如，与脱模衬(III)同样的膜)。
在本发明的实施方式的光学构件用粘合带中，在夹着间隙而相邻的2个光学构件保护用粘合带(I)的相对的侧面形成的角部中的至少一个为倒角部，倒角部优选为选自C面及R面中的至少1种。作为倒角部的形成方法，可以在不损害本发明效果的范围内采用任意适当的形成方法。例如，作为C面的倒角部及R面的倒角部的形成方法，可举出利用使用了加压机的刀具的切断加工、激光切断加工、使用了立铣刀的切削加工等。
《《C.光学构件用粘合带的使用方法》》
在不损害本发明效果的范围内，本发明的实施方式的光学构件用粘合带可以在任意适当的方法中使用。作为这样的使用方法，代表性地，可举出下述的方法。
(1)首先，从本发明的实施方式的光学构件用粘合带剥离脱模衬(III)。此时，在本发明的实施方式的光学构件用粘合带中，通过使在夹着间隙而相邻的2个光学构件保护用粘合带(I)的相对的侧面形成的角部中的至少一个为倒角部，从而能够在将脱模衬(III)剥离时，将在1个保持带(II)上以具有间隙的排布层叠的2个以上光学构件保护用粘合带(I)以良好地保持于保持带(II)的状态在脱模衬(III)与光学构件保护用粘合带(I)的界面切实进行剥离。这是因为，通过使在夹着间隙而相邻的2个光学构件保护用粘合带(I)的相对的侧面形成的角部中的至少一个为倒角部，在将脱模衬(III)剥离时，欲使脱模衬(III)从光学构件保护用粘合带(I)脱离的力与欲使光学构件保护用粘合带(I)从保持带(II)脱离的力能够以适当的平衡发生作用，能够抑制以往的剥离异常的发生。
(2)接下来，将2个以上光学构件保护用粘合带在保持于1个保持带的状态下，一边与被粘附物对齐一边贴附于露出的粘合剂层(1)。由此，可得到在被粘附物上依次层叠有光学构件保护用粘合带(I)、保持带(II)的层叠体。
(3)最后，从上述(2)中得到的层叠体剥离保持带(II)，可以得到在被粘附物上贴附有光学构件保护用粘合带(I)的状态。
实施例
以下，根据实施例对本发明具体地进行说明，但本发明不受到这些实施例的任何限定。需要说明的是，实施例等中的试验及评价方法如下所述。需要说明的是，在记载为“份”的情况下，只要没有特别记载事项，则是指“重量份”，在记载为“％”的情况下，只要没有特别记载事项，则是指“重量％”。
＜脱模衬剥离评价＞
以实施例1中得到的光学构件用粘合带(1)(包含带脱模衬的光学构件保护用粘合带(1A)、带脱模衬的光学构件保护用粘合带(1B)、及保持带)为例的脱模衬剥离评价如下所述。对于其它实施例、比较例，也同样地进行。
以使保持带侧吸附于吸附台的方式配置光学构件用粘合带(1)，用夹紧装置把持带脱模衬的光学构件保护用粘合带(1B)的角部2a、2b侧的脱模衬的一个角部。在夹紧装置上安装剥离辊，使剥离辊固定于脱模衬的表面。然后，使夹紧装置向着所把持的角部的对角方向以10mm/分的速度沿吸附台的面内方向行进。此时，夹紧装置以相对于吸附台平面为45度的角度、且相对于吸附台的垂直方向为30°的角度一边上升一边行进。也就是说，俯视下光学构件用粘合带(1)与剥离方向所成的角为45°，将侧视下平面方向与剥离方向所成的角设为30°。如此地，将脱模衬从光学构件保护用粘合带(1A)及(1B)剥离。如果剥离时光学构件保护用粘合带(1A)及(1B)能够剥离而不追随脱模衬，则将评价结果设为剥离合格。以10个样品进行了该试验，如下所述地进行了判定。
A：10片中9片以上剥离合格
B：10片中5片以上剥离合格
C：10片中少于5片剥离合格
＜剥离力A的测定＞
将样品切断成宽度25mm、长度150mm，作为评价用样品。在温度23℃、湿度50％RH的气氛中，使用万能拉伸试验机(MINEBEA株式会社制、产品名：TCM-1kNB)，以剥离角度180度、拉伸速度300mm/分进行剥离，对剥离力A进行了测定。
＜粘合力B的测定＞
将样品切断成宽度25mm、长度150mm，作为评价用样品。在温度23℃、湿度50％RH的气氛中，通过使2.0kg的辊往复一次而将评价用样品的粘合剂层表面粘贴于各实施例、比较例中记载的基材层的表面。在温度23℃、湿度50％RH的气氛中养护30分钟后，使用万能拉伸试验机(MINEBEA株式会社制、产品名：TCM-1kNB)，以剥离角度180度、拉伸速度300mm/分进行剥离，对粘合力B进行了测定。
＜储能模量G’的测定＞
储能模量G’相当于在材料发生变形时作为弹性能量而储存的部分，是表示硬度的程度的指标。
从各实施例、比较例中记载的形成于脱模衬上的光学构件保护用粘合带中仅取出粘合剂层，进行层叠而制成约1mm的厚度，将其冲裁成φ9mm，制作了圆柱状的粒料而作为测定用样品。
使用动态粘弹性测定装置(Rheometrics公司制、ARES)，将所得到的测定样品固定于φ8mm平行板的夹具，计算出了储能模量G’。将测定条件设为如下条件。
测定：剪切模式
温度范围：-60℃～210℃
升温速度：5℃/分
频率：1Hz
[制造例1]
(低聚物A的制备)
将作为单体成分的甲基丙烯酸二环戊酯(DCPMA):60重量份及甲基丙烯酸甲酯(MMA):40重量份、作为链转移剂的α-硫代甘油:3.5重量份、及作为聚合溶剂的甲苯:100重量份混合，在氮气气氛中以70℃搅拌1小时。接下来，投入作为热聚合引发剂的2,2’-偶氮二异丁腈(AIBN):0.2重量份，在70℃下反应2小时后，升温至80℃，反应2小时。然后，将反应液加热至130℃，将甲苯、链转移剂及未反应单体干燥除去，得到了固态的丙烯酸低聚物(低聚物A)。低聚物A的重均分子量为5100，玻璃化转变温度(Tg)为130℃。
[制造例2]
(光学构件保护用粘合带用粘合剂组合物(a)的制作)
配合作为预聚物形成用单体成分的丙烯酸月桂酯(LA):40重量份、丙烯酸2-乙基己酯(2EHA):50重量份、丙烯酸4-羟基丁酯(4HBA):4重量份、及N-乙烯基-2-吡咯烷酮(NVP):6重量份、以及作为光聚合引发剂的BASF制“IRGACURE 184”：0.015重量份，照射紫外线而进行聚合，得到了预聚物组合物(聚合率：约10％)。
在上述的预聚物组合物:100重量份中添加作为后添加成分的1,6-己二醇二丙烯酸酯(HDDA):0.07重量份、制造例1中制备的低聚物A:3重量份、及硅烷偶联剂(信越化学制“KBM403”):0.3重量份后，将它们均匀地混合，得到了光学构件保护用粘合带用粘合剂组合物(a)。
[制造例3]
(光学构件保护用粘合带用粘合剂组合物(b)的制作)
将作为单体成分的丙烯酸2-乙基己酯(2EHA):63重量份、N-乙烯基-2-吡咯烷酮(NVP):15重量份、甲基丙烯酸甲酯(MMA):9重量份、丙烯酸2-羟基乙酯(HEA):13重量份、作为聚合引发剂的2,2’-偶氮二异丁腈:0.2重量份、及作为聚合溶剂的乙酸乙酯:133重量份投入可分离式烧瓶，边导入氮气边搅拌1小时。如此地将聚合体系内的氧除去后，升温至65℃，反应10小时，然后，添加乙酸乙酯，得到了固体成分浓度30重量％的丙烯酸类聚合物的溶液。
在所得到的丙烯酸类聚合物的溶液中添加异氰酸酯类交联剂(商品名“TakenateD110N”、三井化学株式会社制)，使其相对于丙烯酸类聚合物的固体成分:100重量份以固体成分换算达到1重量份，得到了光学构件保护用粘合带用粘合剂组合物(b)。
[制造例4]
(保持带用丙烯酸聚合物的制作)
在具备搅拌叶片、温度计、氮气导入管、冷凝器的四颈烧瓶中加入丙烯酸2-乙基己酯(日本触媒株式会社制):100重量份、丙烯酸2-羟基乙酯(东亚合成株式会社制):4重量份、作为聚合引发剂的2,2’-偶氮二异丁腈(和光纯药工业株式会社制):0.2重量份、乙酸乙酯:156重量份，一边缓慢搅拌一边导入氮气，将烧瓶内的液温保持于65℃附近进行6小时的聚合反应，制备了重均分子量55万的丙烯酸类聚合物的溶液(40重量％)，得到了保持带用丙烯酸聚合物。
[制造例5]
(保持带的制作)
在制造例4中制造的保持带用丙烯酸聚合物的溶液中，相对于其固体成分100重量份，添加作为交联剂的以固体成分换算为5重量份的CORONATE HX(日本聚氨酯工业株式会社制)、以固体成分换算为0.3重量份的Aqualon HS-10(第一工业制药株式会社制)、作为交联催化剂的以固体成分换算为0.03重量份的Embilizer OL-1(Tokyo Fine Chemical株式会社制)，用乙酸乙酯进行稀释、使得整体的固体成分达到25重量％，用分散器进行搅拌，通过浸渍辊涂布于由聚酯树脂形成的基材“Lumirror S10”(厚度38μm、东丽株式会社制)上、并使得干燥后的厚度达到10μm，在干燥温度130℃、干燥时间30秒的条件下使其固化并进行了干燥。如此地，在基材上制作了粘合剂层。接下来，在粘合剂层的表面贴合一面实施了有机硅处理后的厚度25μm的由聚酯树脂形成的基材的有机硅处理面，得到了保持带。
[实施例1]
将表面设置有有机硅类脱模层的厚度75μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜(三菱化学制“DIAFOIL MRF75”)作为基材(兼重剥离膜)，在该基材上以厚度达到25μm的方式涂布制造例2中得到的光学构件保护用粘合带用粘合剂组合物(a)而形成了涂布层。在该涂布层上贴合单面实施了有机硅剥离处理的厚度75μm的PET膜(三菱化学制“DIAFOIL MRE75”)作为盖片(兼轻剥离膜)。对于该层叠体，利用以使灯正下方的照射面的照射强度达到5mW/cm2的方式进行了位置调节后的黑光灯从盖片侧照射紫外线而进行光固化，得到了厚度25μm的粘合片。然后，从粘合片剥离轻剥离膜，在作为基材层而准备的厚度25μm的聚酰亚胺类基材(商品名“UPILEX 25RN”宇部兴产株式会社)的一面贴合了形成于上述剥离衬上的粘合剂层。使所得到的结构体从80℃的层压机(0.3MPa、速度0.5m/分)通过1次后，在50℃的烘箱中进行1天的老化，将重剥离膜剥离，再次新贴合了剥离衬(DIAFOIL MRF-50”、三菱树脂株式会社)。如此地，得到了带脱模衬的光学构件保护用粘合带(1)。
对所得到的带脱模衬的光学构件保护用粘合带(1)进行加压切断而进行加工，得到了长度方向10cm、宽度方向5cm、4个角部中的1a和1b为C 0.5mm、且经过了倒角加工的带脱模衬的光学构件保护用粘合带(1A)(相当于图3中的光学构件保护用粘合带(I)101)、和长度方向2cm、宽度方向5cm、4个角部中的2a和2b为C 0.5mm、且经过了倒角加工的带脱模衬的光学构件保护用粘合带(1B)(相当于图3中的光学构件保护用粘合带(I)102)。
接下来，如图3所示，在保持带的粘合剂层上，以使带脱模衬的光学构件保护用粘合带(1A)的基材膜侧和带脱模衬的光学构件保护用粘合带(1B)的基材膜侧具有长度1mm的间隙、并且带脱模衬的光学构件保护用粘合带(1A)的倒角部1a和1b成为带脱模衬的光学构件保护用粘合带(1B)侧、带脱模衬的光学构件保护用粘合带(1B)的倒角部2a和2b成为与带脱模衬的光学构件保护用粘合带(1A)相反侧的方式，进行排布、贴合，得到了光学构件用粘合带(1)。
将结果示于表1。
[实施例2]
将粘合剂层的厚度设为15μm，得到了带脱模衬的光学构件保护用粘合带(2)，除此以外，与实施例1同样地进行，得到了光学构件用粘合带(2)。
将结果示于表1。
[实施例3]
将倒角加工设为C 0.2mm，除此以外，与实施例2同样地进行，得到了光学构件用粘合带(3)。
将结果示于表1。
[实施例4]
将倒角加工设为C 0.1mm，除此以外，与实施例2同样地进行，得到了光学构件用粘合带(4)。
将结果示于表1。
[实施例5]
准备了市售的剥离衬(“DIAFOIL MRF-38”、三菱树脂株式会社)。在剥离衬的一面(剥离面)以使干燥后的厚度达到25μm的方式涂布制造例3中得到的光学构件保护用粘合带用粘合剂组合物(b)，并在130℃下干燥3分钟。如此地，在剥离衬的剥离面上形成由与光学构件保护用粘合带用粘合剂组合物(b)对应的粘合剂形成的厚度25μm的粘合剂层，在室温下进行了5天的老化。
作为基材层，准备了厚度25μm的聚酰亚胺类基材(商品名“UPILEX25RN”宇部兴产株式会社)。在该基材层的一面贴合形成于上述剥离衬上的粘合剂层。使所得到的结构体从80℃的层压机(0.3MPa、速度0.5m/分)中通过1次后，在50℃的烘箱中老化1天，将剥离衬剥，再次新贴合了剥离衬(“DIAFOIL MRF-50”、三菱树脂株式会社)。如此地，得到了带脱模衬的光学构件保护用粘合带(5)。作为带脱模衬的光学构件保护用粘合带，使用了带脱模衬的光学构件保护用粘合带(5)，除此以外，与实施例2同样地进行，得到了光学构件用粘合带(5)。
将结果示于表1。
[实施例6]
将倒角加工设为R 0.5mm，除此以外，与实施例2同样地进行，得到了光学构件用粘合带(6)。
将结果示于表1。
[实施例7]
将倒角加工设为R 0.1mm，除此以外，与实施例2同样地进行，得到了光学构件用粘合带(7)。
将结果示于表1。
[比较例1]
未进行倒角加工，除此以外，与实施例2同样地进行，得到了光学构件用粘合带(C1)。
将结果示于表1。
[比较例2]
使用了厚度50μm的聚酰亚胺类基材(商品名“UPILEX 50RN”宇部兴产株式会社)来代替厚度25μm的聚酰亚胺膜，未进行倒角加工，除此以外，与实施例2同样地进行，得到了光学构件用粘合带(C2)。
将结果示于表1。
工业实用性
本发明的实施方式的光学构件用粘合带可以适宜用作例如对折叠式构件、卷轴式构件的粘贴用粘合带，作为折叠式构件、卷轴式构件的代表例，可举出OLED等。

Claims (6)

1.一种光学构件用粘合带，其具有：
在基材膜(1)的一面具有粘合剂层(1)的光学构件保护用粘合带(I)、
直接层叠于该光学构件保护用粘合带(I)的该粘合剂层(1)的相反侧的最外面的保持带(II)、以及
直接层叠于该光学构件保护用粘合带(I)所具有的该粘合剂层(1)的露出面的脱模衬(III)，
在1个该保持带(II)上，以具有间隙的排布层叠有2个以上该光学构件保护用粘合带(I)，
该粘合剂层(1)的厚度小于25μm，
在夹着该间隙而相邻的2个该光学构件保护用粘合带(I)的相对的侧面形成的角部中的至少一个为倒角部。
2.根据权利要求1所述的光学构件用粘合带，其中，
所述倒角部为C面，该倒角部的倒角量为C 0.05mm以上。
3.根据权利要求1所述的光学构件用粘合带，其中，
所述倒角部为R面，该倒角部的倒角量为R 0.05mm以上。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的光学构件用粘合带，其中，
在温度23℃、湿度50％RH的环境中，将所述脱模衬(III)剥离时的剥离力A小于将所述保持带(II)剥离时的粘合力B。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的光学构件用粘合带，其中，
构成所述粘合剂层(1)的粘合剂在23℃下的储能模量G’为5.0×105Pa以下。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的光学构件用粘合带，其中，
在沿着上述1个该保持带(II)的长度方向层叠的2个以上该光学构件保护用粘合带(I)的侧面中，在长度方向上的两端的侧面形成的角部中的至少一个为倒角部。
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