CN117369030A - 带表面保护薄膜的光学构件、光学层叠体和光学设备的制造方法 - Google Patents

带表面保护薄膜的光学构件、光学层叠体和光学设备的制造方法 Download PDF

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Abstract

本发明提供带表面保护薄膜的光学构件、光学层叠体和光学设备的制造方法，所述光学构件在对薄型的光学构件进行激光加工时能够抑制该光学构件的加工端部的隆起。另外，提供具备这种带表面保护薄膜的光学构件的光学层叠体。进而，提供使用了这种带表面保护薄膜的光学构件的光学设备的制造方法。本发明的实施方式所述的带表面保护薄膜的光学构件为包含表面保护薄膜(I)和光学构件的带表面保护薄膜的光学构件，该表面保护薄膜(I)包含基材(Ia)和粘合剂层(Ib)，该粘合剂层(Ib)与该光学构件直接层叠，该光学构件的厚度为400μm以下，该基材(Ia)的厚度小于60μm。

Description

带表面保护薄膜的光学构件、光学层叠体和光学设备的制造 方法
技术领域
本发明涉及带表面保护薄膜的光学构件、光学层叠体和光学设备的制造方法。
背景技术
为了对光学设备中包含的光学构件赋予刚性、耐冲击性，有时在该光学构件的表面(代表而言，为露出面)预先粘贴增强用薄膜(设置有粘合剂层的增强用基材)来进行增强(专利文献1～3)。
增强用薄膜通常以永久粘接作为目的，与一般作为工序材料而使用的表面保护薄膜、即在设备等的组装、加工、运输等状况下暂时性地粘贴并在使用该设备等之前进行再剥离的薄膜不同。因此，构成增强用薄膜的粘合剂层的粘合剂通常以能够实现永久粘接的方式进行设计。
近年来，寻求以有机EL面板、LCD面板、触摸面板等为代表的光学设备的薄型化。另一方面，光学构件用增强用薄膜最终会残留在光学设备中。因此，寻求薄型化的光学设备中包含的光学构件用增强用薄膜并不是单纯能够表现出增强效果即可，还要求为薄型。
在光学设备的制造过程中，可能包括对粘贴有上述那样的增强用薄膜的光学构件进行激光加工的工序。在该激光加工中，通常从粘贴有增强用薄膜的光学构件的该增强用薄膜侧照射激光。
然而，若从粘贴有增强用薄膜的光学构件的该增强用薄膜侧照射激光来进行激光加工，则存在该增强用薄膜的加工端部隆起的问题。这种隆起部最终会残留在光学设备中，因此，成为品质不良等的原因。
以往已经提出了对偏光板自身(即光学构件自身)进行激光加工时切截面会隆起的问题，作为其解决手段，报告了从对偏光板层叠耐热性高的特定树脂薄膜而制作的层叠体的该树脂薄膜侧进行激光照射的方法(专利文献4、5)。但是，在该方法中使用的耐热性高的特定树脂薄膜为了表现出其效果，具体而言，使用专利文献4的实施例1、专利文献5的实施例1中记载那样的、在厚度700μm的环氧薄膜的单面涂布丙烯酸类氨基甲酸酯UV树脂而形成了3μm厚的保护层的总厚度为703μm的厚树脂薄膜，即便该树脂薄膜作为增强用薄膜而发挥功能，也难以应用于最近的要求薄型化的光学设备。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特许第6366199号公报
专利文献2：日本特许第6375467号公报
专利文献3：日本特许第6467551号公报
专利文献4：日本特开2005-189530号公报
专利文献5：日本特开2009-86675号公报
发明内容
发明要解决的问题
即，本发明的课题在于，提供在对薄型的光学构件进行激光加工时能够抑制该光学构件的加工端部的隆起的带表面保护薄膜的光学构件。另外，提供具备这种带表面保护薄膜的光学构件的光学层叠体。进而，提供使用了这种带表面保护薄膜的光学构件的光学设备的制造方法。
用于解决问题的方案
本发明人为了解决对薄型的光学构件进行激光加工时的加工端部隆起的问题而进行了深入研究。其结果发现：使用在薄型的光学构件上粘贴有特定表面保护薄膜的带表面保护薄膜的光学构件，在进行激光加工并将该表面保护薄膜再剥离时，能够抑制所露出的光学构件的加工端部的隆起，从而完成了本发明。
[1]本发明的实施方式所述的带表面保护薄膜的光学构件包含表面保护薄膜(I)和光学构件，该表面保护薄膜(I)包含基材(Ia)和粘合剂层(Ib)，该粘合剂层(Ib)与该光学构件直接层叠，该光学构件的厚度为400μm以下，该基材(Ia)的厚度小于60μm。
[2]在上述[1]所述的带表面保护薄膜的光学构件中，上述粘合剂层(Ib)在80℃下的表面硬度可以为3.00MPa以下。
[3]在上述[1]或[2]所述的带表面保护薄膜的光学构件中，上述粘合剂层(Ib)的厚度可以小于45μm。
[4]在上述[1]～[3]中任一项所述的带表面保护薄膜的光学构件中，上述粘合剂层(Ib)在温度23℃、相对湿度50％的环境下在剥离角度为180°、拉伸速度为300mm/分钟下对于亚克力板的剥离力可以小于0.25N/25mm。
[5]在上述[1]～[4]中任一项所述的带表面保护薄膜的光学构件中，上述光学构件可以为增强用薄膜(II)，该增强用薄膜(II)可以包含基材(IIa)和粘合剂层(IIb)。
[6]在上述[5]所述的带表面保护薄膜的光学构件中，上述粘合剂层(IIb)在温度23℃、相对湿度50％的环境下在剥离角度为180°、拉伸速度为300mm/分钟下对于聚酰亚胺薄膜的粘接力可以为3N/25mm以上。
[7]本发明的实施方式所述的光学层叠体包含上述[1]～[6]中任一项所述的带表面保护薄膜的光学构件。
[8]本发明的实施方式所述的光学设备的制造方法为包含光学构件的光学设备的制造方法，所述制造方法包括如下工序：将上述[5]或[6]所述的带表面保护薄膜的光学构件粘贴于其它光学构件的工序；从自该带表面保护薄膜的光学构件观察时的该其它光学构件的相反侧照射激光而进行激光加工的工序；以及对该激光加工后的该表面保护薄膜进行再剥离的工序。
发明的效果
本发明的实施方式所述的带表面保护薄膜的光学构件可适宜地用于寻求薄型化的光学设备的制造过程，若使用该带表面保护薄膜的光学构件来进行激光加工，则可抑制在该激光加工后将该表面保护薄膜再剥离而露出的光学构件的加工端部的隆起，能够降低品质不良品的产生。另外，可提供具备这种带表面保护薄膜的光学构件的光学层叠体。进而，可提供使用了这种带表面保护薄膜的光学构件的光学设备的制造方法。
附图说明
图1是表示本发明的实施方式所述的带表面保护薄膜的光学构件的一个实施方式的示意剖视图。
图2是表示本发明的实施方式所述的光学层叠体的一个实施方式的示意剖视图。
图3是说明激光加工端部的示意说明图。
具体实施方式
在本说明书中存在“质量”这一表述时，也可以替换为以往通常作为重量单位而惯用的“重量”，反之，在本说明书中存在“重量”这一表述时，也可以替换为作为表示重量的SI系单位而惯用的“质量”。
在本说明书中存在“(甲基)丙烯酸”这一表述时，是指“丙烯酸和/或甲基丙烯酸”，存在“(甲基)丙烯酸酯”这一表述时，是指“丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯”，存在“(甲基)烯丙基”这一表述时，是指“烯丙基和/或甲基烯丙基”，存在“(甲基)丙烯醛”这一表述时，是指“丙烯醛和/或甲基丙烯醛”。
＜＜＜＜1.带表面保护薄膜的光学构件＞＞＞＞
本发明的实施方式所述的带表面保护薄膜的光学构件包含表面保护薄膜(I)和光学构件。本发明的实施方式所述的带表面保护薄膜的光学构件只要包含表面保护薄膜(I)和光学构件，就可以在不损害本发明效果的范围内包含任意适当的其它构成构件。代表而言，本发明的实施方式所述的带表面保护薄膜的光学构件由表面保护薄膜(I)和光学构件形成。
表面保护薄膜(I)包含基材(Ia)和粘合剂层(Ib)。
本发明的实施方式所述的带表面保护薄膜的光学构件中，粘合剂层(Ib)与光学构件直接层叠。
作为光学构件，可以在不损害本发明效果的范围内采用任意适当的光学构件。从能够进一步表现出本发明效果的观点出发，作为光学构件，代表而言，可列举出增强用薄膜、偏光板。
光学构件的一个实施方式中，光学构件为增强用薄膜(II)，该增强用薄膜(II)包含基材(IIa)和粘合剂层(IIb)。
图1是表示本发明的实施方式所述的带表面保护薄膜的光学构件的一个实施方式的示意剖视图。本发明的实施方式所述的带表面保护薄膜的光学构件1000的一个实施方式包含表面保护薄膜(I)100和增强用薄膜(II)200，表面保护薄膜(I)100包含基材(Ia)11和粘合剂层(Ib)12，增强用薄膜(II)200包含基材(IIa)21和粘合剂层(IIb)22，粘合剂层(Ib)12与基材(IIa)21直接层叠。
从能够进一步表现出本发明效果的观点出发，本发明的实施方式所述的带表面保护薄膜的光学构件的总厚度优选为200μm～505μm，更优选为210μm～455μm，进一步优选为220μm～405μm，特别优选为230μm～350μm。若本发明的实施方式所述的带表面保护薄膜的光学构件的总厚度偏离上述范围，则有可能无法表现出本发明的效果。若本发明的实施方式所述的带表面保护薄膜的光学构件的总厚度偏离上述范围且过厚，则有可能难以在例如光学设备的制造过程中应用。若本发明的实施方式所述的带表面保护薄膜的光学构件的总厚度偏离上述范围且过薄，则在例如光学构件为增强用薄膜的情况下，有可能无法表现出对光学设备中包含的其它光学构件赋予刚性、耐冲击性之类的增强用薄膜原本的性能。
本发明的实施方式所述的带表面保护薄膜的光学构件只要包含表面保护薄膜(I)和光学构件，且粘合剂层(Ib)与光学构件直接层叠，就可以在不损害本发明效果的范围内通过任意适当的方法来制造。
作为制造本发明的实施方式所述的带表面保护薄膜的光学构件的方法的一个实施方式，可列举出例如：分别准备表面保护薄膜(I)和光学构件，并将表面保护薄膜(I)的粘合剂层(Ib)粘贴于光学构件的方法。在光学构件为增强用薄膜(II)且该增强用薄膜(II)包含基材(IIa)和粘合剂层(IIb)的情况下，可列举出：将表面保护薄膜(I)的粘合剂层(Ib)粘贴于作为增强用薄膜(II)的最外层的基材(IIa)的方法。
《1-1.表面保护薄膜(I)》
表面保护薄膜(I)包含基材(Ia)和粘合剂层(Ib)。代表而言，基材(Ia)与粘合剂层(Ib)直接层叠。
表面保护薄膜(I)只要包含基材(Ia)和粘合剂层(Ib)，就可以在不损害本发明效果的范围内包含任意适当的其它构成构件(Ic)。
作为其它构成构件(Ic)，可列举出例如易粘接层、易滑层、防粘连层、抗静电层、防反射层、防低聚物层。其它构成构件(Ic)可以仅为1种，也可以为2种以上。
从能够进一步表现出本发明效果的观点出发，表面保护薄膜(I)的厚度优选为25μm～105μm，更优选为35μm～95μm，进一步优选为40μm～85μm，特别优选为45μm～70μm。若表面保护薄膜(I)的厚度偏离上述范围，则有可能无法表现出本发明的效果。若表面保护薄膜(I)的总厚度偏离上述范围且过厚，则有可能难以将本发明的实施方式所述的带表面保护薄膜的光学构件应用于薄型的光学设备，另外，在使用该带表面保护薄膜的光学构件来进行激光加工的情况下，有可能无法抑制在该激光加工后将该表面保护薄膜再剥离而露出的光学构件的加工端部的隆起。若表面保护薄膜(I)的厚度偏离上述范围且过薄，则在使用带表面保护薄膜的光学构件来进行激光加工的情况下，有可能无法抑制在该激光加工后将该表面保护薄膜再剥离而露出的光学构件的加工端部的隆起。
<1-1-a.基材(Ia)>
基材(Ia)可以仅为1层，也可以为2层以上。基材(Ia)可以进行了拉伸。
基材(Ia)的厚度优选小于60μm，更优选小于55μm，进一步优选小于50μm，特别优选小于45μm，最优选小于40μm。基材(Ia)的厚度下限值越薄越好，优选为24μm以上，更优选为27μm以上，进一步优选为30μm以上，特别优选为33μm以上，最优选为36μm以上。如果基材(Ia)的厚度处于上述范围内，则能够进一步表现出本发明的效果。若基材(Ia)的厚度偏离上述范围，则难以表现出本发明的效果，在例如将带表面保护薄膜的增强用薄膜粘贴于光学构件来进行激光加工的情况下，有可能无法抑制在该激光加工后将该表面保护薄膜再剥离而露出的增强用薄膜的加工端部的隆起。
对于基材(Ia)的与粘合剂层(Ib)相反一侧的面，在不损害本发明效果的范围内，例如可以添加脂肪酸酰胺、聚乙烯亚胺、长链烷基系添加剂等来进行脱模处理，或者设置由有机硅系、长链烷基系、氟系等任意适当的剥离剂形成的涂覆层。
作为基材(Ia)的材料，在不损害本发明效果的范围内，可以采用任意适当的材料。作为这种材料，可列举出例如塑料、纸、金属薄膜、无纺布，优选为塑料。即，基材(Ia)优选为塑料薄膜。基材(Ia)可以由1种材料构成，也可以由2种以上的材料构成。例如，可以由2种以上的塑料构成。
作为上述塑料，可列举出例如聚酯系树脂、聚酰胺系树脂、聚烯烃系树脂等。作为聚酯系树脂，可列举出例如聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等。作为聚烯烃系树脂，可列举出例如烯烃单体的均聚物、烯烃单体的共聚物等。作为聚烯烃系树脂，具体而言，可列举出例如均聚聚丙烯；以乙烯成分作为共聚成分的嵌段系、无规系、接枝系等的丙烯系共聚物；reactor TPO；低密度、高密度、线性低密度、超低密度等的乙烯系聚合物；乙烯-丙烯共聚物、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、乙烯-丙烯酸甲酯共聚物、乙烯-丙烯酸乙酯共聚物、乙烯-丙烯酸丁酯共聚物、乙烯-甲基丙烯酸共聚物、乙烯-甲基丙烯酸甲酯共聚物等乙烯系共聚物等。
基材(Ia)根据需要可以含有任意适当的添加剂。作为基材(Ia)中可含有的添加剂，可列举出例如抗氧化剂、紫外线吸收剂、光稳定剂、抗静电剂、填充剂、颜料等。基材(Ia)中可含有的添加剂的种类、数和量可根据目的来适当设定。尤其在基材(Ia)的材料为塑料的情况下，出于防止劣化等目的，优选含有上述添加剂中的几种。从提高耐候性等观点出发，作为添加剂，可特别优选列举出抗氧化剂、紫外线吸收剂、光稳定剂、填充剂。
作为抗氧化剂，可以采用任意适当的抗氧化剂。作为这种抗氧化剂，可列举出例如酚系抗氧化剂、磷系加工热稳定剂、内酯系加工热稳定剂、硫系耐热稳定剂、苯酚-磷系抗氧化剂等。抗氧化剂的含有比例相对于基材(Ia)的基础树脂(在形成基材(Ia)的基础树脂为共混物的情况下，该共混物为基础树脂)优选为1重量％以下，更优选为0.5重量％以下，进一步优选为0.01重量％～0.2重量％。
作为紫外线吸收剂，可以采用任意适当的紫外线吸收剂。作为这种紫外线吸收剂，可列举出例如苯并三唑系紫外线吸收剂、三嗪系紫外线吸收剂、二苯甲酮系紫外线吸收剂等。紫外线吸收剂的含有比例相对于形成基材(Ia)的基础树脂(在形成基材(Ia)的基础树脂为共混物的情况下，该共混物为基础树脂)优选为2重量％以下，更优选为1重量％以下，进一步优选为0.01重量％～0.5重量％。
作为光稳定剂，可以采用任意适当的光稳定剂。作为这种光稳定剂，可列举出例如受阻胺系光稳定剂、苯甲酸酯系光稳定剂等。光稳定剂的含有比例相对于形成基材(Ia)的基础树脂(在形成基材(Ia)的基础树脂为共混物的情况下，该共混物为基础树脂)优选为2重量％以下，更优选为1重量％以下，进一步优选为0.01重量％～0.5重量％。
作为填充剂，可以采用任意适当的填充剂。作为这种填充剂，可列举出例如无机系填充剂等。作为无机系填充剂，具体而言，可列举出例如炭黑、氧化钛、氧化锌等。填充剂的含有比例相对于形成基材(Ia)的基础树脂(在形成基材(Ia)的基础树脂为共混物的情况下，该共混物为基础树脂)优选为20重量％以下，更优选为10重量％以下，进一步优选为0.01重量％～10重量％。
进而，作为添加剂，出于赋予抗静电性的目的，也可优选列举出表面活性剂、无机盐、多元醇、金属化合物、碳等无机系、低分子量系和高分子量系的抗静电剂。尤其是从污染、维持粘合性的观点出发，优选为高分子量系抗静电剂、碳。
<1-1-b.粘合剂层(Ib)>
粘合剂层(Ib)可以仅为1层，也可以为2层以上。
粘合剂层(Ib)的厚度优选小于45μm，更优选为1μm～40μm，进一步优选为2μm～35μm，特别优选为3μm～30μm，最优选为5μm～25μm。如果粘合剂层(Ib)的厚度处于上述范围内，则能够进一步表现出本发明的效果。若粘合剂层(Ib)的厚度偏离上述范围，则难以表现出本发明的效果，在例如使用带表面保护薄膜的光学构件来进行激光加工的情况下，有可能无法抑制在该激光加工后将该表面保护薄膜再剥离而露出的光学构件的加工端部的隆起。
粘合剂层(Ib)在80℃下的表面硬度优选为3.00MPa以下，更优选为2.00MPa以下，进一步优选为1.00MPa以下，特别优选为0.80MPa以下，最优选为0.60MPa以下。上述表面硬度的下限值优选为0.05MPa以上，更优选为0.10MPa以上，进一步优选为0.15MPa以上，特别优选为0.18MPa以上。如果粘合剂层(Ib)在80℃下的表面硬度处于上述范围内，则能够进一步表现出本发明的效果。若上述表面硬度偏离上述范围，则难以表现出本发明的效果，在例如使用带表面保护薄膜的光学构件来进行激光加工的情况下，有可能无法抑制在该激光加工后将该表面保护薄膜再剥离而露出的光学构件的加工端部的隆起。
粘合剂层(Ib)在23℃、相对湿度50％的环境下在剥离角度为180度、拉伸速度为300mm/分钟下对于亚克力板的剥离力优选小于0.25N/25mm，更优选小于0.23N/25mm，进一步优选小于0.22N/25mm，特别优选小于0.21N/25mm，最优选小于0.20N/25mm。上述对于亚克力板的剥离力的下限值优选为0.01N/25mm以上，更优选为0.02N/25mm以上，进一步优选为0.03N/25mm以上，特别优选为0.04N/25mm以上。如果上述对于亚克力板的剥离力处于上述范围内，则能够将该表面保护薄膜轻易地自本发明的实施方式所述的带表面保护薄膜的光学构件上再剥离。
构成粘合剂层(Ib)的粘合剂中，在不损害本发明效果的范围内，可以采用任意适当的粘合剂。从能够进一步表现出本发明效果的观点出发，构成粘合剂层的粘合剂优选为丙烯酸系粘合剂。
丙烯酸系粘合剂由丙烯酸系粘合剂组合物形成。
丙烯酸系粘合剂可以像这样规定为由丙烯酸系粘合剂组合物形成的粘合剂。这是因为：丙烯酸系粘合剂是丙烯酸系粘合剂组合物通过加热、紫外线照射等而发生交联反应等从而形成丙烯酸系粘合剂的，因此，丙烯酸系粘合剂无法通过其结构来直接确定，另外，由于存在几乎不实际的情况(“不可能/不实际的情况”)，因此，通过规定为“由丙烯酸系粘合剂组合物形成的粘合剂”，从而将丙烯酸系粘合剂妥当地确定为“物体”。
粘合剂层(Ib)可通过任意适当的方法来形成。作为这种方法，可列举出例如：将形成构成粘合剂层的粘合剂的粘合剂组合物涂布在基材(Ia)上，根据需要进行加热、干燥，根据需要使其固化，在该基材(Ia)上形成粘合剂层(Ib)的方法；将形成构成粘合剂层(Ib)的粘合剂的粘合剂组合物涂布在任意适当的剥离衬垫等薄膜上，根据需要进行加热、干燥，根据需要使其固化，在该薄膜上形成粘合剂层(Ib)，在该粘合剂层(Ib)上粘贴基材(Ia)并进行转印，由此在该基材(Ia)上形成粘合剂层(Ib)的方法。
作为涂布粘合剂组合物的手段，在不损害本发明效果的范围内，可以采用任意适当的手段。作为这种涂布手段，可列举出例如辊涂法、凹版辊涂覆法、逆转辊涂覆法、吻式辊涂覆法、浸渍辊涂覆法、棒涂法、辊刷涂覆法、喷涂法、刀涂法、气刀涂覆法、逗点涂覆法、直接涂覆法、模涂法。
粘合剂组合物的加热、干燥可以在不损害本发明效果的范围内采用任意适当的手段。作为这种加热、干燥的手段，可列举出例如加热至60℃～180℃；例如在室温左右的温度下进行熟化处理。
粘合剂组合物的固化可以在不损害本发明效果的范围内采用任意适当的手段。作为这种固化手段，可列举出例如热、紫外线照射、激光线照射、α射线照射、β射线照射、γ射线照射、X射线照射、电子射线照射。
从能够进一步表现出本发明效果的观点出发，丙烯酸系粘合剂组合物优选包含丙烯酸系聚合物(A)。
丙烯酸系聚合物(A)在丙烯酸系粘合剂的领域中被称为所谓的基础聚合物。丙烯酸系聚合物(A)可以仅为1种，也可以为2种以上。
丙烯酸系粘合剂组合物中的丙烯酸系聚合物(A)的含有比例按照固体成分换算计优选为60重量％～99.9重量％，更优选为65重量％～99.9重量％，进一步优选为70重量％～99.9重量％，特别优选为75重量％～99.9重量％，最优选为80重量％～99.9重量％。
作为丙烯酸系聚合物(A)，在不损害本发明效果的范围内，可以采用任意适当的丙烯酸系聚合物。
从能够进一步表现出本发明效果的观点出发，丙烯酸系聚合物(A)的重均分子量优选为30万～250万，更优选为35万～200万，进一步优选为40万～150万，特别优选为45万～100万。
作为丙烯酸系聚合物(A)，从能够进一步表现出本发明效果的观点出发，优选为通过使包含烷基酯部分的烷基的碳原子数为4～12的(甲基)丙烯酸烷基酯(a成分)和选自由具有OH基的(甲基)丙烯酸酯和(甲基)丙烯酸组成的组中的至少1种(b成分)的组合物(M)进行聚合而形成的丙烯酸系聚合物。a成分、b成分可分别独立地仅为1种，也可以为2种以上。
从能够进一步表现出本发明效果的观点出发，烷基酯部分的烷基的碳原子数为4～12的(甲基)丙烯酸烷基酯(a成分)的烷基酯部分的烷基的碳原子数优选为4～10，更优选为4～9，进一步优选为4～8。
作为烷基酯部分的烷基的碳原子数为4～12的(甲基)丙烯酸烷基酯，可列举出例如(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸仲丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸异壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸异癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷基酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯。这些之中，从能够进一步表现出本发明效果的观点出发，优选为(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯，更优选为丙烯酸正丁酯、丙烯酸2-乙基己酯。
从能够进一步表现出本发明效果的观点出发，烷基酯部分的烷基的碳原子数为4～12的(甲基)丙烯酸烷基酯(a成分)的含量相对于构成丙烯酸系聚合物(A)的单体成分总量(100重量％)优选为30重量％以上，更优选为50重量％～99重量％，进一步优选为70重量％～98重量％，特别优选为80重量％～98重量％，最优选为90重量％～98重量％。
作为具有OH基的(甲基)丙烯酸酯，可列举出例如(甲基)丙烯酸羟基乙酯、(甲基)丙烯酸羟基丙酯、(甲基)丙烯酸羟基丁酯等具有OH基的(甲基)丙烯酸酯。这些之中，从能够进一步表现出本发明效果的观点出发，优选为(甲基)丙烯酸羟基乙酯，更优选为丙烯酸羟基乙酯。
作为(甲基)丙烯酸，从能够进一步表现出本发明效果的观点出发，优选为丙烯酸。
从能够进一步表现出本发明效果的观点出发，选自由具有OH基的(甲基)丙烯酸酯和(甲基)丙烯酸组成的组中的至少1种(b成分)的含量相对于构成丙烯酸系聚合物(A)的单体成分总量(100重量％)优选为1重量％以上，更优选为1重量％～30重量％，进一步优选为2重量％～20重量％，特别优选为3重量％～10重量％。
从能够进一步表现出本发明效果的观点出发，相对于构成丙烯酸系聚合物(A)的单体成分总量(100重量％)，a成分与b成分的总量优选为50重量％～100重量％，更优选为70重量％～100重量％，进一步优选为90重量％～100重量％，特别优选为95重量％～100重量％，最优选为98重量％～100重量％。
组合物(M)可以包含除a成分和b成分之外的共聚性单体。共聚性单体可以仅为1种，也可以为2种以上。
从能够进一步表现出本发明效果的观点出发，相对于构成丙烯酸系聚合物(A)的单体成分总量(100重量％)，除a成分和b成分之外的共聚性单体的含量优选为50重量％以下，更优选为30重量％以下，进一步优选为10重量％以下，特别优选为5重量％以下，最优选为2重量％以下。
作为这种共聚性单体，可列举出例如衣康酸、马来酸、富马酸、巴豆酸、异巴豆酸、它们的酸酐(例如马来酸酐、衣康酸酐等含有酸酐基的单体)等含羧基单体(其中不包括(甲基)丙烯酸)；(甲基)丙烯酰胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯酰胺、N-羟甲基(甲基)丙烯酰胺、N-甲氧基甲基(甲基)丙烯酰胺、N-丁氧基甲基(甲基)丙烯酰胺、N-羟基乙基(甲基)丙烯酰胺等含酰胺基单体；(甲基)丙烯酸氨基乙酯、(甲基)丙烯酸二甲基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸叔丁基氨基乙酯等含氨基单体；(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸甲基缩水甘油酯等含环氧基单体；丙烯腈、甲基丙烯腈等含氰基单体；N-乙烯基-2-吡咯烷酮、(甲基)丙烯酰基吗啉、N-乙烯基哌啶酮、N-乙烯基哌嗪、N-乙烯基吡咯、N-乙烯基咪唑、乙烯基吡啶、乙烯基嘧啶、乙烯基噁唑等含有杂环的乙烯基系单体；乙烯基磺酸钠等含磺酸基单体；2-羟基乙基丙烯酰基磷酸酯等含磷酸基单体；环己基马来酰亚胺、异丙基马来酰亚胺等含酰亚胺基单体；2-甲基丙烯酰基氧基乙基异氰酸酯等含异氰酸酯基单体；(甲基)丙烯酸环戊酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯等具有脂环式烃基的(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸苄酯等具有芳香族烃基的(甲基)丙烯酸酯；乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯等乙烯基酯；苯乙烯、乙烯基甲苯等芳香族乙烯基化合物；乙烯、丁二烯、异戊二烯、异丁烯等烯烃类、二烯类；乙烯基烷基醚等乙烯基醚类；氯乙烯。
作为共聚性单体，也可以采用多官能性单体。多官能性单体是指1分子中具有2个以上烯属不饱和基团的单体。作为烯属不饱和基团，在不损害本发明效果的范围内，可以采用任意适当的烯属不饱和基团。作为这种烯属不饱和基团，可列举出乙烯基、丙烯基、异丙烯基、乙烯醚基(乙烯氧基)、烯丙醚基(烯丙氧基)等自由基聚合性官能团。作为多官能性单体，可列举出例如己二醇二(甲基)丙烯酸酯、丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、(聚)乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、(聚)丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、四羟甲基甲烷三(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸乙烯酯、二乙烯基苯、环氧丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、氨基甲酸酯丙烯酸酯。这种多官能性单体可以仅为1种，也可以为2种以上。
作为共聚性单体，也可以采用(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯。作为(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯，可列举出例如(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸甲氧基三乙二醇酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丙酯、(甲基)丙烯酸3-乙氧基丙酯、(甲基)丙烯酸4-甲氧基丁酯、(甲基)丙烯酸4-乙氧基丁酯。(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯可以仅为1种，也可以为2种以上。
组合物(M)可以在不损害本发明效果的范围内含有任意适当的其它成分。作为这种其它成分，可列举出例如聚合引发剂、链转移剂、溶剂等。这些其它成分的含量可以在不损害本发明效果的范围内采用任意适当的含量。
聚合引发剂可根据聚合反应的种类而采用热聚合引发剂、光聚合引发剂(光引发剂)等。聚合引发剂可以仅为1种，也可以为2种以上。
热聚合引发剂优选在通过溶液聚合而得到丙烯酸系聚合物(A)时加以采用。作为这种热聚合引发剂，可列举出例如2,2’-偶氮双异丁腈(AIBN)、2,2’-偶氮双-2-甲基丁腈、2,2’-偶氮双(2-甲基丙酸)二甲酯、4,4’-偶氮双-4-氰基戊酸、偶氮双异戊腈、2,2’-偶氮双(2-脒基丙烷)二盐酸盐、2,2’-偶氮双[2-(5-甲基-2-咪唑啉-2-基)丙烷]二盐酸盐、2,2’-偶氮双(2-甲基丙脒)二硫酸盐、2,2’-偶氮双(N,N’-二亚甲基异丁基脒)、2,2’-偶氮双[N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒]氢化物(VA-057、和光纯药工业公司制)等偶氮系引发剂；过硫酸钾、过硫酸铵等过硫酸盐、过氧化二碳酸二(2-乙基己基)酯、过氧化二碳酸二(4-叔丁基环己基)酯、过氧化二碳酸二仲丁酯、过氧化新癸酸叔丁酯、过氧化新戊酸叔己酯、过氧化新戊酸叔丁酯、过氧化二月桂酰、过氧化二正辛酰、过氧化-2-乙基己酸(1,1,3,3-四甲基丁基)酯、过氧化二(4-甲基苯甲酰)、过氧化二苯甲酰、过氧化异丁酸叔丁酯、1,1-二(叔己基过氧化)环己烷、叔丁基过氧化氢、过氧化氢等过氧化物系引发剂；过硫酸盐与亚硫酸氢钠的组合、过氧化物与抗坏血酸钠的组合等将过氧化物与还原剂组合而得到的氧化还原系引发剂；苯基取代乙烷等取代乙烷系引发剂；芳香族羰基化合物。
光聚合引发剂优选在通过活性能量射线聚合来获得丙烯酸系聚合物(A)时加以采用。作为光聚合引发剂，可列举出例如苯偶姻醚系光聚合引发剂、苯乙酮系光聚合引发剂、α-酮醇系光聚合引发剂、芳香族磺酰氯系光聚合引发剂、光活性肟系光聚合引发剂、苯偶姻系光聚合引发剂、苯偶酰系光聚合引发剂、二苯甲酮系光聚合引发剂、缩酮系光聚合引发剂、噻吨酮系光聚合引发剂。
作为苯偶姻醚系光聚合引发剂，可列举出例如苯偶姻甲基醚、苯偶姻乙基醚、苯偶姻丙基醚、苯偶姻异丙基醚、苯偶姻异丁基醚、2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙烷-1-酮、茴香醚甲基醚等。作为苯乙酮系光聚合引发剂，可列举出例如2,2-二乙氧基苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、1-羟基环己基苯基酮、4-苯氧基二氯苯乙酮、4-(叔丁基)二氯苯乙酮。作为α-酮醇系光聚合引发剂，可列举出例如2-甲基-2-羟基苯丙酮、1-[4-(2-羟基乙基)苯基]-2-甲基丙烷-1-酮。作为芳香族磺酰氯系光聚合引发剂，可列举出例如2-萘磺酰氯。作为光活性肟系光聚合引发剂，可列举出例如1-苯基-1,1-丙二酮-2-(O-乙氧基羰基)肟。作为苯偶姻系光聚合引发剂，可列举出例如苯偶姻。作为苯偶酰系光聚合引发剂，可列举出例如苯偶酰。作为二苯甲酮系光聚合引发剂，可列举出例如二苯甲酮、苯甲酰基苯甲酸、3,3'-二甲基-4-甲氧基二苯甲酮、聚乙烯基二苯甲酮、α-羟基环己基苯基酮。作为缩酮系光聚合引发剂，可列举出例如苯偶酰二甲基缩酮。作为噻吨酮系光聚合引发剂，可列举出例如噻吨酮、2-氯噻吨酮、2-甲基噻吨酮、2,4-二甲基噻吨酮、异丙基噻吨酮、2,4-二异丙基噻吨酮、十二烷基噻吨酮。
聚合引发剂的用量可以在不损害本发明效果的范围内设定为任意适当的用量。
丙烯酸系粘合剂组合物可以包含交联剂。通过使用交联剂，从而能够提高丙烯酸系粘合剂的内聚力，能够进一步表现出本发明的效果。交联剂可以仅为1种，也可以为2种以上。
作为交联剂，可列举出例如异氰酸酯系交联剂、环氧系交联剂、有机硅系交联剂、噁唑啉系交联剂、氮丙啶系交联剂、硅烷系交联剂、烷基醚化三聚氰胺系交联剂、金属螯合物系交联剂、过氧化物等交联剂，从能够进一步表现出本发明效果的观点出发，优选为选自由异氰酸酯系交联剂、环氧系交联剂和过氧化物组成的组中的至少1种。
异氰酸酯系交联剂可以使用在1分子中具有2个以上异氰酸酯基(包括将异氰酸酯基用封端剂或多聚化等进行暂时保护的异氰酸酯再生型极性基团)的化合物。作为异氰酸酯系交联剂，可列举出例如甲苯二异氰酸酯、二甲苯二异氰酸酯等芳香族异氰酸酯；异佛尔酮二异氰酸酯等脂环族异氰酸酯；六亚甲基二异氰酸酯等脂肪族异氰酸酯。
作为异氰酸酯系交联剂，可列举出例如亚丁基二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯等低级脂肪族多异氰酸酯类；亚环戊基二异氰酸酯、亚环己基二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯等脂环族异氰酸酯类；2,4-甲苯二异氰酸酯、4,4’-二苯基甲烷二异氰酸酯、苯二亚甲基二异氰酸酯、聚亚甲基聚苯基异氰酸酯等芳香族二异氰酸酯类；三羟甲基丙烷/甲苯二异氰酸酯三聚物加成物(例如，三井化学公司制、商品名：D-101E)、三羟甲基丙烷/六亚甲基二异氰酸酯三聚物加成物(例如，东曹公司制、商品名：CORONATE HL)、六亚甲基二异氰酸酯的异氰脲酸酯体(例如，东曹公司制、商品名：CORONATE HX)等异氰酸酯加成物；苯二亚甲基二异氰酸酯的三羟甲基丙烷加成物(例如，三井化学公司制、商品名：TAKENATE D110N)、苯二亚甲基二异氰酸酯的三羟甲基丙烷加成物(例如，三井化学公司制、商品名：TAKENATED120N)、异佛尔酮二异氰酸酯的三羟甲基丙烷加成物(例如，三井化学公司制、商品名：TAKENATE D140N)、六亚甲基二异氰酸酯的三羟甲基丙烷加成物(例如，三井化学公司制、商品名：TAKENATE D160N)；聚醚多异氰酸酯、聚酯多异氰酸酯、以及它们与各种多元醇的加成物；利用异氰脲酸酯键、缩二脲键、脲基甲酸酯键等进行了多官能化的多异氰酸酯。这些之中，从能够以良好的平衡兼顾变形性和内聚力的观点出发，优选为芳香族异氰酸酯、脂环式异氰酸酯。
作为环氧系交联剂，可以使用1分子中具有2个以上环氧基的多官能环氧化合物。作为环氧系交联剂，可列举出例如N,N,N’,N’-四缩水甘油基-间苯二甲胺、二缩水甘油基苯胺、1,3-双(N,N-二缩水甘油基氨基甲基)环己烷、1,6-己二醇二缩水甘油醚、新戊二醇二缩水甘油醚、乙二醇二缩水甘油醚、丙二醇二缩水甘油醚、聚乙二醇二缩水甘油醚、聚丙二醇二缩水甘油醚、山梨糖醇聚缩水甘油醚、甘油聚缩水甘油醚、季戊四醇聚缩水甘油醚、聚甘油聚缩水甘油醚、脱水山梨糖醇聚缩水甘油醚、三羟甲基丙烷聚缩水甘油醚、己二酸二缩水甘油基酯、邻苯二甲酸二缩水甘油酯、三缩水甘油基-三(2-羟基乙基)异氰脲酸酯、间苯二酚二缩水甘油醚、双酚-S-二缩水甘油醚、在分子内具有2个以上环氧基的环氧系树脂。作为环氧系交联剂的市售品，可列举出例如三菱瓦斯化学公司制的商品名“TETRAD C”、“TETRADX”。
作为过氧化物，可列举出例如过氧化二苯甲酰、二异丙苯过氧化物、二叔丁基过氧化物、二叔丁基过氧化-3,3,5-三甲基环己烷、叔丁基过氧化氢、叔丁基异丙苯过氧化物、2,5-二甲基-2,5-二(叔丁基过氧化)己炔-3、2,5-二甲基-2,5-二(苯甲酰基过氧化)己烷、2,5-二甲基-2,5-单(叔丁基过氧化)己烷、α,α'-双(叔丁基过氧化间异丙基)苯、过氧化二碳酸二(2-乙基己基)酯、过氧化二碳酸二(4-叔丁基环己基)酯、过氧化二碳酸二仲丁酯、过氧化新癸酸叔丁酯、过氧化新戊酸叔己酯、过氧化新戊酸叔丁酯、过氧化二月桂酰、过氧化二正辛酰、过氧化-2-乙基己酸1,1,3,3-四甲基丁酯、过氧化二(4-甲基苯甲酰)、过氧化异丁酸叔丁酯、1,1-二(叔己基过氧化)环己烷、1,1-二(叔丁基过氧化)环己烷、过氧化-2-乙基己基碳酸叔丁酯、过氧化异丙基碳酸叔戊酯、过氧化3,5,5-三甲基己酰、过氧化-2-己酸叔丁酯、过氧化新戊酸叔丁酯、过氧化新戊酸叔己酯。作为过氧化物的市售品，可列举出例如日本油脂公司制的商品名“NYPER BMT”系列、“NYPER BW”系列。
丙烯酸系粘合剂组合物中的交联剂的含量可以在不损害本发明效果的范围内采用任意适当的含量。作为这种含量，例如从能够进一步表现出本发明效果的观点出发，相对于丙烯酸系聚合物(A)的固体成分(100重量份)，优选为0.01重量份～20重量份，更优选为0.01重量份～18重量份，进一步优选为0.01重量份～15重量份，特别优选为0.05重量份～10重量份。
丙烯酸系粘合剂组合物可以在不损害本发明效果的范围内含有任意适当的其它成分。作为这种其它成分，可列举出例如除丙烯酸系聚合物(A)之外的聚合物成分、交联促进剂、交联催化剂、硅烷偶联剂、增粘树脂(松香衍生物、聚萜烯树脂、石油树脂、油溶性苯酚等)、防老剂、无机填充剂、有机填充剂、金属粉、着色剂(颜料、染料等)、箔状物、紫外线吸收剂、抗氧化剂、光稳定剂、成核剂、链转移剂、增塑剂、软化剂、表面活性剂、抗静电剂、导电剂、稳定剂、表面润滑剂、流平剂、防腐剂、耐热稳定剂、阻聚剂、润滑剂、溶剂、催化剂。
《1-2.光学构件》
作为光学构件，在不损害本发明效果的范围内，可以采用任意适当的光学构件。从能够进一步表现出本发明效果的观点出发，作为光学构件，代表而言，可列举出增强用薄膜、偏光板。
从能够进一步表现出本发明效果的观点出发，光学构件的厚度为400μm以下，更优选为5μm～350μm，更优选为10μm～300μm，进一步优选为15μm～280μm，特别优选为20μm～260μm，最优选为25μm～250μm。若光学构件的厚度偏离上述范围且过厚，则有可能难以将本发明的实施方式所述的带表面保护薄膜的光学构件应用于薄型的光学设备。若光学构件的厚度偏离上述范围且过薄，则例如在光学构件为增强用薄膜的情况下，有可能无法表现出对光学设备中包含的其它光学构件赋予刚性、耐冲击性之类的增强用薄膜原本的性能。
光学构件的一个实施方式中，光学构件为增强用薄膜(II)，该增强用薄膜(II)包含基材(IIa)和粘合剂层(IIb)。以下，针对光学构件的一个实施方式即增强用薄膜(II)进行说明。
增强用薄膜(II)包含基材(IIa)和粘合剂层(IIb)。作为一个实施方式，基材(IIa)与粘合剂层(IIb)直接层叠。
增强用薄膜(II)只要包含基材(IIa)和粘合剂层(IIb)，就可以在不损害本发明效果的范围内包含任意适当的其它构成构件(IIc)。
作为其它构成构件(IIc)，可列举出例如抗静电层、防反射层、防眩光层、硬涂层。其它构成构件(IIc)可以仅为1种，也可以为2种以上。
在光学构件为增强用薄膜(II)的情况下，从能够进一步表现出本发明效果的观点出发，增强用薄膜(II)的厚度优选为150μm以下，更优选为5μm～140μm，更优选为10μm～130μm，进一步优选为15μm～120μm，特别优选为20μm～110μm，最优选为25μm～100μm。若增强用薄膜(II)的厚度偏离上述范围且过厚，则有可能难以将本发明的实施方式所述的带表面保护薄膜的光学构件应用于薄型的光学设备。若增强用薄膜(II)的厚度偏离上述范围且过薄，则有可能无法表现出例如对光学设备中包含的其它光学构件赋予刚性、耐冲击性之类的增强用薄膜原本的性能。
<1-2-a.基材(IIa)>
基材(IIa)可以仅为1层，也可以为2层以上。基材(IIa)可以经拉伸。
从能够进一步表现出本发明效果的观点出发，基材(IIa)的厚度优选为4μm～100μm，更优选为10μm～95μm，进一步优选为15μm～90μm，特别优选为20μm～85μm，最优选为25μm～80μm。若基材(IIa)的厚度偏离上述范围且过厚，则有可能难以将本发明的实施方式所述的带表面保护薄膜的光学构件应用于薄型的光学设备。若基材(IIa)的厚度偏离上述范围且过薄，则有可能无法表现出例如对光学设备中包含的其它光学构件赋予刚性、耐冲击性之类的增强用薄膜原本的性能。
作为基材(IIa)的材料，在不损害本发明效果的范围内，可以采用任意适当的材料。作为这种材料，例如，优选列举出塑料、无纺布、纸、金属箔、织布、橡胶、发泡体，优选为塑料。即，基材(IIa)优选为塑料薄膜。基材(IIa)可以由1种材料构成，也可以由2种以上的材料构成。例如，可以由2种以上的塑料构成。
作为上述塑料，可列举出例如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚对苯二甲酸丁二醇酯(PBT)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)等丙烯酸系树脂、聚碳酸酯、三乙酸纤维素(TAC)、聚砜、聚芳酯、聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、乙烯-丙烯共聚物、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物(EVA)、聚酰胺(尼龙)、全芳香族聚酰胺(芳族聚酰胺)、聚酰亚胺(PI)、聚氯乙烯(PVC)、聚乙酸乙烯酯、聚苯硫醚(PPS)、氟系树脂、聚醚醚酮(PEEK)、环状烯烃系聚合物。
作为上述无纺布，可列举出包含马尼拉麻的无纺布等由具有耐热性的天然纤维形成的无纺布；聚丙烯树脂无纺布、聚乙烯树脂无纺布、酯系树脂无纺布等合成树脂无纺布等。
基材(IIa)的总透光率优选为90％以上，更优选为91％以上，进一步优选为92％以上，特别优选为93％以上。如果基材(IIa)的总透光率处于上述范围内，则具有如下优点：在隔着增强用薄膜来检查光学构件、电子构件时，检查性不易降低。
基材(IIa)可以实施了表面处理。作为表面处理，可列举出例如电晕处理、等离子体处理、铬酸处理、臭氧暴露、火焰暴露、高压电击暴露、离子化辐射线处理、基于底涂剂的涂布处理等。
作为有机涂布材料，可列举出例如塑料硬涂材料II(CMC出版、(2004))中记载的材料。作为这种有机涂布材料，优选列举出氨基甲酸酯系聚合物，更优选列举出聚丙烯酸类氨基甲酸酯、聚酯氨基甲酸酯或它们的前体。这是因为：在基材层A1上的涂覆/涂布是简便的，且能够在工业上选择多种物质，能够廉价获取。这种氨基甲酸酯系聚合物可列举出例如由异氰酸酯单体与含醇性羟基的单体(例如含羟基的丙烯酸类化合物或含羟基的酯化合物)的反应混合物形成的聚合物。有机涂布材料中可以包含多胺等扩链剂、防老剂、氧化稳定剂等作为任选添加剂。
基材(IIa)中根据需要可以含有任意适当的添加剂。作为基材(IIa)中可含有的添加剂，可列举出例如抗氧化剂、紫外线吸收剂、光稳定剂、抗静电剂、填充剂、颜料等。基材(IIa)中可含有的添加剂的种类、数和量可根据目的来适当设定。尤其在基材(IIa)的材料为塑料的情况下，出于防止劣化等目的，优选含有上述添加剂中的几种。从提高耐候性等观点出发，作为添加剂，特别优选列举出抗氧化剂、紫外线吸收剂、光稳定剂、填充剂。另外，基材(IIa)具有抗静电效果是优选实施方式，因此，包含抗静电剂也是优选实施方式。
<1-2-b.粘合剂层(IIb)>
粘合剂层(IIb)可以仅为1层，也可以为2层以上。
粘合剂层(IIb)的厚度优选为1μm～50μm，更优选为2μm～40μm，进一步优选为4μm～35μm，特别优选为5μm～30μm，最优选为7μm～25μm。如果粘合剂层(IIb)的厚度处于上述范围内，则能够进一步表现出本发明的效果。若粘合剂层(IIb)的厚度偏离上述范围且过厚，则有可能难以将本发明的实施方式所述的带表面保护薄膜的光学构件应用于薄型的光学设备。若粘合剂层(IIb)的厚度偏离上述范围且过薄，则有可能无法表现出例如对光学设备中包含的其它光学构件赋予刚性、耐冲击性之类的增强用薄膜原本的性能。
粘合剂层(IIb)在温度23℃、相对湿度50％的环境下在剥离角度为180°、拉伸速度为300mm/分钟下对于聚酰亚胺薄膜的粘接力优选为3N/25mm以上，更优选为4N/25mm以上，进一步优选为5N/25mm以上，特别优选为6N/25mm以上。如果上述对于聚酰亚胺薄膜的粘接力处于上述范围内，则本发明的实施方式所述的带表面保护薄膜的光学构件的增强薄膜部分能够牢固地以良好的可靠性永久粘接于被粘物(代表而言，为光学构件)。
构成粘合剂层(IIb)的粘合剂可以在不损害本发明效果的范围内采用任意适当的粘合剂。作为这种粘合剂，可列举出例如日本特许第6375467号公报中记载的粘合剂、日本特许第6467551号公报中记载的光固化性粘合剂。
粘合剂层(IIb)的代表例为丙烯酸系粘合剂。
丙烯酸系粘合剂由丙烯酸系粘合剂组合物形成。
丙烯酸系粘合剂可以像这样规定为由丙烯酸系粘合剂组合物形成的粘合剂。这是因为：丙烯酸系粘合剂是丙烯酸系粘合剂组合物通过加热、紫外线照射等而发生交联反应等从而形成丙烯酸系粘合剂的，因此，丙烯酸系粘合剂无法通过其结构来直接确定，另外，由于存在几乎不实际的情况(“不可能/不实际的情况”)，因此，通过规定为“由丙烯酸系粘合剂组合物形成的粘合剂”，从而将丙烯酸系粘合剂妥当地确定为“物体”。
粘合剂层(IIb)可通过任意适当的方法来形成。作为这种方法，可列举出例如：将形成构成粘合剂层的粘合剂的粘合剂组合物涂布在基材(IIa)上，根据需要进行加热、干燥，根据需要使其固化，在该基材(IIa)上形成粘合剂层(IIb)的方法；将形成构成粘合剂层(IIb)的粘合剂的粘合剂组合物涂布在任意适当的剥离衬垫等薄膜上，根据需要进行加热、干燥，根据需要使其固化，在该薄膜上形成粘合剂层(IIb)，在该粘合剂层(IIb)上粘贴基材(IIa)并进行转印，由此在该基材(IIa)上形成粘合剂层(IIb)的方法。
作为涂布粘合剂组合物的手段，在不损害本发明效果的范围内，可以采用任意适当的手段。作为这种涂布手段，可列举出例如辊涂法、凹版辊涂覆法、逆转辊涂覆法、吻式辊涂覆法、浸渍辊涂覆法、棒涂法、辊刷涂覆法、喷涂法、刀涂法、气刀涂覆法、逗点涂覆法、直接涂覆法、模涂法。
粘合剂组合物的加热、干燥可以在不损害本发明效果的范围内采用任意适当的手段。作为这种加热、干燥的手段，可列举出例如加热至60℃～180℃；例如在室温左右的温度下进行熟化处理。
粘合剂组合物的固化可以在不损害本发明效果的范围内采用任意适当的手段。作为这种固化手段，可列举出例如热、紫外线照射、激光线照射、α射线照射、β射线照射、γ射线照射、X射线照射、电子射线照射。
从能够进一步表现出本发明效果的观点出发，丙烯酸系粘合剂组合物优选包含丙烯酸系聚合物(B)。
丙烯酸系聚合物(B)在丙烯酸系粘合剂的领域中被称为所谓的基础聚合物。丙烯酸系聚合物(B)可以仅为1种，也可以为2种以上。
丙烯酸系粘合剂组合物中的丙烯酸系聚合物(B)的含有比例按照固体成分换算计优选为60重量％～99.9重量％，更优选为65重量％～99.9重量％，进一步优选为70重量％～99.9重量％，特别优选为75重量％～99.9重量％，最优选为80重量％～99.9重量％。
作为丙烯酸系聚合物(B)，在不损害本发明效果的范围内，可以采用任意适当的丙烯酸系聚合物。
从能够进一步表现出本发明效果的观点出发，丙烯酸系聚合物(B)的重均分子量优选为20万～250万，更优选为30万～180万，进一步优选为40万～150万，特别优选为50万～120万。
丙烯酸系聚合物(B)优选由必须包含具有直链状烷基或支链状烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯和含极性基团的单体的单体成分形成。
具有直链状烷基或支链状烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯可以仅为1种，也可以为2种以上。
作为具有直链状烷基或支链状烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯，可列举出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸仲丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸异戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸异壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸异癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷基酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯、(甲基)丙烯酸十三烷基酯、(甲基)丙烯酸十四烷基酯、(甲基)丙烯酸十五烷基酯、(甲基)丙烯酸十六烷基酯、(甲基)丙烯酸十七烷基酯、(甲基)丙烯酸十八烷基酯、(甲基)丙烯酸十九烷基酯、(甲基)丙烯酸二十烷基酯等具有碳原子数为1～20的直链状烷基或支链状烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯。作为具有直链状烷基或支链状烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯，从能够进一步表现出本发明效果的观点出发，优选为选自(甲基)丙烯酸甲酯和(甲基)丙烯酸2-乙基己酯中的至少1种。
含有极性基团的单体可以仅为1种，也可以为2种以上。
作为含有极性基团的单体，可列举出例如含羟基(氢氧基)单体、含氮单体、含环氧基单体、含磺酸基单体、含磷酸基单体、含羧基单体。作为含有极性基团的单体，从能够进一步表现出本发明效果的观点出发，优选为选自含羟基(氢氧基)单体和含氮单体中的至少1种。
从能够进一步表现出本发明效果的观点出发，含有极性基团的单体优选必须包含含羟基(氢氧基)单体。
作为含羟基(氢氧基)单体，可列举出例如(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸3-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羟基丁酯、(甲基)丙烯酸6-羟基己酯、乙烯醇、烯丙醇。作为含羟基(氢氧基)单体，从能够进一步表现出本发明效果的观点出发，优选列举出(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯。
作为含氮单体，可列举出例如(甲基)丙烯酰胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯酰胺、N-羟甲基(甲基)丙烯酰胺、N-甲氧基甲基(甲基)丙烯酰胺、N-丁氧基甲基(甲基)丙烯酰胺、N-羟基乙基(甲基)丙烯酰胺等含酰胺基单体；具有含氮杂环和N-乙烯基的单体(含有含氮杂环的乙烯基系单体)(例如N-乙烯基-2-吡咯烷酮、N-乙烯基-2-哌啶酮、N-乙烯基-2-己内酰胺、N-乙烯基哌嗪、N-乙烯基吡咯、N-乙烯基咪唑等)、具有含氮杂环和(甲基)丙烯酰基的单体(含有含氮杂环的(甲基)丙烯酸系单体)(例如(甲基)丙烯酰基吗啉等)含有含氮杂环的单体；(甲基)丙烯酸氨基乙酯、(甲基)丙烯酸二甲基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸叔丁基氨基乙酯等含氨基单体；丙烯腈、甲基丙烯腈等含氰基单体；环己基马来酰亚胺、异丙基马来酰亚胺等含有酰亚胺基的单体；2-甲基丙烯酰基氧基乙基异氰酸酯等含有异氰酸酯基的单体。作为含氮单体，从能够进一步表现出本发明效果的观点出发，优选列举出N-乙烯基-2-吡咯烷酮。
作为含环氧基单体，可列举出例如(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸甲基缩水甘油酯。
作为含磺酸基单体，可列举出例如乙烯基磺酸钠。
作为含磷酸基单体，可列举出例如2-羟基乙基丙烯酰基磷酸酯。
作为含羧基单体，可列举出例如(甲基)丙烯酸、衣康酸、马来酸、富马酸、巴豆酸、异巴豆酸、它们的酸酐(例如马来酸酐、衣康酸酐等含酸酐单体)。
单体成分可以包含其它的共聚性单体。其它的共聚性单体可以仅为1种，也可以为2种以上。作为其它的共聚性单体，可列举出例如多官能性单体。作为多官能性单体，可列举出例如己二醇二(甲基)丙烯酸酯、丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、(聚)乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、(聚)丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、四羟甲基甲烷三(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸乙烯酯、二乙烯基苯、环氧丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、氨基甲酸酯丙烯酸酯。
作为除多官能性单体之外的其它的共聚性单体，可列举出例如(甲基)丙烯酸环戊酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯等具有脂环式烃基的(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸苄酯等具有芳香族烃基的(甲基)丙烯酸酯；乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯等乙烯基酯类；苯乙烯、乙烯基甲苯等芳香族乙烯基化合物；乙烯、丁二烯、异戊二烯、异丁烯等烯烃类或二烯类；乙烯基烷基醚等乙烯基醚类；氯乙烯。
在形成丙烯酸系聚合物(B)的单体成分总量之中，从能够进一步表现出本发明效果的观点出发，具有直链状烷基或支链状烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯的含有比例优选为50重量％～95重量％，更优选为55重量％～90重量％，进一步优选为60重量％～85重量％，特别优选为65重量％～80重量％。
在形成丙烯酸系聚合物(B)的单体成分总量之中，从能够进一步表现出本发明效果的观点出发，含有极性基团的单体的含有比例优选为5重量％～50重量％，更优选为10重量％～45重量％，进一步优选为15重量％～40重量％，特别优选为20重量％～35重量％。
在必须包含含羟基(氢氧基)单体作为含有极性基团的单体的情况下，在形成丙烯酸系聚合物(B)的单体成分总量之中，从能够进一步表现出本发明效果的观点出发，含羟基(氢氧基)单体的含有比例优选为5重量％～25重量％，更优选为7重量％～22重量％，进一步优选为9重量％～20重量％，特别优选为10重量％～18重量％。
作为含有极性基团的单体，含羧基单体优选不使用，或者即便使用也设为少量。具体而言，在形成丙烯酸系聚合物(B)的单体成分总量之中，含羧基单体的含有比例优选为0重量％～5重量％，更优选为0重量％～3重量％，进一步优选为0重量％～2重量％，特别优选为0重量％～0.5重量％。
丙烯酸系聚合物(B)通过在不损害本发明效果的范围内利用任意适当的聚合方法将单体成分进行聚合来获得。作为用于获得丙烯酸系聚合物(B)的聚合方法，可列举出例如溶液聚合方法、乳液聚合方法、本体聚合方法、基于活性能量射线照射的聚合方法(活性能量射线聚合方法)。这些之中，从生产率的观点出发，优选为溶液聚合方法、活性能量射线聚合方法。
作为采用溶液聚合方法时使用的溶剂，可列举出例如乙酸乙酯、乙酸正丁酯等酯类；甲苯、苯等芳香族烃类；正己烷、正庚烷等脂肪族烃类；环己烷、甲基环己烷等脂环式烃类；甲乙酮、甲基异丁基酮等酮类等有机溶剂。溶剂可以仅为1种，也可以为2种以上。
在单体成分的聚合时，根据聚合反应的种类，优选使用热聚合引发剂、光聚合引发剂(光引发剂)等聚合引发剂。聚合引发剂可以仅为1种，也可以为2种以上。
关于聚合引发剂，可以直接援用在<1-1-b.粘合剂层(Ib)>一项中的聚合引发剂的相关说明。
丙烯酸系粘合剂组合物优选包含交联剂。通过使用交联剂，从而可提供具有充分的粘接力且高温下的形变少的丙烯酸系粘合剂。交联剂可以仅为1种，也可以为2种以上。
交联剂可以仅为1种，也可以为2种以上。
丙烯酸系粘合剂组合物中的交联剂的含量可以在不损害本发明效果的范围内采用任意适当的含量。作为这种含量，例如从能够进一步表现出本发明效果的观点出发，相对于丙烯酸系聚合物(B)的固体成分(100重量份)，优选为0.1重量份～30重量份，更优选为0.3重量份～25重量份，进一步优选为0.5重量份～20重量份，特别优选为0.7重量份～15重量份，最优选为1重量份～10重量份。如果丙烯酸系粘合剂组合物中的交联剂的含量相对于丙烯酸系聚合物(B)的固体成分(100重量份)处于上述范围内，则可提供具有更充分的粘接力且在高温下的形变更少的丙烯酸系粘合剂。
作为交联剂，可列举出例如异氰酸酯系交联剂、环氧系交联剂、有机硅系交联剂、噁唑啉系交联剂、氮丙啶系交联剂、硅烷系交联剂、烷基醚化三聚氰胺系交联剂、金属螯合物系交联剂、过氧化物等交联剂，从能够进一步表现出本发明效果的观点出发，优选为选自由异氰酸酯系交联剂、环氧系交联剂和过氧化物组成的组中的至少1种。
关于异氰酸酯系交联剂、环氧系交联剂和过氧化物的具体说明，可以直接援用在<1-1-b.粘合剂层(Ib)>一项中的聚合引发剂的相关说明。
丙烯酸系粘合剂组合物可以在不损害本发明效果的范围内含有任意适当的其它成分。作为这种其它成分，可以直接援用例如在<1-1-b.粘合剂层(Ib)>一项中的其它成分的相关说明。
＜＜＜＜2.光学层叠体＞＞＞＞
本发明的实施方式所述的光学层叠体包含本发明的实施方式所述的带表面保护薄膜的光学构件。本发明的实施方式所述的光学层叠体更优选包含本发明的实施方式所述的带表面保护薄膜的光学构件和其它光学构件。
图2为本发明的光学层叠体的一个实施方式，光学层叠体3000包含带表面保护薄膜的光学构件1000和其它光学构件2000，该带表面保护薄膜的光学构件1000包含表面保护薄膜(I)100和增强用薄膜(II)200。
本发明的实施方式所述的光学层叠体只要包含本发明的实施方式所述的带表面保护薄膜的光学构件，就可以在不损害本发明效果的范围内包含任意适当的其它层。
作为其它层，可列举出例如玻璃、显示器、摄像装置、透镜、(半)透明反射镜。
本发明的实施方式所述的光学层叠体的总厚度根据其它光学构件的种类可以采用任意适当的厚度。代表而言，本发明的实施方式所述的光学层叠体的总厚度优选为115μm～650μm，更优选为120μm～600μm，进一步优选为125μm～550μm，特别优选为130μm～500μm。
作为其它光学构件，可列举出例如偏光板、聚酰亚胺薄膜、波长板、相位差板、光学补偿薄膜、增亮薄膜、光扩散片、反射片。
其它光学构件的厚度根据其种类可以采用任意适当的厚度。代表而言，其它光学构件的厚度优选为5μm～400μm，更优选为10μm～350μm，进一步优选为15μm～300μm，特别优选为20μm～250μm。
＜＜＜＜3.光学设备的制造方法＞＞＞＞
本发明的实施方式所述的光学设备的制造方法是包含光学构件的光学设备的制造方法，使用本发明的实施方式所述的带表面保护薄膜的光学构件和其它光学构件。
关于其它光学构件，可以直接援用在＜＜＜＜2.光学层叠体＞＞＞＞一项中的其它光学构件的相关说明。
本发明的实施方式所述的光学设备的制造方法包括：将本发明的实施方式所述的带表面保护薄膜的光学构件粘贴于其它光学构件的工序(以下设为工序I)；从自该带表面保护薄膜的光学构件观察时的该其它光学构件的相反侧照射激光而进行激光加工的工序(以下设为工序II)；以及对该激光加工后的该表面保护薄膜进行再剥离的工序(以下设为工序III)。
在工序I中，将本发明的实施方式所述的带表面保护薄膜的光学构件的光学构件侧粘贴在想要粘接带表面保护薄膜的光学构件的其它光学构件上。由此，得到例如依次层叠有表面保护薄膜、光学构件、其它光学构件的光学层叠体。
其后，在工序II中，从工序I中得到的光学层叠体的表面保护薄膜侧照射激光来进行激光加工。在该情况下，通过照射激光而对光学层叠体设置切割面，从光学层叠体上部分去除带表面保护薄膜的光学构件(表面保护薄膜与光学构件的层叠体)。由此，得到在其它光学构件上局部粘接有带表面保护薄膜的光学构件的层叠体。
其后，在工序III中，从在工序II中得到的其它光学构件上局部搭载有带表面保护薄膜的光学构件的层叠体上再剥离表面保护薄膜。其结果，得到在其它光学构件上局部粘接有光学构件的光学设备。
根据本发明的实施方式所述的光学设备的制造方法，在所得光学设备的光学构件的加工端部观察不到在以往的加工方法、即从粘贴有通常的增强用薄膜的光学构件的该增强用薄膜侧照射激光来进行激光加工的加工方法中观察到的那样的隆起。
以下，通过实施例来具体说明本发明，但本发明完全不限定于这些实施例。需要说明的是，实施例等中的试验和评价方法如下所示。需要说明的是，在记载有“份”的情况下，只要没有特别记载就是指“重量份”，在记载有“％”的情况下，只要没有特别记载就是指“重量％”。
<重均分子量的测定>
重均分子量利用凝胶渗透色谱(GPC)法进行测定。具体而言，作为GPC测定装置，使用商品名“HLC-8120GPC”(东曹公司制)，在下述条件下进行测定，按照标准聚苯乙烯换算值进行计算。
(分子量测定条件)
·样品浓度：约2.0g/L(四氢呋喃溶液)
·样品注入量：20μL
·柱：商品名“TSKgel、SuperAWM-H+superAW4000+superAW2500”(东曹公司制)
·柱尺寸：各6.0mmI.D.×150mm
·洗脱液：四氢呋喃(THF)
·流量：0.4mL/min
·检测器：差示折射计(RI)
·柱温度(测定温度)：40℃
<表面保护薄膜的粘合剂层的表面硬度>
对实施例、比较例中得到的表面保护薄膜实施表面硬度的测定。将保护粘合面的剥离衬垫剥离，使用纳米压痕装置(Hysitron Inc.制的Triboindenter)，将压头向粘合剂层表面压入至压痕深度1μm为止，通过利用上述纳米压痕仪进行测定，从而得到最大载荷(Pmax)[GPa/mm2]。将其代入式子：表面硬度[GPa]＝Pmax/A来计算表面硬度。测定条件如下所述。需要说明的是，上式中，A为压头的接触投影面积[mm2]。
(测定条件)
压头接近速度：200nm/s
最大位移：1μm
压入速度：200nm/s
抽出速度：200nm/s
使用压头：Conical(球形压头：曲率半径为10μm)
测定方法：单一压入测定
测定温度：80℃
<对于亚克力板的剥离力>
通过2kg手动辊往返1次将剥掉剥离衬垫后的表面保护薄膜(宽度25mm×长度140mm)的粘合剂层粘贴在亚克力板(Acrylite、三菱化学公司制)的表面上，在23℃的环境温度下放置30分钟。
利用拉伸试验机来测定如上那样操作而得到的评价用试样。作为拉伸试验机，使用岛津制作所制的商品名“Autograph AG-Xplus HS 6000mm/min高速型(AG-50NX plus)”。向拉伸试验机中设置评价用试样，开始拉伸试验。具体而言，测定从上述亚克力板上剥离表面保护薄膜时的载荷，将此时的平均载荷设为自亚克力板上剥离表面保护薄膜的剥离力(对于亚克力板的剥离力)。拉伸试验的条件设为：试验环境温度：23℃、剥离角度：180度、剥离速度(拉伸速度)：300mm/分钟。
<对于聚酰亚胺薄膜的粘接力>
通过2kg手动辊往返1次将剥掉剥离衬垫后的表面保护薄膜(宽度25mm×长度140mm)的粘合剂层粘贴在带聚酰亚胺薄膜(UPILEX S、宇部兴产公司制)的玻璃板(钠钙玻璃、松浪硝子工业公司制)的聚酰亚胺薄膜的表面，在23℃的环境温度下放置30分钟。
利用拉伸试验机来测定如上那样操作而得到的评价用试样。作为拉伸试验机，使用岛津制作所制的商品名“Autograph AG-Xplus HS 6000mm/min高速型(AG-50NX plus)”。向拉伸试验机中设置评价用试样，开始拉伸试验。具体而言，测定从上述带聚酰亚胺薄膜的玻璃板上剥离表面保护薄膜时的载荷，将此时的平均载荷设为自聚酰亚胺薄膜上剥离表面保护薄膜的剥离力(对于聚酰亚胺薄膜的粘接力)。拉伸试验的条件：试验环境温度：23℃、剥离角度：180度、剥离速度(拉伸速度)：300mm/分钟。
<激光加工端部的隆起高度>
通过CO2激光对实施例、比较例中得到的层叠体进行加工。激光加工条件如下所示。
·CO2激光波长：9.36μm
·加工速度：500mm/sec
·频率：30Hz
·W数：以加工品未切割部分剩余7μm的方式，根据层叠体的总厚进行调整。
其后，使用显微镜(OLYMPUS公司制的BX51)，按照下述步骤，评价激光加工端部的隆起高度。需要说明的是，激光加工端部是指：如图3所示那样，激光切割面中的增强薄膜的基材部分的端部T。
(1)以加工部位成为中心的方式切割成10mm×20mm，将切出的层叠体的表面保护薄膜部分剥离。
(2)其后，将剥离表面保护薄膜后的层叠体相对于基台垂直竖起，观察截面部分，测量激光加工端部的隆起高度。
[制造例1]
<丙烯酸系聚合物A的制造>
向具备搅拌叶片、温度计、氮气导入管、冷凝器的四颈烧瓶中投入作为单体的丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)：96重量份、丙烯酸2-羟基乙酯(HEA)：4重量份、作为聚合引发剂的2,2’-偶氮双异丁腈(AIBN)：0.2重量份、乙酸乙酯：150重量份，边缓慢搅拌边导入氮气，将烧瓶内的液体温度保持至65℃附近，进行6小时的聚合反应，得到重均分子量为54万的丙烯酸系聚合物A的溶液。
[制造例2]
<丙烯酸系聚合物B的制造>
向具备搅拌叶片、温度计、氮气导入管、冷凝器的四颈烧瓶中投入作为单体的丙烯酸丁酯(BA)：95重量份、丙烯酸(AA)5重量份、作为聚合引发剂的2,2’-偶氮双异丁腈：0.2重量份、乙酸乙酯：233重量份，边缓慢搅拌边导入氮气，加热至60℃，将烧瓶内的液体温度保持至60℃附近，进行7小时的聚合反应，得到重均分子量为60万的丙烯酸系聚合物B的溶液。
[制造例3]
<增强用薄膜的制造>
将作为单体成分的丙烯酸2-乙基己酯(2EHA)：63重量份、N-乙烯基-2-吡咯烷酮(NVP)：15重量份、甲基丙烯酸甲酯(MMA)：9重量份、丙烯酸2-羟基乙酯(HEA)：13重量份、作为聚合引发剂的2,2’-偶氮双异丁腈：0.2重量份和作为聚合溶剂的乙酸乙酯133重量份投入至可分离烧瓶中，边导入氮气边搅拌1小时。如此操作而去除聚合体系内的氧气后，升温至65℃，使其反应10小时，其后，添加乙酸乙酯而得到固体成分浓度为30重量％的丙烯酸系聚合物溶液。所得丙烯酸系聚合物溶液中的丙烯酸系聚合物的重均分子量为80万。
接着，将异氰酸酯系交联剂(商品名“TAKENATE D110N”、三井化学公司制)以相对于丙烯酸系聚合物(固体成分)100重量份按照固体成分换算计成为1.1重量份的方式添加至上述丙烯酸系聚合物溶液中，以相对于丙烯酸系聚合物(固体成分)100重量份按照固体成分换算计成为0.15重量份的方式添加硅烷偶联剂(γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、商品名“KBM403”、信越化学工业公司制)，并将其混合，由此制备丙烯酸系粘合剂组合物。
接着，在PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)基材(厚度75μm)的一面涂布所得丙烯酸系粘合剂组合物，在PET基材上形成涂布层。接着，将在PET基材上形成有涂布层的物质投入至烘箱中，使涂布层在130℃下干燥3分钟，在PET基材的一面上制作厚度10μm的粘合剂层。接着，在所得粘合剂层的表面粘贴作为剥离衬垫的对一面实施了有机硅处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(商品名“MRF25”、厚度25μm、三菱化学公司制)的有机硅处理面，得到增强用薄膜。
[实施例1]
配混丙烯酸系聚合物A：100重量份(固体成分)、作为交联剂的异氰酸酯化合物(CORONATE HX：C/HX、日本聚氨酯公司制)：5重量份、作为催化剂的EMBILIZER OL-1(东京精细化学公司制)：0.03重量份，以整体的固体成分成为20重量％的方式用乙酸乙酯进行稀释，得到丙烯酸系粘合剂组合物。
将所得丙烯酸系粘合剂组合物以干燥后的厚度成为10μm的方式涂布于聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(商品名“T100”、厚度50μm、三菱化学公司制)，在干燥温度为130℃、干燥时间为30秒的条件下进行固化干燥，制作由丙烯酸系粘合剂形成的粘合剂层。接着，在所得粘合剂层的表面粘贴作为剥离衬垫的对一面实施了有机硅处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(商品名“MRF25”、厚度25μm、三菱化学公司制)的有机硅处理面，得到表面保护薄膜(1)。
将所得表面保护薄膜(1)在常温下进行5天的熟化，在剥离表面保护薄膜(1)的剥离衬垫后，将表面保护薄膜(1)的粘合剂层粘贴于制造例3中制造的增强用薄膜的基材侧。进而，在剥离增强用薄膜的剥离衬垫后，粘贴于厚度25μm的聚酰亚胺薄膜(宇部兴产公司制的“UPILEX S”)，得到层叠体(1)。
实施层叠体(1)的激光加工，实施加工端部的评价。
将结果示于表1。
[实施例2]
配混丙烯酸系聚合物B：100重量份(固体成分)、作为交联剂的四官能环氧系化合物(TETRAD C：T/C、三菱瓦斯化学公司制)6重量份，以整体的固体成分成为15重量％的方式用乙酸乙酯进行稀释，得到丙烯酸系粘合剂组合物。
将所得丙烯酸系粘合剂组合物以干燥后的厚度成为5μm的方式涂布于聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(商品名“T100”、厚度38μm、三菱化学公司制)，在干燥温度为130℃、干燥时间为30秒的条件下进行固化干燥，制作由丙烯酸系粘合剂形成的粘合剂层。接着，在所得粘合剂层的表面粘贴作为剥离衬垫的对一面实施了有机硅处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(商品名“MRF25”、厚度25μm、三菱化学公司制)的有机硅处理面，得到表面保护薄膜(2)。
将所得表面保护薄膜(2)在常温下进行5天的熟化，在剥离表面保护薄膜(2)的剥离衬垫后，将表面保护薄膜(2)的粘合剂层粘贴于制造例3中制造的增强用薄膜。进而，在剥离增强用薄膜的剥离衬垫后，粘贴于厚度25μm的聚酰亚胺薄膜(宇部兴产公司制的“UPILEXS”)，得到层叠体(2)。
实施层叠体(2)的激光加工，实施加工端部的评价。
将结果示于表1。
[实施例3]
配混丙烯酸系聚合物A：100重量份(固体成分)、作为交联剂的异氰酸酯化合物(CORONATE HX：C/HX、日本聚氨酯公司制)：5重量份、作为催化剂的EMBILIZER OL-1(东京精细化学公司制)：0.03重量份，以整体的固体成分成为20重量％的方式用乙酸乙酯进行稀释，得到丙烯酸系粘合剂组合物。
将所得丙烯酸系粘合剂组合物以干燥后的厚度成为10μm的方式涂布于聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(商品名“T100”、厚度38μm、三菱化学公司制)，在干燥温度为130℃、干燥时间为30秒的条件下进行固化干燥，制作由丙烯酸系粘合剂形成的粘合剂层。接着，在所得粘合剂层的表面粘贴作为剥离衬垫的对一面实施了有机硅处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(商品名“MRF25”、厚度25μm、三菱化学公司制)的有机硅处理面，得到表面保护薄膜(3)。
将所得表面保护薄膜(3)在常温下进行5天的熟化，在剥离表面保护薄膜(3)的剥离衬垫后，将表面保护薄膜(3)的粘合剂层粘贴于制造例3中制造的增强用薄膜。进而，在剥离增强用薄膜的剥离衬垫后，粘贴于厚度25μm的聚酰亚胺薄膜(宇部兴产公司制的“UPILEXS”)，得到层叠体(3)。
实施层叠体(3)的激光加工，实施加工端部的评价。
将结果示于表1。
[实施例4]
配混丙烯酸系聚合物A：100重量份(固体成分)、作为交联剂的异氰酸酯化合物(CORONATE HX：C/HX、日本聚氨酯公司制)：4重量份、作为催化剂的EMBILIZER OL-1(东京精细化学公司制)：0.03重量份，以整体的固体成分成为20重量％的方式用乙酸乙酯进行稀释，得到丙烯酸系粘合剂组合物。
将所得丙烯酸系粘合剂组合物以干燥后的厚度成为20μm的方式涂布于聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(商品名“T100”、厚度38μm、三菱化学公司制)，在干燥温度为130℃、干燥时间为30秒的条件下进行固化干燥，制作由丙烯酸系粘合剂形成的粘合剂层。接着，在所得粘合剂层的表面粘贴作为剥离衬垫的对一面实施了有机硅处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(商品名“MRF25”、厚度25μm、三菱化学公司制)的有机硅处理面，得到表面保护薄膜(4)。
将所得表面保护薄膜(4)在常温下进行5天的熟化，在剥离表面保护薄膜(4)的剥离衬垫后，将表面保护薄膜(4)的粘合剂层粘贴于制造例3中制造的增强用薄膜。进而，在剥离增强用薄膜的剥离衬垫后，粘贴于厚度25μm的聚酰亚胺薄膜(宇部兴产公司制的“UPILEXS”)，得到层叠体(4)。
实施层叠体(4)的激光加工，实施加工端部的评价。
将结果示于表1。
[实施例5]
配混丙烯酸系聚合物A：100重量份(固体成分)、作为交联剂的异氰酸酯化合物(CORONATE HX：C/HX、日本聚氨酯公司制)：4重量份、作为催化剂的EMBILIZER OL-1(东京精细化学公司制)0.03重量份，以整体的固体成分成为20重量％的方式用乙酸乙酯进行稀释，得到丙烯酸系粘合剂组合物。
将所得丙烯酸系粘合剂组合物以干燥后的厚度成为21μm的方式涂布于聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(商品名“T100”、厚度38μm、三菱化学公司制)，在干燥温度为130℃、干燥时间为30秒的条件下进行固化干燥，制作由丙烯酸系粘合剂形成的粘合剂层。接着，在所得粘合剂层的表面粘贴作为剥离衬垫的对一面实施了有机硅处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(商品名“MRF25”、厚度25μm、三菱化学公司制)的有机硅处理面，得到表面保护薄膜(5)。
将所得表面保护薄膜(5)在常温下进行5天的熟化，在剥离表面保护薄膜(5)的剥离衬垫后，将表面保护薄膜(5)的粘合剂层粘贴于制造例3中制造的增强用薄膜。进而，在剥离增强用薄膜的剥离衬垫后，粘贴于厚度25μm的聚酰亚胺薄膜(宇部兴产公司制的“UPILEXS”)，得到层叠体(5)。
实施层叠体(5)的激光加工，实施加工端部的评价。
将结果示于表1。
[实施例6]
配混丙烯酸系聚合物A：100重量份(固体成分)、作为交联剂的异氰酸酯化合物(CORONATE HX：C/HX、日本聚氨酯公司制)：4重量份、作为催化剂的EMBILIZER OL-1(东京精细化学公司制)：0.03重量份，以整体的固体成分成为20重量％的方式用乙酸乙酯进行稀释，得到丙烯酸系粘合剂组合物。
将所得丙烯酸系粘合剂组合物以干燥后的厚度成为10μm的方式涂布于聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(商品名“T100”、厚度38μm、三菱化学公司制)，在干燥温度为130℃、干燥时间为30秒的条件下进行固化干燥，制作由丙烯酸系粘合剂形成的粘合剂层。接着，在所得粘合剂层的表面粘贴作为剥离衬垫的对一面实施了有机硅处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(商品名“MRF25”、厚度25μm、三菱化学公司制)的有机硅处理面，得到表面保护薄膜(6)。
将所得表面保护薄膜(6)在常温下进行5天的熟化，在剥离表面保护薄膜(6)的剥离衬垫后，将表面保护薄膜(6)的粘合剂层粘贴于制造例3中制造的增强用薄膜。进而，在剥离增强用薄膜的剥离衬垫后，粘贴于厚度25μm的聚酰亚胺薄膜(宇部兴产公司制的“UPILEXS”)，得到层叠体(6)。
实施层叠体(6)的激光加工，实施加工端部的评价。
将结果示于表1。
[比较例1]
在剥离制造例3中制造的增强用薄膜的剥离衬垫后，粘贴于厚度25μm的聚酰亚胺薄膜(宇部兴产公司制的“UPILEX S”)，得到层叠体(C1)。
实施层叠体(C1)的激光加工，实施加工端部的评价。
将结果示于表1。
[比较例2]
配混丙烯酸系聚合物A：100重量份(固体成分)、作为交联剂的异氰酸酯化合物(CORONATE HX：C/HX、日本聚氨酯公司制)：5重量份、作为催化剂的EMBILIZER OL-1(东京精细化学公司制)：0.03重量份，以整体的固体成分成为20重量％的方式用乙酸乙酯进行稀释，得到丙烯酸系粘合剂组合物。
将所得丙烯酸系粘合剂组合物以干燥后的厚度成为10μm的方式涂布于聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(商品名“T100”、厚度100μm、三菱化学公司制)，在干燥温度为130℃、干燥时间为30秒的条件下进行固化干燥，制作由丙烯酸系粘合剂形成的粘合剂层。接着，在所得粘合剂层的表面粘贴作为剥离衬垫的对一面实施了有机硅处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(商品名“MRF25”、厚度25μm、三菱化学公司制)的有机硅处理面，得到表面保护薄膜(C2)。
将所得表面保护薄膜(C2)在常温下进行5天的熟化，在剥离表面保护薄膜(C2)的剥离衬垫后，将表面保护薄膜(C2)的粘合剂层粘贴于制造例3中制造的增强用薄膜。进而，在剥离增强用薄膜的剥离衬垫后，粘贴于厚度25μm的聚酰亚胺薄膜(宇部兴产公司制的“UPILEX S”)，得到层叠体(C2)。
实施层叠体(C2)的激光加工，实施加工端部的评价。
将结果示于表1。
[比较例3]
配混丙烯酸系聚合物A：100重量份(固体成分)、作为交联剂的异氰酸酯化合物(CORONATE HX：C/HX、日本聚氨酯公司制)：5重量份、作为催化剂的EMBILIZER OL-1(东京精细化学公司制)：0.03重量份，以整体的固体成分成为20重量％的方式用乙酸乙酯进行稀释，得到丙烯酸系粘合剂组合物。
将所得丙烯酸系粘合剂组合物以干燥后的厚度成为10μm的方式涂布于聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(商品名“T100”、厚度75μm、三菱化学公司制)，在干燥温度为130℃、干燥时间为30秒的条件下进行固化干燥，制作由丙烯酸系粘合剂形成的粘合剂层。接着，在所得粘合剂层的表面粘贴作为剥离衬垫的对一面实施了有机硅处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(商品名“MRF25”、厚度25μm、三菱化学公司制)的有机硅处理面，得到表面保护薄膜(C3)。
将所得表面保护薄膜(C3)在常温下进行5天的熟化，在剥离表面保护薄膜(C3)的剥离衬垫后，将表面保护薄膜(C3)的粘合剂层粘贴于制造例3中制造的增强用薄膜。进而，在剥离增强用薄膜的剥离衬垫后，粘贴于厚度25μm的聚酰亚胺薄膜(宇部兴产公司制的“UPILEX S”)，得到层叠体(C3)。
实施层叠体(C3)的激光加工，实施加工端部的评价。
将结果示于表1。
[比较例4]
配混丙烯酸系聚合物A：100重量份(固体成分)、作为交联剂的异氰酸酯化合物(CORONATE HX：C/HX、日本聚氨酯公司制)：4重量份、作为催化剂的EMBILIZER OL-1(东京精细化学公司制)：0.03重量份，以整体的固体成分成为20重量％的方式用乙酸乙酯进行稀释，得到丙烯酸系粘合剂组合物。
将所得丙烯酸系粘合剂组合物以干燥后的厚度成为10μm的方式涂布于聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(商品名“T100”、厚度75μm、三菱化学公司制)，在干燥温度为130℃、干燥时间为30秒的条件下进行固化干燥，制作由丙烯酸系粘合剂形成的粘合剂层。接着，在所得粘合剂层的表面粘贴作为剥离衬垫的对一面实施了有机硅处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯薄膜(商品名“MRF25”、厚度25μm、三菱化学公司制)的有机硅处理面，得到表面保护薄膜(C4)。
将所得表面保护薄膜(C4)在常温下进行5天的熟化，在剥离表面保护薄膜(C4)的剥离衬垫后，将表面保护薄膜(C4)的粘合剂层粘贴于制造例3中制造的增强用薄膜。进而，在剥离增强用薄膜的剥离衬垫后，粘贴于厚度25μm的聚酰亚胺薄膜(宇部兴产公司制的“UPILEX S”)，得到层叠体(C4)。
实施层叠体(C4)的激光加工，实施加工端部的评价。
将结果示于表1。
[表1]
产业上的可利用性
本发明的带表面保护薄膜的光学构件可以为了对要求薄型化的光学设备中包含的光学构件赋予刚性、耐冲击性而适宜地利用。本发明的光学层叠体可适宜地利用于要求薄型化的光学设备。本发明的光学设备的制造方法可利用于以高品质制造要求薄型化的光学设备的方法。

Claims (8)

1.一种带表面保护薄膜的光学构件，其包含表面保护薄膜(I)和光学构件，
该表面保护薄膜(I)包含基材(Ia)和粘合剂层(Ib)，
该粘合剂层(Ib)与该光学构件直接层叠，
该光学构件的厚度为400μm以下，
该基材(Ia)的厚度小于60μm。
2.根据权利要求1所述的带表面保护薄膜的光学构件，其中，所述粘合剂层(Ib)在80℃下的表面硬度为3.00MPa以下。
3.根据权利要求1所述的带表面保护薄膜的光学构件，其中，所述粘合剂层(Ib)的厚度小于45μm。
4.根据权利要求1所述的带表面保护薄膜的光学构件，其中，所述粘合剂层(Ib)在温度23℃、相对湿度50％的环境下在剥离角度为180°、拉伸速度为300mm/分钟下对于亚克力板的剥离力小于0.25N/25mm。
5.根据权利要求1所述的带表面保护薄膜的光学构件，其中，所述光学构件为增强用薄膜(II)，该增强用薄膜(II)包含基材(IIa)和粘合剂层(IIb)。
6.根据权利要求5所述的带表面保护薄膜的光学构件，其中，所述粘合剂层(IIb)在温度23℃、相对湿度50％的环境下在剥离角度为180°、拉伸速度为300mm/分钟下对于聚酰亚胺薄膜的粘接力为3N/25mm以上。
7.一种光学层叠体，其包含权利要求1～6中任一项所述的带表面保护薄膜的光学构件。
8.一种光学设备的制造方法，其为包含光学构件的光学设备的制造方法，所述制造方法包括如下工序：
将权利要求5或6所述的带表面保护薄膜的光学构件粘贴于其它光学构件的工序；
从自该带表面保护薄膜的光学构件观察时的、该其它光学构件的相反侧照射激光而进行激光加工的工序；以及
对该激光加工后的该表面保护薄膜进行再剥离的工序。
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