CN116724677A - 有机发光器件 - Google Patents
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- CN116724677A CN116724677A CN202280008858.5A CN202280008858A CN116724677A CN 116724677 A CN116724677 A CN 116724677A CN 202280008858 A CN202280008858 A CN 202280008858A CN 116724677 A CN116724677 A CN 116724677A
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- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 410
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 147
- -1 naphthalenediyl group Chemical group 0.000 claims description 143
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 35
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 28
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 claims description 28
- YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Diphenylbenzene Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 claims description 15
- 125000004988 dibenzothienyl group Chemical group C1(=CC=CC=2SC3=C(C21)C=CC=C3)* 0.000 claims description 15
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 125000005561 phenanthryl group Chemical group 0.000 claims description 15
- YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N Deuterium Chemical compound [2H] YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N 0.000 claims description 12
- 229910052805 deuterium Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 11
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 claims description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000003914 fluoranthenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC=C4C1=C23)* 0.000 claims description 6
- MXVLMYZRJAHEIS-UHFFFAOYSA-N 1-(2-phenylphenyl)naphthalene Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1C1=CC=CC2=CC=CC=C12 MXVLMYZRJAHEIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- SLGBZMMZGDRARJ-UHFFFAOYSA-N Triphenylene Natural products C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C3=CC=CC=C3C2=C1 SLGBZMMZGDRARJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000005878 benzonaphthofuranyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000005580 triphenylene group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 4
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 518
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 388
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 372
- MXQOYLRVSVOCQT-UHFFFAOYSA-N palladium;tritert-butylphosphane Chemical compound [Pd].CC(C)(C)P(C(C)(C)C)C(C)(C)C.CC(C)(C)P(C(C)(C)C)C(C)(C)C MXQOYLRVSVOCQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 364
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 361
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 356
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 326
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 288
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 198
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 194
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 194
- 238000010898 silica gel chromatography Methods 0.000 description 194
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 187
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 165
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 163
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 141
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 141
- 150000001412 amines Chemical group 0.000 description 58
- MFRIHAYPQRLWNB-UHFFFAOYSA-N sodium tert-butoxide Chemical compound [Na+].CC(C)(C)[O-] MFRIHAYPQRLWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 58
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 40
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 32
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 32
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 30
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- 239000000463 material Substances 0.000 description 29
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 29
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 20
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 18
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 17
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 17
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 17
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 12
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 11
- QRRYTSCZSPPVQQ-UHFFFAOYSA-N 2-amino-5-bromo-4-fluorophenol Chemical compound NC1=CC(F)=C(Br)C=C1O QRRYTSCZSPPVQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 10
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 9
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 8
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 8
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 7
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 7
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 7
- SCWWDULYYDFWQV-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxyphenoxy)boronic acid Chemical compound OB(O)OC1=CC=CC=C1O SCWWDULYYDFWQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 6
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 6
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- MGQHWQPZDBGSTR-UHFFFAOYSA-N 2-amino-4-bromo-5-fluorophenol Chemical compound NC1=CC(Br)=C(F)C=C1O MGQHWQPZDBGSTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000005605 benzo group Chemical group 0.000 description 5
- 239000010406 cathode material Substances 0.000 description 5
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 5
- PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M lithium fluoride Chemical compound [Li+].[F-] PQXKHYXIUOZZFA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 238000006069 Suzuki reaction reaction Methods 0.000 description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000010405 anode material Substances 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- KPTRDYONBVUWPD-UHFFFAOYSA-N naphthalen-2-ylboronic acid Chemical compound C1=CC=CC2=CC(B(O)O)=CC=C21 KPTRDYONBVUWPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HXITXNWTGFUOAU-UHFFFAOYSA-N phenylboronic acid Chemical compound OB(O)C1=CC=CC=C1 HXITXNWTGFUOAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XPEIJWZLPWNNOK-UHFFFAOYSA-N (4-phenylphenyl)boronic acid Chemical compound C1=CC(B(O)O)=CC=C1C1=CC=CC=C1 XPEIJWZLPWNNOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UWRZIZXBOLBCON-VOTSOKGWSA-N (e)-2-phenylethenamine Chemical class N\C=C\C1=CC=CC=C1 UWRZIZXBOLBCON-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000005264 aryl amine group Chemical group 0.000 description 3
- 125000001769 aryl amino group Chemical group 0.000 description 3
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 3
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 3
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000004770 highest occupied molecular orbital Methods 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005916 2-methylpentyl group Chemical group 0.000 description 2
- JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 2-naphthol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(O)=CC=C21 JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QENGPZGAWFQWCZ-UHFFFAOYSA-N 3-Methylthiophene Chemical compound CC=1C=CSC=1 QENGPZGAWFQWCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005725 8-Hydroxyquinoline Substances 0.000 description 2
- VEAHZOOKIZTPJB-UHFFFAOYSA-N B(O)(O)OC1=C(C=CC(=C1)Cl)O Chemical compound B(O)(O)OC1=C(C=CC(=C1)Cl)O VEAHZOOKIZTPJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N Carbon disulfide Chemical compound S=C=S QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WXLJATLSWYRRKG-UHFFFAOYSA-N ClC1=CC(=C(C=C1)OB(O)O)O Chemical compound ClC1=CC(=C(C=C1)OB(O)O)O WXLJATLSWYRRKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101100311330 Schizosaccharomyces pombe (strain 972 / ATCC 24843) uap56 gene Proteins 0.000 description 2
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZEEBGORNQSEQBE-UHFFFAOYSA-N [2-(3-phenylphenoxy)-6-(trifluoromethyl)pyridin-4-yl]methanamine Chemical compound C1(=CC(=CC=C1)OC1=NC(=CC(=C1)CN)C(F)(F)F)C1=CC=CC=C1 ZEEBGORNQSEQBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JTRPLRMCBJSBJV-UHFFFAOYSA-N benzonaphthacene Natural products C1=CC=C2C3=CC4=CC5=CC=CC=C5C=C4C=C3C=CC2=C1 JTRPLRMCBJSBJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- TXCDCPKCNAJMEE-UHFFFAOYSA-N dibenzofuran Chemical group C1=CC=C2C3=CC=CC=C3OC2=C1 TXCDCPKCNAJMEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 description 2
- 125000005241 heteroarylamino group Chemical group 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002971 oxazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229960003540 oxyquinoline Drugs 0.000 description 2
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 2
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 2
- BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N pyrene Chemical compound C1=CC=C2C=CC3=CC=CC4=CC=C1C2=C43 BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N quinolin-8-ol Chemical compound C1=CN=C2C(O)=CC=CC2=C1 MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 101150018444 sub2 gene Proteins 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- UCAKTFSAEMHJJE-UHFFFAOYSA-N (3-chloro-2-hydroxyphenyl)boronic acid Chemical compound OB(O)C1=CC=CC(Cl)=C1O UCAKTFSAEMHJJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical group C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004973 1-butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- 125000006218 1-ethylbutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000006023 1-pentenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006017 1-propenyl group Chemical group 0.000 description 1
- ZVFJWYZMQAEBMO-UHFFFAOYSA-N 1h-benzo[h]quinolin-10-one Chemical compound C1=CNC2=C3C(=O)C=CC=C3C=CC2=C1 ZVFJWYZMQAEBMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)-N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C(=O)NCCC(N1CC2=C(CC1)NN=N2)=O VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004974 2-butenyl group Chemical group C(C=CC)* 0.000 description 1
- 125000006176 2-ethylbutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(C([H])([H])*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000006024 2-pentenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- DMEVMYSQZPJFOK-UHFFFAOYSA-N 3,4,5,6,9,10-hexazatetracyclo[12.4.0.02,7.08,13]octadeca-1(18),2(7),3,5,8(13),9,11,14,16-nonaene Chemical compound N1=NN=C2C3=CC=CC=C3C3=CC=NN=C3C2=N1 DMEVMYSQZPJFOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-1-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]propan-1-one Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)CCC(=O)N1CCN(CC1)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004975 3-butenyl group Chemical group C(CC=C)* 0.000 description 1
- 125000006027 3-methyl-1-butenyl group Chemical group 0.000 description 1
- DDTHMESPCBONDT-UHFFFAOYSA-N 4-(4-oxocyclohexa-2,5-dien-1-ylidene)cyclohexa-2,5-dien-1-one Chemical compound C1=CC(=O)C=CC1=C1C=CC(=O)C=C1 DDTHMESPCBONDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004920 4-methyl-2-pentyl group Chemical group CC(CC(C)*)C 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLSJWNVTNUYHDU-UHFFFAOYSA-N Amitrole Chemical group NC1=NC=NN1 KLSJWNVTNUYHDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100021267 Anion exchange protein 4 Human genes 0.000 description 1
- 101710160272 Anion exchange protein 4 Proteins 0.000 description 1
- ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N Bipyridyl Chemical group N1=CC=CC=C1C1=CC=CC=N1 ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHZGKXUYDGKKIU-UHFFFAOYSA-N Decylamine Chemical compound CCCCCCCCCCN MHZGKXUYDGKKIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001082241 Lythrum hyssopifolia Species 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODDDCNHZMCLZGD-UHFFFAOYSA-N NC(C(Cl)=C(C(Br)=C1)F)=C1O Chemical compound NC(C(Cl)=C(C(Br)=C1)F)=C1O ODDDCNHZMCLZGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKCKBUGYRHIIHM-UHFFFAOYSA-N NC(C(Cl)=C(C(F)=C1)Br)=C1O Chemical compound NC(C(Cl)=C(C(F)=C1)Br)=C1O OKCKBUGYRHIIHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QFDAWDYBZUUOIF-UHFFFAOYSA-N NC(C(O)=C1Cl)=CC(Br)=C1F Chemical compound NC(C(O)=C1Cl)=CC(Br)=C1F QFDAWDYBZUUOIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLAITPTWKJOKFY-UHFFFAOYSA-N NC(C(O)=C1Cl)=CC(F)=C1Br Chemical compound NC(C(O)=C1Cl)=CC(F)=C1Br FLAITPTWKJOKFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001609 Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Polymers 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical compound C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- JDCLUYDBENDDSR-NSHDSACASA-N [(3S)-3-[4-(aminomethyl)-6-(trifluoromethyl)pyridin-2-yl]oxypiperidin-1-yl]-(5-methyl-1,3,4-oxadiazol-2-yl)methanone Chemical compound NCC1=CC(=NC(=C1)C(F)(F)F)O[C@@H]1CN(CCC1)C(=O)C=1OC(=NN=1)C JDCLUYDBENDDSR-NSHDSACASA-N 0.000 description 1
- WGCOQYDRMPFAMN-ZDUSSCGKSA-N [(3S)-3-[4-(aminomethyl)-6-(trifluoromethyl)pyridin-2-yl]oxypiperidin-1-yl]-pyrimidin-5-ylmethanone Chemical compound NCC1=CC(=NC(=C1)C(F)(F)F)O[C@@H]1CN(CCC1)C(=O)C=1C=NC=NC=1 WGCOQYDRMPFAMN-ZDUSSCGKSA-N 0.000 description 1
- ABRVLXLNVJHDRQ-UHFFFAOYSA-N [2-pyridin-3-yl-6-(trifluoromethyl)pyridin-4-yl]methanamine Chemical compound FC(C1=CC(=CC(=N1)C=1C=NC=CC=1)CN)(F)F ABRVLXLNVJHDRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000641 acridinyl group Chemical group C1(=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- HAQFCILFQVZOJC-UHFFFAOYSA-N anthracene-9,10-dione;methane Chemical compound C.C.C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=C1 HAQFCILFQVZOJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- RJGDLRCDCYRQOQ-UHFFFAOYSA-N anthrone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3CC2=C1 RJGDLRCDCYRQOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005428 anthryl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C2C([H])=C3C(*)=C([H])C([H])=C([H])C3=C([H])C2=C1[H] 0.000 description 1
- 150000003974 aralkylamines Chemical group 0.000 description 1
- 125000004391 aryl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003609 aryl vinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003943 azolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 125000003785 benzimidazolyl group Chemical group N1=C(NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000000499 benzofuranyl group Chemical group O1C(=CC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000001164 benzothiazolyl group Chemical group S1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000004196 benzothienyl group Chemical group S1C(=CC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950011260 betanaphthol Drugs 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000001638 boron Chemical class 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000609 carbazolyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- XOYLJNJLGBYDTH-UHFFFAOYSA-M chlorogallium Chemical compound [Ga]Cl XOYLJNJLGBYDTH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 1
- 238000010549 co-Evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- IURRXCRWRKQLGC-UHFFFAOYSA-N copper;quinolin-8-ol Chemical compound [Cu].C1=CN=C2C(O)=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C(O)=CC=CC2=C1 IURRXCRWRKQLGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004210 cyclohexylmethyl group Chemical group [H]C([H])(*)C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004851 cyclopentylmethyl group Chemical group C1(CCCC1)C* 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 125000002720 diazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005509 dibenzothiophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- JRBPAEWTRLWTQC-UHFFFAOYSA-N dodecylamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCN JRBPAEWTRLWTQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N fluoranthrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=C22)=C3C2=CC=CC3=C1 GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N fluoren-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N gadolinium atom Chemical compound [Gd] UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 230000005283 ground state Effects 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005549 heteroarylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004491 isohexyl group Chemical group C(CCC(C)C)* 0.000 description 1
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000555 isopropenyl group Chemical group [H]\C([H])=C(\*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002183 isoquinolinyl group Chemical group C1(=NC=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- SKEDXQSRJSUMRP-UHFFFAOYSA-N lithium;quinolin-8-ol Chemical compound [Li].C1=CN=C2C(O)=CC=CC2=C1 SKEDXQSRJSUMRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- AMTZBMRZYODPHS-UHFFFAOYSA-N manganese;quinolin-8-ol Chemical compound [Mn].C1=CN=C2C(O)=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C(O)=CC=CC2=C1 AMTZBMRZYODPHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003136 n-heptyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002560 nitrile group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001181 organosilyl group Chemical group [SiH3]* 0.000 description 1
- MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N oxidophosphanium Chemical group [PH3]=O MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 125000003538 pentan-3-yl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 125000004625 phenanthrolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=C3C=CC=NC3=C12)* 0.000 description 1
- 125000001484 phenothiazinyl group Chemical group C1(=CC=CC=2SC3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- XPPWLXNXHSNMKC-UHFFFAOYSA-N phenylboron Chemical group [B]C1=CC=CC=C1 XPPWLXNXHSNMKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHZYTMXLRWXGPK-UHFFFAOYSA-N phosphorus pentachloride Chemical compound ClP(Cl)(Cl)(Cl)Cl UHZYTMXLRWXGPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004592 phthalazinyl group Chemical group C1(=NN=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 1
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004309 pyranyl group Chemical group O1C(C=CC=C1)* 0.000 description 1
- 125000003373 pyrazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001725 pyrenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002098 pyridazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002294 quinazolinyl group Chemical group N1=C(N=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- DLJHXMRDIWMMGO-UHFFFAOYSA-N quinolin-8-ol;zinc Chemical compound [Zn].C1=CN=C2C(O)=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C(O)=CC=CC2=C1 DLJHXMRDIWMMGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000001567 quinoxalinyl group Chemical group N1=C(C=NC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N samarium atom Chemical compound [Sm] KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003548 sec-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 125000003003 spiro group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 238000010345 tape casting Methods 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- ILMRJRBKQSSXGY-UHFFFAOYSA-N tert-butyl(dimethyl)silicon Chemical group C[Si](C)C(C)(C)C ILMRJRBKQSSXGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001973 tert-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000000000 tetracarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000001113 thiadiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000335 thiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 1
- IBBLKSWSCDAPIF-UHFFFAOYSA-N thiopyran Chemical compound S1C=CC=C=C1 IBBLKSWSCDAPIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 125000004306 triazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 1
- 125000001425 triazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- LALRXNPLTWZJIJ-UHFFFAOYSA-N triethylborane Chemical group CCB(CC)CC LALRXNPLTWZJIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXRGABKACDFXMG-UHFFFAOYSA-N trimethylborane Chemical group CB(C)C WXRGABKACDFXMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- MXSVLWZRHLXFKH-UHFFFAOYSA-N triphenylborane Chemical group C1=CC=CC=C1B(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 MXSVLWZRHLXFKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N ytterbium Chemical compound [Yb] NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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- H10K85/636—Amine compounds having at least two aryl rest on at least one amine-nitrogen atom, e.g. triphenylamine comprising heteroaromatic hydrocarbons as substituents on the nitrogen atom
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- H10K85/657—Polycyclic condensed heteroaromatic hydrocarbons
- H10K85/6574—Polycyclic condensed heteroaromatic hydrocarbons comprising only oxygen in the heteroaromatic polycondensed ring system, e.g. cumarine dyes
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- H10K85/6576—Polycyclic condensed heteroaromatic hydrocarbons comprising only sulfur in the heteroaromatic polycondensed ring system, e.g. benzothiophene
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Abstract
本发明涉及有机发光器件,所述有机发光器件包括在阳极与阴极之间的发光层,并且具有优异的驱动电压、效率和寿命,所述发光层包含由化学式1表示的化合物和由化学式2表示的化合物。
Description
技术领域
相关申请的交叉引用
本申请要求于2021年4月5日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2021-0044140号的权益,其公开内容通过引用整体并入本文。
本公开内容涉及有机发光器件。
背景技术
通常,有机发光现象是指通过使用有机材料将电能转换为光能的现象。利用有机发光现象的有机发光器件具有诸如宽视角,优异的对比度,快速的响应时间,优异的亮度、驱动电压和响应速度的特性,并因此进行了许多研究。
有机发光器件通常具有包括阳极、阴极和介于阳极与阴极之间的有机材料层的结构。有机材料层通常具有包含不同材料的多层结构以提高有机发光器件的效率和稳定性,例如,有机材料层可以由空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层等形成。在有机发光器件的结构中,如果在两个电极之间施加电压,则空穴从阳极注入到有机材料层中,以及电子从阴极注入到有机材料层中,当注入的空穴和电子彼此相遇时形成激子,并且当激子再次落回至基态时发光。
持续需要开发用于如上所述的有机发光器件中使用的有机材料的新材料。
[现有技术文献]
(专利文献1)韩国未审查专利公开第10-2000-0051826号
发明内容
技术问题
本公开内容涉及具有改善的驱动电压、效率和寿命的有机发光器件。
技术方案
在本公开内容中,提供了以下有机发光器件:
有机发光器件包括:
阳极;阴极;以及设置在阳极与阴极之间的发光层,
其中发光层包含由以下化学式1表示的化合物和由以下化学式2表示的化合物:
[化学式1]
在化学式1中,
L为单键;或者经取代或未经取代的C6-60亚芳基;
Ar1和Ar2各自独立地为经取代或未经取代的C6-60芳基;或者经取代或未经取代的包含选自N、O和S中的至少一者的C2-60杂芳基,
Ar3为氢;氘;经取代或未经取代的C6-60芳基;或者经取代或未经取代的包含选自N、O和S中的至少一者的C2-60杂芳基,
D为氘,以及
n为0至6的整数,
[化学式2]
在化学式2中,
A’1由以下化学式2-a表示,
[化学式2-a]
在化学式2-a中,
虚线与相邻的环稠合,
Ar’1为经取代或未经取代的C6-60芳基;或者经取代或未经取代的包含选自N、O和S中的至少一个杂原子的C2-60杂芳基,以及
L’为单键;或者经取代或未经取代的C6-60亚芳基;
Ar’2和Ar’3各自独立地为氢;氘;经取代或未经取代的C6-60芳基;或者经取代或未经取代的包含选自N、O和S中的至少一个杂原子的C2-60杂芳基,
D为氘,以及
n’为0至5的整数。
有益效果
上述有机发光器件具有优异的驱动电压、效率和寿命。
附图说明
图1示出了包括基底1、阳极2、发光层3和阴极4的有机发光器件的实例。
图2示出了包括基底1、阳极2、空穴注入层5、空穴传输层6、发光层3、电子传输层7、电子注入层8和阴极4的有机发光器件的实例。
图3示出了包括基底1、阳极2、空穴注入层5、空穴传输层6、电子阻挡层9、发光层3、空穴阻挡层10、电子注入和传输层11、和阴极4的有机发光器件的实例。
具体实施方式
在下文中,将更详细地描述本公开内容的实施方案以便于理解本发明。
如本文所使用的,符号或意指与另外的取代基相连接的键。
如本文所使用的,术语“经取代或未经取代的”意指未经取代或经选自以下中的一个或更多个取代基取代:氘;卤素基团;腈基;硝基;羟基;羰基;酯基;酰亚胺基;氨基;氧化膦基;烷氧基;芳氧基;烷基硫基;芳基硫基;烷基磺酰基;芳基磺酰基;甲硅烷基;硼基;烷基;环烷基;烯基;芳基;芳烷基;芳烯基;烷基芳基;烷基胺基;芳烷基胺基;杂芳基胺基;芳基胺基;芳基膦基;和包含N、O和S原子中的至少一者的杂环基,或者未经取代或经以上例示的取代基中的两个或更多个取代基相连接的取代基取代。例如,“两个或更多个取代基相连接的取代基”可以为联苯基。即,联苯基可以为芳基,或者其也可以被解释为两个苯基相连接的取代基。
在本公开内容中,羰基的碳数没有特别限制,但优选为1至40。具体地,羰基可以为具有以下结构式的化合物,但不限于此。
在本公开内容中,酯基可以具有其中酯基的氧经具有1至25个碳原子的直链、支链或环状烷基或者具有6至25个碳原子的芳基取代的结构。
具体地,酯基可以为具有以下结构式的化合物,但不限于此。
在本公开内容中,酰亚胺基的碳数没有特别限制,但优选为1至25。
具体地,酰亚胺基可以为具有以下结构式的化合物,但不限于此。
在本公开内容中,甲硅烷基具体地包括三甲基甲硅烷基、三乙基甲硅烷基、叔丁基二甲基甲硅烷基、乙烯基二甲基甲硅烷基、丙基二甲基甲硅烷基、三苯基甲硅烷基、二苯基甲硅烷基、苯基甲硅烷基等,但不限于此。
在本公开内容中,硼基具体地包括三甲基硼基、三乙基硼基、叔丁基二甲基硼基、三苯基硼基、苯基硼基等,但不限于此。
在本公开内容中,卤素基团的实例包括氟、氯、溴或碘。
在本公开内容中,烷基可以为直链或支链的,并且其碳数没有特别限制,但优选为1至40。根据一个实施方案,烷基的碳数为1至20。根据另一个实施方案,烷基的碳数为1至10。根据另一个实施方案,烷基的碳数为1至6。烷基的具体实例包括甲基、乙基、丙基、正丙基、异丙基、丁基、正丁基、异丁基、叔丁基、仲丁基、1-甲基-丁基、1-乙基-丁基、戊基、正戊基、异戊基、新戊基、叔戊基、己基、正己基、1-甲基戊基、2-甲基戊基、4-甲基-2-戊基、3,3-二甲基丁基、2-乙基丁基、庚基、正庚基、1-甲基己基、环戊基甲基、环己基甲基、辛基、正辛基、叔辛基、1-甲基庚基、2-乙基己基、2-丙基戊基、正壬基、2,2-二甲基庚基、1-乙基-丙基、1,1-二甲基-丙基、异己基、2-甲基戊基、4-甲基己基、5-甲基己基等,但不限于此。
在本公开内容中,烯基可以为直链或支链的,并且其碳数没有特别限制,但优选为2至40。根据一个实施方案,烯基的碳数为2至20。根据另一个实施方案,烯基的碳数为2至10。根据另一个实施方案,烯基的碳数为2至6。其具体实例包括乙烯基、1-丙烯基、异丙烯基、1-丁烯基、2-丁烯基、3-丁烯基、1-戊烯基、2-戊烯基、3-戊烯基、3-甲基-1-丁烯基、1,3-丁二烯基、烯丙基、1-苯基乙烯基-1-基、2-苯基乙烯基-1-基、2,2-二苯基乙烯基-1-基、2-苯基-2-(萘基-1-基)乙烯基-1-基、2,2-双(二苯基-1-基)乙烯基-1-基、基、苯乙烯基等,但不限于此。
在本公开内容中,环烷基没有特别限制,但其碳数优选为3至60。根据一个实施方案,环烷基的碳数为3至30。根据另一个实施方案,环烷基的碳数为3至20。根据另一个实施方案,环烷基的碳数为3至6。其具体实例包括环丙基、环丁基、环戊基、3-甲基环戊基、2,3-二甲基环戊基、环己基、3-甲基环己基、4-甲基环己基、2,3-二甲基环己基、3,4,5-三甲基环己基、4-叔丁基环己基、环庚基、环辛基等,但不限于此。
在本公开内容中,芳基没有特别限制,但其碳数优选为6至60,并且其可以为单环芳基或多环芳基。根据一个实施方案,芳基的碳数为6至30。根据一个实施方案,芳基的碳数为6至20。单环芳基包括苯基、联苯基、三联苯基等,但不限于此。多环芳基包括萘基、蒽基、菲基、芘基、基、基、芴基等,但不限于此。
在本公开内容中,芴基可以为经取代的,并且两个取代基可以彼此连接以形成螺结构。在芴基为经取代的情况下,可以形成等。然而,结构不限于此。
在本公开内容中,杂环基为包含O、N、Si和S中的至少一个杂原子作为杂元素的杂环基,并且其碳数没有特别限制,但优选为2至60。杂环基的实例包括噻吩基、呋喃基、吡咯基、咪唑基、噻唑基、唑基、二唑基、三唑基、吡啶基、联吡啶基、嘧啶基、三嗪基、吖啶基、哒嗪基、吡嗪基、喹啉基、喹唑啉基、喹喔啉基、酞嗪基、吡啶并嘧啶基、吡啶并吡嗪基、吡嗪并吡嗪基、异喹啉基、吲哚基、咔唑基、苯并唑基、苯并咪唑基、苯并噻唑基、苯并咔唑基、苯并噻吩基、二苯并噻吩基、苯并呋喃基、菲咯啉基、异唑基、噻二唑基、吩噻嗪基、二苯并呋喃基等,但不限于此。
在本公开内容中,芳烷基、芳烯基、烷基芳基和芳基胺基中的芳基与芳基的上述实例相同。在本公开内容中,芳烷基、烷基芳基和烷基胺基中的烷基与烷基的上述实例相同。在本公开内容中,杂芳基胺中的杂芳基可以应用对杂环基的上述描述。在本公开内容中,芳烯基中的烯基与烯基的上述实例相同。在本公开内容中,可以应用对芳基的上述描述,不同之处在于亚芳基为二价基团。在本公开内容中,可以应用对杂环基的上述描述,不同之处在于亚杂芳基为二价基团。在本公开内容中,可以应用对芳基或环烷基的上述描述,不同之处在于烃环不是一价基团而是通过使两个取代基结合而形成的。在本公开内容中,可以应用对杂环基的上述描述,不同之处在于杂环不是一价基团而是通过使两个取代基结合而形成的。
将针对各配置详细地描述本公开内容。
阳极和阴极
本公开内容中使用的阳极和阴极是指有机发光器件中使用的电极。
作为阳极材料,通常,优选使用具有大的功函数的材料,使得空穴可以顺利地注入到有机材料层中。阳极材料的具体实例包括:金属,例如钒、铬、铜、锌和金,或其合金;金属氧化物,例如氧化锌、氧化铟、氧化铟锡(ITO)和氧化铟锌(IZO);金属和氧化物的组合,例如ZnO:Al或SnO2:Sb;导电聚合物,例如聚(3-甲基噻吩)、聚[3,4-(亚乙基-1,2-二氧)噻吩](PEDOT)、聚吡咯和聚苯胺;等等,但不限于此。
作为阴极材料,通常,优选使用具有小的功函数的材料,使得电子可以容易地注入到有机材料层中。阴极材料的具体实例包括:金属,例如镁、钙、钠、钾、钛、铟、钇、锂、钆、铝、银、锡和铅,或其合金;多层结构材料,例如LiF/Al或LiO2/Al;等等,但不限于此。
发光层
本公开内容中使用的发光层是指能够通过使从阳极和阴极转移的空穴和电子结合而发出可见光区域中的光的层。通常,发光层包含主体材料和掺杂剂材料,并且在本公开内容中,可以包含由化学式1表示的化合物和由化学式2表示的化合物作为主体。
在由化学式1表示的化合物和由化学式2表示的化合物的每一者中,至少一个氢可以经氘取代。即,化学式1中的n可以为1或更大的整数,以及L和Ar1至Ar3中的至少一个取代基可以经氘取代。此外,化学式2中的n’可以为1或更大的整数,以及L’和Ar’1至Ar’3中的至少一个取代基可以经氘取代。
根据二苯并呋喃和三嗪的键合位置,化学式1可以由以下化学式1-1表示:
[化学式1-1]
在化学式1-1中,L、Ar1至Ar3、D和n如化学式1中所限定。
优选地,L为单键;或者经取代或未经取代的C6-20亚芳基;Ar1和Ar2各自独立地为经取代或未经取代的C6-20芳基;或者经取代或未经取代的包含选自N、O和S中的至少一者的C2-20杂芳基,以及Ar3为经取代或未经取代的C6-20芳基;或者经取代或未经取代的包含选自N、O和S中的至少一者的C2-20杂芳基。
优选地,L为单键;亚苯基;或者萘二基。
优选地,Ar1和Ar2各自独立地为苯基;联苯基;三联苯基;萘基;菲基;(苯基)萘基;(萘基)苯基;(萘基)萘基;二苯并呋喃基;或者二苯并噻吩基。
优选地,Ar3为氢;苯基;联苯基;三联苯基;萘基;菲基;(苯基)萘基;(萘基)苯基;荧蒽基;三亚苯基;二苯并呋喃基;二苯并噻吩基;苯并萘并呋喃基;或者苯并萘并噻吩基。
在以上中,(萘基)苯基意指经一个萘基取代的苯基;(苯基)萘基意指经一个苯基取代的萘基;以及(萘基)萘基意指经一个萘基取代的萘基。
在以上中,苯并萘并呋喃基具体地为衍生自苯并[b]萘并[2,1-d]呋喃苯并[b]萘并[1,2-d]呋喃或者苯并[b]萘并[2,3-d]呋喃的一价取代基。
此外,苯并萘并噻吩基具体地为衍生自苯并[b]萘并[2,1-d]噻吩苯并[b]萘并[1,2-d]噻吩或者苯并[b]萘并[2,3-d]噻吩的一价取代基。
在一个实施方案中,L为单键;亚苯基;或者萘二基,Ar1和Ar2各自独立地为苯基;联苯基;三联苯基;萘基;菲基;(苯基)萘基;(萘基)苯基;(萘基)萘基;二苯并呋喃基;或者二苯并噻吩基。
在一个实施方案中,Ar1和Ar2各自独立地为苯基;联苯基;三联苯基;萘基;菲基;(苯基)萘基;(萘基)苯基;(萘基)萘基;二苯并呋喃基;或者二苯并噻吩基,以及Ar3为氢;苯基;联苯基;三联苯基;萘基;菲基;(苯基)萘基;(萘基)苯基;荧蒽基;三亚苯基;二苯并呋喃基;二苯并噻吩基;苯并萘并呋喃基;或者苯并萘并噻吩基。
在一个实施方案中,L为单键;亚苯基;或者萘二基;以及Ar3为氢;苯基;联苯基;三联苯基;萘基;菲基;(苯基)萘基;(萘基)苯基;荧蒽基;三亚苯基;二苯并呋喃基;二苯并噻吩基;苯并萘并呋喃基;或者苯并萘并噻吩基。
在一个实施方案中,L为单键;亚苯基;或者萘二基;Ar1和Ar2各自独立地为苯基;联苯基;三联苯基;萘基;菲基;(苯基)萘基;(萘基)苯基;(萘基)萘基;二苯并呋喃基;或者二苯并噻吩基,以及Ar3为氢;苯基;联苯基;三联苯基;萘基;菲基;(苯基)萘基;(萘基)苯基;荧蒽基;三亚苯基;二苯并呋喃基;二苯并噻吩基;苯并萘并呋喃基;或者苯并萘并噻吩基。
由化学式1表示的化合物的代表性实例如下:
此外,提供了用于制备由化学式1表示的化合物的方法。
例如,由化学式1表示的化合物可以通过如以下反应方案1中的制备方法来制备。
[反应方案1]
在反应方案1中,除了X1和X2之外的其他取代基的限定与以上中限定的相同,以及X1和X2各自独立地为卤素,优选为溴或氯。
反应方案1为Suzuki偶联反应,并且优选地在钯催化剂和碱的存在下进行。此外,用于Suzuki偶联反应的反应性基团可以如本领域已知的来适当地改变。
可以在以下描述的制备例中更具体地描述由化学式1表示的化合物的制备方法。
化学式2具有包括苯并唑环与苯并呋喃环稠合的核和与所述核键合的芳基胺取代基的结构。
具体地,化学式2可以由以下化学式2-1或化学式2-2表示:
[化学式2-1]
[化学式2-2]
在化学式2-1和化学式2-2中,
L’、Ar’1至Ar’3、D和n’如化学式2中所限定。
优选地,L’为单键;或者经取代或未经取代的C6-20亚芳基。优选地,L’为单键;亚苯基;或者联苯二基。
Ar’1优选为经取代或未经取代的C6-20芳基,并且更优选为苯基。
优选地,Ar’2和Ar’3各自独立地为经取代或未经取代的C6-20芳基;或者经取代或未经取代的包含选自N、O和S中的至少一个杂原子的C2-20杂芳基。
更优选地,Ar’2和Ar’3各自独立地为苯基;联苯基;三联苯基;萘基;(萘基)苯基;(苯基)萘基;(萘基)联苯基;(萘基)萘基;[(苯基)萘基]苯基;二苯并呋喃基;二苯并噻吩基;(二苯并呋喃基)苯基;(二苯并噻吩基)苯基;菲基;(菲基)苯基;9,9-二甲基芴基;或者9-苯基咔唑基。
在以上中,(萘基)苯基意指经一个萘基取代的苯基;(苯基)萘基意指经一个苯基取代的萘基;(萘基)联苯基意指经一个萘基取代的联苯基;(萘基)萘基意指经一个萘基取代的萘基;[(苯基)萘基]苯基意指经(苯基)萘基取代的苯基;(二苯并呋喃基)苯基意指经一个二苯并呋喃基取代的苯基;以及(二苯并噻吩基)苯基意指经一个二苯并噻吩基取代的苯基。
在一个实施方案中,L’为单键;亚苯基;或者联苯二基,以及Ar’1为苯基。
在一个实例中,L’为单键;亚苯基;或者联苯二基,以及Ar’2和Ar’3各自独立地为苯基;联苯基;三联苯基;萘基;(萘基)苯基;(苯基)萘基;(萘基)联苯基;(萘基)萘基;[(苯基)萘基]苯基;二苯并呋喃基;二苯并噻吩基;(二苯并呋喃基)苯基;(二苯并噻吩基)苯基;菲基;(菲基)苯基;9,9-二甲基芴基;或者9-苯基咔唑基。
在一个实施方案中,L’为单键;亚苯基;或者联苯二基,Ar’1为苯基,以及Ar’2和Ar’3各自独立地为苯基;联苯基;三联苯基;萘基;(萘基)苯基;(苯基)萘基;(萘基)联苯基;(萘基)萘基;[(苯基)萘基]苯基;二苯并呋喃基;二苯并噻吩基;(二苯并呋喃基)苯基;(二苯并噻吩基)苯基;菲基;(菲基)苯基;9,9-二甲基芴基;或者9-苯基咔唑基。
由化学式2表示的化合物的代表性实例如下:
此外,提供了用于制备由化学式2表示的化合物的方法。
例如,化学式2的化合物可以通过如以下反应方案2-1中的制备方法来制备。此外,当L’为单键时,化学式2的化合物可以通过如以下反应方案2-2中的制备方法来制备。
[反应方案2-1]
[反应方案2-2]
在反应方案2-1和2-2中,除了X’之外的其他取代基的限定与以上中限定的相同,以及各X’为卤素,优选为溴或氯。
反应方案2-1为Suzuki偶联反应,并且优选地在钯催化剂和碱的存在下进行。此外,用于Suzuki偶联反应的反应性基团可以如本领域已知的来适当地改变。
反应方案2-2为胺取代反应,并且优选地在钯催化剂和碱的存在下进行。此外,用于胺取代反应的反应性基团可以如本领域已知的来适当地改变。
可以在以下描述的制备例中更具体地描述由化学式2表示的化合物的制备方法。
在发光层中,由化学式1表示的化合物和由化学式2表示的化合物可以以1:99至99:1、5:95至95:5、或者10:90至90:10的重量比包含在内。
掺杂剂材料没有特别限制,只要其为有机发光器件中使用的材料即可。例如,掺杂剂材料包括芳族胺衍生物、苯乙烯基胺化合物、硼配合物、荧蒽化合物、金属配合物等。具体地,芳族胺衍生物为经取代或未经取代的具有芳基氨基的稠合芳族环衍生物,并且其实例包括具有芳基氨基的芘、蒽、、二茚并芘等。苯乙烯基胺化合物为其中经取代或未经取代的芳基胺中取代有至少一个芳基乙烯基的化合物,其中选自芳基、甲硅烷基、烷基、环烷基和芳基氨基中的一个或两个或更多个取代基是经取代或未经取代的。其具体实例包括苯乙烯基胺、苯乙烯基二胺、苯乙烯基三胺、苯乙烯基四胺等,但不限于此。此外,金属配合物包括铱配合物、铂配合物等,但不限于此。
在一个实施方案中,可以使用以下化合物中的一者或更多者作为掺杂剂材料,但本公开内容不限于此:
空穴传输层
根据本公开内容的有机发光器件可以包括在发光层与阳极之间的空穴传输层。
此外,空穴传输层为接收来自空穴注入层的空穴并将空穴传输至发光层的层。空穴传输材料合适地为具有大的空穴迁移率的材料,其可以接收来自阳极或空穴注入层的空穴并将空穴转移至发光层。
空穴传输材料的具体实例包括基于芳基胺的有机材料、导电聚合物、同时存在共轭部分和非共轭部分的嵌段共聚物等,但不限于此。
空穴注入层
如有必要,根据本公开内容的有机发光器件还可以包括在阳极与空穴传输层之间的空穴注入层。
空穴注入层为用于注入来自电极的空穴的层,并且空穴注入材料优选为这样的化合物:其具有传输空穴的能力,因此具有注入阳极中的空穴的效应以及对发光层或发光材料的优异的空穴注入效应,防止发光层中产生的激子移动至电子注入层或电子注入材料,并且在形成薄膜的能力方面优异。优选空穴注入材料的HOMO(最高占据分子轨道)在阳极材料的功函数与周围有机材料层的HOMO之间。
空穴注入材料的具体实例包括金属卟啉、低聚噻吩、基于芳基胺的有机材料、基于六腈六氮杂苯并菲的有机材料、基于喹吖啶酮的有机材料、基于的有机材料、蒽醌、聚苯胺和聚噻吩类导电聚合物等,但不限于此。
电子阻挡层
如有必要,根据本公开内容的有机发光器件可以包括在空穴传输层与发光层之间的电子阻挡层。
电子阻挡层防止从阴极注入的电子转移至空穴传输层而不在发光层中复合,并且也被称为电子抑制层。对于电子阻挡层,具有比电子传输层的电子亲合性更低的电子亲合性的材料是优选的。
电子传输层
根据本公开内容的有机发光器件可以包括在发光层与阴极之间的电子传输层。
电子传输层接收来自阴极或形成在阴极上的电子注入层的电子并将电子传输至发光层,并且还抑制空穴在发光层中的传输的层。电子传输材料合适地为可以很好地接收来自阴极的电子并将电子转移至发光层,并且具有大的电子迁移率的材料。
具体地,其实例可以包括:8-羟基喹啉的Al配合物;包含Alq3的配合物;有机自由基化合物;羟基黄酮-金属配合物等,但不限于此。电子传输层可以与如根据相关技术使用的任何期望的阴极材料一起使用。特别地,阴极材料的适当的实例为具有低功函数、后接铝层或银层的典型材料。其具体实例包括铯、钡、钙、镱和钐,在每种情况下均后接铝层或银层。
电子注入层
如有必要,根据本公开内容的有机发光器件还可以包括在电子传输层与阴极之间的电子注入层。
电子注入层为注入来自电极的电子的层,并且优选为这样的化合物:其具有传输电子的能力,具有注入来自阴极的电子的效应以及将电子注入到发光层或发光材料中的优异效应,防止由发光层产生的激子移动至空穴注入层,并且在形成薄膜的能力方面也优异。
可以用于电子注入层的材料的具体实例包括芴酮、蒽醌二甲烷、联苯醌、噻喃二氧化物、唑、二唑、三唑、咪唑、四羧酸、亚芴基甲烷、蒽酮等,及其衍生物;金属配合物化合物;含氮5元环衍生物;等等,但不限于此。
金属配合物化合物的实例包括8-羟基喹啉锂、双(8-羟基喹啉)锌、双(8-羟基喹啉)铜、双(8-羟基喹啉)锰、三(8-羟基喹啉)铝、三(2-甲基-8-羟基喹啉)铝、三(8-羟基喹啉)镓、双(10-羟基苯并[h]喹啉)铍、双(10-羟基苯并[h]喹啉)锌、双(2-甲基-8-喹啉)氯镓、双(2-甲基-8-喹啉)(邻甲酚)镓、双(2-甲基-8-喹啉)(1-萘酚)铝、双(2-甲基-8-喹啉)(2-萘酚)镓等,但不限于此。
根据本公开内容的一个实施方案,可以同时沉积电子传输材料和电子注入材料以形成作为单层的电子注入和传输层。
空穴阻挡层
如有必要,根据本公开内容的有机发光器件可以包括在电子传输层与发光层之间的空穴阻挡层。
空穴阻挡层防止从阳极注入的空穴转移至电子传输层而不在发光层中复合,并且对于空穴阻挡层,具有高的电离能的材料是优选的。
有机发光器件
图1中示出了根据本公开内容的有机发光器件的结构。图1示出了包括基底1、阳极2、发光层3和阴极4的有机发光器件的一个实例。图2示出了包括基底1、阳极2、空穴注入层5、空穴传输层6、发光层3、电子传输层7、电子注入层8和阴极4的有机发光器件的一个实例。图3示出了包括基底1、阳极2、空穴注入层5、空穴传输层6、电子阻挡层9、发光层3、空穴阻挡层10、电子注入和传输层11、以及阴极4的有机发光器件的一个实例。
根据本公开内容的有机发光器件可以通过顺序地层合上述部件来制造。在这种情况下,有机发光器件可以通过以下制造:使用PVD(物理气相沉积)法例如溅射法或电子束蒸镀法在基底上沉积金属、具有导电性的金属氧化物、或其合金以形成阳极,在阳极上形成上述各个层,然后在其上沉积可以用作阴极的材料。
除了这样的方法之外,有机发光器件还可以通过以相反顺序在基底上将上述部件从阴极材料顺序地沉积至阳极材料来制造(WO 2003/012890)。此外,发光层可以使用主体和掺杂剂通过溶液涂覆法和真空沉积法来形成。在此,溶液涂覆法意指旋涂、浸涂、刮涂、喷墨印刷、丝网印刷、喷洒法、辊涂等,但不限于此。
根据本公开内容的有机发光器件可以为底部发射器件、顶部发射器件、或者双侧发射器件,并且特别地,其可以为要求相对高的发光效率的底部发射器件。
将在以下实施例中详细地描述根据本公开内容的有机发光器件的制备。然而,这些实施例仅出于举例说明的目的而呈现,并且不旨在限制本公开内容的范围。
[实施例]
<合成例1:化学式1的化合物的制备>
合成例1-1
在氮气气氛下将化学式1-A(15g,60.9mmol)和Trz1(19.3g,60.9mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(16.8g,121.7mmol)溶解在50ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.3g,0.6mmol)。在反应4小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备20.9g sub1-A-1(产率71%,MS:[M+H]+=484)。
在氮气气氛下将sub1-A-1(15g,31mmol)和sub1(6.1g,31mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(8.6g,62mmol)溶解在26ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备12.3g化合物1-1(产率66%,MS:[M+H]+=602)。
合成例1-2
在氮气气氛下将化学式1-A(15g,60.9mmol)和Trz2(16.3g,60.9mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(25.2g,182.6mmol)溶解在76ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.3g,0.6mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备19.5g sub1-A-2(产率74%,MS:[M+H]+=434)。
在氮气气氛下将sub1-A-2(15g,34.6mmol)和sub2(9.4g,34.6mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(9.6g,69.1mmol)溶解在29ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应4小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备14.3g化合物1-2(产率66%,MS:[M+H]+=626)。
合成例1-3
在氮气气氛下将化学式1-A(15g,60.9mmol)和Trz3(19.3g,60.9mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(25.2g,182.6mmol)溶解在76ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.3g,0.6mmol)。在反应2小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备23.2g sub1-A-3(产率79%,MS:[M+H]+=484)。
在氮气气氛下将sub1-A-3(15g,31mmol)和sub3(7.1g,31mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(8.6g,62mmol)溶解在26ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应4小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备12.9g化合物1-3(产率66%,MS:[M+H]+=632)。
合成例1-4
在氮气气氛下将化学式1-A(15g,60.9mmol)和Trz4(27g,60.9mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(25.2g,182.6mmol)溶解在76ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.3g,0.6mmol)。在反应5小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备26gsub1-A-4(产率70%,MS:[M+H]+=610)。
在氮气气氛下将sub1-A-4(15g,24.6mmol)和sub4(5.6g,24.6mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(6.8g,49.2mmol)溶解在20ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g,0.2mmol)。在反应4小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备11.2g化合物1-4(产率60%,MS:[M+H]+=758)。
合成例1-5
在氮气气氛下将化学式1-B(15g,60.9mmol)和Trz5(24g,60.9mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(25.2g,182.6mmol)溶解在76ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.3g,0.6mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备26.2g sub1-B-1(产率77%,MS:[M+H]+=560)。
在氮气气氛下将sub1-B-1(15g,26.8mmol)和sub5(3.3g,26.8mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(7.4g,53.6mmol)溶解在22ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g,0.3mmol)。在反应2小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备12.9g化合物1-5(产率80%,MS:[M+H]+=602)。
合成例1-6
在氮气气氛下将化学式1-B(15g,60.9mmol)和Trz3(19.3g,60.9mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(25.2g,182.6mmol)溶解在76ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.3g,0.6mmol)。在反应4小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备18.2g sub1-B-2(产率62%,MS:[M+H]+=484)。
在氮气气氛下将sub1-B-2(15g,31mmol)和sub6(7.6g,31mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(8.6g,62mmol)溶解在26ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备15.3g化合物1-6(产率76%,MS:[M+H]+=650)。
合成例1-7
在氮气气氛下将化学式1-B(15g,60.9mmol)和Trz2(16.3g,60.9mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(25.2g,182.6mmol)溶解在76ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.3g,0.6mmol)。在反应4小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备20.8g sub1-B-3(产率79%,MS:[M+H]+=434)。
在氮气气氛下将sub1-B-3(15g,34.6mmol)和sub7(8.6g,34.6mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(9.6g,69.1mmol)溶解在29ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备15.4g化合物1-7(产率74%,MS:[M+H]+=602)。
合成例1-8
在氮气气氛下将sub1-B-2(15g,31mmol)和sub8(8.1g,31mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(8.6g,62mmol)溶解在26ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应4小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备15.5g化合物1-8(产率75%,MS:[M+H]+=666)。
合成例1-9
在氮气气氛下将化学式1-B(15g,60.9mmol)和Trz6(22.4g,60.9mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(25.2g,182.6mmol)溶解在76ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.3g,0.6mmol)。在反应4小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备23.7g sub1-B-4(产率73%,MS:[M+H]+=534)。
在氮气气氛下将sub1-B-4(15g,28.1mmol)和sub9(6g,28.1mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(7.8g,56.2mmol)溶解在23ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g,0.3mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备11.6g化合物1-9(产率62%,MS:[M+H]+=666)。
合成例1-10
在氮气气氛下将化学式1-B(15g,60.9mmol)和Trz7(28.6g,60.9mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(25.2g,182.6mmol)溶解在76ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.3g,0.6mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备28.6g sub1-B-5(产率74%,MS:[M+H]+=636)。
在氮气气氛下将sub1-B-5(15g,23.6mmol)和sub5(2.9g,23.6mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(6.5g,47.2mmol)溶解在20ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g,0.2mmol)。在反应4小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备10.4g化合物1-10(产率65%,MS:[M+H]+=678)。
合成例1-11
在氮气气氛下将化学式1-B(15g,60.9mmol)和Trz8(21.8g,60.9mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(25.2g,182.6mmol)溶解在76ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.3g,0.6mmol)。在反应4小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备20.1g sub1-B-6(产率63%,MS:[M+H]+=524)。
在氮气气氛下将sub1-B-6(15g,28.6mmol)和sub10(4.9g,28.6mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(7.9g,57.3mmol)溶解在24ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g,0.3mmol)。在反应4小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备11.4g化合物1-11(产率65%,MS:[M+H]+=616)。
合成例1-12
在氮气气氛下将化学式1-C(15g,60.9mmol)和Trz3(19.3g,60.9mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(25.2g,182.6mmol)溶解在76ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.3g,0.6mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备17.6g sub1-C-1(产率60%,MS:[M+H]+=484)。
在氮气气氛下将sub1-C-1(15g,31mmol)和sub10(5.3g,31mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(8.6g,62mmol)溶解在26ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应4小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备12.8g化合物1-12(产率72%,MS:[M+H]+=576)。
合成例1-13
在氮气气氛下将化学式1-C(15g,60.9mmol)和Trz9(24g,60.9mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(25.2g,182.6mmol)溶解在76ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.3g,0.6mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备23.5g sub1-C-2(产率69%,MS:[M+H]+=560)。
在氮气气氛下将sub1-C-2(15g,26.8mmol)和sub10(4.6g,26.8mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(7.4g,53.6mmol)溶解在22ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g,0.3mmol)。在反应5小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备14g化合物1-13(产率80%,MS:[M+H]+=652)。
合成例1-14
在氮气气氛下将化学式1-C(15g,60.9mmol)和Trz10(20.9g,60.9mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(25.2g,182.6mmol)溶解在76ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.3g,0.6mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备20.5g sub1-C-3(产率66%,MS:[M+H]+=510)。
在氮气气氛下将sub1-C-3(15g,29.4mmol)和sub11(7.3g,29.4mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(8.1g,58.8mmol)溶解在24ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应4小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备15.3g化合物1-14(产率77%,MS:[M+H]+=678)。
合成例1-15
在氮气气氛下将化学式1-C(15g,60.9mmol)和Trz2(16.3g,60.9mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(25.2g,182.6mmol)溶解在76ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.3g,0.6mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备18.7g sub1-C-4(产率71%,MS:[M+H]+=434)。
在氮气气氛下将sub1-C-4(15g,37.1mmol)和sub12(9.7g,37.1mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(10.3g,74.3mmol)溶解在31ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.4mmol)。在反应4小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备14.6g化合物1-15(产率64%,MS:[M+H]+=616)。
合成例1-16
在氮气气氛下将sub1-C-3(15g,26.8mmol)和sub13(7.4g,26.8mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(7.4g,53.6mmol)溶解在22ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g,0.3mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备16.2g化合物1-16(产率80%,MS:[M+H]+=758)。
合成例1-17
在氮气气氛下将sub1-C-4(15g,34.6mmol)和sub14(7.7g,34.6mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(9.6g,69.1mmol)溶解在29ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备12.3g化合物1-17(产率62%,MS:[M+H]+=576)。
合成例1-18
在氮气气氛下将sub1-C-1(15g,31mmol)和sub9(6.6g,31mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(8.6g,62mmol)溶解在26ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备12g化合物1-18(产率63%,MS:[M+H]+=616)。
合成例1-19
在氮气气氛下将化学式1-C(15g,60.9mmol)和Trz11(22.4g,60.9mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(25.2g,182.6mmol)溶解在76ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.3g,0.6mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备22.4g sub1-C-5(产率69%,MS:[M+H]+=534)。
在氮气气氛下将sub1-C-5(15g,28.1mmol)和sub15(6g,28.1mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(7.8g,56.2mmol)溶解在23ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g,0.3mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备13.3g化合物1-19(产率71%,MS:[M+H]+=666)。
合成例1-20
在氮气气氛下将化学式1-C(15g,60.9mmol)和Trz12(21.8g,60.9mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(25.2g,182.6mmol)溶解在76ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.3g,0.6mmol)。在反应4小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备21g sub1-C-6(产率66%,MS:[M+H]+=524)。
在氮气气氛下将sub1-C-6(15g,28.6mmol)和sub10(4.9g,28.6mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(11.9g,85.9mmol)溶解在36ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g,0.3mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备12.3g化合物1-20(产率70%,MS:[M+H]+=616)。
合成例1-21
在氮气气氛下将化学式1-C(15g,60.9mmol)和Trz13(24g,60.9mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(25.2g,182.6mmol)溶解在76ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.3g,0.6mmol)。在反应4小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备26.2g sub1-C-7(产率77%,MS:[M+H]+=560)。
在氮气气氛下将sub1-C-7(15g,26.8mmol)和sub5(3.3g,26.8mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(11.1g,80.3mmol)溶解在33ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g,0.3mmol)。在反应4小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备10.5g化合物1-21(产率65%,MS:[M+H]+=602)。
合成例1-22
在氮气气氛下将化学式1-D(15g,60.9mmol)和Trz14(19.3g,60.9mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(25.2g,182.6mmol)溶解在76ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.3g,0.6mmol)。在反应4小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备23.9g sub1-D-1(产率67%,MS:[M+H]+=586)。
在氮气气氛下将sub1-D-1(15g,25.6mmol)和sub5(3.1g,25.6mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(10.6g,76.8mmol)溶解在32ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g,0.3mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备10.3g化合物1-22(产率64%,MS:[M+H]+=628)。
合成例1-23
在氮气气氛下将化学式1-D(15g,60.9mmol)和Trz2(16.3g,60.9mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(25.2g,182.6mmol)溶解在76ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.3g,0.6mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备20g sub1-D-2(产率76%,MS:[M+H]+=434)。
在氮气气氛下将sub1-D-2(15g,34.6mmol)和sub16(9.1g,34.6mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(14.3g,103.7mmol)溶解在43ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应4小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备14g化合物1-23(产率66%,MS:[M+H]+=616)。
合成例1-24
在氮气气氛下将化学式1-D(15g,60.9mmol)和Trz10(20.9g,60.9mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(25.2g,182.6mmol)溶解在76ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.3g,0.6mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备20.8g sub1-D-3(产率67%,MS:[M+H]+=510)。
在氮气气氛下将sub1-D-3(15g,29.4mmol)和sub17(7.7g,29.4mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(12.2g,88.2mmol)溶解在37ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应4小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备12.4g化合物1-24(产率61%,MS:[M+H]+=692)。
合成例1-25
在氮气气氛下将化学式1-D(15g,60.9mmol)和Trz15(21.8g,60.9mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(25.2g,182.6mmol)溶解在76ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.3g,0.6mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备21.3g sub1-D-4(产率67%,MS:[M+H]+=524)。
在氮气气氛下将sub1-D-4(15g,28.6mmol)和sub10(4.9g,28.6mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(11.9g,85.9mmol)溶解在36ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g,0.3mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备10.7g化合物1-25(产率61%,MS:[M+H]+=616)。
合成例1-26
在氮气气氛下将sub1-D-3(15g,29.4mmol)和sub18(6.2g,29.4mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(12.2g,88.2mmol)溶解在37ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应4小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备14.3g化合物1-26(产率76%,MS:[M+H]+=642)。
合成例1-27
在氮气气氛下将化学式1-D(15g,60.9mmol)和Trz16(27g,60.9mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(25.2g,182.6mmol)溶解在76ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.3g,0.6mmol)。在反应4小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备27.1g sub1-D-5(产率73%,MS:[M+H]+=610)。
在氮气气氛下将sub1-D-5(15g,24.6mmol)和sub9(5.2g,24.6mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(10.2g,73.8mmol)溶解在31ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g,0.2mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备12.8g化合物1-27(产率70%,MS:[M+H]+=742)。
合成例1-28
在氮气气氛下将化学式1-D(15g,60.9mmol)和Trz13(24g,60.9mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(25.2g,182.6mmol)溶解在76ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.3g,0.6mmol)。在反应4小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备20.8g sub1-D-6(产率61%,MS:[M+H]+=560)。
在氮气气氛下将sub1-D-6(15g,26.8mmol)和sub10(4.6g,26.8mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(11.1g,80.3mmol)溶解在33ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g,0.3mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备12.2g化合物1-28(产率70%,MS:[M+H]+=652)。
合成例1-29
在氮气气氛下将化学式1-E(15g,60.9mmol)和Trz2(16.3g,60.9mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(25.2g,182.6mmol)溶解在76ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.3g,0.6mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备17.1g sub1-E-1(产率65%,MS:[M+H]+=434)。
在氮气气氛下将sub1-E-1(15g,34.6mmol)和sub2(9.4g,34.6mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(14.3g,103.7mmol)溶解在43ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应4小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备14.5g化合物1-29(产率67%,MS:[M+H]+=626)。
合成例1-30
在氮气气氛下将化学式1-E(15g,60.9mmol)和Trz9(24g,60.9mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(25.2g,182.6mmol)溶解在76ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.3g,0.6mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备26.9g sub1-E-2(产率79%,MS:[M+H]+=560)。
在氮气气氛下将sub1-E-2(15g,26.8mmol)和sub19(7g,26.8mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(11.1g,80.3mmol)溶解在33ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g,0.3mmol)。在反应4小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备15.9g化合物1-30(产率80%,MS:[M+H]+=742)。
合成例1-31
在氮气气氛下将化学式1-E(15g,60.9mmol)和Trz17(22.4g,60.9mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(25.2g,182.6mmol)溶解在76ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.3g,0.6mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备25.3g sub1-E-3(产率78%,MS:[M+H]+=534)。
在氮气气氛下将sub1-E-3(15g,28.1mmol)和sub2-(7.8g,28.1mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(11.6g,84.3mmol)溶解在35ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g,0.3mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备14.8g化合物1-31(产率72%,MS:[M+H]+=732)。
合成例1-32
在氮气气氛下将sub1-E-1(15g,34.6mmol)和sub21(7.7g,34.6mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(14.3g,103.7mmol)溶解在43ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备12.9g化合物1-32(产率65%,MS:[M+H]+=576)。
合成例1-33
在氮气气氛下将化学式1-E(15g,60.9mmol)和Trz15(21.8g,60.9mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(25.2g,182.6mmol)溶解在76ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.3g,0.6mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备25.5g sub1-E-4(产率80%,MS:[M+H]+=524)。
在氮气气氛下将sub1-E-4(15g,28.6mmol)和sub10(4.9g,28.6mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(11.9g,85.9mmol)溶解在36ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g,0.3mmol)。在反应4小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备10.6g化合物1-33(产率60%,MS:[M+H]+=616)。
合成例1-34
在氮气气氛下将化学式1-E(15g,60.9mmol)和Trz3(19.3g,60.9mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(25.2g,182.6mmol)溶解在76ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.3g,0.6mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备17.6g sub1-E-5(产率60%,MS:[M+H]+=484)。
在氮气气氛下将sub1-E-5(15g,31mmol)和sub9(6.6g,31mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(12.9g,93mmol)溶解在39ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应4小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备11.4g化合物1-34(产率60%,MS:[M+H]+=616)。
合成例1-35
在氮气气氛下将化学式1-E(15g,60.9mmol)和Trz10(20.9g,60.9mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(25.2g,182.6mmol)溶解在76ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.3g,0.6mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备21.7g sub1-E-6(产率70%,MS:[M+H]+=510)。
在氮气气氛下将sub1-E-6(15g,29.4mmol)和sub22(7.7g,29.4mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(12.2g,88.2mmol)溶解在37ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备14.6g化合物1-35(产率72%,MS:[M+H]+=692)。
合成例1-36
在氮气气氛下将sub1-E-5(15g,31mmol)和sub23(8.1g,31mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(12.9g,93mmol)溶解在39ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应4小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备12.4g化合物1-36(产率60%,MS:[M+H]+=666)。
合成例1-37
在氮气气氛下将sub1-E-5(15g,31mmol)和sub10(5.3g,31mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(12.9g,93mmol)溶解在39ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备14.1g化合物1-37(产率79%,MS:[M+H]+=576)。
合成例1-38
在氮气气氛下将化学式1-E(15g,60.9mmol)和Trz18(27g,60.9mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(25.2g,182.6mmol)溶解在76ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.3g,0.6mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备24.1g sub1-E-7(产率65%,MS:[M+H]+=610)。
在氮气气氛下将sub1-E-7(15g,24.6mmol)和sub5(3g,24.6mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(10.2g,73.8mmol)溶解在31ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g,0.2mmol)。在反应4小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备10.1g化合物1-38(产率63%,MS:[M+H]+=652)。
合成例1-39
在氮气气氛下将化学式1-E(15g,60.9mmol)和Trz13(24g,60.9mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(25.2g,182.6mmol)溶解在76ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.3g,0.6mmol)。在反应4小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备26.2g sub1-E-8(产率77%,MS:[M+H]+=560)。
在氮气气氛下将sub1-E-8(15g,26.8mmol)和sub5(3.3g,26.8mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(11.1g,80.3mmol)溶解在33ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g,0.3mmol)。在反应4小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备10.9g化合物1-39(产率68%,MS:[M+H]+=602)。
合成例1-40
在氮气气氛下将化学式1-F(15g,60.9mmol)和Trz2(16.3g,60.9mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(25.2g,182.6mmol)溶解在76ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.3g,0.6mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备19.2g sub1-F-1(产率73%,MS:[M+H]+=434)。
在氮气气氛下将化学式1-F(15g,34.6mmol)和sub6(8.5g,34.6mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(14.3g,103.7mmol)溶解在43ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备14.7g化合物1-40(产率71%,MS:[M+H]+=600)。
合成例1-41
在氮气气氛下将化学式1-F(15g,60.9mmol)和Trz10(20.9g,60.9mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(25.2g,182.6mmol)溶解在76ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.3g,0.6mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备21.1g sub1-F-2(产率68%,MS:[M+H]+=510)。
在氮气气氛下将sub1-F-2(15g,29.4mmol)和sub1(5.8g,29.4mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(12.2g,88.2mmol)溶解在37ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应4小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备14.2g化合物1-41(产率77%,MS:[M+H]+=628)。
合成例1-42
在氮气气氛下将Trz7(15g,31.9mmol)和sub9(6.8g,31.9mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(13.2g,95.8mmol)溶解在40ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备15.2g化合物1-42(产率79%,MS:[M+H]+=602)。
合成例1-43
在氮气气氛下将Trz16(15g,33.8mmol)和sub9(7.2g,33.8mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(14g,101.4mmol)溶解在42ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应4小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备15g化合物1-43(产率77%,MS:[M+H]+=576)。
合成例1-44
在氮气气氛下将Trz4(15g,33.8mmol)和sub9(7.2g,33.8mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(14g,101.4mmol)溶解在42ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应4小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备14.2g化合物1-44(产率73%,MS:[M+H]+=576)。
合成例1-45
在氮气气氛下将Trz1(15g,35.7mmol)和sub9(7.6g,35.7mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(14.8g,107.2mmol)溶解在44ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.4mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备12.2g化合物1-45(产率62%,MS:[M+H]+=552)。
合成例1-46
在氮气气氛下将Trz19(15g,33.8mmol)和sub9(7.2g,33.8mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(14g,101.4mmol)溶解在42ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应7小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备13.6g化合物1-46(产率70%,MS:[M+H]+=576)。
合成例1-47
在氮气气氛下将Trz20(15g,35.9mmol)和sub9(7.6g,35.9mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(14.9g,107.7mmol)溶解在45ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.4mmol)。在反应4小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备15g化合物1-47(产率76%,MS:[M+H]+=550)。
合成例1-48
在氮气气氛下将Trz3(15g,47.2mmol)和sub24(9.7g,47.2mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(19.6g,141.6mmol)溶解在59ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.5mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备13g sub1-G-1(产率62%,MS:[M+H]+=444)。
在氮气气氛下将sub1-G-1(15g,33.8mmol)和sub9(7.2g,33.8mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(14g,101.4mmol)溶解在42ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备15.2g化合物1-48(产率78%,MS:[M+H]+=576)。
合成例1-49
在氮气气氛下将0(15g,41.9mmol)和sub25(8.7g,41.9mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(17.4g,125.8mmol)溶解在52ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.4mmol)。在反应4小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备12.6gsub1-G-2(产率62%,MS:[M+H]+=484)。
在氮气气氛下将sub1-G-2(15g,31mmol)和sub9(6.6g,31mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(12.9g,93mmol)溶解在39ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备13.7g化合物1-49(产率72%,MS:[M+H]+=616)。
合成例1-50
在氮气气氛下将Trz21(15g,36.8mmol)和sub26(5.8g,36.8mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(15.2g,110.3mmol)溶解在46ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.4mmol)。在反应4小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备12.8g sub1-G-3(产率72%,MS:[M+H]+=484)。
在氮气气氛下将sub1-G-3(15g,31mmol)和sub9(6.6g,31mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(12.9g,93mmol)溶解在39ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备13.2g化合物1-50(产率69%,MS:[M+H]+=616)。
合成例1-51
在氮气气氛下将Trz16(15g,33.8mmol)和sub27(5.3g,33.8mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(14g,101.4mmol)溶解在42ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应4小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备13.3gsub1-G-4(产率76%,MS:[M+H]+=520)。
在氮气气氛下将sub1-G-4(15g,28.8mmol)和sub9(6.1g,28.8mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(12g,86.5mmol)溶解在36ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g,0.3mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备13.3g化合物1-51(产率71%,MS:[M+H]+=652)。
合成例1-52
在氮气气氛下将Trz22(15g,36.8mmol)和sub28(5.8g,36.8mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(15.2g,110.3mmol)溶解在46ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.4mmol)。在反应5小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备12.8g sub1-G-5(产率72%,MS:[M+H]+=484)。
在氮气气氛下将sub1-G-5(15g,31mmol)和sub9(6.6g,31mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(12.9g,93mmol)溶解在39ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备13g化合物1-52(产率68%,MS:[M+H]+=616)。
合成例1-53
在氮气气氛下将Trz23(15g,34.6mmol)和sub27(5.4g,34.6mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(14.3g,103.7mmol)溶解在43ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备11.3g sub1-G-6(产率64%,MS:[M+H]+=510)。
在氮气气氛下将sub1-G-5(15g,31mmol)和sub9(6.6g,31mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(12.9g,93mmol)溶解在39ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应2小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备13g化合物1-53(产率68%,MS:[M+H]+=616)。
合成例1-54
在氮气气氛下将sub1-G-1(15g,33.8mmol)和化学式1-E(8.3g,33.8mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(14g,101.4mmol)溶解在42ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备14.4g sub1-E-9(产率70%,MS:[M+H]+=610)。
在氮气气氛下将sub1-E-9(15g,24.6mmol)和sub5(3g,24.6mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(10.2g,73.8mmol)溶解在31ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g,0.2mmol)。在反应4小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备12.2g化合物1-54(产率76%,MS:[M+H]+=652)。
合成例1-55
在氮气气氛下将Trz2(15g,56mmol)和sub24(11.6g,56mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(23.2g,168.1mmol)溶解在70ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.3g,0.6mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备15.6gsub1-G-7(产率71%,MS:[M+H]+=394)。
在氮气气氛下将sub1-G-7(15g,38.1mmol)和化学式1-B(9.4g,38.1mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(15.8g,114.3mmol)溶解在47ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.4mmol)。在反应4小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备13.8g化合物sub1-B-7(产率65%,MS:[M+H]+=560)。
在氮气气氛下将sub1-B-7(15g,26.8mmol)和sub5(3.3g,26.8mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(11.1g,80.3mmol)溶解在33ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g,0.3mmol)。在反应9小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备12.9g化合物1-55(产率80%,MS:[M+H]+=602)。
合成例1-56
在氮气气氛下将Trz24(15g,40.1mmol)和sub25(9.1g,44.1mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(16.6g,120.3mmol)溶解在50ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.4mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备13.8g sub1-G-8(产率69%,MS:[M+H]+=501)。
在氮气气氛下将sub1-G-8(13g,26mmol)和sub9(6.1g,29mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(10.8g,78mmol)溶解在40ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备12.1g化合物1-56(产率73%,MS:[M+H]+=632)。
合成例1-57
在氮气气氛下将Trz25(15g,41.9mmol)和sub24(8.7g,41.9mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(17.4g,125.8mmol)溶解在52ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.4mmol)。在反应11小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备12.4g sub1-G-9(产率61%,MS:[M+H]+=484)。
在氮气气氛下将sub1-G-9(15g,31mmol)和化学式1-F(7.6g,31mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(12.9g,93mmol)溶解在39ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备12.5g化合物sub1-F-3(产率62%,MS:[M+H]+=650)。
在氮气气氛下将sub1-F-3(15g,23.1mmol)和sub5(2.8g,23.1mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(9.6g,69.2mmol)溶解在29ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g,0.2mmol)。在反应4小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备12.8g化合物1-57(产率80%,MS:[M+H]+=692)。
合成例1-58
在氮气气氛下将Trz26(15g,33.8mmol)和sub26(5.3g,33.8mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(14g,101.4mmol)溶解在42ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应4小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备10.5gsub1-G-10(产率60%,MS:[M+H]+=520)。
在氮气气氛下将sub1-G-10(15g,28.8mmol)和化学式1-D(7.1g,28.8mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(12g,86.5mmol)溶解在36ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g,0.3mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备15g化合物sub1-D-7(产率76%,MS:[M+H]+=687)。
在氮气气氛下将sub1-D-7(15g,21.9mmol)和sub5(2.7g,21.9mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(9.1g,65.6mmol)溶解在27ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g,0.2mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备9.9g化合物1-58(产率62%,MS:[M+H]+=728)。
合成例1-59
在氮气气氛下将Trz15(15g,41.9mmol)和sub24(8.7g,41.9mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(17.4g,125.8mmol)溶解在52ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.4mmol)。在反应11小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备12.4g sub1-G-11(产率61%,MS:[M+H]+=484)。
在氮气气氛下将sub1-G-11(12.4g,25.6mmol)和化学式1-F(6.9g,28.2mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(11g,76.8mmol)溶解在36ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g,0.3mmol)。在反应10小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备13g化合物sub1-F-4(产率78%,MS:[M+H]+=651)。
在氮气气氛下将sub1-F-4(13g,19.9mmol)和sub5(2.7g,21.9mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(8.3g,59.9mmol)溶解在29ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g,0.2mmol)。在反应10小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备10.2g化合物1-59(产率73%,MS:[M+H]+=692)。
合成例1-60
在氮气气氛下将Trz12(15g,41.9mmol)和sub28(6.6g,41.9mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(17.4g,125.8mmol)溶解在52ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.4mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备11.1g sub1-G-12(产率61%,MS:[M+H]+=434)。
在氮气气氛下将sub1-G-12(15g,34.6mmol)和化学式1-D(8.5g,34.6mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(14.3g,103.7mmol)溶解在43ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备13.6g化合物sub1-D-8(产率79%,MS:[M+H]+=500)。
在氮气气氛下将sub1-D-8(15g,25mmol)和sub10(4.3g,25mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(10.4g,75mmol)溶解在31ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g,0.2mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备13.3g化合物1-60(产率77%,MS:[M+H]+=692)。
合成例1-61
在氮气气氛下将Trz27(15g,31.9mmol)和sub9(6.8g,31.9mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(13.2g,95.8mmol)溶解在40ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备10g化合物1-61(产率52%,MS:[M+H]+=602)。
合成例1-62
在氮气气氛下将Trz28(15g,33.8mmol)和sub9(7.2g,33.8mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(14g,101.4mmol)溶解在42ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应4小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备12.2g化合物1-62(产率63%,MS:[M+H]+=576)。
合成例1-63
在氮气气氛下将Trz29(15g,31.9mmol)和sub9(6.8g,31.9mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(13.2g,95.8mmol)溶解在40ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备12.7g化合物1-63(产率66%,MS:[M+H]+=602)。
合成例1-64
在氮气气氛下将Trz30(15g,31.9mmol)和sub9(6.8g,31.9mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(13.2g,95.8mmol)溶解在40ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应5小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备13.2g化合物1-64(产率69%,MS:[M+H]+=602)。
合成例1-65
在氮气气氛下将Trz31(15g,33.8mmol)和sub9(7.2g,33.8mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(14g,101.4mmol)溶解在42ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应5小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备14.6g化合物1-65(产率75%,MS:[M+H]+=576)。
合成例1-66
在氮气气氛下将化学式1-B(15g,60.9mmol)和Trz30(28.6g,60.9mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(25.2g,182.6mmol)溶解在76ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应5小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备19.3g sub1-B-7(产率50%,MS:[M+H]+=636)。
在氮气气氛下将sub1-B-7(15g,23.6mmol)和sub5(2.9g,23.6mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(9.8g,70.7mmol)溶解在29ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备8.5g化合物1-66(产率53%,MS:[M+H]+=678)。
合成例1-67
在氮气气氛下将化学式1-C(15g,60.9mmol)和Trz32(25.6g,60.9mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(25.2g,182.6mmol)溶解在76ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应8小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备24.9g sub1-C-8(产率70%,MS:[M+H]+=586)。
在氮气气氛下将sub1-C-8(15g,25.6mmol)和sub5(3.1g,25.6mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(10.6g,76.8mmol)溶解在32ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应9小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备10.6g化合物1-67(产率66%,MS:[M+H]+=628)。
合成例1-68
在氮气气氛下将化学式1-D(15g,60.9mmol)和Trz33(27g,60.9mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(25.2g,182.6mmol)溶解在76ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应5小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备29.7g sub1-D-7(产率80%,MS:[M+H]+=610)。
在氮气气氛下将sub1-D-7(15g,24.6mmol)和sub5(3g,24.6mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(10.2g,73.8mmol)溶解在31ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应4小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备11.2g化合物1-68(产率70%,MS:[M+H]+=652)。
合成例1-69
在氮气气氛下将化学式1-E(15g,60.9mmol)和Trz34(24g,60.9mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(25.2g,182.6mmol)溶解在76ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应8小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备21.8g sub1-E-9(产率64%,MS:[M+H]+=560)。
在氮气气氛下将sub1-E-9(15g,26.8mmol)和sub5(3.3g,26.8mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(11.1g,80.3mmol)溶解在33ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在反应3小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备10g化合物1-69(产率62%,MS:[M+H]+=602)。
<制备例:化学式2的化合物的核的制备>
(制备例1至4的合成方案)
制备例1:化学式AA的合成
在氮气气氛下将2-氨基-5-溴-4-氟苯酚(15g,72.8mmol)和(3-氯-2-羟基苯基)硼酸(12.6g,72.8mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(30.2g,218.4mmol)溶解在91ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.4g,0.7mmol)。在反应11小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备13.3g化学式AA_P1(产率72%,MS:[M+H]+=254)。
在氮气气氛下将化学式AA_P1(15g,59.1mmol)和碳酸钾(24.5g,177.4mmol)添加至150ml DMF中,并将混合物搅拌并回流。在反应9小时之后,进行冷却至室温,然后在减压下蒸馏有机溶剂。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备9.6g化学式AA_P2(产率70%,MS:[M+H]+=234)。
在氮气气氛下将化学式AA_P2(15g,64.2mmol)、二硫化碳(5.9g,77mmol)和氢氧化钾(4.3g,77mmol)添加至150ml EtOH中,并将混合物搅拌并回流。在反应12小时之后,进行冷却至室温,然后将在减压下蒸馏有机溶剂。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备10.8g化学式AA_P3(产率70%,MS:[M+H]+=242)。
在氮气气氛下将化学式AA_P3(15g,62.2mmol)和五氯化磷(15.5g,74.6mmol)添加至150ml甲苯中,并将混合物搅拌并回流。在反应12小时之后,进行冷却至室温,然后在减压下蒸馏有机溶剂。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备13.6g化学式AA(产率79%,MS:[M+H]+=278)。
制备例2:化学式AB的合成
以与制备例1中相同的方式制备化学式AB,不同之处在于使用(4-氯-2-羟基苯基)硼酸代替(3-氯-2-羟基苯基)硼酸。
制备例3:化学式AC的合成
以与制备例1中相同的方式制备化学式AC,不同之处在于使用(5-氯-2-羟基苯基)硼酸代替(3-氯-2-羟基苯基)硼酸。
制备例4:化学式AD的合成
以与制备例1中相同的方式制备化学式AD,不同之处在于使用(2-氯-6-羟基苯基)硼酸代替(3-氯-2-羟基苯基)硼酸。
(制备例5至6的合成方案)
制备例5:化学式AE的合成
以与制备例1中相同的方式制备化学式AE,不同之处在于使用2-氨基-5-溴-3-氯-4-氟苯酚代替2-氨基-5-溴-4-氟苯酚,并使用(2-羟基苯基)硼酸代替(3-氯-2-羟基苯基)硼酸。
制备例6:化学式AF的合成
以与制备例1中相同的方式制备化学式AF,不同之处在于使用6-氨基-3-溴-2-氯-4-氟苯酚代替2-氨基-5-溴-4-氟苯酚,并使用(2-羟基苯基)硼酸代替(3-氯-2-羟基苯基)硼酸。
制备例7:化学式AG的合成
以与制备例1中相同的方式制备化学式AG,不同之处在于使用(2-羟基苯基)硼酸代替(3-氯-2-羟基苯基)硼酸。
(制备例8至11的合成方案)
制备例8:化学式BA的合成
以与制备例1中相同的方式制备化学式BA,不同之处在于使用2-氨基-4-溴-5-氟苯酚代替2-氨基-5-溴-4-氟苯酚。
制备例9:化学式BB的合成
以与制备例1中相同的方式制备化学式BB,不同之处在于使用2-氨基-4-溴-5-氟苯酚代替2-氨基-5-溴-4-氟苯酚,并使用(4-氯-2-羟基苯基)硼酸代替(3-氯-2-羟基苯基)硼酸。
制备例10:化学式BC的合成
以与制备例1中相同的方式制备化学式BC,不同之处在于使用2-氨基-4-溴-5-氟苯酚代替2-氨基-5-溴-4-氟苯酚,并使用(5-氯-2-羟基苯基)硼酸代替(3-氯-2-羟基苯基)硼酸。
制备例11:化学式BD的合成
以与制备例1中相同的方式制备化学式BD,不同之处在于使用2-氨基-4-溴-5-氟苯酚代替2-氨基-5-溴-4-氟苯酚,并使用(2-氯-6-羟基苯基)硼酸代替(3-氯-2-羟基苯基)硼酸。
(制备例12至13的合成方案)
制备例12:化学式BE的合成
以与制备例1中相同的方式制备化学式BE,不同之处在于使用6-氨基-4-溴-2-氯-3-氟苯酚代替2-氨基-5-溴-4-氟苯酚,并使用(2-羟基苯基)硼酸代替(3-氯-2-羟基苯基)硼酸。
制备例13:化学式BF的合成
以与制备例1中相同的方式制备化学式BF,不同之处在于使用2-氨基-4-溴-3-氯-5-氟苯酚代替2-氨基-5-溴-4-氟苯酚,并使用(2-羟基苯基)硼酸代替(3-氯-2-羟基苯基)硼酸。
制备例14:化学式BG的合成
以与制备例1中相同的方式制备化学式BG,不同之处在于使用2-氨基-4-溴-5-氟苯酚代替2-氨基-5-溴-4-氟苯酚,并使用(2-羟基苯基)硼酸代替(3-氯-2-羟基苯基)硼酸。
<合成例2:化学式2的化合物的制备>
合成例2-1
在氮气气氛下将subAA-3(10g,31.3mmol)、胺1(13.2g,31.3mmol)和叔丁醇钠(10g,46.9mmol)添加至200ml二甲苯中,并将混合物搅拌并回流。然后,向其中添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在3小时之后,反应完成,进行冷却至室温,并在减压下除去溶剂。然后,将化合物再次完全溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备12.8g化合物2-1(产率58%,MS:[M+H]+=705)。
合成例2-2
在氮气气氛下将subAA-3(10g,31.3mmol)、胺2(10.8g,31.3mmol)和叔丁醇钠(10g,46.9mmol)添加至200ml二甲苯中,并将混合物搅拌并回流。然后,向其中添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在3小时之后,反应完成,进行冷却至室温,并在减压下除去溶剂。然后,将化合物再次完全溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备10.6g化合物2-2(产率54%,MS:[M+H]+=629)。
合成例2-3
在氮气气氛下将subAA-3(10g,31.3mmol)、胺3(11g,31.3mmol)和叔丁醇钠(10g,46.9mmol)添加至200ml二甲苯中,并将混合物搅拌并回流。然后,向其中添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在2小时之后,反应完成,进行冷却至室温,并在减压下除去溶剂。然后,将化合物再次完全溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备12.9g化合物2-3(产率65%,MS:[M+H]+=635)。
合成例2-4
在氮气气氛下将subAA-3(15g,46.9mmol)和胺4(20.7g,46.9mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(19.5g,140.7mmol)溶解在58ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.5g,0.5mmol)。在反应9小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备24g化合物2-4(产率74%,MS:[M+H]+=691)。
合成例2-5
在氮气气氛下将AA(15g,53.9mmol)和萘-2-基硼酸(9.3g,53.9mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(22.4g,161.8mmol)溶解在67ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,然后添加四(三苯基膦)钯(0)(0.6g,0.5mmol)。在反应12小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备15.7g subAA-4(产率79%,MS:[M+H]+=370)。
在氮气气氛下将subAA-4(15g,40.6mmol)和胺5(16.8g,40.6mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(16.8g,121.7mmol)溶解在50ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.5g,0.4mmol)。在反应12小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备18.3g化合物2-5(产率64%,MS:[M+H]+=705)。
合成例2-6
在氮气气氛下将subAB-1(10g,31.3mmol)、胺6(12.9g,31.3mmol)和叔丁醇钠(10g,46.9mmol)添加至200ml二甲苯中,并将混合物搅拌并回流。然后,向其中添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在2小时之后,反应完成,进行冷却至室温,并在减压下除去溶剂。然后,将化合物再次完全溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备15g化合物2-6(产率69%,MS:[M+H]+=695)。
合成例2-7
在氮气气氛下将subAB-1(10g,31.3mmol)、胺7(10.9g,31.3mmol)和叔丁醇钠(10g,46.9mmol)添加至200ml二甲苯中,并将混合物搅拌并回流。然后,向其中添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在2小时之后,反应完成,进行冷却至室温,并在减压下除去溶剂。然后,将化合物再次完全溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备13g化合物2-7(产率66%,MS:[M+H]+=633)。
合成例2-8
在氮气气氛下将subAB-1(15g,46.9mmol)和胺8(24.9g,46.9mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(19.5g,140.7mmol)溶解在58ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.5g,0.5mmol)。在反应10小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备27.5g化合物2-8(产率76%,MS:[M+H]+=771)。
合成例2-9
在氮气气氛下将subAB-1(15g,46.9mmol)和胺9(26.6g,46.9mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(19.5g,140.7mmol)溶解在58ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)。在反应12小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备26.1g化合物2-9(产率69%,MS:[M+H]+=807)。
合成例2-10
在氮气气氛下将subAB-1(15g,46.9mmol)和胺10(21.7g,49.3mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(19.5g,140.7mmol)溶解在58ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.5mmol)。在反应9小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备16.3g化合物2-10(产率51%,MS:[M+H]+=681)。
合成例2-11
在氮气气氛下将化学式AB(15g,53.9mmol)和[1,1’-联苯]-4-基硼酸(10.7g,53.9mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(22.4g,161.8mmol)溶解在67ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加四(三苯基膦)钯(0)(0.6g,0.5mmol)。在反应10小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备14.9g subAB-3(产率70%,MS:[M+H]+=396)。
在氮气气氛下将subAB-3(10g,25.3mmol)、胺11(6.2g,25.3mmol)和叔丁醇钠(8g,37.9mmol)添加至200ml二甲苯中,并将混合物搅拌并回流。然后,向其中添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g,0.3mmol)。在3小时之后,反应完成,进行冷却至室温,并在减压下除去溶剂。然后,将化合物再次完全溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备9.9g化合物2-11(产率65%,MS:[M+H]+=605)。
合成例2-12
在氮气气氛下将化学式AC(15g,53.9mmol)和苯基硼酸(6.6g,53.9mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(22.4g,161.8mmol)溶解在67ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,然后添加四(三苯基膦)钯(0)(0.6g,0.5mmol)。在反应11小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备12g subAC-3(产率70%,MS:[M+H]+=320)。
在氮气气氛下将subAC-3(10g,31.3mmol)、胺12(14g,31.3mmol)和叔丁醇钠(10g,46.9mmol)添加至200ml二甲苯中,并将混合物搅拌并回流。然后,向其中添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在2小时之后,反应完成,进行冷却至室温,并在减压下除去溶剂。然后,将化合物再次完全溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备13.9g化合物2-12(产率61%,MS:[M+H]+=731)。
合成例2-13
在氮气气氛下将subAC-3(10g,31.3mmol)、胺13(11.6g,31.3mmol)和叔丁醇钠(10g,46.9mmol)添加至200ml二甲苯中,并将混合物搅拌并回流。然后,向其中添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在2小时之后,反应完成,进行冷却至室温,并在减压下除去溶剂。然后,将化合物再次完全溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备10.4g化合物2-13(产率51%,MS:[M+H]+=655)。
合成例2-14
在氮气气氛下将subAC-3(10g,31.3mmol)、胺14(11.3g,31.3mmol)和叔丁醇钠(10g,46.9mmol)添加至200ml二甲苯中,并将混合物搅拌并回流。然后,向其中添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在3小时之后,反应完成,进行冷却至室温,并在减压下除去溶剂。然后,将化合物再次完全溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备13.7g化合物2-14(产率68%,MS:[M+H]+=645)。
合成例2-15
在氮气气氛下将subAC-3(15g,46.9mmol)和胺15(19.5g,46.9mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(19.5g,140.7mmol)溶解在58ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.5g,0.5mmol)。在反应12小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备23.6g化合物2-15(产率77%,MS:[M+H]+=655)。
合成例2-16
在氮气气氛下将subAC-3(15g,46.9mmol)和胺16(20.7g,46.9mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(19.5g,140.7mmol)溶解在58ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.5g,0.5mmol)。在反应8小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备23g化合物2-16(产率72%,MS:[M+H]+=681)。
合成例2-17
在氮气气氛下将subAC-3(10g,31.3mmol)、胺17(14g,31.3mmol)和叔丁醇钠(10g,46.9mmol)添加至200ml二甲苯中,并将混合物搅拌并回流。然后,向其中添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在2小时之后,反应完成,进行冷却至室温,并在减压下除去溶剂。然后,将化合物再次完全溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备13g化合物2-17(产率57%,MS:[M+H]+=731)。
合成例2-18
在氮气气氛下将化学式AC(15g,53.9mmol)和萘-2-基硼酸(9.3g,53.9mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(22.4g,161.8mmol)溶解在67ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,然后添加四(三苯基膦)钯(0)(0.6g,0.5mmol)。在反应11小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备12.7g subAC-4(产率64%,MS:[M+H]+=370)。
在氮气气氛下将subAC-4(10g,27mmol)、胺18(8.7g,27mmol)和叔丁醇钠(8.6g,40.6mmol)添加至200ml二甲苯中,并将混合物搅拌并回流。然后,向其中添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g,0.3mmol)。在3小时之后,反应完成,进行冷却至室温,并在减压下除去溶剂。然后,将化合物再次完全溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备9.4g化合物2-18(产率53%,MS:[M+H]+=655)。
合成例2-19
在氮气气氛下将subAD-1(10g,31.3mmol)、胺19(13.2g,31.3mmol)和叔丁醇钠(10g,46.9mmol)添加至200ml二甲苯中,并将混合物搅拌并回流。然后,向其中添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在3小时之后,反应完成,进行冷却至室温,并在减压下除去溶剂。然后,将化合物再次完全溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备13g化合物2-19(产率59%,MS:[M+H]+=705)。
合成例2-20
在氮气气氛下将subAD-1(15g,40.6mmol)和胺20(23g,40.6mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(16.8g,121.7mmol)溶解在50ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.5g,0.4mmol)。在反应10小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备20.9g化合物2-20(产率64%,MS:[M+H]+=807)。
合成例2-21
在氮气气氛下将subAD-1(10g,31.3mmol)、胺21(12.8g,31.3mmol)和叔丁醇钠(10g,46.9mmol)添加至200ml二甲苯中,并将混合物搅拌并回流。然后,向其中添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在2小时之后,反应完成,进行冷却至室温,并在减压下除去溶剂。然后,将化合物再次完全溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备11.5g化合物2-21(产率53%,MS:[M+H]+=694)。
合成例2-22
在氮气气氛下将subAD-1(15g,40.6mmol)和胺22(18.5g,40.6mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(16.8g,121.7mmol)溶解在50ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.5g,0.4mmol)。在反应10小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备19.4g化合物2-22(产率69%,MS:[M+H]+=695)。
合成例2-23
在氮气气氛下将subAD-1(15g,46.9mmol)和胺23(24.2g,49.3mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(19.5g,140.7mmol)溶解在58ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.5mmol)。在反应10小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备23.3g化合物2-23(产率68%,MS:[M+H]+=731)。
合成例2-24
在氮气气氛下将化学式AD(15g,53.9mmol)和萘-2-基硼酸(9.3g,53.9mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(22.4g,161.8mmol)溶解在67ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加四(三苯基膦)钯(0)(0.6g,0.5mmol)。在反应9小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备13.5g subAD-5(产率68%,MS:[M+H]+=370)。
在氮气气氛下将subAD-5(10g,27mmol)、胺24(8g,27mmol)和叔丁醇钠(8.6g,40.6mmol)添加至200ml二甲苯中,并将混合物搅拌并回流。然后,向其中添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g,0.3mmol)。在3小时之后,反应完成,进行冷却至室温,并在减压下除去溶剂。然后,将化合物再次完全溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备9.2g化合物2-24(产率54%,MS:[M+H]+=630)。
合成例2-25
在氮气气氛下将subAE-1(10g,31.3mmol)、胺25(13.2g,31.3mmol)和叔丁醇钠(10g,46.9mmol)添加至200ml二甲苯中,并将混合物搅拌并回流。然后,向其中添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在3小时之后,反应完成,进行冷却至室温,并在减压下除去溶剂。然后,将化合物再次完全溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备13.2g化合物2-25(产率60%,MS:[M+H]+=705)。
合成例2-26
在氮气气氛下将subAE-1(15g,46.9mmol)和胺26(25.4g,46.9mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(19.5g,140.7mmol)溶解在58ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.5g,0.5mmol)。在反应11小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备23.4g化合物2-26(产率64%,MS:[M+H]+=781)。
合成例2-27
在氮气气氛下将subAE-1(15g,46.9mmol)和胺27(23.1g,46.9mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(19.5g,140.7mmol)溶解在58ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.5g,0.5mmol)。在反应8小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备22.3g化合物2-27(产率65%,MS:[M+H]+=731)。
合成例2-28
在氮气气氛下将化学式AE(15g,53.9mmol)和[1,1’-联苯]-4-基硼酸(10.7g,53.9mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(22.4g,161.8mmol)溶解在67ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,然后添加四(三苯基膦)钯(0)(0.6g,0.5mmol)。在反应12小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备13.2g subAE-4(产率62%,MS:[M+H]+=396)。
在氮气气氛下将subAE-4(10g,25.3mmol)、胺18(8.1g,25.3mmol)和叔丁醇钠(8g,37.9mmol)添加至200ml二甲苯中,并将混合物搅拌并回流。然后,向其中添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g,0.3mmol)。在3小时之后,反应完成,进行冷却至室温,并在减压下除去溶剂。然后,将化合物再次完全溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备11g化合物2-28(产率64%,MS:[M+H]+=681)。
合成例2-29
在氮气气氛下将subAF-1(15g,46.9mmol)和胺28(20.7g,46.9mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(19.5g,140.7mmol)溶解在58ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.5g,0.5mmol)。在反应10小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备23.1g化合物2-29(产率65%,MS:[M+H]+=757)。
合成例2-30
在氮气气氛下将subBA-3(15g,40.6mmol)和胺29(19.9g,40.6mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(16.8g,121.7mmol)溶解在50ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.5g,0.4mmol)。在反应12小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备18.1g化合物2-30(产率61%,MS:[M+H]+=731)。
合成例2-31
在氮气气氛下将subBA-3(15g,40.6mmol)和胺30(19.1g,40.6mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(16.8g,121.7mmol)溶解在50ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.5g,0.4mmol)。在反应8小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备21.6g化合物2-31(产率75%,MS:[M+H]+=711)。
合成例2-32
在氮气气氛下将subBA-3(15g,40.6mmol)和胺31(17.9g,40.6mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(16.8g,121.7mmol)溶解在50ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.5g,0.4mmol)。在反应10小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备19.6g化合物2-32(产率71%,MS:[M+H]+=681)。
合成例2-33
在氮气气氛下将subBA-3(15g,46.9mmol)和胺32(21.7g,49.3mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(19.5g,140.7mmol)溶解在58ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.5mmol)。在反应11小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备18.5g化合物2-33(产率58%,MS:[M+H]+=681)。
合成例2-34
在氮气气氛下将subBB-1(10g,31.3mmol)、胺33(11.6g,31.3mmol)和叔丁醇钠(10g,46.9mmol)添加至200ml二甲苯中,并将混合物搅拌并回流。然后,向其中添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在2小时之后,反应完成,进行冷却至室温,并在减压下除去溶剂。然后,将化合物再次完全溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备10.8g化合物2-34(产率53%,MS:[M+H]+=655)。
合成例2-35
在氮气气氛下将subBB-1(10g,31.3mmol)、胺34(12.4g,31.3mmol)和叔丁醇钠(10g,46.9mmol)添加至200ml二甲苯中,并将混合物搅拌并回流。然后,向其中添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在3小时之后,反应完成,进行冷却至室温,并在减压下除去溶剂。然后,将化合物再次完全溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备13.4g化合物2-35(产率63%,MS:[M+H]+=681)。
合成例2-36
在氮气气氛下将subBB-1(15g,46.9mmol)和胺35(23.1g,46.9mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(19.5g,140.7mmol)溶解在58ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.5g,0.5mmol)。在反应10小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备25g化合物2-36(产率73%,MS:[M+H]+=731)。
合成例2-37
在氮气气氛下将subBB-1(15g,46.9mmol)和胺36(24.3g,46.9mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(19.5g,140.7mmol)溶解在58ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.5g,0.5mmol)。在反应8小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备21.6g化合物2-37(产率61%,MS:[M+H]+=757)。
合成例2-38
在氮气气氛下将化学式BC(15g,53.9mmol)和苯基硼酸(6.6g,53.9mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(22.4g,161.8mmol)溶解在67ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,然后添加四(三苯基膦)钯(0)(0.6g,0.5mmol)。在反应11小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备12.4g subBC-3(产率72%,MS:[M+H]+=320)。
在氮气气氛下将subBC-3(10g,31.3mmol)、胺37(12.9g,31.3mmol)和叔丁醇钠(10g,46.9mmol)添加至200ml二甲苯中,并将混合物搅拌并回流。然后,向其中添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在3小时之后,反应完成,进行冷却至室温,并在减压下除去溶剂。然后,将化合物再次完全溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备13.2g化合物2-38(产率61%,MS:[M+H]+=695)。
合成例2-39
在氮气气氛下将subBC-3(10g,31.3mmol)、胺38(14g,31.3mmol)和叔丁醇钠(10g,46.9mmol)添加至200ml二甲苯中,并将混合物搅拌并回流。然后,向其中添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在3小时之后,反应完成,进行冷却至室温,并在减压下除去溶剂。然后,将化合物再次完全溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备12.8g化合物2-39(产率56%,MS:[M+H]+=731)。
合成例2-40
在氮气气氛下将subBC-3(15g,46.9mmol)和胺39(19.5g,46.9mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(19.5g,140.7mmol)溶解在58ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.5g,0.5mmol)。在反应10小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备18.4g化合物2-40(产率60%,MS:[M+H]+=655)。
合成例2-41
在氮气气氛下将subBC-3(15g,46.9mmol)和胺40(18.5g,46.9mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(19.5g,140.7mmol)溶解在58ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.5g,0.5mmol)。在反应10小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备20.8g化合物2-41(产率70%,MS:[M+H]+=635)。
合成例2-42
在氮气气氛下将化学式BC(15g,53.9mmol)和[1,1’-联苯]-4-基硼酸(10.7g,53.9mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(22.4g,161.8mmol)溶解在67ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,然后添加四(三苯基膦)钯(0)(0.6g,0.5mmol)。在反应8小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备15.8g subBC-4(产率74%,MS:[M+H]+=396)。
在氮气气氛下将subBC-4(10g,25.3mmol)、胺41(10g,25.3mmol)和叔丁醇钠(8g,37.9mmol)添加至200ml二甲苯中,并将混合物搅拌并回流。然后,向其中添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g,0.3mmol)。在2小时之后,反应完成,进行冷却至室温,并在减压下除去溶剂。然后,将化合物再次完全溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备11.8g化合物2-42(产率62%,MS:[M+H]+=757)。
合成例2-43
在氮气气氛下将subBD-1(10g,31.3mmol)、胺42(10.8g,31.3mmol)和叔丁醇钠(10g,46.9mmol)添加至200ml二甲苯中,并将混合物搅拌并回流。然后,向其中添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在2小时之后,反应完成,进行冷却至室温,并在减压下除去溶剂。然后,将化合物再次完全溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备11.8g化合物2-43(产率60%,MS:[M+H]+=629)。
合成例2-44
在氮气气氛下将subBD-1(10g,31.3mmol)、胺43(11.6g,31.3mmol)和叔丁醇钠(10g,46.9mmol)添加至200ml二甲苯中,并将混合物搅拌并回流。然后,向其中添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在2小时之后,反应完成,进行冷却至室温,并在减压下除去溶剂。然后,将化合物再次完全溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备13.7g化合物2-44(产率67%,MS:[M+H]+=655)。
合成例2-45
在氮气气氛下将subBD-1(10g,31.3mmol)、胺44(11.6g,31.3mmol)和叔丁醇钠(10g,46.9mmol)添加至200ml二甲苯中,并将混合物搅拌并回流。然后,向其中添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在3小时之后,反应完成,进行冷却至室温,并在减压下除去溶剂。然后,将化合物再次完全溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备11.5g化合物2-45(产率56%,MS:[M+H]+=655)。
合成例2-46
在氮气气氛下将subBD-1(10g,31.3mmol)、胺45(14g,31.3mmol)和叔丁醇钠(10g,46.9mmol)添加至200ml二甲苯中,并将混合物搅拌并回流。然后,向其中添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在2小时之后,反应完成,进行冷却至室温,并在减压下除去溶剂。然后,将化合物再次完全溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备14.8g化合物2-46(产率65%,MS:[M+H]+=731)。
合成例2-47
在氮气气氛下将subBD-1(10g,31.3mmol)、胺46(14g,31.3mmol)和叔丁醇钠(10g,46.9mmol)添加至200ml二甲苯中,并将混合物搅拌并回流。然后,向其中添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在2小时之后,反应完成,进行冷却至室温,并在减压下除去溶剂。然后,将化合物再次完全溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备14.1g胺47(产率64%,MS:[M+H]+=705)。
合成例2-48
在氮气气氛下将化学式BD(15g,53.9mmol)和萘-2-基硼酸(9.3g,53.9mmol)添加至300ml THF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(22.4g,161.8mmol)溶解在67ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,然后添加四(三苯基膦)钯(0)(0.6g,0.5mmol)。在反应10小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备13.7g subBD-3(产率69%,MS:[M+H]+=370)。
在氮气气氛下将subBD-3(15g,40.6mmol)和胺47(18.5g,40.6mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(16.8g,121.7mmol)溶解在50ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.5g,0.4mmol)。在反应9小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备21.7g化合物2-48(产率72%,MS:[M+H]+=745)。
合成例2-49
在氮气气氛下将subBE-1(15g,46.9mmol)和胺48(22g,46.9mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(19.5g,140.7mmol)溶解在58ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.5g,0.5mmol)。在反应11小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备26.6g化合物2-49(产率80%,MS:[M+H]+=709)。
合成例2-50
在氮气气氛下将subBE-1(15g,46.9mmol)和胺49(22.6g,46.9mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(19.5g,140.7mmol)溶解在58ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.5g,0.5mmol)。在反应11小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备23.3g化合物2-50(产率69%,MS:[M+H]+=721)。
合成例2-51
在氮气气氛下将subBE-1(15g,46.9mmol)和胺50(24.3g,46.9mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(19.5g,140.7mmol)溶解在58ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.5g,0.5mmol)。在反应8小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备26.3g化合物2-51(产率74%,MS:[M+H]+=757)。
合成例2-52
在氮气气氛下将subBE-2(10g,27mmol)、胺41(10.7g,27mmol)和叔丁醇钠(8.6g,40.6mmol)添加至200ml二甲苯中,并将混合物搅拌并回流。然后,向其中添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g,0.3mmol)。在3小时之后,反应完成,进行冷却至室温,并在减压下除去溶剂。然后,将化合物再次完全溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备11.8g化合物2-52(产率60%,MS:[M+H]+=731)。
合成例2-53
在氮气气氛下将subBF-1(15g,46.9mmol)和胺52(23.1g,46.9mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(19.5g,140.7mmol)溶解在58ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.5g,0.5mmol)。在反应10小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备21.2g化合物2-53(产率62%,MS:[M+H]+=731)。
合成例2-54
在氮气气氛下将subBF-1(10g,31.3mmol)、胺53(9.2g,31.3mmol)和叔丁醇钠(10g,46.9mmol)添加至200ml二甲苯中,并将混合物搅拌并回流。然后,向其中添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.2g,0.3mmol)。在2小时之后,反应完成,进行冷却至室温,并在减压下除去溶剂。然后,将化合物再次完全溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备10.7g化合物2-54(产率59%,MS:[M+H]+=579)。
合成例2-55
在氮气气氛下将subBF-1(15g,46.9mmol)和胺54(26.6g,46.9mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(19.5g,140.7mmol)溶解在58ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.5g,0.5mmol)。在反应11小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备28.4g化合物2-55(产率75%,MS:[M+H]+=807)。
合成例2-56
在氮气气氛下将subBF-2(10g,27mmol)、胺55(9.1g,27mmol)和叔丁醇钠(8.6g,40.6mmol)添加至200ml二甲苯中,并将混合物搅拌并回流。然后,向其中添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.1g,0.3mmol)。在3小时之后,反应完成,进行冷却至室温,并在减压下除去溶剂。然后,将化合物再次完全溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备10.7g化合物2-56(产率59%,MS:[M+H]+=669)。
合成例2-57
在氮气气氛下将subBF-2(15g,40.6mmol)和胺56(21g,40.6mmol)添加至300mlTHF中,并将混合物搅拌并回流。然后,将碳酸钾(16.8g,121.7mmol)溶解在50ml水中,然后添加至混合物中。此后,将其充分搅拌,随后添加双(三叔丁基膦)钯(0)(0.5g,0.4mmol)。在反应9小时之后,进行冷却至室温。然后,将有机层与水层分离,然后对有机层进行蒸馏。然后,将其再次溶解在氯仿中,并用水洗涤两次。此后,将有机层分离,用无水硫酸镁处理,搅拌,然后过滤,并将滤液在减压下蒸馏。将浓缩的化合物通过硅胶柱色谱法纯化以制备20g化合物2-57(产率61%,MS:[M+H]+=807)。
<实施例和比较例>
实施例1
将涂覆有厚度为的ITO(氧化铟锡)作为薄膜的玻璃基底放入溶解有清洁剂的蒸馏水中,并进行超声清洗。此时,使用由Fischer Co.制造的产品作为清洁剂,并且使用利用由Millipore Co.制造的过滤器过滤两次的蒸馏水作为蒸馏水。在将ITO清洗30分钟之后,使用蒸馏水重复进行两次超声清洗10分钟。在用蒸馏水清洗完成之后,用异丙醇、丙酮和甲醇溶剂对基底进行超声清洗,将其干燥,然后转移至等离子体清洗器。此外,使用氧等离子体将基底清洗5分钟,然后转移至真空沉积机。
在所准备的ITO透明电极上,在使以下化合物A-1以1.5%的浓度进行p掺杂的同时使以下化合物HI-1形成至的厚度以形成空穴注入层。在空穴注入层上,真空沉积以下化合物HT-1以形成厚度为的空穴传输层。然后,在空穴传输层上,真空沉积以下化合物EB-1以形成厚度为的电子阻挡层。然后,在EB-1沉积膜上,以49:49:2的重量比真空沉积以下化合物1-2、化合物2-1和化合物Dp-7以形成厚度为的红色发光层。在发光层上,真空沉积以下化合物HB-1以形成厚度为 的空穴阻挡层。在空穴阻挡层上,以2:1的重量比真空沉积以下化合物ET-1和以下化合物LiQ以形成厚度为的电子注入和传输层。在电子注入和传输层上,将氟化锂(LiF)和铝顺序地沉积至厚度分别为和以形成阴极。
在以上过程中,将有机材料的沉积速率保持在至将阴极的氟化锂的沉积速率保持在以及将铝的沉积速率保持在此外,将沉积期间的真空度保持在2×10-7托至5×10-6托,从而制造有机发光器件。
实施例2至190
以与实施例1中相同的方式制造有机发光器件,不同之处在于通过以1:1的重量比共沉积来使用表1描述的第一主体和第二主体代替实施例1的有机发光器件的化合物1-2和化合物2-1。
比较例1至120
以与实施例1中相同的方式制造有机发光器件,不同之处在于通过以1:1的重量比共沉积来使用作为第一主体的在表2中描述的比较化合物A-1至A-12中的一者和作为第二主体的在表2中描述的化学式2的化合物。
比较例121至280
以与实施例1中相同的方式制造有机发光器件,不同之处在于通过以1:1的重量比共沉积来使用作为第一主体的在表3中描述的化学式1的化合物和作为第二主体的在表3中描述的比较化合物B-1至B-20中的一者。
比较化合物A-1至A-12和B-1至B-20如下。
<实验例>
对于实施例1至190和比较例1至280中制备的有机发光器件,通过施加电流(15mA/cm2)来测量电压和效率,并将结果示于以下表1至表3中。寿命(T95)意指从初始亮度(7,000尼特)降低至95%所需要的时间。
[表1]
[表2]
[表3]
当将电流施加至根据实施例1至190和比较例1至280制造的有机发光器件时,获得了表1至表3中示出的结果。实施例1的红色有机发光器件具有使用化合物EB-1作为电子阻挡层并且使用化合物Dp-7作为红色发光层的掺杂剂的结构。参照表1,当将本公开内容的化学式1的化合物和化学式2的化合物共沉积并用于红色发光层时,确定了驱动电压低并且效率和寿命优异。
另一方面,如表2中所示,当将比较化合物A-1至A-12中的一者与本公开内容的化学式2的化合物一起共沉积并用于红色发光层时,与本公开内容的组合相比,驱动电压通常提高,而效率和寿命降低。此外,如表3中所示,当将比较化合物B-1至B-20中的一者与本公开内容的化学式1的化合物一起共沉积并用于红色发光层时,驱动电压提高,而效率和寿命降低。
从这些结果,可以确定本公开内容的有机发光器件在驱动电压、效率和寿命方面表现出优异的效果。可以推断,这是因为当将本公开内容的作为第一主体的化学式1的化合物和作为第二主体的化学式2的化合物组合时,与比较例中使用的组合相比,更好地实现了能量向红色发光层中的红色掺杂剂的转移。
总之,可以确定当将化学式1的化合物和化学式2的化合物组合并通过共蒸镀作为用于红色发光层的主体使用时,可以改善有机发光器件的驱动电压、发光效率和寿命。
[附图标记说明]
1:基底 2:阳极
3:发光层 4:阴极
5:空穴注入层 6:空穴传输层
7:电子传输层 8:电子注入层
9:电子阻挡层 10:空穴阻挡层
11:电子注入和传输层
Claims (11)
1.一种有机发光器件,包括:
阳极;阴极;以及设置在所述阳极与所述阴极之间的发光层,
其中所述发光层包含由以下化学式1表示的化合物和由以下化学式2表示的化合物:
[化学式1]
在所述化学式1中,
L为单键;或者经取代或未经取代的C6-60亚芳基;
Ar1和Ar2各自独立地为经取代或未经取代的C6-60芳基;或者经取代或未经取代的包含选自N、O和S中的至少一者的C2-60杂芳基,
Ar3为氢;氘;经取代或未经取代的C6-60芳基;或者经取代或未经取代的包含选自N、O和S中的至少一者的C2-60杂芳基,
D为氘,以及
n为0至6的整数,
[化学式2]
在所述化学式2中,
A’1由以下化学式2-a表示,
[化学式2-a]
在所述化学式2-a中,
虚线与相邻的环稠合,
Ar’1为经取代或未经取代的C6-60芳基;或者经取代或未经取代的包含选自N、O和S中的至少一个杂原子的C2-60杂芳基,以及
L’为单键;或者经取代或未经取代的C6-60亚芳基;
Ar’2和Ar’3各自独立地为氢;氘;经取代或未经取代的C6-60芳基;或者经取代或未经取代的包含选自N、O和S中的至少一个杂原子的C2-60杂芳基,
D为氘,以及
n’为0至5的整数。
2.根据权利要求1所述的有机发光器件,
其中所述化学式1由以下化学式1-1表示:
[化学式1-1]
在所述化学式1-1中,
L、Ar1至Ar3、D和n为根据权利要求1中所限定的。
3.根据权利要求1所述的有机发光器件,
其中L为单键;亚苯基;或者萘二基。
4.根据权利要求1所述的有机发光器件,
其中Ar1和Ar2各自独立地为苯基;联苯基;三联苯基;萘基;菲基;(苯基)萘基;(萘基)苯基;(萘基)萘基;二苯并呋喃基;或者二苯并噻吩基。
5.根据权利要求1所述的有机发光器件,
其中Ar3为氢;苯基;联苯基;三联苯基;萘基;菲基;(苯基)萘基;(萘基)苯基;荧蒽基;三亚苯基;二苯并呋喃基;二苯并噻吩基;苯并萘并呋喃基;或者苯并萘并噻吩基。
6.根据权利要求1所述的有机发光器件,
其中由化学式1表示的化合物为选自以下中的任一者:
7.根据权利要求1所述的有机发光器件,
其中所述化学式2由以下化学式2-1或化学式2-2表示:[化学式2-1]
[化学式2-2]
在所述化学式2-1和所述化学式2-2中,
L’、Ar’1至Ar’3、D和n’为根据权利要求1中所限定的。
8.根据权利要求1所述的有机发光器件,
其中L’为单键;亚苯基;或者联苯二基。
9.根据权利要求1所述的有机发光器件,
其中Ar’1为苯基。
10.根据权利要求1所述的有机发光器件,
其中Ar’2和Ar’3各自独立地为氢;苯基;联苯基;三联苯基;萘基;(萘基)苯基;(苯基)萘基;(萘基)联苯基;(萘基)萘基;[(苯基)萘基]苯基;二苯并呋喃基;二苯并噻吩基;(二苯并呋喃基)苯基;(二苯并噻吩基)苯基;菲基;(菲基)苯基;9,9-二甲基芴基;或者9-苯基咔唑基。
11.根据权利要求1所述的有机发光器件,
其中所述由化学式2表示的化合物为选自以下中的任一者:
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2021-0044140 | 2021-04-05 | ||
KR20210044140 | 2021-04-05 | ||
PCT/KR2022/004903 WO2022216018A1 (ko) | 2021-04-05 | 2022-04-05 | 유기 발광 소자 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN116724677A true CN116724677A (zh) | 2023-09-08 |
Family
ID=83545577
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202280008858.5A Pending CN116724677A (zh) | 2021-04-05 | 2022-04-05 | 有机发光器件 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20240138256A1 (zh) |
EP (1) | EP4258372A4 (zh) |
JP (1) | JP2024501229A (zh) |
KR (1) | KR20220138356A (zh) |
CN (1) | CN116724677A (zh) |
TW (1) | TWI805307B (zh) |
WO (1) | WO2022216018A1 (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN118290414A (zh) * | 2023-12-29 | 2024-07-05 | 宁波卢米蓝新材料有限公司 | 一种含有苯并萘并呋喃的恶唑类有机化合物及其应用 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100430549B1 (ko) | 1999-01-27 | 2004-05-10 | 주식회사 엘지화학 | 신규한 착물 및 그의 제조 방법과 이를 이용한 유기 발광 소자 및 그의 제조 방법 |
DE10135513B4 (de) | 2001-07-20 | 2005-02-24 | Novaled Gmbh | Lichtemittierendes Bauelement mit organischen Schichten |
KR101982746B1 (ko) * | 2012-06-27 | 2019-05-28 | 덕산네오룩스 주식회사 | 화합물, 이를 이용한 유기전기소자 및 그 전자 장치 |
CN104813496B (zh) * | 2012-11-30 | 2017-08-08 | 默克专利有限公司 | 电子器件 |
KR20170016701A (ko) * | 2015-08-04 | 2017-02-14 | 주식회사 두산 | 유기 발광 화합물 및 이를 이용한 유기 전계 발광 소자 |
KR20200043269A (ko) * | 2018-10-17 | 2020-04-27 | 롬엔드하스전자재료코리아유한회사 | 복수 종의 호스트 재료 및 이를 포함하는 유기 전계 발광 소자 |
KR20200100972A (ko) * | 2019-02-19 | 2020-08-27 | (주)피엔에이치테크 | 유기발광 화합물 및 이를 포함하는 유기발광소자 |
-
2021
- 2021-04-05 US US18/268,714 patent/US20240138256A1/en active Pending
-
2022
- 2022-04-05 CN CN202280008858.5A patent/CN116724677A/zh active Pending
- 2022-04-05 JP JP2023537402A patent/JP2024501229A/ja active Pending
- 2022-04-05 WO PCT/KR2022/004903 patent/WO2022216018A1/ko active Application Filing
- 2022-04-05 EP EP22784927.0A patent/EP4258372A4/en active Pending
- 2022-04-05 KR KR1020220042570A patent/KR20220138356A/ko not_active Application Discontinuation
- 2022-04-06 TW TW111113034A patent/TWI805307B/zh active
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN118290414A (zh) * | 2023-12-29 | 2024-07-05 | 宁波卢米蓝新材料有限公司 | 一种含有苯并萘并呋喃的恶唑类有机化合物及其应用 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20240138256A1 (en) | 2024-04-25 |
EP4258372A4 (en) | 2024-08-14 |
EP4258372A1 (en) | 2023-10-11 |
TW202302573A (zh) | 2023-01-16 |
JP2024501229A (ja) | 2024-01-11 |
TWI805307B (zh) | 2023-06-11 |
WO2022216018A1 (ko) | 2022-10-13 |
KR20220138356A (ko) | 2022-10-12 |
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PB01 | Publication | ||
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