CN116283212B - 一种汝瓷篆刻陶印制作工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及陶印技术领域,更具体的说是涉及一种汝瓷篆刻陶印制作工艺包括以下步骤：(1)对专用泥进行加工；(2)以注浆法进行坯体的成型；(3)陶印的刻制；(4)素烧阶段；(5)打磨修整；(6)上釉；(7)釉烧。本发明通过对泥浆进行生物陈腐4年，以提升泥的柔韧性；通过增加一定质量的铝矾土，来增加其高温塑性，防止篆刻笔画在高温下泥土收缩变形；通过加入一定质量的有机物，来提升常温下泥料的柔韧性和粘结度，避免用篆刻刀在行刀时泥料出现崩口影响陶印的艺术效果；同时加入有机物在高温下消失，可以使陶印的质量减轻，增加其成品的品质和价值，以解决现有的淘印会在行刀时出现崩口，导致塑造效果不好的问题；再有就是淘印过重影响把玩性，品质不好；以匣钵隔焰烧方式保证汽碳窑烧效果受热均匀，成品率高，釉面发色沉稳。
Description
技术领域
本发明涉及陶印技术领域,更具体的说是涉及一种汝瓷篆刻陶印制作工艺。
背景技术
中国是陶瓷古国，说起陶瓷，外国人就想到中国。陶艺是一种人工形态。陶瓷形态的基本材料是土、水、火。人只有掌握了水土揉合的可塑性，流变性，以及成型方法和烧结规律，才能促成陶艺形态的产生和演化，使陶瓷器物产生美的形式。同时注重造型与装饰的有机结合，通过人们敏锐的灵感和创新意识，捕捉并揭示泥土的塑性美、柔韧美以及表现活力，这样就出现了全新的陶艺形态，为智慧的人所掌握、发展、创新。任何艺术发展到一定阶段，都会形成完整的技巧。
汝瓷是中国五大名瓷之一，因产于汝州而得名，始烧于唐朝中期，盛名于北宋，兴盛时期被列为五大名瓷之首。因其造型古朴大方，其釉如“雨过天晴云破处”，“千峰碧波翠色来”，其土质细润，坯体如侗体，其釉厚而声如擎，明亮而不刺目，具有“梨皮、蟹爪、芝麻花”之特点，被世人赞为“似玉、非玉、而胜玉”，曾被钦定为宫廷御用瓷。汝瓷制作工艺精湛，用料考究，配方独特，烧成技艺高超，由于铁还原达到了最佳效果，使其超越了当时所有的窑口，是中国青瓷发展史上划时代的创举；但由于战乱，北宋灭亡，官窑被毁，汝瓷也随之失传，之后历代仿制均难还原。
陶印，自古有之，始于商周，盛于秦汉。华夏先民以土为材，挖穴为窑，施凿于垩土陶坯之上，烧制出精美的低温陶器。制陶技艺代代相传，至隋代，予之家乡中原便有了立窑烧陶之历史，其居中原腹地，接黄河文脉，与唐三彩产地洛阳为邻，中原文化的三彩刻花陶器由之问世。历经千年，三彩刻花陶已逐渐演变为今日之中原文化刻画彩釉陶。但现有的陶印存在成品率低的问题。
发明内容
为了解决上述问题，本发明提供了一种汝瓷篆刻陶印制作工艺，该工艺方法制备的汝瓷篆刻陶印不仅质轻，而且外形美观耐看。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：
一种汝瓷篆刻陶印制作工艺，其特征在于，包括以下步骤：
步骤1：将球磨后泥料、水、球按照1:0.8:1.8～2的质量比混合后得到浆料，然后过100～80目筛，将泥料调制浓度为52～53度，通过泥池对浆料进行密闭生物陈腐1～4年；
其中，所述泥料由以下质量百分比的组分组成：风穴寺土65％～75％、唐沟土15%～25%、严和店坩8%～15%；为增加其泥料的高温塑性，加入煅烧铝矾土，使其高温烧制时陶印笔画不变形；同时，加入羧甲基纤维素，提高泥浆的韧性，避免用篆刻刀在行刀时泥料出现崩口影响陶印的艺术效果；
步骤2：模具制作：首先，用泥塑造形状，以制作的泥稿翻制石膏模具；其次，用上述石膏模具制作石膏模种，然后对石膏模种进行精修打磨和局部造型泥稿修改；最后，用制作精良的石膏模种制作出最终石膏模具以供后期注浆制坯用；
步骤3：用模具注浆出来的干泥坯进行素烧，增加泥坯的强度；首先，空窑室把温度升到300℃进行烘窑，再利用窑车把制作好泥坯推进烘好的空窑室进行排湿烘干；3h温度降到室内常温后，再次点火2个火喷头进行烧制6h，在0-500℃时，窑门开一道1cm的缝，使其升温缓慢，方便泥坯进行二次排湿，提高成品率；最后，紧闭窑门，点4个火喷头3h升温850℃，得到素烧陶印坯体；
步骤4：素坯的刻制：首先时把陶印刻字的平面进行涂抹黑色墨水，便于看清刻刀刻划的笔画线条；然后用篆刻笔进行标记创造；最后根据黑色面积的对比，微调篆刻笔字体笔画和图案，得到最终效果；
步骤5：施釉：先用可撕胶对篆刻的字体和图案进行涂抹保护；然后把涂抹好的保护层向立面上方延伸2mm；进行施汝瓷釉浸釉，再用海绵沾水轻扫瓷釉后的坯体边线，使其线条部分釉层变薄，便于后期烧制后显露线条；对放置阴干施过釉的素坯检查是否出现的釉泡、脱釉现象，并用毛笔进行补釉，避免釉烧出现滚釉的效果；
步骤6：釉烧：为增加汝瓷釉面的润度，本发明采用汽碳烧：首先，在窑里面放置碳块，让碳参与反应，挥发二氧化硫、一氧化碳和氢气，加强窑炉里的还原气氛，使还原更加彻底；同时，碳在窑炉里会产生灰尘影响釉面干净，所以上釉后的陶印放在匣钵罩上采用隔焰烧；烧制1280℃完成釉烧；
优选的，在上述一种汝瓷篆刻陶印制作工艺中，所述步骤1中采用行星球磨进行球磨，球磨自转转速为1100-1400 r/min，球磨时间为13-16h。
优选的，在上述一种汝瓷篆刻陶印制作工艺中，所述步骤1中煅烧铝矾土是把10%～15%铝矾土煅烧900°C后，泥料、水、球按照1:0.8:1.8球磨80目筛后进行配置。
优选的，在上述一种汝瓷篆刻陶印制作工艺中，所述步骤1中羧甲基纤维素的配比为5%～10%。
优选的，在上述一种汝瓷篆刻陶印制作工艺中，所述步骤2泥稿所用泥料为粘性强的目结土，细度为800目；模具的用料为成型强度高和成型表面光洁度优的ks石膏粉，水和石膏粉比例为25:100。
优选的，在上述一种汝瓷篆刻陶印制作工艺中，所述步骤3素烧阶段的具体步骤为：500-850℃的升温曲线为2～3℃/min的升温速率升温，素烧完毕，保温20～30min后冷却，素烧温度为900-1000℃。
优选的，在上述一种汝瓷篆刻陶印制作工艺中，所述步骤5中施釉陶瓷素坯的釉层厚度为1.0-1.5 mm。
优选的，在上述一种汝瓷篆刻陶印制作工艺中，所述步骤6的升温曲线：1）弱氧化性气氛中经5-6h烧制到950-1000℃；2）还原气氛经1-2h烧制到1100-1280℃；3）快速冷却使釉面封闭，在1280℃时，打开窑门并迅速关闭窑门，使空气中氧气进去，防止窑内产品二次氧化，使其釉面发灰；4）自然冷却至室温，开窑即可。
经由上述的技术方案可知，与现有技术相比，本发明的有益效果在于：
（1）现有的技术多为不上釉色的紫砂陶印、磁州窑和界首的民间陶印，缺少中国礼器的元素，中国礼器材质多为玉器、铜器，汝窑为五大名瓷，以玛瑙入釉，玉质感、乳浊感较强，增加了汝瓷陶印的“礼器”的文化属性。
（2）通过在泥料中加入一定质量的有机物（羧甲基纤维素），来提升常温下泥料的柔韧性和粘结度，避免用篆刻刀在行刀时泥料出现崩口影响陶印的艺术效果，导致塑造效果不好的问题；
（3）通过增加一定质量的铝矾土，来增加其高温塑性，防止篆刻笔画在高温下泥土收缩变形；
（4）在烧制中泥料中加入有机物（羧甲基纤维素）在高温下烧失，可以使陶印的质量减轻，轻薄的陶印增加其陶印文玩的把玩性和成品价值；
（5）用可撕胶对篆刻的字体和图案进行涂抹保护；然后把涂抹好的保护层向立面上方延伸2mm，防止流釉到陶印底部造成损坏，提高成品率；
（6）采用汽窑碳烧，使碳元素在窑里增加还原气氛；同时，匣钵罩釉坯采用隔焰烧，烧制时间增长，使釉面受热均匀，效果比其他汽窑烧制效果玉质感较强，釉面发色沉稳；
（7）快速冷却使釉面封闭，在1280℃时，打开窑门并迅速关闭窑门，使空气中氧气大量进去，釉面快速冷却封闭，防止窑内产品釉面二次氧化产生发灰不好的效果，增强釉面色彩的润度。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例1：
一种汝瓷篆刻陶印制作工艺，包括以下步骤：
步骤1：将球磨后泥料、水、球按照1:0.8:1.9的质量比混合后得到浆料，然后过90目筛，将泥料调制浓度为52度，通过泥池对浆料进行密闭生物陈腐2年。
其中，所述泥料由以下质量百分比的组分组成：风穴寺土70％、唐沟土18%、严和店坩12%；
为增加其泥料的高温塑性，加入12%的铝矾土煅烧900°C，使其高温烧制时陶印笔画不变形；同时，加入羧甲基纤维素，提高泥浆的韧性，避免用篆刻刀在行刀时泥料出现崩口影响陶印的艺术效果。
步骤2：模具制作：首先，用泥塑造形状，以制作的泥稿翻制石膏模具；（泥稿平整性不强，第一遍用泥稿制作大致石膏模具）。其次，用上述石膏模具制作石膏模种，然后对石膏模种进行精修打磨和局部造型泥稿修改。最后，用制作精良的石膏模种制作出最终石膏模具以供后期注浆制坯用。
步骤3：用模具注浆出来的干泥坯进行素烧，增加泥坯的强度。首先，空窑室把温度升到300℃进行烘窑，再利用窑车把制作好泥坯推进烘好的空窑室进行排湿烘干。3h温度降到室内常温后，再次点火2个火喷头进行烧制6h，在100℃时，窑门开一道1cm的缝，使其升温缓慢，方便泥坯进行二次排湿，提高成品率。最后，紧闭窑门，点4个火喷头3h升温850℃，得到素烧陶印坯体。
步骤4：素坯的刻制：首先时把陶印刻字的平面进行涂抹黑色墨水，便于看清刻刀刻划的笔画线条；然后用篆刻笔进行标记创造；最后根据黑色面积的对比，微调篆刻笔字体笔画和图案，得到最终效果。
步骤5：施釉：先用可撕胶对篆刻的字体和图案进行涂抹保护；然后把涂抹好的保护层向立面上方延伸2mm；进行施汝瓷釉浸釉，再用海绵沾水轻扫瓷釉后的坯体边线，使其线条部分釉层变薄，便于后期烧制后显露线条；对放置阴干施过釉的素坯检查是否出现的釉泡、脱釉现象，并用毛笔进行补釉，避免釉烧出现滚釉的效果。
步骤6：釉烧：为增加汝瓷釉面的润度，本发明采用汽碳烧：首先，在窑里面放置碳块，让碳参与反应，挥发二氧化硫、一氧化碳和氢气，加强窑炉里的还原气氛，使还原更加彻底；同时，碳在窑炉里会产生灰尘影响釉面干净，所以上釉后的陶印放在匣钵罩上采用隔焰烧；烧制1280℃完成釉烧；其中，所述步骤1中采用行星球磨进行球磨，球磨自转转速为1200r/min，球磨时间为14h；所述步骤2泥稿所用泥料为粘性强的目结土，细度为800目；模具的用料为成型强度高和成型表面光洁度优的ks石膏粉，水和石膏粉比例为25:100；所述步骤3素烧阶段的具体步骤为：600℃的升温曲线为2℃/min的升温速率升温，素烧完毕，保温25min后冷却，素烧温度为850℃；所述步骤5中施釉陶瓷素坯的釉层厚度为1.0mm；所述步骤6的升温曲线：1）弱氧化性气氛中经5h烧制到950℃；2）还原气氛经1h烧制到1100℃；3）快速冷却使釉面封闭，在1280℃时，打开窑门并迅速关闭窑门，使空气中氧气进去，防止窑内产品二次氧化，使其釉面发灰；4）自然冷却至室温，开窑即可。
实施例2：
一种汝瓷篆刻陶印制作工艺，其特征在于，包括以下步骤：
步骤1：将球磨后泥料、水、球按照1:0.8:1.8的质量比混合后得到浆料，然后过100目筛，将泥料调制浓度为53度，通过泥池对浆料进行密闭生物陈腐1年。
其中，所述泥料由以下质量百分比的组分组成：风穴寺土75％、唐沟土15%%、严和店坩10%；
为增加其泥料的高温塑性，加入15%的铝矾土煅烧900°C，使其高温烧制时陶印笔画不变形；同时，加入羧甲基纤维素，提高泥浆的韧性，避免用篆刻刀在行刀时泥料出现崩口影响陶印的艺术效果。
步骤2：模具制作：首先，用泥塑造形状，以制作的泥稿翻制石膏模具；（泥稿平整性不强，第一遍用泥稿制作大致石膏模具）。其次，用上述石膏模具制作石膏模种，然后对石膏模种进行精修打磨和局部造型泥稿修改。最后，用制作精良的石膏模种制作出最终石膏模具以供后期注浆制坯用。
步骤3：用模具注浆出来的干泥坯进行素烧，增加泥坯的强度。首先，空窑室把温度升到300℃进行烘窑，再利用窑车把制作好泥坯推进烘好的空窑室进行排湿烘干。3h温度降到室内常温后，再次点火2个火喷头进行烧制6h，在500℃时，窑门开一道1cm的缝，使其升温缓慢，方便泥坯进行二次排湿，提高成品率。最后，紧闭窑门，点4个火喷头3h升温850℃，得到素烧陶印坯体。
步骤4：素坯的刻制：首先时把陶印刻字的平面进行涂抹黑色墨水，便于看清刻刀刻划的笔画线条；然后用篆刻笔进行标记创造；最后根据黑色面积的对比，微调篆刻笔字体笔画和图案，得到最终效果。
步骤5：施釉：先用可撕胶对篆刻的字体和图案进行涂抹保护；然后把涂抹好的保护层向立面上方延伸2mm；进行施汝瓷釉浸釉，再用海绵沾水轻扫瓷釉后的坯体边线，使其线条部分釉层变薄，便于后期烧制后显露线条；对放置阴干施过釉的素坯检查是否出现的釉泡、脱釉现象，并用毛笔进行补釉，避免釉烧出现滚釉的效果。
步骤6：釉烧：为增加汝瓷釉面的润度，本发明采用汽碳烧：首先，在窑里面放置碳块，让碳参与反应，挥发二氧化硫、一氧化碳和氢气，加强窑炉里的还原气氛，使还原更加彻底；同时，碳在窑炉里会产生灰尘影响釉面干净，所以上釉后的陶印放在匣钵罩上采用隔焰烧；烧制1280℃完成釉烧；所述步骤1中采用行星球磨进行球磨，球磨自转转速为1400 r/min，球磨时间为16h；所述步骤1中羧甲基纤维素的配比为10%；所述步骤2泥稿所用泥料为粘性强的目结土（细度为800目）；模具的用料为成型强度高和成型表面光洁度优的ks石膏粉，水和石膏粉比例为25:100；所述步骤3素烧阶段的具体步骤为：850℃的升温曲线为3℃/min的升温速率升温，素烧完毕，保温30min后冷却，素烧温度为850℃；所述步骤5中施釉陶瓷素坯的釉层厚度为1.5 mm；所述步骤6的升温曲线：1）弱氧化性气氛中经6h烧制到1000℃；2）还原气氛经1-2h烧制到1280℃；3）快速冷却使釉面封闭，在1280℃时，打开窑门并迅速关闭窑门，使空气中氧气进去，防止窑内产品二次氧化，使其釉面发灰；4）自然冷却至室温，开窑即可。
实施例3：
一种汝瓷篆刻陶印制作工艺，其特征在于，包括以下步骤：
步骤1：将球磨后泥料、水、球按照1:0.8:2的质量比混合后得到浆料，然后过80目筛，将泥料调制浓度为52度，通过泥池对浆料进行密闭生物陈腐4年。
其中，所述泥料由以下质量百分比的组分组成：风穴寺土65％、唐沟土25%、严和店坩10%；
为增加其泥料的高温塑性，加入10%的铝矾土煅烧900°C，使其高温烧制时陶印笔画不变形；同时，加入羧甲基纤维素，提高泥浆的韧性，避免用篆刻刀在行刀时泥料出现崩口影响陶印的艺术效果。
步骤2：模具制作：首先，用泥塑造形状，以制作的泥稿翻制石膏模具；（泥稿平整性不强，第一遍用泥稿制作大致石膏模具）。其次，用上述石膏模具制作石膏模种，然后对石膏模种进行精修打磨和局部造型泥稿修改。最后，用制作精良的石膏模种制作出最终石膏模具以供后期注浆制坯用。
步骤3：用模具注浆出来的干泥坯进行素烧，增加泥坯的强度。首先，空窑室把温度升到300℃进行烘窑，再利用窑车把制作好泥坯推进烘好的空窑室进行排湿烘干。3h温度降到室内常温后，再次点火2个火喷头进行烧制6h，在300℃时，窑门开一道1cm的缝，使其升温缓慢，方便泥坯进行二次排湿，提高成品率。最后，紧闭窑门，点4个火喷头3h升温850℃，得到素烧陶印坯体。
步骤4：素坯的刻制：首先时把陶印刻字的平面进行涂抹黑色墨水，便于看清刻刀刻划的笔画线条；然后用篆刻笔进行标记创造；最后根据黑色面积的对比，微调篆刻笔字体笔画和图案，得到最终效果。
步骤5：施釉：先用可撕胶对篆刻的字体和图案进行涂抹保护；然后把涂抹好的保护层向立面上方延伸2mm；进行施汝瓷釉浸釉，再用海绵沾水轻扫瓷釉后的坯体边线，使其线条部分釉层变薄，便于后期烧制后显露线条；对放置阴干施过釉的素坯检查是否出现的釉泡、脱釉现象，并用毛笔进行补釉，避免釉烧出现滚釉的效果。
步骤6：釉烧：为增加汝瓷釉面的润度，本发明采用汽碳烧：首先，在窑里面放置碳块，让碳参与反应，挥发二氧化硫、一氧化碳和氢气，加强窑炉里的还原气氛，使还原更加彻底；同时，碳在窑炉里会产生灰尘影响釉面干净，所以上釉后的陶印放在匣钵罩上采用隔焰烧；烧制1280℃完成釉烧；所述步骤1中采用行星球磨进行球磨，球磨自转转速为1100r/min，球磨时间为13h；所述步骤1中羧甲基纤维素的配比为5%%；所述步骤2泥稿所用泥料为粘性强的目结土，细度为800目；模具的用料为成型强度高和成型表面光洁度优的ks石膏粉，水和石膏粉比例为25:100；所述步骤3素烧阶段的具体步骤为：500℃的升温曲线为2℃/min的升温速率升温，素烧完毕，保温20min后冷却，素烧温度为850℃；所述步骤5中施釉陶瓷素坯的釉层厚度为1.0 mm；所述步骤6的升温曲线：1）弱氧化性气氛中经5h烧制到950℃；2）还原气氛经1h烧制到1100℃；3）快速冷却使釉面封闭，在1280℃时，打开窑门并迅速关闭窑门，使空气中氧气进去，防止窑内产品二次氧化，使其釉面发灰；4）自然冷却至室温，开窑即可。
所述风穴寺土、唐沟土以及严和店坩土如表1所示
本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。对于实施例公开的装置而言，由于其与实施例公开的方法相对应，所以描述的比较简单，相关之处参见方法部分说明即可。
对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。
Claims (8)
1.一种汝瓷篆刻陶印制作工艺，其特征在于，包括以下步骤：
步骤1：将球磨后泥料、水、球按照1:0.8:1.8～2的质量比混合后得到浆料，然后过100～80目筛，将泥料调制浓度为52～53度，通过泥池对浆料进行密闭生物陈腐1～4年；
其中，所述泥料由以下质量百分比的组分组成：风穴寺土65％～75％、唐沟土15％～25％、严和店坩8％～15％；为增加其泥料的高温塑性，加入煅烧铝矾土，使其高温烧制时陶印笔画不变形；同时，加入羧甲基纤维素，提高泥浆的韧性，避免用篆刻刀在行刀时泥料出现崩口影响陶印的艺术效果；
步骤2：模具制作：首先，用泥塑造形状，以制作的泥稿翻制石膏模具；其次，用上述石膏模具制作石膏模种，然后对石膏模种进行精修打磨和局部造型泥稿修改；最后，用制作精良的石膏模种制作出最终石膏模具以供后期注浆制坯用；
步骤3：用模具注浆出来的干泥坯进行素烧，增加泥坯的强度；首先，空窑室把温度升到300℃进行烘窑，再利用窑车把制作好泥坯推进烘好的空窑室进行排湿烘干；3h温度降到室内常温后，再次点火2个火喷头进行烧制6h，在0-500℃时，窑门开一道1cm的缝，使其升温缓慢，方便泥坯进行二次排湿，提高成品率；最后，紧闭窑门，点4个火喷头3h升温850℃，得到素烧陶印坯体；
步骤4：素坯的刻制：首先把陶印刻字的平面进行涂抹黑色墨水，便于看清刻刀刻划的笔画线条；然后用篆刻笔进行标记创造；最后根据黑色面积的对比，微调篆刻笔字体笔画和图案，得到最终效果；
步骤5：施釉：先用可撕胶对篆刻的字体和图案进行涂抹保护；然后把涂抹好的保护层向立面上方延伸2mm；进行施汝瓷釉浸釉，再用海绵沾水轻扫瓷釉后的坯体边线，使其线条部分釉层变薄，便于后期烧制后显露线条；对放置阴干施过釉的素坯检查是否出现的釉泡、脱釉现象，并用毛笔进行补釉，避免釉烧出现滚釉的效果；
步骤6：釉烧：为增加汝瓷釉面的润度，采用汽窑碳烧：首先，在窑里面放置碳块，让碳参与反应，挥发二氧化硫、一氧化碳和氢气，加强窑炉里的还原气氛，使还原更加彻底；同时，碳在窑炉里会产生灰尘影响釉面干净，所以上釉后的陶印放在匣钵罩上采用隔焰烧；烧制1280℃完成釉烧。
2.根据权利要求1所述的一种汝瓷篆刻陶印制作工艺，其特征在于，所述步骤1中采用行星球磨进行球磨，球磨自转转速为1100-1400r/min，球磨时间为13-16h。
3.根据权利要求1所述的一种汝瓷篆刻陶印制作工艺，其特征在于，所述步骤1中煅烧铝矾土是把10％～15％铝矾土煅烧900℃后，泥料、水、球按照1:0.8:1.8球磨80目筛后进行配置。
4.根据权利要求1所述的一种汝瓷篆刻陶印制作工艺，其特征在于，所述步骤1中羧甲基纤维素的配比为5％～10％。
5.根据权利要求1所述的一种汝瓷篆刻陶印制作工艺，其特征在于，所述步骤2泥稿所用泥料为粘性强的目结土，细度为800目；模具的用料为成型强度高和成型表面光洁度优的ks石膏粉，水和石膏粉比例为25:100。
6.根据权利要求1所述的一种汝瓷篆刻陶印制作工艺，其特征在于，所述步骤3素烧阶段的具体步骤为：500-850℃的升温曲线为2～3℃/min的升温速率升温，素烧完毕，保温20～30min后冷却，素烧温度为850℃。
7.根据权利要求1所述的一种汝瓷篆刻陶印制作工艺，其特征在于，所述步骤5中施釉陶瓷素坯的釉层厚度为1.0-1.5mm。
8.根据权利要求1所述的一种汝瓷篆刻陶印制作工艺，其特征在于，所述步骤6的升温曲线：1)弱氧化性气氛中经5-6h烧制到950-1000℃；2)还原气氛经1-2h烧制到1100-1280℃；3)快速冷却使釉面封闭，在1280℃时，打开窑门并迅速关闭窑门，使空气中氧气进去，防止窑内产品二次氧化，使其釉面发灰；4)自然冷却至室温，开窑即可。
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