CN116218006B - 一种防静电型光学保护膜及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明具体为一种防静电型光学保护膜及其制备方法。包括以下步骤:S1:(1)氮气氛围下,将甲基丙烯酸缩水甘油酯接枝哌嗪,再使用甲基磺酸甲酯改性,得到稀释剂;(2)将光引发剂加入至稀释剂中搅拌均匀,得到混合液;(3)依次将聚氨酯丙烯酸酯、多面体倍半硅氧烷、3‑异氰酸‑1‑丙烯、异佛尔酮二异氰酸酯加入至溶剂中,分散均匀,加入混合液,均质化,消泡,得到防静电涂料;S2:将光学基膜等离子体处理,表面涂覆防静电涂料,热固化,紫外光固化,得到防静电型光学保护膜。通过制备具有抗静电的稀释液,联合光引发剂和含有叔胺结构的多面体倍半硅氧烷,在保证透光率的基础上,有效增强了防静电型光学保护膜的表面硬度和抗静电性能。
Description
技术领域
本发明涉及防静电膜技术领域,具体为一种防静电型光学保护膜及其制备方法。
背景技术
随着近现代电子工业的发展,具有LED显示的电子设备成为了人们生活中必不可少的一部分;为了降低电子产品显示屏的损伤,一般会进行贴膜处理,这极大地促进了光学保护膜的发展。
光学保护膜一般是以聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯等物质制得,虽然光学透明度高,但是存在机械强度低、抗静电性能差、不耐划痕等缺陷。因此,通常会在光学膜上涂覆抗静电涂料或硬化涂料,增加光学保护膜的表面硬度和抗静电性能,提高使用寿命、扩展应用范围。现有技术中,紫外光固化的涂料具有低耗能、环境友好的优点,被广泛用在光学保护膜中,如专利CN201711342931.X一种防静电光学硬化膜、专利CN201911173893.9一种防污抗静电高耐磨透明光固化涂料及其制备方法,两个专利中,一个为了防静电持久性,将防静电层、硬化层分开设置形成复合层,导致涂覆工艺增加,需要注意层与层之间的界面作用,且涂层总厚度增加;另一个虽然形成了单一层的抗静电硬化层,但是其抗静电剂迁移在表面,抗静电持久性差,表面硬度低。
综上,解决上述问题,制备一种防静电型光学保护膜及其制备方法具有重要意义。
发明内容
本发明的目的在于提供一种防静电型光学保护膜及其制备方法,以解决上述背景技术中提出的问题。
为了解决上述技术问题,本发明提供如下技术方案:
一种防静电型光学保护膜的制备方法,包括以下步骤:
S1:(1)氮气氛围下,将甲基丙烯酸缩水甘油酯接枝哌嗪,再使用甲基磺酸甲酯改性,得到稀释剂;(2)将光引发剂加入至稀释剂中搅拌均匀,得到混合液;(3)依次将聚氨酯丙烯酸酯、多面体倍半硅氧烷、3-异氰酸-1-丙烯、异佛尔酮二异氰酸酯加入至溶剂中,分散均匀,加入混合液,均质化,消泡,得到防静电涂料;
S2:将光学基膜等离子体处理,表面涂覆防静电涂料,热固化,紫外光固化,得到防静电型光学保护膜。
较为优化地,所述防静电涂料包括以下原料:按重量份数计,40~50份聚氨酯丙烯酸酯、30~40份稀释剂、4~6份光引发剂、6~8份多面体倍半硅氧烷、4~5份3-异氰酸-1-丙烯、2~3份异佛尔酮二异氰酸酯、25~30份溶剂。
较为优化地,所述稀释剂的制备方法为:氮气氛围下,将哌嗪、4-甲氧基苯酚加入至反应瓶中,升温至60~70℃,滴加甲基丙烯酸缩水甘油酯,反应2~3小时;加入乙氧基化双酚A二甲基丙烯酸酯稀释,滴加甲基磺酸甲酯,滴加时间为30~40分钟,搅拌反应2~3小时,得到稀释剂。
较为优化地,所述稀释剂包括以下原料:按重量份数计,7~10份哌嗪、28~30份甲基丙烯酸缩水甘油酯、30~35份乙氧基化双酚A二甲基丙烯酸酯、10~15份甲基磺酸甲酯。
较为优化地,所述光引发剂的制备方法为:将3-异氰酸酯丙基甲基二甲氧基硅烷、2-羟基-2-甲基苯丙酮、二月桂酸二丁基锡依次加入至反应瓶中,氮气氛围下,升温至75~85℃,反应4~6小时,洗涤干燥,得到光引发剂;其中,3-异氰酸酯丙基甲基二甲氧基硅烷、2-羟基-2-甲基苯丙酮的质量比为11:8。
较为优化地,步骤1的(2)中,混合液的制备方法为:避光,氮气氛围下,将光引发剂加入至稀释剂中,升温至90~100℃,反应2~3小时,升温至100~110℃,在-0.09~-0.1MPa下,真空脱水,降温,得到混合液。
较为优化地,所述多面体倍半硅氧烷的制备方法为:将八乙烯基倍半硅氧烷、烯丙基缩水甘油醚依次加入至甲苯中,氮气氛围下,加入偶氮二异丁腈、乙烯基铜铬,搅拌均匀,升温至60~70℃,反应12~14小时,浓缩洗涤干燥,得到环氧基倍半硅氧烷;
将环氧基倍半硅氧烷分散在甲苯中,加入哌嗪、4-甲氧基苯酚,升温至60~70℃,反应1~2小时,加入甲基丙烯酸缩水甘油酯,反应1~2小时,过滤洗涤干燥,得到多面体倍半硅氧烷。
较为优化地,八乙烯基倍半硅氧烷、烯丙基缩水甘油醚的质量比为1:(1.1~1.2),环氧基倍半硅氧烷、哌嗪、甲基丙烯酸缩水甘油酯的质量比为1:(0.13~0.15):0.2。
较为优化地,热固化温度为80~100℃,时间为3~5分钟;光固化:紫外线高压汞灯以5~10m/s的线速度,设置光照能量为800~1000mJ/cm2。
较为优化地,一种防静电型光学保护膜的制备方法制备得到的防静电型光学保护膜,所述防静电型光学保护膜包括防静电涂层和光学基膜,防静电涂层由防静电涂料涂覆得到;所述光学基膜的厚度为200~300μm,防静电涂层的厚度为2~4μm。
本技术方案中,制备得到具有抗静电性能的稀释剂,将其引入防静电涂料,有效交联在防静电涂层中,提供长期抗静电性能;引入八乙烯基倍半硅氧烷,有效提高防静电涂层硬度,提高耐划痕性;引入3-异氰酸-1-丙烯,可以提高与基膜的黏附性,增加界面黏结性。
(1)方案中,利用仲胺与环氧基团的开环反应,将甲基丙烯酸缩水甘油酯接枝在哌嗪的两端,使其成为具有双官能团的丙烯酸酯稀释剂;然后利用丙烯酸酯稀释剂中的叔胺基团,在甲基磺酸甲酯的作用下,形成季铵盐,从而得到了具有抗静电功能的稀释剂。该稀释剂的两端具有丙烯酸基团,反应相容性高,可以很好地交联在防静电涂层的内部,不会迁移的析出,因此,其引入在保证透光率、不降低表面硬度的挤出上,实现了长期有效的抗静电性能。另外,制备过程中,引入了乙氧基化双酚A二甲基丙烯酸酯稀释剂,是一种具有抗静电性稀释剂和乙氧基化双酚A二甲基丙烯酸酯稀释剂的混合型稀释剂。因为尽管抗静电性稀释剂具有优异的相容性,但是其存在的由哌嗪形成的抗静电基团,会导致稀释剂与聚氨酯丙烯酸酯之间在紫外固化过程中不同的反应速率,导致透光率下降。因此,稀释剂的组分含量需要限定。
(2)方案中,为了抑制光引发剂的迁移箱,增强反应均匀性,从而得到优异的透光率,将利用羟基和异氰酸酯生成氨基甲酸酯,将2-羟基-2-甲基苯丙酮与3-异氰酸酯丙基甲基二甲氧基硅烷复合,得到具有光引发功能的硅氧烷。然后利用稀释剂中的羟基(环氧基团的开环生成羟基)与具有光引发功能的硅氧烷中甲氧基脱水缩合,固定分散在稀释剂中,从而提高了固化均匀性。
(3)方案中,为了增加表面硬度,引入了多面体倍半硅氧烷,其是以八乙烯基倍半硅氧烷、在定量烯丙基缩水甘油醚的改性下,形成环氧基倍半硅氧烷,然后利用环氧基团与仲胺反应,将其与甲基丙烯酸缩水甘油酯连接在哌嗪上,得到了多面体倍半硅氧烷。其中由于仲胺反应生成了叔胺,提高了多面体倍半硅氧烷聚氨酯树脂的反应速率,有效抑制迁移,另一方面,由于接枝改性,提高了与稀释剂、树脂的相似相容性,有效抑制了相分离。从而在提高硬度的同时有效抑制了透光率的下降。
综上,方案中,通过光引发剂的预先接枝在稀释剂中,并协同多面体倍半硅氧烷上的叔胺基团,在紫外光固化过程中,降低各个物质间固化速率的差异,有效提高固化均匀性和固化效率,从而抑制降低迁移和相分离,以此,在保证降低透光率的基础上,有效改善防静电型光学保护膜的表面硬度和长效抗静电性能。
具体实施方式
下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
以下实施例中,所述光学基膜为PET基膜,厚度为250μm,防静电涂层的厚度为3μm。哌嗪的CAS号为110-85-0,乙氧基化双酚A二甲基丙烯酸酯的CAS号为24448-20-2,甲基磺酸甲酯的CAS号为66-27-3,3-异氰酸酯丙基甲基二甲氧基硅烷的CAS号为33491-28-0,2-羟基-2-甲基苯丙酮的CAS号为7473-98-5,八乙烯基倍半硅氧烷的CAS号为307531-92-6,烯丙基缩水甘油醚的CAS号为106-92-3、3-异氰酸-1-丙烯的CAS号为1476-23-9,聚氨酯丙烯酸酯的型号为ETERCURE 6130B-80,以上原料均为市购。以下实施例中,份为重量份。
实施例1:
S1:(1)氮气氛围下,将8.5份哌嗪、2份4-甲氧基苯酚加入至反应瓶中,升温至65℃,滴加28.6份甲基丙烯酸缩水甘油酯,反应2~3小时;加入32.5份乙氧基化双酚A二甲基丙烯酸酯稀释,滴加13.8份甲基磺酸甲酯,滴加时间为30分钟,搅拌反应3小时,得到稀释剂,备用;
将11份3-异氰酸酯丙基甲基二甲氧基硅烷、8份2-羟基-2-甲基苯丙酮、1份二月桂酸二丁基锡依次加入至反应瓶中,氮气氛围下,升温至80℃,反应5小时,洗涤干燥,得到光引发剂,备用;
所述多面体倍半硅氧烷的制备方法为:将10份八乙烯基倍半硅氧烷、12份烯丙基缩水甘油醚依次加入至10份甲苯中,氮气氛围下,加入0.5份偶氮二异丁腈、0.1份乙烯基铜铬,搅拌均匀,升温至65℃,反应12小时,浓缩洗涤干燥,得到环氧基倍半硅氧烷;将10份环氧基倍半硅氧烷分散在50份甲苯中,加入1.5份哌嗪、0.5份4-甲氧基苯酚,升温至65℃,反应1小时,加入2份甲基丙烯酸缩水甘油酯,反应2小时,过滤洗涤干燥,得到多面体倍半硅氧烷,备用;
(2)避光,氮气氛围下,将5份光引发剂加入至36份稀释剂中,升温至100℃,反应2小时,升温至110℃,在-0.09MPa下,真空脱水,降温,得到混合液;
(3)依次将44份聚氨酯丙烯酸酯、7份多面体倍半硅氧烷、5份3-异氰酸-1-丙烯、3份异佛尔酮二异氰酸酯加入至26份丙酮中,分散均匀,加入混合液,均质化,消泡,得到防静电涂料;
S2:将光学基膜等离子体处理5秒,表面涂覆防静电涂料,80℃热固化5分钟热固化,使用紫外线高压汞灯(主波长为365nm)以5m/s的线速度,设置光照能量为1000mJ/cm2光固化,得到防静电型光学保护膜。
实施例2:
S1:(1)氮气氛围下,将7.2份哌嗪、2份4-甲氧基苯酚加入至反应瓶中,升温至65℃,滴加28.5份甲基丙烯酸缩水甘油酯,反应2~3小时;加入30.2份乙氧基化双酚A二甲基丙烯酸酯稀释,滴加10.2份甲基磺酸甲酯,滴加时间为30分钟,搅拌反应2小时,得到稀释剂,备用;
将11份3-异氰酸酯丙基甲基二甲氧基硅烷、8份2-羟基-2-甲基苯丙酮、1份二月桂酸二丁基锡依次加入至反应瓶中,氮气氛围下,升温至80℃,反应5小时,洗涤干燥,得到光引发剂,备用;
所述多面体倍半硅氧烷的制备方法为:将10份八乙烯基倍半硅氧烷、12份烯丙基缩水甘油醚依次加入至10份甲苯中,氮气氛围下,加入0.5份偶氮二异丁腈、0.1份乙烯基铜铬,搅拌均匀,升温至65℃,反应12小时,浓缩洗涤干燥,得到环氧基倍半硅氧烷;将10份环氧基倍半硅氧烷分散在50份甲苯中,加入1.5份哌嗪、0.5份4-甲氧基苯酚,升温至65℃,反应1小时,加入2份甲基丙烯酸缩水甘油酯,反应2小时,过滤洗涤干燥,得到多面体倍半硅氧烷,备用;
(2)避光,氮气氛围下,将6份光引发剂加入至40份稀释剂中,升温至100℃,反应2小时,升温至110℃,在-0.09MPa下,真空脱水,降温,得到混合液;
(3)依次将40份聚氨酯丙烯酸酯、8份多面体倍半硅氧烷、4份3-异氰酸-1-丙烯、2份异佛尔酮二异氰酸酯加入至30份丙酮中,分散均匀,加入混合液,均质化,消泡,得到防静电涂料;
S2:将光学基膜等离子体处理5秒,表面涂覆防静电涂料,80℃热固化5分钟热固化,使用紫外线高压汞灯(主波长为365nm)以5m/s的线速度,设置光照能量为1000mJ/cm2光固化,得到防静电型光学保护膜。
实施例3:
S1:(1)氮气氛围下,将9.8份哌嗪、4-甲氧基苯酚加入至反应瓶中,升温至65℃,滴加30份甲基丙烯酸缩水甘油酯,反应2~3小时;加入34.6份乙氧基化双酚A二甲基丙烯酸酯稀释,滴加14.1份甲基磺酸甲酯,滴加时间为30分钟,搅拌反应3小时,得到稀释剂,备用;
将11份3-异氰酸酯丙基甲基二甲氧基硅烷、8份2-羟基-2-甲基苯丙酮、1份二月桂酸二丁基锡依次加入至反应瓶中,氮气氛围下,升温至80℃,反应5小时,洗涤干燥,得到光引发剂,备用;
所述多面体倍半硅氧烷的制备方法为:将10份八乙烯基倍半硅氧烷、12份烯丙基缩水甘油醚依次加入至10份甲苯中,氮气氛围下,加入0.5份偶氮二异丁腈、0.1份乙烯基铜铬,搅拌均匀,升温至65℃,反应12小时,浓缩洗涤干燥,得到环氧基倍半硅氧烷;将10份环氧基倍半硅氧烷分散在50份甲苯中,加入1.5份哌嗪、0.5份4-甲氧基苯酚,升温至65℃,反应1小时,加入2份甲基丙烯酸缩水甘油酯,反应2小时,过滤洗涤干燥,得到多面体倍半硅氧烷,备用;
(2)避光,氮气氛围下,将4份光引发剂加入至30份稀释剂中,升温至100℃,反应2小时,升温至110℃,在-0.09MPa下,真空脱水,降温,得到混合液;
(3)依次将50份聚氨酯丙烯酸酯、6份多面体倍半硅氧烷、5份3-异氰酸-1-丙烯、3份异佛尔酮二异氰酸酯加入至25份丙酮中,分散均匀,加入混合液,均质化,消泡,得到防静电涂料;
S2:将光学基膜等离子体处理5秒,表面涂覆防静电涂料,80℃热固化5分钟热固化,使用紫外线高压汞灯(主波长为365nm)以5m/s的线速度,设置光照能量为1000mJ/cm2光固化,得到防静电型光学保护膜。
对比例1:使用八乙烯基倍半硅氧烷作为填料,其余与实施例1相同;
S1:(1)氮气氛围下,将8.5份哌嗪、2份4-甲氧基苯酚加入至反应瓶中,升温至65℃,滴加28.6份甲基丙烯酸缩水甘油酯,反应2~3小时;加入32.5份乙氧基化双酚A二甲基丙烯酸酯稀释,滴加13.8份甲基磺酸甲酯,滴加时间为30分钟,搅拌反应3小时,得到稀释剂,备用;
将11份3-异氰酸酯丙基甲基二甲氧基硅烷、8份2-羟基-2-甲基苯丙酮、1份二月桂酸二丁基锡依次加入至反应瓶中,氮气氛围下,升温至80℃,反应5小时,洗涤干燥,得到光引发剂,备用;
(2)避光,氮气氛围下,将5份光引发剂加入至36份稀释剂中,升温至100℃,反应2小时,升温至110℃,在-0.09MPa下,真空脱水,降温,得到混合液;
(3)依次将44份聚氨酯丙烯酸酯、7份八乙烯基倍半硅氧烷、5份3-异氰酸-1-丙烯、3份异佛尔酮二异氰酸酯加入至26份丙酮中,分散均匀,加入混合液,均质化,消泡,得到防静电涂料;
S2:将光学基膜等离子体处理5秒,表面涂覆防静电涂料,80℃热固化5分钟热固化,使用紫外线高压汞灯(主波长为365nm)以5m/s的线速度,设置光照能量为1000mJ/cm2光固化,得到防静电型光学保护膜。
对比例2:使用甲基丙烯酸磺丙酯钾盐作为抗静电剂,其余与实施例1相同;
S1:(1)将11份3-异氰酸酯丙基甲基二甲氧基硅烷、8份2-羟基-2-甲基苯丙酮、1份二月桂酸二丁基锡依次加入至反应瓶中,氮气氛围下,升温至80℃,反应5小时,洗涤干燥,得到光引发剂,备用;
所述多面体倍半硅氧烷的制备方法为:将10份八乙烯基倍半硅氧烷、12份烯丙基缩水甘油醚依次加入至10份甲苯中,氮气氛围下,加入0.5份偶氮二异丁腈、0.1份乙烯基铜铬,搅拌均匀,升温至65℃,反应12小时,浓缩洗涤干燥,得到环氧基倍半硅氧烷;将10份环氧基倍半硅氧烷分散在50份甲苯中,加入1.5份哌嗪、0.5份4-甲氧基苯酚,升温至65℃,反应1小时,加入2份甲基丙烯酸缩水甘油酯,反应2小时,过滤洗涤干燥,得到多面体倍半硅氧烷,备用;
(2)依次将44份聚氨酯丙烯酸酯、7份多面体倍半硅氧烷、5份3-异氰酸-1-丙烯、3份异佛尔酮二异氰酸酯加入至26份丙酮中,分散均匀,加入5份光引发剂、24份乙氧基化双酚A二甲基丙烯酸酯、12份甲基丙烯酸磺丙酯钾盐,均质化,消泡,得到防静电涂料;
S2:将光学基膜等离子体处理5秒,表面涂覆防静电涂料,80℃热固化5分钟热固化,使用紫外线高压汞灯(主波长为365nm)以5m/s的线速度,设置光照能量为1000mJ/cm2光固化,得到防静电型光学保护膜。
对比例3:直接引入光引发剂,其余与实施例1相同;
S1:(1)氮气氛围下,将8.5份哌嗪、2份4-甲氧基苯酚加入至反应瓶中,升温至65℃,滴加28.6份甲基丙烯酸缩水甘油酯,反应2~3小时;加入32.5份乙氧基化双酚A二甲基丙烯酸酯稀释,滴加13.8份甲基磺酸甲酯,滴加时间为30分钟,搅拌反应3小时,得到稀释剂,备用;
所述多面体倍半硅氧烷的制备方法为:将10份八乙烯基倍半硅氧烷、12份烯丙基缩水甘油醚依次加入至10份甲苯中,氮气氛围下,加入0.5份偶氮二异丁腈、0.1份乙烯基铜铬,搅拌均匀,升温至65℃,反应12小时,浓缩洗涤干燥,得到环氧基倍半硅氧烷;将10份环氧基倍半硅氧烷分散在50份甲苯中,加入1.5份哌嗪、0.5份4-甲氧基苯酚,升温至65℃,反应1小时,加入2份甲基丙烯酸缩水甘油酯,反应2小时,过滤洗涤干燥,得到多面体倍半硅氧烷,备用;
(2)避光,氮气氛围下,将3份2-羟基-2-甲基苯丙酮加入至36份稀释剂中,混合均匀,得到混合液;
(3)依次将44份聚氨酯丙烯酸酯、7份多面体倍半硅氧烷、5份3-异氰酸-1-丙烯、3份异佛尔酮二异氰酸酯加入至26份丙酮中,分散均匀,加入混合液,均质化,消泡,得到防静电涂料;
S2:将光学基膜等离子体处理5秒,表面涂覆防静电涂料,80℃热固化5分钟热固化,使用紫外线高压汞灯(主波长为365nm)以5m/s的线速度,设置光照能量为1000mJ/cm2光固化,得到防静电型光学保护膜。
对比例4:稀释剂中,减少乙氧基化双酚A二甲基丙烯酸酯的引入量,其余与实施例1相同;
S1:(1)氮气氛围下,将8.5份哌嗪、2份4-甲氧基苯酚加入至反应瓶中,升温至65℃,滴加28.6份甲基丙烯酸缩水甘油酯,反应2~3小时;加入15.3份乙氧基化双酚A二甲基丙烯酸酯稀释,滴加13.8份甲基磺酸甲酯,滴加时间为30分钟,搅拌反应3小时,得到稀释剂,备用;
将11份3-异氰酸酯丙基甲基二甲氧基硅烷、8份2-羟基-2-甲基苯丙酮、1份二月桂酸二丁基锡依次加入至反应瓶中,氮气氛围下,升温至80℃,反应5小时,洗涤干燥,得到光引发剂,备用;
所述多面体倍半硅氧烷的制备方法为:将10份八乙烯基倍半硅氧烷、12份烯丙基缩水甘油醚依次加入至10份甲苯中,氮气氛围下,加入0.5份偶氮二异丁腈、0.1份乙烯基铜铬,搅拌均匀,升温至65℃,反应12小时,浓缩洗涤干燥,得到环氧基倍半硅氧烷;将10份环氧基倍半硅氧烷分散在50份甲苯中,加入1.5份哌嗪、0.5份4-甲氧基苯酚,升温至65℃,反应1小时,加入2份甲基丙烯酸缩水甘油酯,反应2小时,过滤洗涤干燥,得到多面体倍半硅氧烷,备用;
(2)避光,氮气氛围下,将5份光引发剂加入至36份稀释剂中,升温至100℃,反应2小时,升温至110℃,在-0.09MPa下,真空脱水,降温,得到混合液;
(3)依次将44份聚氨酯丙烯酸酯、7份多面体倍半硅氧烷、5份3-异氰酸-1-丙烯、3份异佛尔酮二异氰酸酯加入至26份丙酮中,分散均匀,加入混合液,均质化,消泡,得到防静电涂料;
S2:将光学基膜等离子体处理5秒,表面涂覆防静电涂料,80℃热固化5分钟热固化,使用紫外线高压汞灯(主波长为365nm)以5m/s的线速度,设置光照能量为1000mJ/cm2光固化,得到防静电型光学保护膜。
实验:将实施例和对比例中制备得到的防静电型光学保护膜进行性能测试,使用雾度计,测试波长为200~800nm,测定透光率。使用涂膜硬度测试仪,测定表面硬度。使用超高电阻仪,测试电压为500V,检测表面电阻。所有数据如下所示:
上表中,实施例1~3的数据表明:通过制备具有抗静电的稀释液,联合光引发剂和含有叔胺结构的多面体倍半硅氧烷,在保证透光率的基础上,有效增强了防静电型光学保护膜的表面硬度和抗静电性能。对比例1~4的数据表明:对比例1中,由于未对八乙烯基倍半硅氧烷改性,使得固化速率增加,降低了透光率;对比例2中,由于抗静电剂更换为甲基丙烯酸磺丙酯钾盐,存在表面迁移,使得表面硬度下降,透光率下降。对比例3中,直接加入2-羟基-2-甲基苯丙酮作为光引发剂,降低了固化均匀性,使得透光率下降;对比例4中,由于乙氧基化双酚A二甲基丙烯酸酯稀释剂含量的降低,由于刚性苯环和固化速率差异,使得表面硬度、透光率下降。
最后应说明的是:以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明,对于本领域的技术人员来说,其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (6)
1.一种防静电型光学保护膜的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:
S1:(1)氮气氛围下,将甲基丙烯酸缩水甘油酯接枝哌嗪,再使用甲基磺酸甲酯改性,得到稀释剂;(2)将光引发剂加入至稀释剂中搅拌均匀,得到混合液;(3)依次将聚氨酯丙烯酸酯、多面体倍半硅氧烷、3-异氰酸-1-丙烯、异佛尔酮二异氰酸酯加入至溶剂中,分散均匀,加入混合液,均质化,消泡,得到防静电涂料;
S2:将光学基膜等离子体处理,表面涂覆防静电涂料,热固化,紫外光固化,得到防静电型光学保护膜;
所述防静电涂料包括以下原料:按重量份数计,40~50份聚氨酯丙烯酸酯、30~40份稀释剂、4~6份光引发剂、6~8份多面体倍半硅氧烷、4~5份3-异氰酸-1-丙烯、2~3份异佛尔酮二异氰酸酯、25~30份溶剂;
所述稀释剂的制备方法为:氮气氛围下,将哌嗪、4-甲氧基苯酚加入至反应瓶中,升温至60~70℃,滴加甲基丙烯酸缩水甘油酯,反应2~3小时;加入乙氧基化双酚A二甲基丙烯酸酯稀释,滴加甲基磺酸甲酯,滴加时间为30~40分钟,搅拌反应2~3小时,得到稀释剂;
所述光引发剂的制备方法为:将3-异氰酸酯丙基甲基二甲氧基硅烷、2-羟基-2-甲基苯丙酮、二月桂酸二丁基锡依次加入至反应瓶中,氮气氛围下,升温至75~85℃,反应4~6小时,洗涤干燥,得到光引发剂;其中,3-异氰酸酯丙基甲基二甲氧基硅烷、2-羟基-2-甲基苯丙酮的质量比为11:8;
所述多面体倍半硅氧烷的制备方法为:将八乙烯基倍半硅氧烷、烯丙基缩水甘油醚依次加入至甲苯中,氮气氛围下,加入偶氮二异丁腈、乙烯基铜铬,搅拌均匀,升温至60~70℃,反应12~14小时,浓缩洗涤干燥,得到环氧基倍半硅氧烷;将环氧基倍半硅氧烷分散在甲苯中,加入哌嗪、4-甲氧基苯酚,升温至60~70℃,反应1~2小时,加入甲基丙烯酸缩水甘油酯,反应1~2小时,过滤洗涤干燥,得到多面体倍半硅氧烷。
2.根据权利要求1所述的一种防静电型光学保护膜的制备方法,其特征在于:所述稀释剂包括以下原料:按重量份数计,7~10份哌嗪、28~30份甲基丙烯酸缩水甘油酯、30~35份乙氧基化双酚A二甲基丙烯酸酯、10~15份甲基磺酸甲酯。
3.根据权利要求1所述的一种防静电型光学保护膜的制备方法,其特征在于:步骤S1的(2)中,混合液的制备方法为:避光,氮气氛围下,将光引发剂加入至稀释剂中,升温至90~100℃,反应2~3小时,升温至100~110℃,在-0.09~-0.1MPa下,真空脱水,降温,得到混合液。
4.根据权利要求1所述的一种防静电型光学保护膜的制备方法,其特征在于:八乙烯基倍半硅氧烷、烯丙基缩水甘油醚的质量比为1:(1.1~1.2),环氧基倍半硅氧烷、哌嗪、甲基丙烯酸缩水甘油酯的质量比为1:(0.13~0.15):0.2。
5.根据权利要求1所述的一种防静电型光学保护膜的制备方法,其特征在于:热固化温度为80~100℃,时间为3~5分钟;光固化:紫外线高压汞灯以5~10m/s的线速度,设置光照能量为800~1000mJ/cm2 。
6.根据权利要求1所述的一种防静电型光学保护膜的制备方法制备得到的防静电型光学保护膜,所述防静电型光学保护膜包括防静电涂层和光学基膜,防静电涂层由防静电涂料涂覆得到;所述光学基膜的厚度为200~300μm,防静电涂层的厚度为2~4μm。
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