CN116000291A - 一种可调控的粉末冶金装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种可调控的粉末冶金装置，包括可调控装粉机构、磁吸下料机构、振动压胚机构、传动搭载机构、随动粉末装填机构、设备搭载平台和控制模块。本发明属于粉末冶金领域，具体是一种可调控的粉末冶金装置，本发明通过设置可调控装粉机构、磁吸下料机构、振动压胚机构、传动搭载机构、随动粉末装填机构，采用粉末填粉、压胚和出模加工流程多维细分化的方式，实现了每个加工流程之间既是独立又是相互联系的技术效果，解决了传统方式加工速度慢、生产效率低的技术问题；通过设置下粉调控系统、采用磁吸转移的方式，磁吸送粉系统和磁吸储料装置，实现了粉末无损耗转移的技术效果，解决了粉末在转移下料时浪费、易堵塞的技术问题。

Description

一种可调控的粉末冶金装置

技术领域

本发明属于粉末冶金技术领域，具体是指一种可调控的粉末冶金装置。

背景技术

粉末冶金是制取金属粉末或用金属粉末（或金属粉末与非金属粉末的混合物，以下简称粉末）作为原料，经过成形和烧结，制造金属材料、复合材料以及各种类型制品的工艺技术。粉末冶金法与生产陶瓷有相似的地方，均属于粉末烧结技术，因此，一系列粉末冶金新技术也可用于陶瓷材料的制备。由于粉末冶金技术的优点，它已成为解决新材料问题的钥匙，在新材料的发展中起着举足轻重的作用。

目前使用的成型设备在使用过程中，需要操作添加粉末，人工添加时，工作人员很难掌控上料的份量，粉末过多会造成浪费，而使用上料装置将粉末上料至压坯时，上料过程中粉末极易在上料腔内集聚并形成结块、塞状和结拱等多种结构的堵塞现象，并且上料至压坯内的粉末过多或过少的情况，均会影响零件压坯成型的效果；进行下料时，通过人工操作完成需要投入大量的人力，增加了生产成本，并且效率非常低，而通过机械手或夹爪气缸进行夹取下料，虽然相对人工下料能够提高效率，但是机械手的力度无法掌控，对于一些精度要求较高的工件，夹取过程中会存在损伤风险，降低产品的合格率；此外传动的加工方式，需要经过，下粉、压胚、下料的流程，各个设备需要等上一步加工流程结束后才能依次继续加工，大大延长了生产速度，影响加工效率。

发明内容

针对上述情况，为克服现有技术的缺陷，本发明提供一种可调控的粉末冶金装置，本发明提出了一种全新的、无接触式填粉的、环形阵列式高效作业的一种可调控的粉末冶金装置，根据传动加工方式需要等上一步加工流程结束后才能依次继续加工，影响生产速度的问题，设置可调控装粉机构、磁吸下料机构、振动压胚机构、传动搭载机构、随动粉末装填机构，实现了每个加工流程之间既是独立又是相互联系的技术效果，解决了传统方式加工速度慢、生产效率低的技术问题；根据粉末下料难以掌控、容易造成浪费、粉末转移时容易堵塞的问题，采用磁吸转移的方式，设置下粉调控系统、磁吸送粉系统和磁吸储料装置，实现了粉末无损耗转移的技术效果，解决了粉末在转移下料时浪费、易堵塞的技术问题。

本发明采取的技术方案如下：本发明提供一种可调控的粉末冶金装置，包括可调控装粉机构、磁吸下料机构、振动压胚机构、传动搭载机构、随动粉末装填机构、设备搭载平台和控制模块，所述设备搭载平台设于传动搭载机构外侧上，所述可调控装粉机构设于设备搭载平台上，所述磁吸下料机构设于设备搭载平台上，所述振动压胚机构设于设备搭载平台上，所述随动粉末装填机构活动设于传动搭载机构上，所述控制模块设于设备搭载平台上，通过传动搭载机构转动随动粉末装填机构，让随动粉末装填机构在可调控装粉机构、振动压胚机构和磁吸下料机构之间转动，实现粉末填粉、压胚、出模的循环加工流程，相比于传统的单线加工流程，将加工流程多维细分化，让每个加工流程之间既是独立又是相互联系的，减少各个设备之间的加工间隔，提高整体的加工效率。

进一步地，所述传动搭载机构包括平台搭载底座、外径传动齿环、水平支撑辊、传动转轮、上层限位臂、轨道底座、限位变径框架、无动力限位齿轮、转动输出齿轮和转动电机，所述平台搭载底座设于设备搭载平台内侧，所述外径传动齿环设于平台搭载底座上，所述水平支撑辊转动设于平台搭载底座上，所述传动转轮活动设于水平支撑辊上，所述上层限位臂设于平台搭载底座上，所述上层限位臂上转动设有上层限位轮，所述上层限位轮的圆周侧壁与传动转轮的凹槽滚动贴合，所述轨道底座设于平台搭载底座上，所述限位变径框架设于轨道底座上，所述无动力限位齿轮转动设于平台搭载底座上，所述转动电机设于平台搭载底座内，所述转动输出齿轮设于转动电机上，所述传动转轮内侧设有传动内齿圈，所述传动转轮外侧设有传动外齿圈，所述无动力限位齿轮与传动内齿圈啮合连接，所述转动输出齿轮与传动内齿圈啮合连接，传动搭载机构的设置，通过转动电机带动传动转轮，再由传动转轮带动随动粉末装填机构转动，实现随动粉末装填机构在可调控装粉机构、振动压胚机构和磁吸下料机构之间转动作业，提高加工效率。

进一步地，所述限位变径框架上设有限位圆壁，所述限位变径框架上设有变径轨道，所述限位变径框架上设有远位区，所述限位变径框架上设有中位区，所述限位变径框架上设有近位区，所述远位区正对于磁吸下料机构，所述中位区正对于可调控装粉机构，所述近位区正对于振动压胚机构，在不使用任何传感机器和外部供能元件的条件下，利用变径轨道与限位圆壁之间距离的变化，实现随动粉末装填机构各个的工作状态之间的切换。

进一步地，所述随动粉末装填机构包括上层限位装置、中部连接臂、下层限位活动装置、变轨随动调整装置和磁吸储料装置，所述下层限位活动装置活动设于传动搭载机构上，所述中部连接臂设于下层限位活动装置上，所述上层限位装置设于中部连接臂上，所述变轨随动调整装置滑动设于中部连接臂上，所述磁吸储料装置转动设于中部连接臂上，所述上层限位装置上转动设有内侧限位转轮，所述内侧限位转轮的圆周侧壁与限位变径框架的限位圆壁的内侧壁滚动贴合。

其中，所述下层限位活动装置包括下层框架、下层限位转轮、下侧转动齿轮和滑动支撑辊，所述下层框架设于中部连接臂下方，所述下层限位转轮转动设于下层框架上，所述下侧转动齿轮转动设于下层框架上，所述滑动支撑辊转动设于下层框架上，所述下层限位转轮的圆周侧壁与外径传动齿环的外侧圆周外壁滚动贴合，所述下侧转动齿轮与外径传动齿环的内侧啮合连接，所述下侧转动齿轮同时与传动转轮的传动外齿圈啮合连接，所述滑动支撑辊与外径传动齿环的顶部滚动贴合，通过传动转轮带动下侧转动齿轮转动，在利用外径传动齿环的限位，让随动粉末装填机构在外径传动齿环和传动转轮之间限位转动，实现随动粉末装填机构的圆周转动。

进一步地，所述磁吸储料装置包括压胚模具、模具搭载框架、翻转曲轴和转移磁吸电极，所述翻转曲轴转动设于中部连接臂上，所述模具搭载框架设于翻转曲轴上，所述压胚模具设于模具搭载框架上，所述转移磁吸电极设于模具搭载框架上，通过转移磁吸电极吸附粉末，一方面可以在转移时避免粉末散漏，另一方面可以利用磁场的特点，让粉末均匀填充于压胚模具，避免了出现传统加工时，粉末散布不均匀导致产品不合格的现象。

进一步地，所述变轨随动调整装置包括转动推臂、滑动限位推臂、辅助变径轮和磁吸限位系统，所述滑动限位推臂滑动设于中部连接臂上，所述转动推臂的一端转动设于滑动限位推臂上，所述转动推臂的另一端转动设于翻转曲轴上，所述辅助变径轮转动设于滑动限位推臂上，所述磁吸限位系统转动设于滑动限位推臂上；所述磁吸限位系统包括弓形框架、支撑转轮和变径磁吸板，所述弓形框架转动设于滑动限位推臂上，所述支撑转轮转动设于弓形框架上，所述变径磁吸板设于弓形框架上，所述支撑转轮的圆周外壁与限位变径框架的变径轨道内壁滚动贴合，根据变径轨道的变化，变轨随动调整装置在变轨随动调整装置的带动下，按中位填粉状态、近位压合状态、远位下模状态依次循环改变，控制磁吸储料装置的翻转状态，让压胚模具的正面始终正对于各个加工装置。

进一步地，所述可调控装粉机构包括旋转式粉末添加装置、可调控粉末下料装置和装粉底座，所述装粉底座设于设备搭载平台上，所述旋转式粉末添加装置设于装粉底座上，所述可调控粉末下料装置设于装粉底座上，所述可调控粉末下料装置设于旋转式粉末添加装置上方。

其中，所述旋转式粉末添加装置包括旋转搭载框架、旋转轴、送粉伸缩臂、六联推臂、旋转电机、旋转输出齿轮、旋转外齿、传动盘、转动盘、送粉搭载框架、磁吸送粉系统和半程限位转轮，所述旋转搭载框架设于装粉底座上，所述旋转轴转动设于旋转搭载框架上，所述转动盘转动设于旋转轴上，所述半程限位转轮转动设于旋转搭载框架上，所述送粉伸缩臂的固定端设于旋转搭载框架上，所述六联推臂设于送粉伸缩臂的伸缩端上，所述传动盘转动设于半程限位转轮上，所述送粉搭载框架的一侧设于传动盘上，所述送粉搭载框架的另一侧设于转动盘上，所述磁吸送粉系统设于送粉搭载框架上，所述旋转外齿设于传动盘上，所述旋转电机设于装粉底座上，所述旋转输出齿轮设于旋转电机的输出端上，所述旋转外齿与旋转输出齿轮啮合连接，通过旋转电机带动传动盘，利用磁吸送粉系统将粉末从可调控粉末下料装置运输至磁吸储料装置。

进一步地，所述磁吸送粉系统包括送粉套管、限位弹簧、储粉滑管和转移吸附电磁体，所述送粉套管设于送粉搭载框架上，所述储粉滑管滑动设于送粉套管上，所述转移吸附电磁体设于送粉套管上，所述限位弹簧的一端设于送粉套管上，所述限位弹簧的另一端设于储粉滑管上，磁吸送粉系统在运输粉末时，利用转移吸附电磁体将粉末吸附在储粉滑管中，而储粉滑管可以伸入压胚模具内部，在转移粉末时，通过启动转移磁吸电极和关闭转移吸附电磁体，实现粉末的转移，不仅可以定量转移粉末，而且避免了粉末在转移时发生堵塞、散漏。

进一步地，所述可调控粉末下料装置包括料斗底柱、下粉调控系统和储料室，所述料斗底柱设于装粉底座上，所述储料室设于料斗底柱上，所述下粉调控系统设于储料室底部。

其中，所述下粉调控系统包括下粉搭载框架、电机仓、调控电机、调控齿轮、进料仓、送料仓、引导电磁极体、旋转式阻料仓和调控传动齿环，所述下粉搭载框架设于储料室底部，所述电机仓设于下粉搭载框架侧壁上，所述进料仓设于下粉搭载框架上，所述旋转式阻料仓转动设于下粉搭载框架上，所述调控电机设于电机仓内，所述调控齿轮设于调控电机的输出端上，所述送料仓滑动设于进料仓上，所述引导电磁极体设于进料仓内，所述调控传动齿环设于旋转式阻料仓上，所述调控传动齿环与调控齿轮啮合连接，可以根据需求，调整粉末下粉的量，避免粉末添加过多，造成浪费。

进一步地，所述磁吸下料机构包括下料底座、搭载侧壁、斜角引导下料槽、下料伸缩臂和十字电磁抓臂，所述下料底座设于设备搭载平台上，所述下料伸缩臂的固定端设于下料底座上，所述搭载侧壁设于下料底座上，所述斜角引导下料槽设于搭载侧壁上，所述十字电磁抓臂设于下料伸缩臂的输出端上，所述斜角引导下料槽上设有十字槽，利用十字电磁抓臂，将压合好的成品从压胚模具中分离，避免了在脱模时成品损伤导致报废。

进一步地，所述振动压胚机构包括压合底台、压合搭载框架、压胚液压柱、超声波发生器、振动匀质装置、压胚冲模、支撑底台和压胚支撑辊，所述压合底台设于设备搭载平台上，所述压合搭载框架的一端设于压合底台上，所述压合搭载框架的另一端设于平台搭载底座上，所述压胚液压柱的固定端设于压合搭载框架上，所述超声波发生器设于压合搭载框架上，所振动匀质装置设于压胚液压柱的伸缩端上，所述压胚冲模设于压胚液压柱的伸缩端上，所述支撑底台设于压合底台上，所述压胚支撑辊转动设于支撑底台上。

其中，所述振动匀质装置包括振动搭载平台、超声波换能器、缓冲弹簧、滑动支撑柱和金属垫脚，所述振动搭载平台设于压胚液压柱的伸缩端上，所述滑动支撑柱滑动设于振动搭载平台上，所述超声波换能器设于滑动支撑柱顶部，所述金属垫脚设于滑动支撑柱底部，所述缓冲弹簧的一端设于振动搭载平台上，所述缓冲弹簧的另一端设于金属垫脚上，利用超声波换能器发出的超声波，对压胚模具内的粉末进行匀质振动，提高粉末填充率，减少成品的内部缺陷。

作为本发明进一步优选地，所述控制模块采用SCT89C52RC型单片机，所述控制模块与旋转电机、引导电磁极体、调控电机、转移吸附电磁体、转移磁吸电极、转动电机、超声波发生器和下料伸缩臂电性连接，所述控制模块控制旋转电机的工作状态，所述控制模块控制引导电磁极体的工作状态，所述控制模块控制调控电机的工作状态，所述控制模块控制转移吸附电磁体的工作状态，所述控制模块控制转移磁吸电极的工作状态，所述控制模块控制转动电机的工作状态，所述控制模块控制超声波发生器的工作状态，所述控制模块控制下料伸缩臂的工作状态。

采用上述结构本发明取得的有益效果如下：本方案提供无接触式填粉的、环形阵列式高效作业的一种可调控的粉末冶金装置的有益效果如下：

（1）根据传动加工方式需要等上一步加工流程结束后才能依次继续加工，影响生产速度的问题，采用粉末填粉、压胚和出模加工流程多维细分化的方式，设置可调控装粉机构、磁吸下料机构、振动压胚机构、传动搭载机构、随动粉末装填机构，实现了每个加工流程之间既是独立又是相互联系的技术效果，解决了传统方式加工速度慢、生产效率低的技术问题。

（2）根据金属粉末下料难以掌控、容易造成浪费、粉末转移时容易堵塞的问题，采用磁吸转移的方式，设置下粉调控系统、磁吸送粉系统和磁吸储料装置，实现了金属粉末无损耗转移的技术效果，解决了金属粉末在转移下料时浪费、易堵塞的技术问题。

（3）限位变径框架在不使用任何传感机器和外部供能元件的条件下，利用变径轨道与限位圆壁之间距离的变化，实现随动粉末装填机构各个的工作状态之间的切换。

（4）下层限位活动装置通过传动转轮带动下侧转动齿轮转动，在利用外径传动齿环的限位，让随动粉末装填机构在外径传动齿环和传动转轮之间限位转动，实现随动粉末装填机构的圆周转动。

（5）磁吸储料装置通过转移磁吸电极吸附粉末，一方面可以在转移时避免粉末散漏，另一方面可以利用磁场的特点，让粉末均匀填充于压胚模具，避免了出现传统加工时，粉末散布不均匀导致产品不合格的现象。

（6）变轨随动调整装置，利用变径轨道的变化，通过变轨随动调整装置的带动，按中位填粉状态、近位压合状态、远位下模状态依次循环改变，控制磁吸储料装置的翻转状态，让压胚模具的正面始终正对于各个加工装置。

（7）磁吸送粉系统在运输粉末时，利用转移吸附电磁体将粉末吸附在储粉滑管中，而储粉滑管可以伸入压胚模具内部，在转移粉末时，分别利用转移磁吸电极和转移吸附电磁体的开启和关闭，实现粉末的转移，不仅可以定量转移粉末，而且避免了粉末在转移时发生堵塞、散漏。

（8）磁吸下料机构，利用十字电磁抓臂，将压合好的成品从压胚模具中分离，避免了在脱模时成品损伤导致报废。

（9）振动压胚机构区别于传统的压胚装置，设置了振动匀质装置，利用超声波换能器发出的超声波，对压胚模具内的粉末进行匀质振动，提高粉末填充率，减少成品的内部缺陷。

（10）下粉调控系统的设置，可以根据需求，调整粉末下粉的量，避免粉末添加过多，造成浪费。

附图说明

图1为本发明提出的一种可调控的粉末冶金装置的结构示意图；

图2为传动搭载机构的部分结构示意图；

图3为传动搭载机构的爆炸图；

图4为传动搭载机构的部分结构剖视图；

图5为随动粉末装填机构的部分结构示意图；

图6为随动粉末装填机构的爆炸图；

图7为下层限位活动装置的结构示意图；

图8为磁吸储料装置的正视图；

图9为磁吸储料装置的后视图；

图10为变轨随动调整装置的结构示意图；

图11为磁吸限位系统的结构示意图；

图12为可调控装粉机构的结构示意图；

图13为旋转式粉末添加装置的结构示意图；

图14为旋转式粉末添加装置部分结构示意图；

图15为磁吸送粉系统的剖视图；

图16为可调控粉末下料装置的部分结构剖视图；

图17为下粉调控系统的剖视图；

图18为磁吸下料机构的爆炸图；

图19为振动压胚机构的部分结构示意图；

图20为振动匀质装置的结构示意图；

图21图3中结构A的放大示意图；

图22为磁吸送粉系统在粉末转移状态下的结构示意图；

图23为限位变径框架的结构示意图；

图24为随动粉末装填机构与传动搭载机构连接关系的俯视图；

图25为随动粉末装填机构与传动搭载机构连接关系的仰视图；

图26为控制模块的连接关系框图。

其中，1、可调控装粉机构，2、磁吸下料机构，3、振动压胚机构，4、传动搭载机构，5、随动粉末装填机构，6、设备搭载平台，7、控制模块，101、旋转式粉末添加装置，102、可调控粉末下料装置，103、装粉底座，104、旋转搭载框架，105、旋转轴，106、送粉伸缩臂，107、六联推臂，108、旋转电机，109、旋转输出齿轮，110、旋转外齿，111、传动盘，112、转动盘，113、送粉搭载框架，114、磁吸送粉系统，115、半程限位转轮，116、送粉套管，117、限位弹簧，118、储粉滑管，119、转移吸附电磁体，120、料斗底柱，121、下粉调控系统，122、储料室，123、下粉搭载框架，124、电机仓，125、调控电机，126、调控齿轮，127、进料仓，128、送料仓，129、引导电磁极体，130、旋转式阻料仓，131、调控传动齿环，201、下料底座，202、搭载侧壁，203、斜角引导下料槽，204、下料伸缩臂，205、十字电磁抓臂，206、十字槽，301、压合底台，302、压合搭载框架，303、压胚液压柱，304、超声波发生器，305、振动匀质装置，306、压胚冲模，307、支撑底台，308、压胚支撑辊， 310、振动搭载平台，311、超声波换能器，312、缓冲弹簧，313、滑动支撑柱，314、金属垫脚，401、平台搭载底座，402、外径传动齿环，403、水平支撑辊，404、传动转轮，405、上层限位臂，406、轨道底座，407、限位变径框架，408、无动力限位齿轮，409、转动输出齿轮，410、转动电机，411、传动外齿圈，412、传动内齿圈，413、上层限位轮，414、远位区，415、中位区，416、近位区，417、变径轨道，418、限位圆壁，501、上层限位装置，502、中部连接臂，503、下层限位活动装置，504、变轨随动调整装置，505、磁吸储料装置，506、内侧限位转轮，507、下层框架，508、下层限位转轮，509、下侧转动齿轮，510、滑动支撑辊，511、压胚模具，512、模具搭载框架，513、翻转曲轴，514、转移磁吸电极，515、转动推臂，516、滑动限位推臂，517、辅助变径轮，518、磁吸限位系统，519、弓形框架，520、支撑转轮，521、变径磁吸板。

附图用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本发明的实施例一起用于解释本发明，并不构成对本发明的限制。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例；基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

在本发明的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。

如图1所示，包括可调控装粉机构1、磁吸下料机构2、振动压胚机构3、传动搭载机构4、随动粉末装填机构5、设备搭载平台6和控制模块7，所述设备搭载平台6设于传动搭载机构4外侧上，所述随动粉末装填机构5活动设于传动搭载机构4上，所述可调控装粉机构1设于设备搭载平台6上，所述磁吸下料机构2设于设备搭载平台6上，所述振动压胚机构3设于设备搭载平台6上，所述控制模块7设于设备搭载平台6上。

如图1、图2、图3、图4和图21所示，传动搭载机构4包括平台搭载底座401、外径传动齿环402、水平支撑辊403、传动转轮404、上层限位臂405、轨道底座406、限位变径框架407、无动力限位齿轮408、转动输出齿轮409和转动电机410，平台搭载底座401设于设备搭载平台6内侧，转动电机410设于平台搭载底座401内，转动输出齿轮409设于转动电机410上，水平支撑辊403转动设于平台搭载底座401上，传动转轮404活动设于水平支撑辊403上，无动力限位齿轮408转动设于平台搭载底座401上，外径传动齿环402设于平台搭载底座401上，上层限位臂405设于平台搭载底座401上，上层限位臂405上转动设有上层限位轮413，上层限位轮413的圆周侧壁与传动转轮404的凹槽滚动贴合，轨道底座406设于平台搭载底座401上，限位变径框架407设于轨道底座406上，传动转轮404内侧设有传动内齿圈412，无动力限位齿轮408与传动内齿圈412啮合连接，转动输出齿轮409与传动内齿圈412啮合连接，传动转轮404外侧设有传动外齿圈411。

如图1、图3和图23所示，限位变径框架407上设有限位圆壁418，限位变径框架407上设有变径轨道417，限位变径框架407上设有远位区414，限位变径框架407上设有中位区415，限位变径框架407上设有近位区416，远位区414正对于磁吸下料机构2，中位区415正对于可调控装粉机构1，近位区416正对于振动压胚机构3。

如图1、图5、图6、图7、图8、图9图10、图11、图24和图25所示，随动粉末装填机构5包括上层限位装置501、中部连接臂502、下层限位活动装置503、变轨随动调整装置504和磁吸储料装置505，下层限位活动装置503活动设于传动搭载机构4上，中部连接臂502设于下层限位活动装置上，变轨随动调整装置504滑动设于中部连接臂502上，上层限位装置501设于中部连接臂502上，磁吸储料装置505转动设于中部连接臂502上，上层限位装置501上转动设有内侧限位转轮506，内侧限位转轮506的圆周侧壁与限位变径框架407的限位圆壁418的内侧壁滚动贴合；下层限位活动装置503包括下层框架507、下层限位转轮508、下侧转动齿轮509和滑动支撑辊510，下层框架507设于中部连接臂502下方，下层限位转轮508转动设于下层框架507上，下侧转动齿轮509转动设于下层框架507上，滑动支撑辊510转动设于下层框架507上，下层限位转轮508的圆周侧壁与外径传动齿环402的外侧圆周外壁滚动贴合，下侧转动齿轮509与外径传动齿环402的内侧啮合连接，下侧转动齿轮509同时与传动转轮404的传动外齿圈411啮合连接，滑动支撑辊510与外径传动齿环402的顶部滚动贴合；磁吸储料装置505包括压胚模具511、模具搭载框架512、翻转曲轴513和转移磁吸电极514，翻转曲轴513转动设于中部连接臂502上，模具搭载框架512设于翻转曲轴513上，压胚模具511设于模具搭载框架512上，转移磁吸电极514设于模具搭载框架512上；变轨随动调整装置504包括转动推臂515、滑动限位推臂516、辅助变径轮517和磁吸限位系统518，滑动限位推臂516滑动设于中部连接臂502上，转动推臂515的一端转动设于滑动限位推臂516上，转动推臂515的另一端转动设于翻转曲轴513上，磁吸限位系统518转动设于滑动限位推臂516上，辅助变径轮517转动设于滑动限位推臂516上；磁吸限位系统518包括弓形框架519、支撑转轮520和变径磁吸板521，弓形框架519转动设于滑动限位推臂516上，支撑转轮520转动设于弓形框架519上，变径磁吸板521设于弓形框架519上，支撑转轮520的圆周外壁与限位变径框架407的变径轨道417内壁滚动贴合。

如图1、图12和图16所示，可调控装粉机构1包括旋转式粉末添加装置101、可调控粉末下料装置102和装粉底座103，装粉底座103设于设备搭载平台6上，旋转式粉末添加装置101设于装粉底座103上，可调控粉末下料装置设于装粉底座103上，可调控粉末下料装置设于旋转式粉末添加装置101上方；可调控粉末下料装置102包括料斗底柱120、下粉调控系统121和储料室122，料斗底柱120设于装粉底座103上，储料室122设于料斗底柱120上，下粉调控系统121设于储料室122底部。

如图13、图14所示，旋转式粉末添加装置101包括旋转搭载框架104、旋转轴105、送粉伸缩臂106、六联推臂107、旋转电机108、旋转输出齿轮109、旋转外齿110、传动盘111、转动盘112、送粉搭载框架113、磁吸送粉系统114和半程限位转轮115，旋转搭载框架104设于装粉底座103上，送粉伸缩臂106的固定端设于旋转搭载框架104上，半程限位转轮115转动设于旋转搭载框架104上，六联推臂107设于送粉伸缩臂106的伸缩端上，旋转轴105转动设于旋转搭载框架104上，转动盘112转动设于旋转轴105上，传动盘111转动设于半程限位转轮115上，送粉搭载框架113的一侧设于传动盘111上，送粉搭载框架113的另一侧设于转动盘112上，磁吸送粉系统114设于送粉搭载框架113上，旋转外齿110设于传动盘111上，旋转电机108设于装粉底座103上，旋转输出齿轮109设于旋转电机108的输出端上，旋转外齿110与旋转输出齿轮109啮合连接。

如图13、图15和图22所示，磁吸送粉系统114包括送粉套管116、限位弹簧117、储粉滑管118和转移吸附电磁体119，送粉套管116设于送粉搭载框架113上，储粉滑管118滑动设于送粉套管116上，转移吸附电磁体119设于送粉套管116上，限位弹簧117的一端设于送粉套管116上，限位弹簧117的另一端设于储粉滑管118上。

如图16和图17所示，下粉调控系统121包括下粉搭载框架123、电机仓124、调控电机125、调控齿轮126、进料仓127、送料仓128、引导电磁极体129、旋转式阻料仓130和调控传动齿环131，下粉搭载框架123设于储料室122底部，进料仓127设于下粉搭载框架123上，旋转式阻料仓130转动设于下粉搭载框架123上，电机仓124设于下粉搭载框架123侧壁上，调控电机125设于电机仓124内，调控齿轮126设于调控电机125的输出端上，送料仓128滑动设于进料仓127上，引导电磁极体129设于进料仓127内，调控传动齿环131设于旋转式阻料仓130上，调控传动齿环131与调控齿轮126啮合连接。

如图1和图18所示，磁吸下料机构2包括下料底座201、搭载侧壁202、斜角引导下料槽203、下料伸缩臂204和十字电磁抓臂205，下料底座201设于设备搭载平台6上，搭载侧壁202设于下料底座201上，斜角引导下料槽203设于搭载侧壁202上，下料伸缩臂204的固定端设于下料底座201上，十字电磁抓臂205设于下料伸缩臂204的输出端上，斜角引导下料槽203上设有十字槽206。

如图1、图19和图20所示，振动压胚机构3包括压合底台301、压合搭载框架302、压胚液压柱303、超声波发生器304、振动匀质装置305、压胚冲模306、支撑底台307和压胚支撑辊308，压合底台301设于设备搭载平台6上，压合搭载框架302的一端设于压合底台301上，压合搭载框架302的另一端设于平台搭载底座401上，压胚液压柱303的固定端设于压合搭载框架302上，超声波发生器304设于压合搭载框架302上，振动匀质装置305设于压胚液压柱303的伸缩端上，压胚冲模306设于压胚液压柱303的伸缩端上，支撑底台307设于压合底台301上，压胚支撑辊308转动设于支撑底台307上；振动匀质装置305包括振动搭载平台310、超声波换能器311、缓冲弹簧312、滑动支撑柱313和金属垫脚314，振动搭载平台310设于压胚液压柱303的伸缩端上，滑动支撑柱313滑动设于振动搭载平台310上，超声波换能器311设于滑动支撑柱313顶部，金属垫脚314设于滑动支撑柱313底部，缓冲弹簧312的一端设于振动搭载平台310上，缓冲弹簧312的另一端设于金属垫脚314上。

如图26所示，控制模块7与旋转电机108、引导电磁极体129、调控电机125、转移吸附电磁体119、转移磁吸电极514、转动电机410、超声波发生器304和下料伸缩臂204电性连接。

具体使用时，首先，将粉末添加到储料室122内，完成准备工作。可调控装粉机构1开始工作，控制模块7启动旋转电机108，旋转电机108启动带动旋转输出齿轮109转动，旋转输出齿轮109转动带动旋转外齿110转动，旋转外齿110转动带动传动盘111转动，传动盘111转动通过送粉搭载框架113带动转动盘112转动，送粉搭载框架113、转动盘112和传动盘111同步转动带动磁吸送粉系统114绕旋转轴105轴线方向转动，当磁吸送粉系统114旋转至水平和竖直方向时，旋转电机108暂停工作，当下粉调控系统121和送粉伸缩臂106完成一次工作流程后，旋转电机108再次启动；当磁吸送粉系统114旋转至竖直位置时，磁吸送粉系统114位于下粉调控系统121的正下方，下粉调控系统121开始工作，引导电磁极体129断电，送料仓128向下滑动，并与储粉滑管118连通，控制模块7启动调控电机125，调控电机125启动带动调控齿轮126转动，调控齿轮126转动带动调控传动齿环131转动，调控传动齿环131转动带动旋转式阻料仓130转动，旋转式阻料仓130转动打开进料仓127与储料室122的连通状态，粉末进入进料仓127，经过引导电磁极体129引流，通过送料仓128进入储粉滑管118内，通过调控电机125控制旋转式阻料仓130的转动角度，实现下粉量的调控，减少粉末的浪费；当粉末进入到储粉滑管118后，转移吸附电磁体119启动，粉末被吸附在储粉滑管118内；当磁吸送粉系统114旋转至水平位置，且正对随动粉末装填机构5时，此时的随动粉末装填机构5为中位填粉状态，送粉伸缩臂106伸缩带动六联推臂107挤压储粉滑管118，限位弹簧117收缩，储粉滑管118被推入压胚模具511内，此时转移吸附电磁体119关闭同时转移磁吸电极514启动，粉末在磁场作用下由储粉滑管118转移到压胚模具511内，送粉伸缩臂106收缩，限位弹簧117还原带动储粉滑管118复位，准备下次装填；随动粉末装填机构5在完成粉末的装填后，按中位填粉状态、近位压合状态、远位下模状态依次循环改变；当随动粉末装填机构5开始在传动搭载机构4上运动时，转动电机410启动，转动电机410带动转动输出齿轮409转动，转动输出齿轮409转动带动传动转轮404转动，传动转轮404转动带动下侧转动齿轮509转动，由于外径传动齿环402为固定状态，下侧转动齿轮509转动带动随动粉末装填机构5在传动搭载机构4上进行圆周运动，在旋转时，滑动支撑辊510通过自身转动用于支撑随动粉末装填机构5旋转，内侧限位转轮506通过与限位圆壁418滚动贴合，限制随动粉末装填机构5的旋转轨迹，磁吸限位系统518通过变径磁吸板521吸附紧贴变径轨道417，支撑转轮520通过自身转动辅助支撑磁吸限位系统518在变径轨道417内壁运动，辅助变径轮517通过自身转动辅助支撑变轨随动调整装置504在变径轨道417外壁壁运动；随动粉末装填机构5圆周运动并通过变径轨道417外径的变化来改变变轨随动调整装置504和磁吸储料装置505的传动关系，当随动粉末装填机构5处于中位填粉状态时，磁吸限位系统518紧贴变径轨道417的中位区415，滑动限位推臂516位于中部连接臂502靠近中部的位置，磁吸储料装置505的开口位置指向水平向外方向（相对于传动搭载机构4）；当随动粉末装填机构5由中位填粉状态变为近位压合状态时，随动粉末装填机构5转动，磁吸限位系统518从变径轨道417的中位区415移动到近位区416，随变径轨道417内壁半径的缩短，滑动限位推臂516在磁吸限位系统518带动下向内侧方向（相对于传动搭载机构4）滑动，滑动限位推臂516滑动通过转动推臂515带动翻转曲轴513旋转，翻转曲轴513转动带动模具搭载框架512移动旋转，此时，随动粉末装填机构5处于近位压合状态，磁吸限位系统518紧贴变径轨道417的近位区416，滑动限位推臂516位于中部连接臂502靠内（相对于传动搭载机构4）的位置，磁吸储料装置505的开口位置指向竖直向上方向；当随动粉末装填机构5由近位压合状态变为远位下模状态时，随动粉末装填机构5转动，磁吸限位系统518从变径轨道417的近位区416移动到远位区414，随变径轨道417内壁半径的增加，滑动限位推臂516在磁吸限位系统518和辅助变径轮517带动下向外侧方向（相对于传动搭载机构4）滑动，滑动限位推臂516滑动通过转动推臂515带动翻转曲轴513旋转，翻转曲轴513转动带动模具搭载框架512移动旋转，此时，随动粉末装填机构5处于远位下模状态，磁吸限位系统518紧贴变径轨道417的远位区414，滑动限位推臂516位于中部连接臂502靠外（相对于传动搭载机构4）的位置，磁吸储料装置505的开口位置指向竖直向下方向，当随动粉末装填机构5由远位下模状态变为中位填粉状态时，随动粉末装填机构5转动，磁吸限位系统518从变径轨道417的远位区414移动到中位区415，随变径轨道417内壁半径的减小，滑动限位推臂516在磁吸限位系统518带动下向内侧方向（相对于传动搭载机构4）滑动，滑动限位推臂516滑动通过转动推臂515带动翻转曲轴513旋转，翻转曲轴513转动带动模具搭载框架512移动旋转，此时随动粉末装填机构5由远位下模状态变为中位填粉状态；在随动粉末装填机构5通过变径轨道417半径的改变带动变轨随动调整装置504滑动，从而实现改变磁吸储料装置505的翻转状态，进一步来配合可调控装粉机构1、磁吸下料机构2和振动压胚机构3进行加工；当完成粉末装填后，随动粉末装填机构5由中位填粉状态变为近位压合状态，此时传动搭载机构4开始工作，控制模块7启动转动电机410，转动电机410带动转动输出齿轮409转动，转动输出齿轮409转动带动传动转轮404转动，传动转轮404转动带动下侧转动齿轮509转动，下侧转动齿轮509转动带动随动粉末装填机构5转动；当随动粉末装填机构5变为近位压合状态后，磁吸储料装置505的开口位置指向竖直向上方向，振动压胚机构3开始工作，控制模块7启动超声波发生器304、压胚液压柱303，压胚液压柱303伸长带动压胚冲模306和振动匀质装置305下降，下降过程中，金属垫脚314接触并吸附于压胚模具511上，同时压胚冲模306接触并向下挤压粉末，在挤压过程中，缓冲弹簧312被挤压，同时超声波换能器311发出超声波将振动通过滑动支撑柱313、滑动支撑柱313传递到压胚模具511，让粉末在压胚模具511内填充更加均匀，减少成品中的缺陷，当模具搭载框架512位于支撑底台307上方时，由于受转移磁吸电极514的影响，压胚支撑辊308，提高压胚时的稳定性；完成压胚后，压胚液压柱303收缩带动压胚冲模306和振动匀质装置305上升，在压胚液压柱303收缩的同时转移磁吸电极514短暂关闭后再次启动，传动搭载机构4再次启动，随动粉末装填机构5旋转并由近位压合状态变为远位下模状态，此时磁吸下料机构2开始工作，控制模块7启动下料伸缩臂204，下料伸缩臂204伸长，带动十字电磁抓臂205上升，当十字电磁抓臂205与压胚模具511接触后，转移磁吸电极514关闭，十字电磁抓臂205启动吸附成品件，下料伸缩臂204缩短，将成品件从压胚模具511分离，在下降过程中，成品件受斜角引导下料槽203阻挡与十字电磁抓臂205分离，同时十字电磁抓臂205关闭；完成下料后，传动搭载机构4再次启动，随动粉末装填机构5旋转由远位下模状态变为中位填粉状态，以此循环。

以上便是本发明具体的工作流程，下次使用时重复此步骤即可。

需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。

尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。

以上对本发明及其实施方式进行了描述，这种描述没有限制性，附图中所示的也只是本发明的实施方式之一，实际的结构并不局限于此。总而言之如果本领域的普通技术人员受其启示，在不脱离本发明创造宗旨的情况下，不经创造性的设计出与该技术方案相似的结构方式及实施例，均应属于本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种可调控的粉末冶金装置，其特征在于：包括可调控装粉机构（1）、磁吸下料机构（2）、振动压胚机构（3）、传动搭载机构（4）、随动粉末装填机构（5）、设备搭载平台（6）和控制模块（7），所述设备搭载平台（6）设于传动搭载机构（4）外侧上，所述可调控装粉机构（1）设于设备搭载平台（6）上，所述磁吸下料机构（2）设于设备搭载平台（6）上，所述振动压胚机构（3）设于设备搭载平台（6）上，所述随动粉末装填机构（5）活动设于传动搭载机构（4）上，所述控制模块（7）设于设备搭载平台（6）上；所述可调控装粉机构（1）包括旋转式粉末添加装置（101）、可调控粉末下料装置（102）和装粉底座（103），所述装粉底座（103）设于设备搭载平台（6）上，所述旋转式粉末添加装置（101）设于装粉底座（103）上，所述可调控粉末下料装置设于装粉底座（103）上，所述可调控粉末下料装置设于旋转式粉末添加装置（101）上方；所述可调控粉末下料装置（102）包括料斗底柱（120）、下粉调控系统（121）和储料室（122），所述料斗底柱（120）设于装粉底座（103）上，所述储料室（122）设于料斗底柱（120）上，所述下粉调控系统（121）设于储料室（122）底部；所述下粉调控系统（121）包括下粉搭载框架（123）、电机仓（124）、调控电机（125）、调控齿轮（126）、进料仓（127）、送料仓（128）、引导电磁极体（129）、旋转式阻料仓（130）和调控传动齿环（131），所述下粉搭载框架（123）设于储料室（122）底部，所述电机仓（124）设于下粉搭载框架（123）侧壁上，所述进料仓（127）设于下粉搭载框架（123）上，所述旋转式阻料仓（130）转动设于下粉搭载框架（123）上，所述调控电机（125）设于电机仓（124）内，所述调控齿轮（126）设于调控电机（125）的输出端上，所述送料仓（128）滑动设于进料仓（127）上，所述引导电磁极体（129）设于进料仓（127）内，所述调控传动齿环（131）设于旋转式阻料仓（130）上，所述调控传动齿环（131）与调控齿轮（126）啮合连接；所述旋转式粉末添加装置（101）包括旋转搭载框架（104）、旋转轴（105）、送粉伸缩臂（106）、六联推臂（107）、旋转电机（108）、旋转输出齿轮（109）、旋转外齿（110）、传动盘（111）、转动盘（112）、送粉搭载框架（113）、磁吸送粉系统（114）和半程限位转轮（115），所述旋转搭载框架（104）设于装粉底座（103）上，所述旋转电机（108）设于装粉底座（103）上，所述旋转输出齿轮（109）设于旋转电机（108）的输出端上，所述旋转轴（105）转动设于旋转搭载框架（104）上，所述转动盘（112）转动设于旋转轴（105）上，所述旋转外齿（110）设于传动盘（111）上，所述旋转外齿（110）与旋转输出齿轮（109）啮合连接，所述半程限位转轮（115）转动设于旋转搭载框架（104）上，所述送粉伸缩臂（106）的固定端设于旋转搭载框架（104）上，所述六联推臂（107）设于送粉伸缩臂（106）的伸缩端上，所述传动盘（111）转动设于半程限位转轮（115）上，所述送粉搭载框架（113）的一侧设于传动盘（111）上，所述送粉搭载框架（113）的另一侧设于转动盘（112）上，所述磁吸送粉系统（114）设于送粉搭载框架（113）上。

2.根据权利要求1所述的一种可调控的粉末冶金装置，其特征在于：所述传动搭载机构（4）包括平台搭载底座（401）、外径传动齿环（402）、水平支撑辊（403）、传动转轮（404）、上层限位臂（405）、轨道底座（406）、限位变径框架（407）、无动力限位齿轮（408）、转动输出齿轮（409）和转动电机（410），所述平台搭载底座（401）设于设备搭载平台（6）内侧，所述外径传动齿环（402）设于平台搭载底座（401）上，所述水平支撑辊（403）转动设于平台搭载底座（401）上，所述传动转轮（404）活动设于水平支撑辊（403）上，所述上层限位臂（405）设于平台搭载底座（401）上，所述上层限位臂（405）上转动设有上层限位轮（413），所述上层限位轮（413）的圆周侧壁与传动转轮（404）的凹槽滚动贴合，所述轨道底座（406）设于平台搭载底座（401）上，所述限位变径框架（407）设于轨道底座（406）上，所述无动力限位齿轮（408）转动设于平台搭载底座（401）上，所述转动电机（410）设于平台搭载底座（401）内，所述转动输出齿轮（409）设于转动电机（410）上，所述传动转轮（404）内侧设有传动内齿圈（412），所述传动转轮（404）外侧设有传动外齿圈（411），所述无动力限位齿轮（408）与传动内齿圈（412）啮合连接，所述转动输出齿轮（409）与传动内齿圈（412）啮合连接。

3.根据权利要求2所述的一种可调控的粉末冶金装置，其特征在于：所述限位变径框架（407）上设有限位圆壁（418），所述限位变径框架（407）上设有变径轨道（417），所述限位变径框架（407）上设有远位区（414），所述限位变径框架（407）上设有中位区（415），所述限位变径框架（407）上设有近位区（416），所述远位区（414）正对于磁吸下料机构（2），所述中位区（415）正对于可调控装粉机构（1），所述近位区（416）正对于振动压胚机构（3）。

4.根据权利要求3所述的一种可调控的粉末冶金装置，其特征在于：所述随动粉末装填机构（5）包括上层限位装置（501）、中部连接臂（502）、下层限位活动装置（503）、变轨随动调整装置（504）和磁吸储料装置（505），所述下层限位活动装置（503）活动设于传动搭载机构（4）上，所述中部连接臂（502）设于下层限位活动装置上，所述上层限位装置（501）设于中部连接臂（502）上，所述变轨随动调整装置（504）滑动设于中部连接臂（502）上，所述磁吸储料装置（505）转动设于中部连接臂（502）上，所述上层限位装置（501）上转动设有内侧限位转轮（506），所述内侧限位转轮（506）的圆周侧壁与限位变径框架（407）的限位圆壁（418）的内侧壁滚动贴合；所述下层限位活动装置（503）包括下层框架（507）、下层限位转轮（508）、下侧转动齿轮（509）和滑动支撑辊（510），所述下层框架（507）设于中部连接臂（502）下方，所述下侧转动齿轮（509）转动设于下层框架（507）上，所述下层限位转轮（508）转动设于下层框架（507）上，所述滑动支撑辊（510）转动设于下层框架（507）上，所述下层限位转轮（508）的圆周侧壁与外径传动齿环（402）的外侧圆周外壁滚动贴合，所述下侧转动齿轮（509）与外径传动齿环（402）的内侧啮合连接，所述下侧转动齿轮（509）同时与传动转轮（404）的传动外齿圈（411）啮合连接，所述滑动支撑辊（510）与外径传动齿环（402）的顶部滚动贴合；所述磁吸储料装置（505）包括压胚模具（511）、模具搭载框架（512）、翻转曲轴（513）和转移磁吸电极（514），所述翻转曲轴（513）转动设于中部连接臂（502）上，所述模具搭载框架（512）设于翻转曲轴（513）上，所述压胚模具（511）设于模具搭载框架（512）上，所述转移磁吸电极（514）设于模具搭载框架（512）上。

5.根据权利要求4所述的一种可调控的粉末冶金装置，其特征在于：所述变轨随动调整装置（504）包括转动推臂（515）、滑动限位推臂（516）、辅助变径轮（517）和磁吸限位系统（518），所述滑动限位推臂（516）滑动设于中部连接臂（502）上，所述辅助变径轮（517）转动设于滑动限位推臂（516）上，所述磁吸限位系统（518）转动设于滑动限位推臂（516）上，所述转动推臂（515）的一端转动设于滑动限位推臂（516）上，所述转动推臂（515）的另一端转动设于翻转曲轴（513）上；所述磁吸限位系统（518）包括弓形框架（519）、支撑转轮（520）和变径磁吸板（521），所述弓形框架（519）转动设于滑动限位推臂（516）上，所述变径磁吸板（521）设于弓形框架（519）上，所述支撑转轮（520）转动设于弓形框架（519）上，所述支撑转轮（520）的圆周外壁与限位变径框架（407）的变径轨道（417）内壁滚动贴合。

6.根据权利要求5所述的一种可调控的粉末冶金装置，其特征在于：所述磁吸送粉系统（114）包括送粉套管（116）、限位弹簧（117）、储粉滑管（118）和转移吸附电磁体（119），所述送粉套管（116）设于送粉搭载框架（113）上，所述储粉滑管（118）滑动设于送粉套管（116）上，所述转移吸附电磁体（119）设于送粉套管（116）上，所述限位弹簧（117）的一端设于送粉套管（116）上，所述限位弹簧（117）的另一端设于储粉滑管（118）上。

7.根据权利要求6所述的一种可调控的粉末冶金装置，其特征在于：所述磁吸下料机构（2）包括下料底座（201）、搭载侧壁（202）、斜角引导下料槽（203）、下料伸缩臂（204）和十字电磁抓臂（205），所述下料底座（201）设于设备搭载平台（6）上，所述搭载侧壁（202）设于下料底座（201）上，所述下料伸缩臂（204）的固定端设于下料底座（201）上，所述斜角引导下料槽（203）设于搭载侧壁（202）上，所述十字电磁抓臂（205）设于下料伸缩臂（204）的输出端上，所述斜角引导下料槽（203）上设有十字槽（206）。

8.根据权利要求7所述的一种可调控的粉末冶金装置，其特征在于：所述振动压胚机构（3）包括压合底台（301）、压合搭载框架（302）、压胚液压柱（303）、超声波发生器（304）、振动匀质装置（305）、压胚冲模（306）、支撑底台（307）和压胚支撑辊（308），所述压合底台（301）设于设备搭载平台（6）上，所述压合搭载框架（302）的一端设于压合底台（301）上，所述压合搭载框架（302）的另一端设于平台搭载底座（401）上，所述超声波发生器（304）设于压合搭载框架（302）上，所述压胚液压柱（303）的固定端设于压合搭载框架（302）上，所振动匀质装置（305）设于压胚液压柱（303）的伸缩端上，所述压胚冲模（306）设于压胚液压柱（303）的伸缩端上，所述支撑底台（307）设于压合底台（301）上，所述压胚支撑辊（308）转动设于支撑底台（307）上。

9.根据权利要求8所述的一种可调控的粉末冶金装置，其特征在于：所述振动匀质装置（305）包括振动搭载平台（310）、超声波换能器（311）、缓冲弹簧（312）、滑动支撑柱（313）和金属垫脚（314），所述振动搭载平台（310）设于压胚液压柱（303）的伸缩端上，所述滑动支撑柱（313）滑动设于振动搭载平台（310）上，所述超声波换能器（311）设于滑动支撑柱（313）顶部，所述金属垫脚（314）设于滑动支撑柱（313）底部，所述缓冲弹簧（312）的一端设于振动搭载平台（310）上，所述缓冲弹簧（312）的另一端设于金属垫脚（314）上。

10.根据权利要求9所述的一种可调控的粉末冶金装置，其特征在于：所述旋转电机（108）、引导电磁极体（129）、调控电机（125）、转移吸附电磁体（119）、转移磁吸电极（514）、转动电机（410）、超声波发生器（304）和下料伸缩臂（204）与控制模块（7）电性连接。

Images