CN115755475A - 显示装置 - Google Patents

Abstract

根据一实施方式，显示装置具有：显示区域，包含像素；所述显示区域的周边的周边区域；像素电极，配置于所述像素；开关元件，与所述像素电极连接；扫描线，对所述开关元件供给扫描信号；信号线，对所述开关元件供给影像信号；金属层，与所述信号线及所述扫描线的至少一方重叠；防反射层，将所述金属层覆盖；共用电极，将所述防反射层覆盖；以及供电线，配置于所述周边区域，被供给共用电压。所述共用电极及所述金属层在所述周边区域中与所述供电线连接。

Description

显示装置

相关申请的交叉引用

本申请享有以日本专利申请2021-143091号(申请日：2021年9月2日)为基础申请的优先权。本申请通过参照该基础申请而包含基础申请的全部内容。

技术领域

本发明的实施方式涉及显示装置。

背景技术

在液晶显示装置等显示装置中，有与ITO(Indium Tin Oxide)等由透明导电材料形成的共用电极相同电位的金属层设置于像素的边界的情况。金属层能够对外部光进行反射，因此需要一些对策。

发明内容

一般来说，根据实施方式的一个方式，显示装置具有：显示区域，包含像素；所述显示区域的周边的周边区域；像素电极，配置于所述像素；开关元件，与所述像素电极连接；扫描线，对所述开关元件供给扫描信号；信号线，对所述开关元件供给影像信号；金属层，与所述信号线及所述扫描线的至少一方重叠；防反射层，将所述金属层覆盖；共用电极，将所述防反射层覆盖；以及供电线，配置于所述周边区域，被供给共用电压。所述共用电极及所述金属层在所述周边区域中与所述供电线连接。

根据实施方式的其他方式，显示装置具有：显示区域，包含像素；像素电极，配置于所述像素；开关元件，与所述像素电极连接；扫描线，对所述开关元件供给扫描信号；信号线，对所述开关元件供给影像信号；金属层，与所述信号线及所述扫描线的至少一方重叠；防反射层，将所述金属层覆盖；共用电极，将所述防反射层覆盖；以及中继导电层，配置于所述显示区域，与所述金属层及所述共用电极接触。

根据实施方式的另一其他方式，显示装置具有：显示区域，包含像素；像素电极，配置于所述像素；开关元件，与所述像素电极连接；扫描线，对所述开关元件供给扫描信号；信号线，对所述开关元件供给影像信号；金属层，与所述信号线及所述扫描线的至少一方重叠；防反射层，将所述金属层覆盖；以及共用电极，将所述防反射层覆盖。所述金属层具有没有被所述防反射层覆盖的露出区域，所述共用电极与所述露出区域接触。

根据以上的结构，能够提供能够抑制外部光的反射的显示装置。

附图说明

图1是第1实施方式所涉及的显示装置的概略的分解立体图。

图2是第1实施方式所涉及的显示面板的概略的俯视图。

图3是表示第1实施方式所涉及的子像素的布局的一个例子的概略的俯视图。

图4是第1实施方式所涉及的显示面板的概略的剖视图。

图5是第1实施方式所涉及的金属层及防反射层的概略的剖视图。

图6是表示在第1实施方式所涉及的第1基板的显示区域配置的要素的一部分的概略的俯视图。

图7是表示第1实施方式所涉及的第1基板的周边区域的一部分的概略的俯视图。

图8是沿图7中的VIII－VIII线的第1基板的概略的剖视图。

图9是第2实施方式所涉及的第1基板的概略的剖视图。

图10是第3实施方式所涉及的第1基板的概略的剖视图。

图11是表示在第4实施方式所涉及的第1基板配置的要素的一部分的概略的俯视图。

图12是沿图11中的XII－XII线的第1基板的概略的剖视图。

图13是第5实施方式所涉及的第1基板的概略的剖视图。

图14是第6实施方式所涉及的金属层、扫描线及信号线的概略的俯视图。

图15是沿图14中的XV－XV线的显示面板的概略的剖视图。

图16是第7实施方式所涉及的显示面板的概略的剖视图。

图17是第8实施方式所涉及的第1基板的概略的剖视图。

图18是第9实施方式所涉及的第1基板的概略的剖视图。

具体实施方式

基于几个实施方式，参照附图进行说明。

此外，本发明只不过是一个例子，关于本领域技术人员保证本发明的主旨进行适当变更而能够容易想到的方式，当然包含于本发明的范围。另外，附图为了使说明变得更明确，有时与实际的方式相比示意地表示，但只是一个例子，不对本发明的解释进行限定。在各图中，有时关于连续地配置的相同或者类似的要素省略附图标记。另外，在本说明书和各图中，关于与已出现的图中叙述过的构成要素发挥相同或者类似的功能的构成要素，标注相同的参照附图标记，有时省略重复的详细说明。

在各实施方式中，作为一个例子，公开具有液晶显示元件的液晶显示装置。但是，各实施方式并不妨碍针对例如具有有机电致发光显示元件、微型LED或者迷你LED等其他种类的显示元件的显示装置的、各实施方式中所公开的各个技术思想的应用。另外，在各实施方式中公开的技术思想也能够应用于具有静电容量式传感器、光学式传感器等传感器元件的阵列基板、电子设备。

[第1实施方式]

图1是第1实施方式所涉及的液晶显示装置1(下面，称为显示装置1)的概略的分解立体图。如图示那样，对X方向、Y方向及Z方向进行定义。这些X、Y、Z方向在本实施方式中是彼此正交的方向，但也可以以垂直以外的角度交叉。将与Z方向平行地观察显示装置1和其构成要素称为俯视观察。另外，有时将Z方向的箭头所示的方向称为上方，将其相反方向称为下方。

显示装置1具有显示面板2和背光灯3。在图1的例子中，背光灯3是具有与显示面板2对置的导光体LG和与导光体LG的侧面对置的多个发光元件LS的侧缘型。但是，背光灯3的结构并不限定于图1的例子，只要是供给图像显示所需的光的结构即可。

在图1的例子中，显示面板2及导光体LG都形成为具有沿X方向的短边和沿Y方向的长边的长方形状。显示面板2及导光体LG并不限于长方形状，也可以是其他形状。

显示面板2为透射型的液晶面板，具有第1基板SUB1(阵列基板)、与第1基板SUB1对置的第2基板SUB2(对置基板)和被封入至这些基板SUB1、SUB2之间的液晶层LC。显示面板2具有例如矩形形状的显示区域DA。

并且，显示装置1具有光学片组4、第1偏振板5和第2偏振板6。光学片组4配置于导光体LG与显示面板2之间。例如，光学片组4包含将从导光体LG射出的光扩散的扩散片DF和形成有许多棱镜的第1棱镜片PR1及第2棱镜片PR2。

第1偏振板5配置于光学片组4与第1基板SUB1之间。第2偏振板6配置于第2基板SUB2的上方。第1偏振板5的偏振轴和第2偏振板6的偏振轴处于彼此正交的正交尼科耳的关系。

显示装置1例如能够用于车载设备、智能手机、平板终端、便携式电话终端、个人计算机、电视接收装置、游戏设备、进而显示用于VR(Virtual Reality)的影像的头戴显示器等各种装置。

图2是显示面板2的概略的俯视图。显示面板2具有显示区域DA和其周围的周边区域SA。在图2的例子中，第1基板SUB1的图中下边比第2基板SUB2向Y方向突出。由此，在第1基板SUB1形成有不与第2基板SUB2重叠的安装区域MA。安装区域MA是周边区域SA的一部分。

在显示区域DA以矩阵状配置有多个像素PX。像素PX包含多个子像素。在本实施方式中作为一个例子，像素PX包含红色的子像素SPR、绿色的子像素SPG、蓝色的子像素SPB。但是，像素PX也可以包含白色等其他颜色的子像素。

显示面板2具有多个扫描线G、多个信号线S(影像线)、第1扫描驱动器GD1、第2扫描驱动器GD2和选择器电路ST。多个扫描线G在X方向上延伸，并且在Y方向上排列。多个信号线S在Y方向上延伸，并且在X方向上排列。各扫描线G与第1扫描驱动器GD1及第2扫描驱动器GD2中的至少一方连接。各信号线S与选择器电路ST连接。

在图2的例子中，控制器CT安装于安装区域MA。另外，在安装区域MA设置有端子部T，在该端子部T连接有柔性电路基板F。此外，控制器CT也可以安装于柔性电路基板F。控制器CT能够由IC、各种电路元件构成。

柔性电路基板F将从安装有显示装置1的电子设备的基板等发送的各种信号输入至控制器CT。控制器CT基于输入的信号，对选择器电路ST供给影像信号，并且对第1扫描驱动器GD1、第2扫描驱动器GD2及选择器电路ST进行控制。扫描驱动器GD1、GD2对各扫描线G依次供给扫描信号。选择器电路ST将输入的影像信号依次供给至信号线S。

像素PX包含像素电极PE、开关元件SW(薄膜晶体管)和被供给共用电压的共用电极CE。开关元件SW与像素电极PE、扫描线G及信号线S连接，若对扫描线G供给扫描信号，则将信号线S的影像信号供给至像素电极PE。共用电极CE遍及多个子像素而形成。若对像素电极PE供给影像信号，则在像素电极PE与共用电极CE之间形成电位差，由此产生的电场作用于液晶层LC。

在本实施方式中，扫描线G、信号线S、第1扫描驱动器GD1、第2扫描驱动器GD2、选择器电路ST、开关元件SW、像素电极PE及共用电极CE都形成于第1基板SUB1。

图3是表示子像素SPR、SPG、SPB的布局的一个例子的概略的俯视图。在子像素SPR配置有红色的滤色器CFR，在子像素SPG配置有绿色的滤色器CFG，在子像素SPB配置有蓝色的滤色器CFB。在本实施方式中，显示装置1具有将滤色器CFR、CFG、CFB都配置于第1基板SUB1的COA(Color Filter on Array，滤色器阵列)方式的构造。

在图3的例子中，子像素SPR、SPG、SPB在X方向上依次排列。另外，子像素SPR、SPB、SPG在Y方向上依次排列。由此，子像素SPR在与X方向及Y方向交叉的斜方向上排列。同样地，子像素SPG在该斜方向上排列，并且子像素SPB在该斜方向上排列。滤色器CFR、CFG、CFB相对于子像素SPR、SPG、SPB配置为点状(岛状)。

此外，子像素SPR、SPG、SPB及滤色器CFR、CFG、CFB的布局并不限于在这里例示出的布局。例如，也可以是子像素SPR在Y方向上排列，子像素SPG在Y方向上排列，子像素SPB在Y方向上排列，这些子像素SPR的例、子像素SPG的列、子像素SPB的列在X方向上依次排列。

图4是显示面板2的概略的剖视图。第1基板SUB1具有上述的信号线S、开关元件SW、像素电极PE、共用电极CE及滤色器CFR、CFG、CFB。在图4的剖面没有示出，但第1基板SUB1也具有上述的扫描线G。

并且，第1基板SUB1具有第1绝缘基材10、第1绝缘层11、第2绝缘层12、第3绝缘层13、第4绝缘层14、有机绝缘层15、第1取向膜16、金属层ML和防反射层AR。

第1绝缘基材10例如由玻璃形成，但也可以由聚酰亚胺等树脂材料形成。绝缘层11～14由氮化硅、氧化硅等无机材料形成。有机绝缘层15由丙烯酸树脂等有机材料形成。像素电极PE及共用电极CE由ITO等透明导电材料形成。扫描线G、信号线S及金属层ML由金属材料形成。扫描线G、信号线S及金属层ML可以具有由单一金属材料形成的单层构造，也可以具有由不同种类的金属材料层叠而成的多层构造。

第1绝缘层11将第1绝缘基材10的上表面(第2基板SUB2侧的面)覆盖。在第1绝缘层11之上配置有开关元件SW所具有的多晶硅等半导体层SC。第2绝缘层12将半导体层SC及第1绝缘层11覆盖。

虽然在图4的剖面中没有示出，但在第2绝缘层12之上配置有扫描线G。扫描线G和半导体层SC至少交叉1次。第3绝缘层13将扫描线G及第2绝缘层12覆盖。在第3绝缘层13之上配置有信号线S。信号线S经过将第2绝缘层12及第3绝缘层13贯通的接触孔而与半导体层SC接触。

在信号线S及第3绝缘层13之上配置有滤色器CFR、CFG、CFB。有机绝缘层15将滤色器CFR、CFG、CFB覆盖。滤色器CFR、CFG、CFB及有机绝缘层15比其他绝缘层11～14形成得厚。有机绝缘层15将由开关元件SW、滤色器CFR、CFG、CFB产生的凹凸平坦化。

在有机绝缘层15之上配置有像素电极PE。像素电极PE经过将有机绝缘层15贯通的接触孔(图6所示的接触孔CH1)而与半导体层SC接触。在像素电极PE与半导体层SC之间也可以夹设其他导电层。各子像素的像素电极PE与滤色器CFR、CFG、CFB对置。

第4绝缘层14将像素电极PE及有机绝缘层15覆盖。在第4绝缘层14之上配置有金属层ML及共用电极CE。共用电极CE具有在Z方向上与滤色器CFR、CFG、CFB重叠的狭缝SL，与像素电极PE对置。

金属层ML的上表面被防反射层AR覆盖。金属层ML及防反射层AR被共用电极CE覆盖。共用电极CE被第1取向膜16覆盖。

第2基板SUB2具有由与第1绝缘基材10相同的材料形成的第2绝缘基材20和将第2绝缘基材20的下表面(第1基板SUB1侧的面)覆盖的第2取向膜21。第1基板SUB1和第2基板SUB2在周边区域SA中通过环状的密封材料而贴合。在第1基板SUB1与第2基板SUB2之间封入液晶层LC。

若对像素电极PE供给影像信号，则在像素电极PE与共用电极CE之间形成电场。该电场经过狭缝SL作用于液晶层LC，由此对液晶层LC所包含的液晶分子的取向进行控制。

图5是金属层ML及防反射层AR的概略的剖视图。在图示出的例子中，金属层ML具有包含第1层L1、第2层L2及第3层L3的层叠构造。第1层L1例如通过铝而比第2层L2及第3层L3形成得厚。第2层L2及第3层L3例如由钼形成。

防反射层AR将第3层L3覆盖。防反射层AR对外部光等光LT的反射进行抑制。防反射层AR例如由金属氧化物、黑色树脂等形成，具有比金属层ML的上表面(第3层L3的表面)低的反射率。作为其他例，防反射层AR可以具有折射率不同的多个层，通过被这些层反射的光的干涉而减少反射光。

图6是表示在显示区域DA中在第1基板SUB1配置的要素的一部分的概略的俯视图。在该图中，关注1个子像素，示出了在X方向上延伸的2条扫描线G和在Y方向上延伸的信号线S。

金属层ML是具有在X方向上延伸的多个第1部分MLx和在Y方向上延伸的多个第2部分MLy的栅格状。第1部分MLx与扫描线G重叠。第2部分MLy与信号线S重叠。

如上所述，在本实施方式中，金属层ML配置于在X方向上相邻的子像素的边界及在Y方向上相邻的子像素的边界这两者。防反射层AR针对包含第1部分MLx及第2部分MLy在内的金属层ML的整体进行配置。

在图6的例子中，第1部分MLx的宽度小于扫描线G的宽度。但是，第1部分MLx的宽度也可以为扫描线G的宽度以上。在该情况下，扫描线G的整体可以与第1部分MLx重叠。

另外，在图6的例子中，第2部分MLy的宽度大于信号线S的宽度，信号线S的整体与第2部分MLy重叠。但是，第2部分MLy的宽度也可以为信号线S的宽度以下。

由相邻的2个第1部分MLx和相邻的2个第2部分MLy包围的开口APX相对于各子像素形成。像素电极PE与开口APX的大部分重叠。

在与第1部分MLx重叠的位置，形成有用于将像素电极PE和半导体层SC(参照图4)连接的接触孔CH1。接触孔CH1将上述的有机绝缘层15贯通。

在图6的例子中，在与开口APX重叠的区域设置有1条狭缝SL。狭缝SL例如包含相对于X方向及Y方向倾斜的多个部分。此外，也可以针对开口APX设置多个狭缝SL。

图7是表示周边区域SA中的第1基板SUB1的一部分的概略的俯视图。图8是沿图7中的VIII－VIII线的第1基板SUB1的概略的剖视图。如图7及图8所示，第1基板SUB1在周边区域SA中具有供电线PL及中继导电层RC1(第1中继导电层)。供电线PL及中继导电层RC1位于共用电极CE及金属层ML的下方。

例如，供电线PL形成为沿除了安装区域MA以外的第1基板SUB1的3边将显示区域DA包围。对供电线PL供给共用电压。中继导电层RC1与供电线PL重叠。中继导电层RC1例如与供电线PL同样地，形成为沿除了安装区域MA以外的第1基板SUB1的3边将显示区域DA包围。

在图7的例子中，第1扫描驱动器GD1配置于供电线PL与显示区域DA之间。虽然在图7没有示出，但上述的第2扫描驱动器GD2也配置于供电线PL与显示区域DA之间。

共用电极CE不仅形成于显示区域DA，还形成于周边区域SA。共用电极CE与第1扫描驱动器GD1的整体重叠，并且还与供电线PL及中继导电层RC1的一部分重叠。

金属层ML在周边区域SA中具有第3部分MLs。第3部分MLs与第1扫描驱动器GD1的整体重叠，并且还与供电线PL及中继导电层RC1的一部分重叠。

即，共用电极CE的端部E1(第1端部)及第3部分MLs的端部E2(第2端部)都位于周边区域SA。并且，在图7的例子中，端部E2位于端部E1与显示区域DA之间。

端部E1及端部E2都与供电线PL及中继导电层RC1重叠。端部E1位于端部E2与供电线PL的端部E3之间。此外，端部E1、E2、E3分别相当于共用电极CE、金属层ML及供电线PL的外缘。中继导电层RC1的端部与端部E3大致一致。图7所示的端部E1、E2、E3的关系也能够同样地应用于除了安装区域MA以外的第1基板SUB1的其他边的附近。

如图8所示，供电线PL配置于第3绝缘层13之上。在周边区域SA中，有机绝缘层15的厚度朝向供电线PL而逐渐减小。例如，供电线PL能够通过与信号线S相同的金属材料，通过与信号线S相同的工艺而形成。

中继导电层RC1将供电线PL的上表面覆盖。例如，中继导电层RC1能够通过与像素电极PE相同的透明导电材料，通过与像素电极PE相同的工艺而形成。第4绝缘层14还形成于周边区域SA，但不将中继导电层RC1的上表面覆盖。

第3部分MLs配置于第4绝缘层14之上，其一部分位于中继导电层RC1之上。第3部分MLs的上表面在整体上被防反射层AR覆盖。共用电极CE在周边区域SA中将第3部分MLs上的防反射层AR覆盖。并且，共用电极CE在第3部分MLs的端部E2与供电线PL的端部E3之间位于中继导电层RC1之上。

即，共用电极CE在端部E1、E2之间的第1区域A1中与中继导电层RC1的上表面接触。由此，共用电极CE和供电线PL经由中继导电层RC1连接，供电线PL的共用电压经由中继导电层RC1而供给至共用电极CE。

另外，第3部分MLs在位于第1区域A1与显示区域DA之间的第2区域A2中与中继导电层RC1的上表面接触。由此，金属层ML和供电线PL经由中继导电层RC1连接，供电线PL的共用电压经由中继导电层RC1而供给至金属层ML。

在以上的本实施方式中，与扫描线G、信号线S重叠的金属层ML配置于第1基板SUB1，并且金属层ML的上表面被防反射层AR覆盖。由此，抑制由扫描线G、信号线S及金属层ML引起的外部光的反射，因此能够得到在显示区域DA中显示的图像的视觉识别性优异的显示装置1。

另外，在周边区域SA中，第1扫描驱动器GD1等的包含金属材料的要素也与金属层ML(第3部分MLs)及防反射层AR重叠。由此，也能够抑制周边区域SA中的外部光的反射。

假设如本实施方式那样在阵列基板即第1基板SUB1形成有滤色器的情况下，若在第2基板SUB2设置相当于防反射层AR的遮光层(黑矩阵)，则有可能发生金属层ML、滤色器与该遮光层的对位偏差。若是本实施方式的结构，则能够抑制如上所述的对位偏差。

在本实施方式中，被防反射层AR覆盖的金属层ML还被共用电极CE覆盖。在该结构中，在显示区域DA中有可能无法确保共用电极CE与金属层ML的充分的导通。另外，在周边区域SA中也在共用电极CE的下方形成有被防反射层AR覆盖的金属层ML的情况下，难以将供电线PL的共用电压供给至共用电极CE。

关于这一点，在本实施方式中金属层ML的端部E2位于共用电极CE的端部E1与显示区域DA之间，由此金属层ML及共用电极CE这两者经由中继导电层RC1而与供电线PL连接。若是如上所述的结构，则能够将供电线PL的共用电压供给至共用电极CE及金属层ML这两者。

[第2实施方式]

对第2实施方式进行说明。没有特别言及的显示装置1的结构与第1实施方式相同。

图9是第2实施方式所涉及的第1基板SUB1的概略的剖视图。图9的例子与图8的例子的不同点在于，供电线PL的宽度小于中继导电层RC1的宽度。

即使是如上所述供电线PL的宽度小的情况，通过设置中继导电层RC1，也能够将第1区域A1及第2区域A2确保得宽。由此，能够从供电线PL对共用电极CE及金属层ML良好地供给共用电压。

[第3实施方式]

对第3实施方式进行说明。没有特别言及的显示装置1的结构与第1实施方式相同。

图10是第3实施方式所涉及的第1基板SUB1的概略的剖视图。图10的例子与图8的例子的不同点在于，在周边区域SA中没有配置中继导电层RC1。共用电极CE在第1区域A1中与供电线PL的上表面接触。金属层ML的第3部分MLs在第2区域A2中与供电线PL的上表面接触。

如上所述，即使在没有配置中继导电层RC1的情况下，也能够从供电线PL对共用电极CE及金属层ML供给共用电压。

[第4实施方式]

对第4实施方式进行说明。在本实施方式中，公开了用于使共用电极CE和金属层ML在显示区域DA中导通的构造。没有特别言及的显示装置1的结构与第1实施方式相同。

图11是表示在第4实施方式所涉及的第1基板SUB1配置的要素的一部分的概略的俯视图。图12是沿图11中的XII－XII线的第1基板SUB1的概略的剖视图。图11及图12的例子与图6的例子的不同点在于，还配置有中继导电层RC2(第2中继导电层)。

中继导电层RC2例如配置于扫描线G与信号线S交叉的部分的附近。在图11的例子中，中继导电层RC2为梯形状，与金属层ML的第2部分MLy重叠。

如图12所示，中继导电层RC2配置于有机绝缘层15之上(与像素电极PE同层)，与像素电极PE分离。中继导电层RC2能够由ITO等透明导电材料形成。在一个例子中，中继导电层RC2和像素电极PE通过相同的工艺形成。

第4绝缘层14在与中继导电层RC2重叠的位置具有开口AP。金属层ML(第2部分MLy)及共用电极CE经过该开口AP而与中继导电层RC2接触。在如上所述的结构中，共用电极CE与金属层ML经由中继导电层RC2而良好地导通。

此外，在上述的图6中，像素电极PE是具有沿X方向的一对短边和沿Y方向的一对长边的矩形形状。另一方面，在图11的例子中，像素电极PE在角部具有相对于X方向及Y方向倾斜的倾斜边IS1。并且，中继导电层RC2具有面对倾斜边IS1的倾斜边IS2。倾斜边IS2与倾斜边IS1分离，且与倾斜边IS1平行。

若是如上所述的结构，则例如与中继导电层RC2是不具有倾斜边IS2的矩形形状的情况相比，能够将中继导电层RC2的面积确保得大，并将中继导电层RC2与狭缝SL之间的距离保持得大。由此，能够抑制由中继导电层RC2引起的显示不良。

此外，中继导电层RC2可以相对于显示区域DA所包含的全部子像素而言各配置一个，也可以以1个中继导电层RC2对多个子像素的比例配置。另外，也可以相对于1个子像素，配置多个中继导电层RC2。

若是本实施方式的结构，则在显示区域DA中，共用电极CE与金属层ML良好地导通。由此，能够降低由透明导电材料形成的共用电极CE的电阻。另外，在将中继导电层RC2通过与像素电极PE相同的工艺形成的情况下，无需追加用于形成中继导电层RC2的工艺。

[第5实施方式]

对第5实施方式进行说明。没有特别言及的显示装置1的结构与第4实施方式相同。

图13是本实施方式所涉及的第1基板SUB1的概略的剖视图。在图13的例子中，中继导电层RC2配置于第4绝缘层14之上，在中继导电层RC2之上配置有金属层ML(第2部分MLy)。中继导电层RC2具有没有被金属层ML覆盖的区域，共用电极CE与该区域接触。中继导电层RC2与第4实施方式同样地，能够由透明导电材料形成。

即使是本实施方式的结构，在显示区域DA中，共用电极CE与金属层ML也经由中继导电层RC2而良好地导通。并且，由于像素电极PE和中继导电层RC2位于不同的层，因此能够抑制两者的短路。因此，例如如图13所示，也能够采用像素电极PE的一部分与中继导电层RC2对置的结构。

[第6实施方式]

对第6实施方式进行说明。在本实施方式中，公开了用于使共用电极CE与金属层ML在显示区域DA中导通的其他构造。能够在没有特别言及的显示装置1的结构中应用与上述的各实施方式相同的结构。

图14是本实施方式所涉及的金属层ML、扫描线G及信号线S的概略的俯视图。在本实施方式中，防反射层AR具有多个接触孔CH2。

在图14的例子中，各接触孔CH2形成于扫描线G与信号线S交叉的位置(金属层ML的第1部分MLx与第2部分MLy连接的位置)。在X方向上相邻的2个接触孔CH2以3个子像素量的距离分离。在Y方向上相邻的2个接触孔CH2也以3个子像素量的距离分离。但是，接触孔CH2的配置方式并不限于该例。

图15是沿图14中的XV－XV线的显示面板2的概略的剖视图。通过接触孔CH2，在金属层ML的上表面形成没有被防反射层AR覆盖的露出区域EA。共用电极CE与露出区域EA接触。即，共用电极CE经过接触孔CH2而与金属层ML导通。

并且，在本实施方式中，配置有与露出区域EA对置的柱状的间隔件PS。间隔件PS例如由黑色树脂等遮光性的材料形成，位于第1基板SUB1与第2基板SUB2之间。间隔件PS如图14所示针对各接触孔CH2而设置。

作为一个例子，间隔件PS形成于第1基板SUB1，前端与第2基板SUB2接触。作为其他例，间隔件PS也可以形成于第2基板SUB2，前端与第1基板SUB1接触。

若是以上那样的结构，则共用电极CE与金属层ML经过接触孔CH2而良好地导通。并且，遮光性的间隔件PS位于接触孔CH2的上方，因此抑制从接触孔CH2露出的金属层ML的表面对外部光的反射。

[第7实施方式]

对第7实施方式进行说明。没有特别言及的显示装置1的结构与第6实施方式相同。

图16是本实施方式所涉及的显示面板2的概略的剖视图。在图16的例子中，取代间隔件PS，将与露出区域EA对置的遮光层LS配置于第2基板SUB2。遮光层LS例如由黑色树脂等遮光性的材料形成，位于第2绝缘基材20与第2取向膜21之间。

遮光层LS的平面形状例如与图14所示的间隔件PS的平面形状相同。即，遮光层LS不是整体地配置于金属层ML的上方，而是在与接触孔CH2重叠的位置配置为岛状。

即使是本实施方式的结构，共用电极CE与金属层ML也经过接触孔CH2而良好地导通，并且能够抑制由露出区域EA引起的外部光的反射。

[第8实施方式]

对第8实施方式进行说明。能够对没有特别言及的显示装置1的结构应用与上述的各实施方式相同的结构。

图17是本实施方式所涉及的第1基板SUB1的概略的剖视图。在图17的例子中，金属层ML配置于共用电极CE之上。金属层ML被防反射层AR覆盖，并且防反射层AR被第1取向膜16覆盖。

若是如上所述的结构，则能够不被覆盖金属层ML的防反射层AR妨碍地使共用电极CE与金属层ML导通。

[第9实施方式]

对第9实施方式进行说明。能够对没有特别言及的显示装置1的结构应用与上述的各实施方式相同的结构。

图18是本实施方式所涉及的第1基板SUB1的概略的剖视图。在图18的例子中，共用电极CE配置于有机绝缘层15之上，被第4绝缘层14覆盖。并且，像素电极PE配置于第4绝缘层14之上，被第1取向膜16覆盖。

金属层ML配置于有机绝缘层15之上，被防反射层AR覆盖。防反射层AR被共用电极CE覆盖。

由此，即使在像素电极PE与共用电极CE相比位于上方的情况下，也能够应用上述的各实施方式所涉及的结构。

此外，在各实施方式中，例示出金属层ML具有与扫描线G重叠的第1部分MLx及与信号线S重叠的第2部分MLy的情况。作为其他例，金属层ML也可以仅具有第1部分MLx及第2部分Mly中的一方。

另外，在各实施方式中，例示出在第1基板SUB1配置有滤色器CFR、CFG、CFB的情况。作为其他例，滤色器CFR、CFG、CFB也可以配置于第2基板SUB2。

以上，基于作为本发明的实施方式而说明的显示装置，本领域技术人员适当进行设计变更而能够实施的全部显示装置只要包含本发明的主旨，则也属于本发明的范围。

在本发明的思想范畴中，若是本领域技术人员则可想到各种变形例，关于这些变形例也被解释为属于本发明的范围。例如，相对于上述的实施方式由本领域技术人员适当地进行了构成要素的追加、删除或者设计变更或者进行了工序的追加、省略或者条件变更而得到的方式，只要具有本发明的主旨，则也包含于本发明的范围。

另外，关于由在上述的实施方式中叙述的方式带来的其他作用效果、关于根据本说明书的记载而变得清楚的方式或者由本领域技术人员能够适当想到的方式，当然是由本发明带来的。

下面，附记根据上述的各实施方式可以得到的显示装置的一个例子。

[1]

一种显示装置，其中，具有：

显示区域，包含像素；

所述显示区域的周边的周边区域；

像素电极，配置于所述像素；

开关元件，与所述像素电极连接；

扫描线，对所述开关元件供给扫描信号；

信号线，对所述开关元件供给影像信号；

金属层，与所述信号线及所述扫描线的至少一方重叠；

防反射层，将所述金属层覆盖；

共用电极，将所述防反射层覆盖；以及

供电线，配置于所述周边区域，被供给共用电压，

所述共用电极及所述金属层在所述周边区域中与所述供电线连接。

[2]

上述[1]中记载的显示装置，其中，

所述共用电极具有位于所述周边区域的第1端部，

所述金属层具有位于所述周边区域的第2端部，

所述第2端部位于所述第1端部与所述显示区域之间。

[3]

上述[1]或者[2]中记载的显示装置，其中，

还具有第1中继导电层，该第1中继导电层配置于所述周边区域，与所述供电线接触，

所述供电线及所述第1中继导电层位于所述金属层及所述共用电极的下方，

所述金属层及所述共用电极与所述第1中继导电层的上表面接触。

[4]

上述[3]中记载的显示装置，其中，

所述周边区域具有：

第1区域，所述共用电极与所述第1中继导电层接触；以及

第2区域，所述金属层与所述第1中继导电层接触，

所述第2区域位于所述第1区域与所述显示区域之间。

[5]

上述[1]至[4]之中的任一项所记载的显示装置，其中，

还具有第2中继导电层，该第2中继导电层配置于所述显示区域，与所述金属层及所述共用电极接触。

[6]

上述[5]中记载的显示装置，其中，

还具有绝缘层，该绝缘层位于所述像素电极与所述共用电极之间，

所述第2中继导电层与所述像素电极配置于同一层，

所述绝缘层具有与所述第2中继导电层重叠的开口，

所述共用电极及所述金属层经过所述开口而与所述第2中继导电层接触。

[7]

上述[5]中记载的显示装置，其中，

还具有绝缘层，该绝缘层位于所述像素电极与所述共用电极之间，

所述共用电极及所述第2中继导电层配置于所述绝缘层之上，

所述金属层配置于所述第2中继导电层之上。

[8]

上述[1]至[7]之中的任一项所记载的显示装置，其中，

所述金属层具有没有被所述防反射层覆盖的露出区域，

所述共用电极与所述露出区域接触。

[9]

上述[8]中记载的显示装置，其中，

所述露出区域设置于所述扫描线与所述信号线交叉的位置。

[10]

上述[8]或者[9]中记载的显示装置，其中，具有：

第1基板，包含所述像素电极、所述开关元件、所述扫描线、所述信号线、所述金属层、所述防反射层、所述共用电极及所述供电线；

第2基板，与所述第1基板对置；以及

遮光性的间隔件，位于所述第1基板与所述第2基板之间，与所述露出区域对置。

[11]

上述[8]或者[9]中记载的显示装置，其中，具有：

第1基板，包含所述像素电极、所述开关元件、所述扫描线、所述信号线、所述金属层、所述防反射层、所述共用电极及所述供电线；

第2基板，与所述第1基板对置；以及

遮光层，设置于所述第2基板，与所述露出区域对置。

[12]

上述[10]或者[11]中记载的显示装置，其中，

所述第1基板还具有与所述像素电极对置的滤色器。

[13]

一种显示装置，其中，具有：

显示区域，包含像素；

像素电极，配置于所述像素；

开关元件，与所述像素电极连接；

扫描线，对所述开关元件供给扫描信号；

信号线，对所述开关元件供给影像信号；

金属层，与所述信号线及所述扫描线的至少一方重叠；

防反射层，将所述金属层覆盖；

共用电极，将所述防反射层覆盖；以及

中继导电层，配置于所述显示区域，与所述金属层及所述共用电极接触。

[14]

上述[13]中记载的显示装置，其中，

还具有绝缘层，该绝缘层位于所述像素电极与所述共用电极之间，

所述中继导电层与所述像素电极配置于同一层，

所述绝缘层具有与所述中继导电层重叠的开口，

所述共用电极及所述金属层经过所述开口而与所述中继导电层接触。

[15]

上述[13]中记载的显示装置，其中，

还具有绝缘层，该绝缘层位于所述像素电极与所述共用电极之间，

所述共用电极及所述中继导电层配置于所述绝缘层之上，

所述金属层配置于所述中继导电层之上。

[16]

一种显示装置，其中，具有：

显示区域，包含像素；

像素电极，配置于所述像素；

开关元件，与所述像素电极连接；

扫描线，对所述开关元件供给扫描信号；

信号线，对所述开关元件供给影像信号；

金属层，与所述信号线及所述扫描线的至少一方重叠；

防反射层，将所述金属层覆盖；以及

共用电极，将所述防反射层覆盖，

所述金属层具有没有被所述防反射层覆盖的露出区域，

所述共用电极与所述露出区域接触。

[17]

上述[16]中记载的显示装置，其中，

所述露出区域设置于所述扫描线与所述信号线交叉的位置。

[18]

上述[16]或者[17]中记载的显示装置，其中，具有：

第1基板，包含所述像素电极、所述开关元件、所述扫描线、所述信号线、所述金属层、所述防反射层及所述共用电极；

第2基板，与所述第1基板对置；以及

遮光性的间隔件，位于所述第1基板与所述第2基板之间，与所述露出区域对置。

[19]

上述[16]或者[17]中记载的显示装置，其中，具有：

第1基板，包含所述像素电极、所述开关元件、所述扫描线、所述信号线、所述金属层、所述防反射层及所述共用电极；

第2基板，与所述第1基板对置；以及

遮光层，设置于所述第2基板，与所述露出区域对置。

[20]

上述[18]或者[19]中记载的显示装置，其中，

所述第1基板还具有与所述像素电极对置的滤色器。

Claims (20)

1.一种显示装置，其中，具有：

显示区域，包含像素；

所述显示区域的周边的周边区域；

像素电极，配置于所述像素；

开关元件，与所述像素电极连接；

扫描线，对所述开关元件供给扫描信号；

信号线，对所述开关元件供给影像信号；

金属层，与所述信号线及所述扫描线的至少一方重叠；

防反射层，将所述金属层覆盖；

共用电极，将所述防反射层覆盖；以及

供电线，配置于所述周边区域，被供给共用电压，

所述共用电极及所述金属层在所述周边区域中与所述供电线连接。

2.如权利要求1所述的显示装置，其中，

所述共用电极具有位于所述周边区域的第1端部，

所述金属层具有位于所述周边区域的第2端部，

所述第2端部位于所述第1端部与所述显示区域之间。

3.如权利要求1所述的显示装置，其中，

还具有第1中继导电层，该第1中继导电层配置于所述周边区域，与所述供电线接触，

所述供电线及所述第1中继导电层位于所述金属层及所述共用电极的下方，

所述金属层及所述共用电极与所述第1中继导电层的上表面接触。

4.如权利要求3所述的显示装置，其中，

所述周边区域具有：

第1区域，所述共用电极与所述第1中继导电层接触；以及

第2区域，所述金属层与所述第1中继导电层接触，

所述第2区域位于所述第1区域与所述显示区域之间。

5.如权利要求1所述的显示装置，其中，

还具有第2中继导电层，该第2中继导电层配置于所述显示区域，与所述金属层及所述共用电极接触。

6.如权利要求5所述的显示装置，其中，

还具有绝缘层，该绝缘层位于所述像素电极与所述共用电极之间，

所述第2中继导电层与所述像素电极配置于同一层，

所述绝缘层具有与所述第2中继导电层重叠的开口，

所述共用电极及所述金属层经过所述开口而与所述第2中继导电层接触。

7.如权利要求5所述的显示装置，其中，

还具有绝缘层，该绝缘层位于所述像素电极与所述共用电极之间，

所述共用电极及所述第2中继导电层配置于所述绝缘层之上，

所述金属层配置于所述第2中继导电层之上。

8.如权利要求1所述的显示装置，其中，

所述金属层具有没有被所述防反射层覆盖的露出区域，

所述共用电极与所述露出区域接触。

9.如权利要求8所述的显示装置，其中，

所述露出区域设置于所述扫描线与所述信号线交叉的位置。

10.如权利要求8所述的显示装置，其中，具有：

第1基板，包含所述像素电极、所述开关元件、所述扫描线、所述信号线、所述金属层、所述防反射层、所述共用电极及所述供电线；

第2基板，与所述第1基板对置；以及

遮光性的间隔件，位于所述第1基板与所述第2基板之间，与所述露出区域对置。

11.如权利要求8所述的显示装置，其中，具有：

第1基板，包含所述像素电极、所述开关元件、所述扫描线、所述信号线、所述金属层、所述防反射层、所述共用电极及所述供电线；

第2基板，与所述第1基板对置；以及

遮光层，设置于所述第2基板，与所述露出区域对置。

12.如权利要求10所述的显示装置，其中，

所述第1基板还具有与所述像素电极对置的滤色器。

13.一种显示装置，其中，具有：

显示区域，包含像素；

像素电极，配置于所述像素；

开关元件，与所述像素电极连接；

扫描线，对所述开关元件供给扫描信号；

信号线，对所述开关元件供给影像信号；

金属层，与所述信号线及所述扫描线的至少一方重叠；

防反射层，将所述金属层覆盖；

共用电极，将所述防反射层覆盖；以及

中继导电层，配置于所述显示区域，与所述金属层及所述共用电极接触。

14.如权利要求13所述的显示装置，其中，

还具有绝缘层，该绝缘层位于所述像素电极与所述共用电极之间，

所述中继导电层与所述像素电极配置于同一层，

所述绝缘层具有与所述中继导电层重叠的开口，

所述共用电极及所述金属层经过所述开口而与所述中继导电层接触。

15.如权利要求13所述的显示装置，其中，

还具有绝缘层，该绝缘层位于所述像素电极与所述共用电极之间，

所述共用电极及所述中继导电层配置于所述绝缘层之上，

所述金属层配置于所述中继导电层之上。

16.一种显示装置，其中，具有：

显示区域，包含像素；

像素电极，配置于所述像素；

开关元件，与所述像素电极连接；

扫描线，对所述开关元件供给扫描信号；

信号线，对所述开关元件供给影像信号；

金属层，与所述信号线及所述扫描线的至少一方重叠；

防反射层，将所述金属层覆盖；以及

共用电极，将所述防反射层覆盖，

所述金属层具有没有被所述防反射层覆盖的露出区域，

所述共用电极与所述露出区域接触。

17.如权利要求16所述的显示装置，其中，

所述露出区域设置于所述扫描线与所述信号线交叉的位置。

18.如权利要求16所述的显示装置，其中，具有：

第1基板，包含所述像素电极、所述开关元件、所述扫描线、所述信号线、所述金属层、所述防反射层及所述共用电极；

第2基板，与所述第1基板对置；以及

遮光性的间隔件，位于所述第1基板与所述第2基板之间，与所述露出区域对置。

19.如权利要求16所述的显示装置，其中，具有：

第1基板，包含所述像素电极、所述开关元件、所述扫描线、所述信号线、所述金属层、所述防反射层及所述共用电极；

第2基板，与所述第1基板对置；以及

遮光层，设置于所述第2基板，与所述露出区域对置。

20.如权利要求18所述的显示装置，其中，

所述第1基板还具有与所述像素电极对置的滤色器。

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