CN115611517B - 一种防滑珠光干粒釉刷抛大理石陶瓷大板及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及陶瓷砖技术领域,特别是涉及一种防滑珠光干粒釉刷抛大理石陶瓷大板及其制备方法;本申请公开了一种防滑珠光干粒釉刷抛大理石陶瓷大板,包括坯体以及依次附着在坯体上的第一釉层、大理石图案层、珠光干粒釉层;所述珠光干粒釉层,以重量份为单位,包括以下原料:锂长石15‑20份、白灰石2‑6份、高岭土4‑10份、氧化锌6‑10份、碳酸钡2‑6份、珠光干粒熔块25‑40份、萤石2‑5份、石英5‑10份、刚玉1‑5份、钛白粉1‑5份、悬浮剂40‑60份;本申请制备得到的陶瓷大板,具有防滑等级高、光源折射低、防污效果好的优点。
Description
技术领域
本发明涉及陶瓷大板领域,具体是涉及到一种防滑珠光干粒釉刷抛大理石陶瓷大板及其制备方法。
背景技术
传统的大理石瓷砖,越来越不能满足广大消费者是喜爱和追求;而陶瓷大板,是一种由陶土、矿石等多种无机非金属材料,经成型、1200℃高温煅烧等生产工艺制成的面积不小于1.62平方米的板状陶瓷制品。陶瓷大板相比其他瓷砖产品,具有规格大、硬度大、性能稳定、安全牢固、环保健康、装饰性强等特性。陶瓷大板主要用于建筑空间墙地面装饰,衣柜饰面板、橱柜面板等家具装饰以及门饰面板;
目前,珠干粒釉大理石陶瓷大板产品,由于防滑性能好、工艺应用简单、装饰效果丰富、光泽更适应等原因,珠干粒釉本身由特殊的矿物原料与化工原料,按配比经多道工序制作形成,应用在陶瓷生产中,能提高其防滑性,且珠光光泽度更能接近人的视觉感;但是当前的珠干粒釉大理石陶瓷大板,存在着防滑性能较差以及珠光光泽度过高易造成反光的问题。
因此,研究防滑珠光干粒釉具有积极的市场前景,为此我们提出一种防滑珠光干粒釉刷抛大理石陶瓷大板及其制备方法。
发明内容
为了克服现有技术的不足,本发明提供一种防滑珠光干粒釉刷抛大理石陶瓷大板及其制备方法,制备得到的陶瓷大板,具有防滑等级高、光源折射低、防污效果好的优点。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:
一种防滑珠光干粒釉刷抛大理石陶瓷大板,包括坯体以及依次附着在坯体上的第一釉层、大理石图案层、珠光干粒釉层;
所述第一釉层,以重量份为单位,包括以下原料:
石英15-20份、硅灰石10-20份、高岭土5-10份、长石30-45份、煅烧高岭土3-6份、碳酸钡3-7份、白云石6-12份、氧化锌1-3份、氧化铝2-5份、方解石2-5份、硅酸锆8-13份、甲基纤维素0.08-0.13份、三聚磷酸钠0.21-0.42份;
所述珠光干粒釉层,以重量份为单位,包括以下原料:
锂长石15-20份、白灰石2-6份、高岭土4-10份、氧化锌6-10份、碳酸钡2-6份、珠光干粒熔块25-40份、萤石2-5份、石英5-10份、刚玉1-5份、钛白粉1-5份、悬浮剂40-60份;
在本申请中,第一釉层可用作遮盖坯体,有利于喷墨大理石颜色的发色(大理石图案层),起到将坯体和珠光干粒釉层粘合或者链接的作用;
进一步的,所述珠光干粒熔块,以重量份为单位,包括以下原料:
球土1-2份、长石岩6-10份、白云石1-2份、碳酸锂2-3份、碳酸钾3-5份、碳酸锶3-5份、钠长石7-10份、乙酸锌2-3份:
进一步的,所述悬浮剂为改性甲基水;所述改性甲基水,以重量份为单位,包括以下原料:聚六亚甲基胍20-30份、去离子水20-30份。
在本申请中,加入悬浮剂的作用对干粒釉起到悬浮作用,不易沉淀,起到分散作用让干粒之间不易结团,有利于提高釉浆性能,便于施釉。
在本申请,所述珠光干粒釉层通过加入珠光干粒熔块、碳酸钡、萤石、刚玉、钛白粉,在烧制过程中结合可变成珠光干粒釉晶核体,珠光干粒釉晶核体性能稳定、透感更强、形成多维度折射,起到防滑晶体粒子更致密,反射光泽更弱的效果,可作为陶瓷大板釉面的补强材料,在本申请中用作提高防滑性能及消光折射作用;具体的,与普通瓷砖大板相比,通过在珠光干粒釉层中加入刚玉、煅烧氧化铝、钛白粉,可提高釉层的防滑等级,通过加入珠光干粒熔块和碳酸钡,可降低釉层的光源折射;通过加入萤石和氧化锌,釉层防污性更好;
在本申请中,珠光干粒熔块的熔点为1310~1350℃,耐热温度达到1300℃,莫氏硬度为7,拉伸强度大于6.80GPa,拉伸弹性模量大于400GPa,表现出高的弹性率、良好的机械强度、耐热性、电绝缘性和中子吸收性能。
同时,本发明也提供了一种防滑珠光干粒釉刷抛大理石陶瓷大板的制备方法,包括以下步骤:
S1.坯体使用常规陶瓷坯料原料压制而成,进行烘干后,待用;
S2.用水将烘干后坯体润湿,使坯体表面含有3-5%的水分;
S3.按照第一釉层各原料的重量份进行备料,将原料进行充分混合后进行球磨,均匀施于步骤S2所得坯体上,待用;
S4.按照喷墨要求布施大理石图案,通过喷墨机施于步骤S3所得第一釉层的表面,形成大理石图案层;
S5.按照珠光干粒釉层各原料的重量份进行备料,进行充分混合后进行球磨搅拌,均匀施于步骤S4所得坯体的大理石图案层上,待用;
S6.将步骤S5所得坯体,经窑炉进行高温煅烧后,得到防滑珠光干粒釉刷抛大理石陶瓷大板。
进一步的,在步骤S5中,高温煅烧温度为1100-1200℃,时间50-60min;
进一步的,在步骤S3中,第一釉层各原料混合后加入第一釉层重量30%的水,经球磨10min每100g,所得第一釉层混合料过325目筛网,待用;
进一步的,在步骤S4选定适合的大理石图案,通过ps软件处理,经过喷墨打印机将大理石图案墨水施于第一釉层上,得到相应的大理石图案层;
进一步的,在步骤S5中,珠光干粒釉层各原料混合后加入珠光干粒釉层重量20%的水以及珠光干粒釉层重量1%的消泡剂,经球磨20min每100g,所得珠光干粒釉混合料过200目筛网,待用;
更进一步的,所述消泡剂为环氧乙烷、环氧丙烷的共聚物,可消除在球磨过程中产生的气泡。
本发明的有益效果是:
1.本申请通过在珠光干粒釉层通过加入珠光干粒熔块、碳酸钡、萤石、刚玉、钛白粉,能在烧成过程中,使刚玉和钛白粉粒子更能吸附在坯体表面,使得烧制后的陶瓷大板具有更好的防滑性、消光性;
2.本申请制备得到的陶瓷大板,其出窑光泽度:10-15度,折射出具有珠光光泽色彩,釉面更好,生产更稳定,抛光更简单,生产优等率高,刷抛后光泽可以稳定在8-14度,且硬度等级达到5级;而传统大理石出窑砖光泽度40-60度,即便再经过刷抛处理,光泽度最多稳定到35度;
3.本申请制备得到的陶瓷大板,防滑等级为R12,具有很高的的防滑功能,可以起到很好的防滑效果。
具体实施方式
为了便于本领域技术人员的理解,下面结合实施例对本发明作进一步的说明,实施方式提及的内容并非对本发明的限定。
实施例1
一种防滑珠光干粒釉刷抛大理石陶瓷大板,包括坯体以及依次附着在坯体上的第一釉层、大理石图案层、珠光干粒釉层;
所述第一釉层,以重量份为单位,包括以下原料:
石英15份、硅灰石10份、高岭土5份、长石30份、煅烧高岭土3份、碳酸钡3份、白云石6份、氧化锌1份、氧化铝2份、方解石2份、硅酸锆8份、甲基纤维素0.08份、三聚磷酸钠0.21份;
所述珠光干粒釉层,以重量份为单位,包括以下原料:
锂长石15份、白灰石2份、高岭土4份、氧化锌6份、碳酸钡2份、珠光干粒熔块25份、萤石2份、石英5份、刚玉1份、钛白粉1份、聚六亚甲基胍20份、去离子水20份;
具体的,珠光干粒熔块,以重量份为单位,包括:
球土1份、长石岩6份、白云石1份、碳酸锂2份、碳酸钾3份、碳酸锶3份、钠长石7份、乙酸锌2份;
一种防滑珠光干粒釉刷抛大理石陶瓷大板的制备方法,包括以下步骤:
S1.坯体使用常规陶瓷坯料原料压制而成,进行烘干后,待用;
S2.用水将烘干后坯体润湿,使坯体表面含有3%的水分;
S3.按照第一釉层各原料的重量份进行备料,第一釉层各原料混合后加入第一釉层重量30%的水,经球磨10min每100g,所得第一釉层混合料过325目筛网;将球磨过筛后的第一釉层混料均匀施于步骤S2所得坯体上,待用;
S4.按照喷墨要求布施大理石图案,选定适合的大理石图案,通过ps软件处理,经过喷墨打印机将大理石图案墨水施于步骤S3所得第一釉层的表面,得到相应的大理石图案层
S5.按照珠光干粒釉层各原料的重量份进行备料,将聚六亚甲基胍和去离子水先进行充分混合,得到悬浮剂,再将珠光干粒釉层各原料进行混合,加入珠光干粒釉层重量20%的水以及珠光干粒釉层重量1%的消泡剂(环氧乙烷、环氧丙烷的共聚物,起到消泡作用即可),经球磨20min每100g,所得珠光干粒釉混合料过200目筛网;将球磨过筛处理后的珠光干粒釉混合料,均匀施于步骤S4所得坯体上,待用;
S6.将步骤S5所得坯体,经窑炉进行高温煅烧,高温煅烧温度为1100℃,时间60min,煅烧结束后得到一种防滑珠光干粒釉刷抛大理石陶瓷大板。
实施例2
一种防滑珠光干粒釉刷抛大理石陶瓷大板,包括坯体以及依次附着在坯体上的第一釉层、大理石图案层、珠光干粒釉层;
所述第一釉层,以重量份为单位,包括以下原料:
石英20份、硅灰石20份、高岭土10份、长石45份、煅烧高岭土6份、碳酸钡7份、白云石12份、氧化锌3份、氧化铝5份、方解石5份、硅酸锆13份、甲基纤维素0.13份、三聚磷酸钠0.42份;
所述珠光干粒釉层,以重量份为单位,包括以下原料:
锂长石20份、白灰石6份、高岭土10份、氧化锌10份、碳酸钡6份、珠光干粒熔块40份、萤石5份、石英10份、刚玉5份、钛白粉5份、聚六亚甲基胍30份、去离子水30份;
具体的,珠光干粒熔块,以重量份为单位,包括:
球土2份、长石岩10份、白云石2份、碳酸锂3份、碳酸钾5份、碳酸锶5份、钠长石10份、乙酸锌3份;
一种防滑珠光干粒釉刷抛大理石陶瓷大板的制备方法,包括以下步骤:
S1.坯体使用常规陶瓷坯料原料压制而成,进行烘干后,待用;
S2.用水将烘干后坯体润湿,使坯体表面含有5%的水分;
S3.按照第一釉层各原料的重量份进行备料,第一釉层各原料混合后加入第一釉层重量30%的水,经球磨10min每100g,所得第一釉层混合料过325目筛网;将球磨过筛后的第一釉层混料均匀施于步骤S2所得坯体上,待用;
S4.按照喷墨要求布施大理石图案,选定适合的大理石图案,通过ps软件处理,经过喷墨打印机将大理石图案墨水施于步骤S3所得第一釉层的表面,得到相应的大理石图案层
S5.按照珠光干粒釉层各原料的重量份进行备料,将聚六亚甲基胍和去离子水先进行充分混合,得到悬浮剂,再将珠光干粒釉层各原料进行混合,加入珠光干粒釉层重量20%的水以及珠光干粒釉层重量1%的消泡剂(环氧乙烷、环氧丙烷的共聚物,起到消泡作用即可),经球磨20min每100g,所得珠光干粒釉混合料过200目筛网;将球磨过筛处理后的珠光干粒釉混合料,均匀施于步骤S4所得坯体上,待用;
S6.将步骤S5所得坯体,经窑炉进行高温煅烧,高温煅烧温度为1200℃,时间50min,煅烧结束后得到一种防滑珠光干粒釉刷抛大理石陶瓷大板。
实施例3
一种防滑珠光干粒釉刷抛大理石陶瓷大板,包括坯体以及依次附着在坯体上的第一釉层、大理石图案层、珠光干粒釉层;
所述第一釉层,以重量份为单位,包括以下原料:
石英15份、硅灰石20份、高岭土5份、长石45份、煅烧高岭土3份、碳酸钡7份、白云石6份、氧化锌3份、氧化铝2份、方解石5份、硅酸锆13份、甲基纤维素0.13份、三聚磷酸钠0.21份;
所述珠光干粒釉层,以重量份为单位,包括以下原料:
锂长石20份、白灰石2份、高岭土4份、氧化锌10份、碳酸钡6份、珠光干粒熔块40份、萤石2份、石英5份、刚玉5份、钛白粉1份、聚六亚甲基胍30份、去离子水20份;
具体的,珠光干粒熔块,以重量份为单位,包括:
球土2份、长石岩10份、白云石2份、碳酸锂3份、碳酸钾5份、碳酸锶5份、钠长石10份、乙酸锌3份;
一种防滑珠光干粒釉刷抛大理石陶瓷大板的制备方法,包括以下步骤:
S1.坯体使用常规陶瓷坯料原料压制而成,进行烘干后,待用;
S2.用水将烘干后坯体润湿,使坯体表面含有3%的水分;
S3.按照第一釉层各原料的重量份进行备料,第一釉层各原料混合后加入第一釉层重量30%的水,经球磨10min每100g,所得第一釉层混合料过325目筛网;将球磨过筛后的第一釉层混料均匀施于步骤S2所得坯体上,待用;
S4.按照喷墨要求布施大理石图案,选定适合的大理石图案,通过ps软件处理,经过喷墨打印机将大理石图案墨水施于步骤S3所得第一釉层的表面,得到相应的大理石图案层
S5.按照珠光干粒釉层各原料的重量份进行备料,将聚六亚甲基胍和去离子水先进行充分混合,得到悬浮剂,再将珠光干粒釉层各原料进行混合,加入珠光干粒釉层重量20%的水以及珠光干粒釉层重量1%的消泡剂(环氧乙烷、环氧丙烷的共聚物,起到消泡作用即可),经球磨20min每100g,所得珠光干粒釉混合料过200目筛网;将球磨过筛处理后的珠光干粒釉混合料,均匀施于步骤S4所得坯体上,待用;
S6.将步骤S5所得坯体,经窑炉进行高温煅烧,高温煅烧温度为1150℃,时间55min,煅烧结束后得到一种防滑珠光干粒釉刷抛大理石陶瓷大板。
实施例4
一种防滑珠光干粒釉刷抛大理石陶瓷大板,包括坯体以及依次附着在坯体上的第一釉层、大理石图案层、珠光干粒釉层;
所述第一釉层,以重量份为单位,包括以下原料:
石英17份、硅灰石15份、高岭土8份、长石40份、煅烧高岭土4份、碳酸钡5份、白云石10份、氧化锌2份、氧化铝3份、方解石4份、硅酸锆11份、甲基纤维素0.2份、三聚磷酸钠0.3份;
所述珠光干粒釉层,以重量份为单位,包括以下原料:
锂长石17份、白灰石4份、高岭土8份、氧化锌8份、碳酸钡3份、珠光干粒熔块35份、萤石4份、石英8份、刚玉4份、钛白粉3份、聚六亚甲基胍25份、去离子水25份;
具体的,珠光干粒熔块,以重量份为单位,包括:
球土1.5份、长石岩9份、白云石1.5份、碳酸锂2.5份、碳酸钾4.5份、碳酸锶4.5份、钠长石9份、乙酸锌2.5份;
一种防滑珠光干粒釉刷抛大理石陶瓷大板的制备方法,包括以下步骤:
S1.坯体使用常规陶瓷坯料原料压制而成,进行烘干后,待用;
S2.用水将烘干后坯体润湿,使坯体表面含有4%的水分;
S3.按照第一釉层各原料的重量份进行备料,第一釉层各原料混合后加入第一釉层重量30%的水,经球磨10min每100g,所得第一釉层混合料过325目筛网;将球磨过筛后的第一釉层混料均匀施于步骤S2所得坯体上,待用;
S4.按照喷墨要求布施大理石图案,选定适合的大理石图案,通过ps软件处理,经过喷墨打印机将大理石图案墨水施于步骤S3所得第一釉层的表面,得到相应的大理石图案层
S5.按照珠光干粒釉层各原料的重量份进行备料,将聚六亚甲基胍和去离子水先进行充分混合,得到悬浮剂,再将珠光干粒釉层各原料进行混合,加入珠光干粒釉层重量20%的水以及珠光干粒釉层重量1%的消泡剂(环氧乙烷、环氧丙烷的共聚物,起到消泡作用即可),经球磨20min每100g,所得珠光干粒釉混合料过200目筛网;将球磨过筛处理后的珠光干粒釉混合料,均匀施于步骤S4所得坯体上,待用;
S6.将步骤S5所得坯体,经窑炉进行高温煅烧,高温煅烧温度为1150℃,时间56min,煅烧结束后得到一种防滑珠光干粒釉刷抛大理石陶瓷大板。
对比例1
不存在珠光干粒釉层,其它条件和实施例1一致;
对比例2
珠光干粒釉层中不存在钛白粉和珠光干粒熔块,其余条件和实施例1一致;
具体,上述实施例以及对比例中,陶瓷大板生产规格900*1800mm或900*2700mm;在高温煅烧后,还进行刷抛工艺,刷抛工艺是陶瓷大板烧成后的后一道抛光工艺,加1台刷抛设备,使用15组纤维刷子进行刷,刷抛的目的是使陶瓷大板的光泽度更佳标准均匀,釉面平整,手感细腻,更立体的视觉感,具有消光性;
对实施例1-4以及对比例1-2制备得到的陶瓷大板,进行性能检测,相关结果汇总至下表:
项目 | 光泽度 | 消光性 | 防滑等级 | 防污等级 |
实施例1 | 14度 | 消光性好、无反光 | R12 | 5 |
实施例2 | 8度 | 消光性好、无反光 | R12 | 5 |
实施例3 | 9度 | 消光性好、无反光 | R12 | 5 |
实施例4 | 10度 | 消光性好、无反光 | R12 | 5 |
对比例1 | 35度 | 消光性差,反光强烈 | R8 | 2 |
对比例2 | 25度 | 消光性差,反光明显 | R10 | 4 |
其中:防污等级为通过油性马克笔、墨水、水泥进行涂抹瓷砖表面,静置20分钟,用清水冲洗,通过相关标准评价表面痕迹残留情况;防污等级越高,瓷砖表面痕迹残留越少,表面防污效果越好。
从上表可得,本申请制备得到的陶瓷大板出窑光泽度10-15度,折射出具有珠光光泽色彩,刷抛后光泽可以稳定在8-14度,且硬度等级达到5级;防滑等级均达到R12,防滑等级高,防滑效果比较明显。此外,陶瓷大板消光性好、无反光,防污等级达到5级。
而对比例1,在没有加入珠光干粒釉层的情况下,制备得到的陶瓷大板,出窑砖光泽度45度,即便经过刷抛处理,光泽度最多稳定到35度;防滑等级为R8,防滑等级低,防滑效果较差。此外,陶瓷大板消光性差,反光强烈,防污等级仅为2级。
而对比例2,珠光干粒釉层中不存在钛白粉和珠光干粒熔块,制备得到的陶瓷大板,出窑砖光泽度35度,即便经过刷抛处理,光泽度最多稳定到25度,且硬度等级达为4级;防滑等级为R10,防滑等级略高,表现出一定的防滑效果。此外,陶瓷大板消光性差,反光强烈,防污等级为4级。
上述实施例为本发明较佳的实现方案,除此之外,本发明还可以其它方式实现,在不脱离本发明构思的前提下任何显而易见的替换均在本发明的保护范围之内。
Claims (6)
1.一种防滑珠光干粒釉刷抛大理石陶瓷大板,其特征在于,包括坯体以及依次附着在坯体上的第一釉层、大理石图案层、珠光干粒釉层;
所述第一釉层,以重量份为单位,包括以下原料:
石英15-20份、硅灰石10-20份、高岭土5-10份、长石30-45份、煅烧高岭土3-6份、碳酸钡3-7份、白云石6-12份、氧化锌1-3份、氧化铝2-5份、方解石2-5份、硅酸锆8-13份、甲基纤维素0.08-0.13份、三聚磷酸钠0.21-0.42份;
所述珠光干粒釉层,以重量份为单位,包括以下原料:
锂长石15-20份、白灰石2-6份、高岭土4-10份、氧化锌6-10份、碳酸钡2-6份、珠光干粒熔块25-40份、萤石2-5份、石英5-10份、刚玉1-5份、钛白粉1-5份、悬浮剂40-60份;
所述珠光干粒熔块,以重量份为单位,包括以下原料:
球土1-2份、长石岩6-10份、白云石1-2份、碳酸锂2-3份、碳酸钾3-5份、碳酸锶3-5份、钠长石7-10份、乙酸锌2-3份;
所述悬浮剂为改性甲基水;
所述改性甲基水,以重量份为单位,包括以下原料:聚六亚甲基胍20-30份、去离子水20-30份。
2.一种根据权利要求1所述的防滑珠光干粒釉刷抛大理石陶瓷大板的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1.坯体使用常规陶瓷坯料原料压制而成,进行烘干后,待用;
S2.用水将烘干后坯体润湿,使坯体表面含有3-5%的水分;
S3.按照第一釉层各原料的重量份进行备料,将原料进行充分混合后进行球磨,均匀施于步骤S2所得坯体上,待用;
S4.按照喷墨要求布施大理石图案,通过喷墨机施于步骤S3所得第一釉层的表面,形成大理石图案层;
S5.按照珠光干粒釉层各原料的重量份进行备料,进行充分混合后进行球磨搅拌,均匀施于步骤S4所得坯体的大理石图案层上,待用;
S6.将步骤S5所得坯体,经窑炉进行高温煅烧后,得到防滑珠光干粒釉刷抛大理石陶瓷大板。
3.根据权利要求2所述的一种防滑珠光干粒釉刷抛大理石陶瓷大板的制备方法,其特征在于,在步骤S6中,高温煅烧温度为1100-1200℃,时间50-60min。
4.根据权利要求2所述的一种防滑珠光干粒釉刷抛大理石陶瓷大板的制备方法,其特征在于,在步骤S3中,第一釉层各原料混合后加入第一釉层重量30%的水,经球磨10min每100g,所得第一釉层混合料过325目筛网,待用。
5.根据权利要求2所述的一种防滑珠光干粒釉刷抛大理石陶瓷大板的制备方法,其特征在于,在步骤S4选定适合的大理石图案,经过喷墨打印机将大理石图案墨水施于第一釉层上,得到相应的大理石图案层。
6.根据权利要求2所述的一种防滑珠光干粒釉刷抛大理石陶瓷大板的制备方法,其特征在于,在步骤S5中,珠光干粒釉层各原料混合后加入珠光干粒釉层重量20%的水以及珠光干粒釉层重量1%的消泡剂,经球磨20min每100g,所得珠光干粒釉混合料过200目筛网,待用。
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