CN1151496C - 物镜驱动装置 - Google Patents
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Abstract
本发明物镜驱动装置，在支持物镜的透镜支架的侧面缠绕或固定聚焦线圈，与该聚焦线圈相对，设置两个以上的间隙配置永久磁体，使磁极以相同的方向对着聚焦线圈的一边，穿过与永久磁体相对的聚焦线圈的边的磁通的密度分布具有两个以上的磁通密度分布的最大值点。采用如上所述的构成，在各种光盘装置的光拾波器上使用的物镜驱动装置中，作为安装误差的公差可以取得大，而且可以减小光轴的倾斜。
Description
技术领域
本发明涉及物镜驱动装置，特别是关于MD播放机、CD播放机、DVD播放机等光盘记录及/或重放装置(下称光盘装置)使用的光拾波(pick-up)器装载的、使物镜移动位置以调整光束照射位置的物镜驱动装置。
背景技术
如所周知，光盘装置为了修正MD、CD、DVD等圆盘状信息记录媒体(下称光盘)的翘曲造成的上下运动引起的对焦偏差、偏心造成的循迹偏差，在从光盘的侧面看是垂直的光轴方向的Z轴方向(下面又称对焦方向)和从光盘的侧面看是平行的半径方向的X轴方向(下面又称循迹方向)的两条轴上一边驱动物镜，一边以光学方式对光盘进行信息的录放。
图22表示光盘装置装载的光拾波器的概略结构图。下面对光拾波器加以简单说明。
在图22中，从半导体激光器111发出的光束透过光束分离器222射入设置在透镜支架2内的物镜。物镜1把激光会聚，在光盘E的记录面上形成1微米左右的微小光束的光点。又，与透镜支架2相关地，配置物镜驱动装置555。该物镜驱动装置555由电磁回路构成，可在聚焦方向和循迹方向驱动。借助于设置这样的物镜驱动装置555，对光盘E的表面的振动和偏心，物镜1可以以亚微米精度循迹控制记录径迹。
又，光盘E的记录面反射的光束透过物镜1返回，由光束分离器222反射到直角方向。于是，可以根据针脚发光二极管666检测的光束强度，读取光盘E的信息槽和检测聚焦误差信号和循迹误差信号。
近年来，光盘录放装置正在向高密度化发展。为了提高析像度，进行高密度录放，使用数值孔径(下称NA)大的物镜。但是，在光束的光轴相对于光盘的录放面发生倾斜时，彗形像差的程度与NA的三次方成正比。因此，在物镜NA大的情况下，在物镜驱动装置中，一旦使物镜向聚焦方向乃至循迹方向移动的时候光轴发生倾斜，就会对光盘的信号录放产生不良影响。
已有的，解决上述问题的物镜驱动装置公开于日本专利特开平7-240031号公报。下面参照图23～图26对已有的物镜驱动装置加以说明。
图23是表示已有的物镜驱动装置的结构的立体图。而图24是使物镜向聚焦方向(Z轴方向)和循迹方向(X轴方向)移动着的时候物镜驱动装置要部的剖面图。又，图25是在聚焦方向和循迹方向上移动着的物镜驱动装置要部的侧面图。图26是发生X轴方向的位置误差的情况下物镜驱动装置中的电磁回路要部的上表面图。
在图23～图26中，已有的物镜驱动装置具备透镜支架2、聚焦线圈3、循迹线圈4、永久磁体5、磁轭基座6、背轭6a、相向轭6b、弹性支持构件7、支持构件固定部8、支持构件固定基板9，以及印刷电路基板10。
透镜支架2由树脂成形制成，支持用粘接等方法固定的物镜1。弹性支持构件7由具有弹性的金属线构成，其一端用钎焊固定在印刷电路基板10上，支持透镜支架2。背轭6a及相向轭6b与永久磁体5一起形成磁路。这里，相向轭6b的光盘E一侧的端部配置于比永久磁体5的光盘E一侧的端部更接近光盘E的位置。以此，在永及磁体5与相向轭6b之间的空隙中的接近光盘E的部分形成指向聚焦方向的磁通。聚焦线圈3及循迹线圈4被绕在透镜支架2的侧面。支架构件固定部8固定支持构件固定基板9。在支持构件固定基板9上钎焊固定着弹性支持构件7的另一端。磁轭基座6被固定在支持图22中的半导体激光器111、光束分离器222及光探测器666的(未图示的)光学基座上。
下面对为修正光盘E的翘曲引起的上下运动所产生的聚焦偏离、偏心等造成的循迹偏差而在聚焦方向与循迹方向上的两条轴上驱动物镜1的动作加以说明。
安装物镜1的透镜支架2由互相平行地配置的4支弹性支持构件7(一端通过印刷电路基板10固定于透镜支架2上，另一端固定于支持构件固定基板9上)可移动地支持于聚焦方向和循迹方向上。支持构件固定基板9固定于在磁轭基座6上固定着的支持构件固定部8。
向聚焦方向驱动的驱动力由将聚焦线圈3配置于由安装在磁轭基座6上的永久磁体5、背轭6a及相向轭6b构成的磁路的空隙中的电磁驱动回路产生。借助于所产生的指向聚焦方向的驱动力，透镜支架2通过弹性支持构件7朝着聚焦方向作平移运动。
向循迹方向的驱动力由将循迹线圈4配置于由安装在磁轭基座6上的永久磁体5、背轭6a及相向轭6b构成的磁路的间隙中的电磁驱动回路产生。借助于所产生的指向循迹方向的驱动力，透镜支架2通过弹性支持构件7向循迹方向作平移运动。
下面参照图24～图26对抑制作为光轴倾斜原因的绕Y轴的转矩的机制加以说明。
由物镜1、透镜支架2、聚焦线圈3、循迹线圈4及印刷电路基板10构成的可动部一旦在作为循迹方向的X轴正向上移动dt，如图24所示，聚变驱动力的中心Fc与可动部的重心G，其位移量相等，仅dt不同。因此，由聚焦驱动电流If产生的向光盘E接近的方向的聚焦驱动力Ff0在可动部的重心G产生对Y轴顺时针方向的力矩。
另一方面，如图25所示，在循迹线圈4，与Z轴平行的一边，由循迹驱动电流It产生朝X轴正方向的循迹方向的驱动力Ft0，而在循迹线圈4，与Y轴平行的一边，由于磁通贯通聚焦方向，产生与循迹驱动力Ft0反向的驱动力Ft1、Ft2。而可动部由于聚焦驱动力Ff0的作用而向朝光盘E接近的方向移动，于是产生驱动力Ft1与Ft2的差，在可动部的重心G产生绕对Y轴指向反时针方向的转矩。
总之，聚焦线圈3产生的绕Y轴的转矩与循迹线圈4产生的绕Y轴的转矩在互相抵消的方向上起作用，因此抑制了光轴倾斜，结果，使物镜1能在聚焦方向与循迹方向上平移。
但是，上述已有的结构中，必须调整得使聚焦线圈3产生的绕Y轴旋转的转矩与循迹线圈4产生的绕Y轴的转矩准确抵消，存在由组装误差产生的相对于磁体位置偏离和透镜支架的位置偏离的允许误差(下称公差(tolerance))不能取得大的问题。
还有，在同一可动部有必要配置聚焦线圈和循迹线圈。在独立构成聚焦方向的驱动用电磁回路、可动部和支持构件以及循迹方向的驱动用磁回路、可动部及支持构件的分离型的物镜驱动装置中，存在用循迹线圈不能消除聚焦驱动力引起的转矩，产生物镜光轴倾斜的问题。
发明内容
本发明的目的在于，提供物镜光轴倾斜小，并且公差可取得大，而且设计自由度大的物镜驱动装置。
本发明为达到上述目的，具有如下特征。
本发明的第1状态，是一种在至少是与信息记录媒体垂直的聚焦方向上驱动将相干光聚光于信息记录媒体上的信息径迹上的物镜用的装置，其特征在于，具备
支持物镜的透镜支架、
缠绕或固定在透镜支架侧面的聚焦线圈、
与聚焦线圈相对配置的多个磁通发生部、以及
至少在聚焦方向可移动地支持透镜支架的弹性支持部，各磁通发生部发生磁通，并且使贯通相向的聚焦线圈的边的磁通的密度分布有两个以上磁通密度最大的点，
其中，各磁通发生部在与相对的所述聚焦线圈的边的平行的方向上彼此间隔设置。
采用上述第1种状态，由于贯通相向的聚焦线圈的1边的磁通的密度分布有两个以上磁通密度最大的点，与只有一个最大点的已有的装置相比，贯通聚焦线圈的1边的磁通的密度分布变得平坦。因此磁路与聚焦线圈之间即使有一些位置误差，聚焦线圈上发生的围绕Y轴的转矩也不会那么大。其结果是，可以得到磁路与聚焦线圈的位置误差允许值，即公差可以大，设计自由度高的物镜驱动装置。又由于用单个聚焦线圈能够抑制绕Y轴的转矩，没有必要用循迹线圈抵消绕Y轴的转矩，聚焦驱动用的致动器和循迹用的致动器即使独立构成，绕Y轴的转矩也不大。
第2种状态是根据第1种状态所述的物镜驱动装置，其特征在于，各磁通发生部发生磁通，使贯通相对的聚焦线圈的边的磁通的密度分布区域比该聚焦线圈的边的长度还宽。
采用上述第2种状态，贯通聚焦线圈的1边的磁通的密度分布变得更平坦，可以更进一步减少围绕Y轴的转矩。
第3种状态是根据第2种状态所述的物镜驱动装置，其特征在于，各磁通发生部相对于相向的聚焦线圈的边，其磁极的方向相同，并且在与相对的聚焦线圈的边平行的方向上分别包含隔开配置的多个永久磁体。
第4种状态是根据第3种状态所述的物镜驱动装置，其特征在于，
各磁通发生部分别包含的多个永久磁体为两个，
相对的聚焦线圈的边的边长Fp和两个永久磁体的安装间距P存在下式(a)的关系，
P＝Fp…………(a)。
第5种状态是根据第3种状态所述的物镜驱动装置，其特征在于，各磁通发生部还分别包含
将聚焦线圈夹在中间，与多个永久磁体相对配置的相向轭，以及
配置得与多个永久磁体的、与聚焦线圈相对的面的反面相贴的背轭；
多个永久磁体、相向轭及背轭一起构成磁路，
其中所述相向轭置于所述永久磁体之间的间隙中。
第6种状态是根据第5种状态所述的物镜驱动装置，其特征在于，
各磁通发生部分别包含的多个永久磁体为两个，
在背轭的中央部，形成在聚焦方向延伸，并且对两个永久磁体进行定位的中央凸部。
采用上述第6种状态，能够容易且稳定地决定成对的永久磁体的位置，提高质量。
第7种状态是根据第5种状态所述的物镜驱动装置，其特征在于，
各磁通发生部分别包含的多个永久磁体为两个，
在背轭的两端，形成在聚焦方向延伸，并且对两个永久磁体进行定位的两个外侧凸部。
采用上述第7种状态，可以缩小成对的两个永久磁体的安装间距，结果，可以使物镜驱动装置小型化。
第8种状态是根据第2种状态所述的物镜驱动装置，其特征在于，各磁体发生部还分别包含
与聚焦线圈相对，并且在与相对的聚焦线圈的边平行的方向上隔开配置的多个分割轭，以及
与各分割轭的与聚焦线圈相对的面的反面相贴地配置的单个永久磁体。
采用上述第8种状态，可以使一个磁通发生部配置的永久磁体单一化，可以减少零部件数目，从而降低价格。
第9种状态是根据第8种状态所述的物镜驱动装置，其特征在于，
各磁通发生部分别包含的多个分割轭为两个；
两个分割轭的宽度Wc和竖立设置的间距Pc存在下式(b)的关系，
Pc-Wc＞0…………(b).
第10种状态是根据第2种状态所述的物镜驱动装置，其特征在于，各磁通发生部分别包含
与聚焦线圈相对，并且具有在与相对的聚焦线圈的边平行的方向上隔开距离形成的多个凸部的中间轭、
与中间轭的背着聚焦线圈的面相贴地配置的单个的永久磁体，以及
将永久磁体夹在它和所述中间轭之间而设立的背轭。
采用上述第10种状态，可以提高磁通的利用率，提高驱动灵敏度，以至于使磁体小型化，实现物镜驱动装置小型化，减少电力消耗。
第11种状态是根据第10种状态所述的物镜驱动装置，其特征在于，
在中间轭形成的多个凸部为两个；
中间轭的2各凸部的宽度Wb和间距Pb具有下式(c)所示的关系，
Pb-Wb＞0…………(c)。
第12种状态是根据第2种状态所述的物镜驱动装置，其特征在于，在与透镜支架的磁通发生部相对的侧面成垂直的侧面上，整体成形形成强磁体片。
采用第12种状态，即使是在各磁通发生部设置单个永久磁体的情况下，也能够使贯通聚焦线圈的1边的磁通的密度分布变得平坦，可以抑制在聚焦线圈发生的绕Y轴的转矩。因此，可以减小应该配置的永久磁体在X轴方向的宽度，从而可以缩小物镜驱动装置在X方向的宽度。其结果是，使光盘转动的电动机的直径可以做得大。
第13种状态是根据第12种状态所述的物镜驱动装置，其特征在于，
强磁体片用具有导电性的构件构成，对聚焦线圈的供电通过该强磁体片进行。
采用上述第13种状态，强磁体片兼用于向聚焦线圈和循迹线圈的供电，因此，不必另设供电用的印刷电路板，可以借助于减少零部件数目，从而降低成本。
第14种状态是根据第13种状态所述的物镜驱动装置，其特征在于，弹性支持部整体形成于强磁体片上。
采用第14种状态，弹性支持部和强磁体片可以用一个构件构成，因此，可以减少零部件数目，从而降低成本。
第15种状态是一种在与信息记录媒体垂直的聚焦方向上以及与信息记录媒体平行并且与信息径迹垂直的循迹方向上，驱动将相干光聚光于信息记录媒体上的信息径迹上的物镜用的装置，其特征在于，具备
支持物镜的透镜支架、
缠绕或固定在透镜支架侧面的聚焦线圈、
缠绕或固定在透镜支架侧面的循迹线圈、
向着与信息径迹平行的方向，与聚焦线圈和循迹线圈相对地配置的两个磁通发生部、以及
在聚焦方向和循迹方向可移动地支持透镜支架的弹性支持部，
各磁通发生部发生磁通，并且使贯通相对的聚焦线圈的边的磁通的密度分布有两个以上的磁通密度最大的点，
其中，各磁通发生部在与相对的所述聚焦线圈的边的平行的方向上彼此间隔设置。
采用上述第15种状态，由于贯通相对的聚焦线圈的1边的磁通的密度分布有两个以上磁通密度最大的点，与只有一个最大点的已有的装置相比，贯通聚焦线圈的1边的磁通的密度分布变得平坦。因此磁路与聚焦线圈之间即使有一些位置误差，聚焦线圈上发生的围绕Y轴的转矩也不会那么大。其结果是，可以得到磁路与聚焦线圈的位置误差允许值，即公差可以大，设计自由度高的物镜驱动装置。
第16种状态是根据第15种状态所述的物镜驱动装置，其特征在于，
各磁通发生部发生磁通，使贯通相对的聚焦线圈的边的磁通的密度分布区域比该聚焦线圈的边长还宽。
采用第16种状态，贯通聚焦线圈的1边的磁体的密度分布变得更加平坦，可以进一步减小绕Y轴的转矩。
第17种状态是根据第16种状态所述的物镜驱动装置，其特征在于，
相对于相向的聚焦线圈的边，各磁通发生部磁极的方向相同，并且分别包含在循迹方向上隔开配置的多个永久磁体。
第18种状态是根据第17种状态所述的物镜驱动装置，其特征在于，
循迹线圈包含，以与循迹方向平行的轴为中心，缠绕或固定在透镜支架的朝循迹方向一侧面上的第1循迹线圈，和以与循迹方向平行的轴为中心，缠绕或固定在透镜支架的朝循迹方向的另一侧面的第2循迹线圈；
各磁通发生部分别包含的所述多个永久磁体为两个；
第1及第2循迹线圈在循迹方向上的安装间距Tp及各线圈宽度Tw、所述透镜支架在循迹方向的可移动范围Td，和两个永久磁体在循迹方向的安装间距P及各磁体的宽度W具有下式(d)和/或(e)所示的关系，
Tp+Tw+Td≤P+W…………(d)
Tp-Tw-Td≥P-W…………(e)。
采用上述第18种状态，即使在透镜支架只在循迹方向移动可动范围Td的情况下，循迹线圈的一侧也不会进入永久磁体的外侧和/或内侧。即只要满足上述(d)和/或(e)的关系，在循迹方向的可动范围Td内循迹线圈产生的驱动力不会急剧减少。从而，即使在用共同的磁路构成聚焦驱动和循迹驱动的情况下，也可以增大循迹驱动灵敏度，同时降低消耗电力。
第19种状态是根据第17种状态所述的物镜驱动装置，其特征在于，
各磁体发生部分别包含的多个永久磁体，即第1和第2永久磁体，
循迹线圈包含，缠绕或固定在透镜支架的与信息径迹平行的方向上的侧面上的第1循迹线圈，和缠绕或固定在透镜支架的与信息径迹平行的方向上的另一侧面的第2循迹线圈，
各循迹线圈包含以与信息径迹平行的方向的轴为中心，缠绕成螺旋形，并且相互连接的第1线圈和第2线圈，
第1线圈和第2线圈分别与第1和第2永久磁体相对配置成左右对称，
第1和第2线圈的缠绕方向具有与聚焦方向平行的成份的边当中，相向的边之间的安装间距Tp和线圈宽度Tw、透镜支架在循迹方向上的可移动范围Td，以及第1和第2永久磁体在循迹方向的安装间距P和它们的宽度W满足如下的关系式(f)和/或(g)，
Tp+Tw+Td≤P+W…………(f)
Tp-Tw-Td≥P-W…………(g)
采用上述第19种状态，循迹线圈的线圈芯可以自由设定，因此，循迹线圈的不需要的缠绕部分的长度可以缩短，使电阻减小。
第20种状态是根据第19种状态所述的物镜驱动装置，其特征在于，
第1和第2循迹线圈分别预先形成于印刷电路板上，该印刷电路板被固定于透镜支架的侧面。
采用上述第20种状态，将第1和第2循迹线圈分别预先形成于印刷电路板上，而後固定于透镜支架的侧面，因此与直接在透镜支架的侧面缠绕循迹线圈的情况相比，可以使循迹线圈的成形工艺简化，减低制造成本，并缩短组装时间。
第21种状态是根据第17种状态所述的物镜驱动装置，其特征在于，各磁通发生部还分别包含
将聚焦线圈夹在中间，与多个永久磁体相对配置的相向轭，以及
配置得与多个永久磁体的、与聚焦线圈相对的面的反面相贴的背轭；
多个永久磁体、相向轭及背轭一起构成磁路，
其中所述相向轭置于所述永久磁体之间的间隙中。
第22种状态是根据第21种状态所述的物镜驱动装置，其特征在于，各磁通发生部还包含
由强磁体构成的，架在相向轭和背轭的接近信息记录媒体的一侧的端面上、与信息记录媒体平行配置的盖轭。
采用上述第22种状态，由于设置架在相向轭和背轭的各上端面的盖轭，相对于永久磁体，Z轴方向的磁阻成对称，在循迹线圈的与Y轴平行的2边，通过均匀的磁通。其结果是，可以减小循迹线圈产生的绕Y轴的转矩。
第23种状态是根据第22种状态所述的物镜驱动装置，其特征在于，循迹线圈包含
以与循迹方向平行的轴为中心，在透镜支架的循迹方向上的一侧缠绕或固定的第1循迹线圈和以与循迹方向平行的轴为中心，在透镜支架的循迹方向上的另一侧缠绕或固定的第2循迹线圈；
第1和第2循迹线圈在循迹方向的安装间距Tp及它们的缠绕宽度Tw、透镜支架在循迹方向上的可移动范围Td，以及盖轭在循迹方向的宽度Wy具有下式(h)所示的关系，
Wy≥Tp+Tw+Td…………(h)。
采用上述第23种状态，，由于满足上式(h)的关系，在可循迹移动范围Td中，可以使循迹线圈产生的、绕Y轴的转矩大致为0。
第24种状态是根据第17种状态所述的物镜驱动装置，其特征在于，
各磁通发生部分别包含的多个永久磁体为两个；
在背轭的中央部形成向聚焦方向延伸，用于2个永久磁体的定位的中央凸部。
采用上述第24种状态，成对的永久磁体的定位容易进行而且稳定，可以提高质量。
第25种状态是根据第17种状态所述的物镜驱动装置，其特征在于，各磁通发生部分别包含的多个永久磁体为两个，
在背轭的循迹方向两端部，形成用于为两个永久磁体定位的、在聚焦方向上延伸的外侧凸部。
采用上述第25种状态，成对的两个永久磁体的安装间距可以取得小，其结果是，可以使驱动装置小型化。
第26种状态是根据第16种状态所述的物镜驱动装置，其特征在于，各磁通发生部还分别包含
向着与信息径迹平行的方向、与聚焦线圈相对，并且在循迹方向隔开间距配置的多个分割轭，以及
抵住各分割轭的背着聚焦线圈的面配置的单个永久磁体。
采用上述第26种状态，配置在一个磁通发生部的磁体可以取单个，可以减少零部件数目、从而减低价格。
第27种状态是根据第26种状态所述的物镜驱动装置，其特征在于，各磁通发生部还分别包含的多个分割的轭为两个；
两个分割的轭在循迹方向的宽度Wc和设置间距Pc具有下式(i)所示的关系。
Pc-Wc＞0…………(i)。
第28种状态是根据第27种状态所述的物镜驱动装置，其特征在于，
循迹线圈在循迹方向上的安装间距Tp和绕组宽度Tw、透镜支架在循迹方向上的可移动范围Td、分割轭在循迹方向的宽度Wc及设置间距Pc满足如下的关系式(j)和/或(k)，
Tp+Tw+Td≤Pc+Wc…………(j)
Tp-Tw-Td≥Pc-Wc…………(k)
采用上述第28种状态，即使在透镜支架只在循迹方向移动可移动范围Td的情况下，循迹线圈的一侧也不会进入分割轭的外侧和/或内侧。即只要满足上述(j)和/或(k)的关系，在循迹方向的可移动范围Td内循迹线圈产生的驱动力不会急剧减少。从而，即使在用共同的磁路构成聚焦驱动和循迹驱动的情况下，也可以增大循迹驱动灵敏度，同时降低消耗电力。
第29种状态是根据第16种状态所述的物镜驱动装置，其特征在于，各磁通发生部还分别包含
向着与信息径迹平行的方向、与聚焦线圈相对，并且具有在循迹方向隔开间距形成的多个凸部的中间轭、
抵住中间轭的背着聚焦线圈的面配置的单个永久磁体、以及
向着与信息径迹平行的方向，设置得将永久磁体夹在它和中间轭之间的背轭。
采用上述第29种状态，有可能提高磁通的利用效率，提高驱动灵敏度，以至于使磁体小型化，可以实现物镜驱动装置的小型化和降低电力消耗。
第30种状态是根据第29种状态所述的物镜驱动装置，其特征在于，
在中间轭形成的多个凸部为两个；
中间轭的两个凸部在循迹方向上的宽度Wb和间距Pb具有下式(m)所示的关系。
Pb-Wb＞0…………(m)
第31种状态是根据第30种状态所述的物镜驱动装置，其特征在于，
循迹线圈在循迹方向上的安装间距Tp和绕组宽度Tw、透镜支架在循迹方向上的可移动范围Td、中间轭的两个凸部在循迹方向的宽度Wb及间距Pb具有下式(n)和/或(o)所示的关系。
Tp+Tw+Td≤Pb+Wb…………(n)
Tp-Tw-Td≥Pb-Wb…………(o)
采用上述第31种状态，即使在透镜支架只在循迹方向移动可动范围Td的情况下，循迹线圈的一侧也不会进入中间轭凸部的外侧和/或内侧。即只要满足上述(n)和/或(o)的关系，在循迹方向的可动范围Td内循迹线圈产生的驱动力不会急剧减少。从而，即使在用共同的磁路构成聚焦驱动和循迹驱动的情况下，也可以增大循迹驱动灵敏度，同时降低消耗电力。
第32种状态是根据第16种状态所述的物镜驱动装置，其特征在于，
在透镜支架的循迹方向一侧的面上成一体地形成强磁体片。
采用上述第32种状态，即使是在各磁通发生部设置单个永久磁体的情况下，也能够使贯通聚焦线圈的1边的磁通的密度分布变得平坦，可以抑制在聚焦线圈发生的绕Y轴的转矩。因此，可以减小应该配置的永久磁体在X轴方向的宽度，从而可以缩小物镜驱动装置在X方向的宽度。其结果是，使光盘转动的电动机的直径可以做得大。
第33种状态是根据第32种状态所述的物镜驱动装置，
其强磁体片用具有导电性的构件构成，通过该强磁体片对聚焦线圈和循迹线圈供电。
采用第33种状态，该强磁体片兼用于对聚焦线圈和循迹线圈供电，因此，不必另设供电用的印刷电路板，可以减少零部件数目，从而降低成本。
第34种状态是根据第33种状态所述的物镜驱动装置，其特征在于，
弹性支持部在强磁性体片上成一整体形成。
采用第34种状态，弹性支持部和强磁性体片以一个构件构成，因此可以减少零部件数目，从而降低成本。
附图说明
图1是表示本发明第1实施形态的物镜驱动装置的构成的立体图。
图2是第1实施形态的物镜驱动装置的电磁回路要部的顶视图。
图3是第1实施形态的物镜驱动装置中X轴方向的位置误差发生的情况下的电磁回路要部的顶视图。
图4表示第1实施形态的物镜驱动装置的电磁回路的模拟结果。
图5是表示本发明第2实施形态的物镜驱动装置的构成的立体图。
图6是第2实施形态的物镜驱动装置的要部的顶视图。
图7表示第2实施形态的物镜驱动装置的电磁回路的模拟结果。
图8是表示本发明第3实施形态的物镜驱动装置的立体图。
图9是第3实施形态的物镜驱动装置的电磁回路要部的侧视图。
图10是表示本发明第4实施形态的物镜驱动装置的构成的立体图。
图11是第4实施形态的物镜驱动装置的要部的顶视图。
图12是第4实施形态的物镜驱动装置的要部的侧视图。
图13是表示本发明第5实施形态的物镜驱动装置的构成的立体图。
图14是表示本发明第6实施形态的物镜驱动装置的构成的立体图。
图15是表示本发明第7实施形态的物镜驱动装置的构成的立体图。
图16是第7实施形态的物镜驱动装置的电磁回路要部的顶视图。
图17是表示本发明第8实施形态的物镜驱动装置的构成的立体图。
图18是第8实施形态的物镜驱动装置的电磁回路要部的顶视图。
图19是表示本发明第9实施形态的物镜驱动装置的构成的立体图。
图20是第9实施形态的物镜驱动装置的要部的顶视图。
图21是表示本发明第10实施形态的物镜驱动装置的构成的立体图。
图22是光盘装置所装的光拾波器的概略结构图。
图23是表示已有的物镜驱动装置的构成的立体图。
图24是表示已有的物镜驱动装置中使物镜在聚焦方向(Z轴方向)和循迹方向(X轴方向)上移动时的情况的要部剖面图。
图25是表示已有的物镜驱动装置中使物镜在聚焦方向和循迹方向上移动时的情况的要部侧面图。
图26是已有的物镜驱动装置中发生X轴方向的位置误差的情况下的电磁回路的要部的顶视图。
具体实施方式
第1实施形态
图1是本发明第一实施形态的物镜驱动装置的结构的立体图。图2是同一物镜驱动装置的电磁回路要部的顶视图。图3是在同一物镜驱动装置中，X轴方向的位置误差出现的情况下的电磁回路的要部的顶视图。图4表示同一物镜驱动装置的电磁回路的模拟结果。
在图1～图3中，在与图23～图26所示的已有例有相同功能的构件上，标以相同的记号，省略其详细说明。
在图1～图3，物镜1用粘着等方法固定在液晶聚合体、PPS等的树脂成形品构成的透镜支架2上。用具有弹性的金属板(例如磷青铜板材)做成的弹性支持构件7的一端，被钎焊固定于印刷电路板10上，支持透镜支架2，并使其能够在作为聚焦方向的Z方向上移动。背轭6a及相向轭6b与永久磁体105一起，形成磁路。聚焦线圈3以Z轴为中心绕在透镜支架2的侧面。支持构件固定部8固定住支持构件固定基板9。弹性支持构件7的另一端被钎焊固定在支持构件固定基板9上。
这里，永久磁体105在聚焦线圈3对着与X轴平行的两个面分别配置2个。成对的两块磁体(即与聚焦线圈3的同一侧面相对的两个永久磁体105在X方向上留着间隙配置，而且相对于聚焦线圈3，磁极的方向是相同的。从而，如图2所示，贯穿聚焦线圈3的磁通密度分布上存在着两个磁通密度最大的点。
与背轭6a及相向轭6b成一整体地形成磁轭的磁轭基座6，在固定支持构件固定部8的同时，被固定于横动基板12。循迹线圈4以X轴为中心缠绕，被固定于横动基板12。横动用永久磁体13被固定于横动用背轭14a上，与横动用相向轭14b一起形成磁路。导向轴15被插入设在横动基板12的侧面上的在X方向上贯通的孔中，为横动基板12在X轴方向移动导向。向上反射镜11使存在于X轴方向前方的图22所示半导体激光111射出的X轴方向的光束(未图示)向Z轴方向弯曲，射入物镜1。
下面对为了修正由于光盘E的翘曲造成的上下运动产生的聚焦偏差和偏心等产生的循迹偏差，在聚焦方向(Z轴方向)和循迹方向(X轴方向)的两条轴上驱动物镜1的动作加以叙述。
聚焦方向的驱动力由将聚焦线圈3配置于安装在磁轭基座6的永久磁体105、背轭6a及相向轭6b构成的磁路的空隙中的电磁驱动回路产生。由于所产生的聚焦方向上的驱动力通过弹性支持构件7使透镜支架2向聚焦方向作平移运动。
循迹方向的驱动力由将循迹线圈4配置于横动用永久磁体13、横动用背轭14a及横用相向轭14b构成的磁路的空隙中的电磁驱动电路发生。所发生的循迹方向的驱动力使横动基板12沿着导向轴15平移运动。
下面参照图2及图3对第1实施形态的绕Y轴的转矩的抑制机构加以说明。
图2是物镜1、透镜支架2、聚焦线圈3及印刷电路板10构成的可移动部的重心G与磁路的中心一致的情况下的电磁回路要部的顶视图。在聚焦线圈3通以聚焦驱动电流If，立即在聚焦线圈3中与X轴平行的面上，产生向光盘E接近的方向上的驱动力Ff0。在该情况下，聚焦线圈3相对于磁回路成Y轴对称，因此，在聚焦线圈3，在与X轴平行的面上，在驱动力Ef0的发生中心与可移动部的重心G之间不存在X轴方向上的偏离，不发生绕Y轴的转矩。
下面考虑聚焦线圈的有效宽度Fp与永久磁体105的安装间距P的关系，对可动部的重心G与磁路的中心轴只偏离dx的情况下的绕Y轴的转矩加以说明。
首先，如图3a所示，一对永久磁体105的相同磁极与聚焦线圈3中沿X轴方向沿伸的一边相向地加以配置，因而，磁通密度分布的最大点有两点，与图26所示的已有例相比，贯穿与聚焦线圈3的X轴平行的边的磁通密度分布更加平坦，并且在更阔的范围分布。从而，在聚焦线圈3发生驱动力Ff0的发生中心，取决于聚焦线圈3在X轴方向上的位置，其结果是，在X轴上可移动部的重心G与聚焦线圈3的驱动中心Ff0之间位置的偏离变小。因此，以可移动部的重心G为中心绕Y轴发生的转矩变小。
于是，如图3所示，在永久磁体105的安装间距P与X轴方向的宽度W相加得到的宽度比与永久磁体105相对的边在X轴方向上的长度Fp还大的情况下，也就是贯穿聚焦线圈3的X轴方向上的边的磁通密度分布在X轴方向上的分布宽度比聚焦线圈3在X轴方向上的边长还宽的情况下，在聚焦线圈3原与X轴平行的边上，与X轴的正的一侧的永久磁体105相对的面积增加，聚焦方向上的驱动力Ff0的发生中心移动在与可移动部的重心G移动的相同方向上。从而，以可移动部为中心发生的绕Y轴的转矩变得更小。
绕Y轴的转矩的大小由聚焦驱动力的发生中心Fc与可移动部的重心G之间在X轴方向上的偏离量d和在聚焦线圈3产生的驱动力的乘积决定。图4表示这一关系的模拟结果，表示取永久磁体105的宽度W为2.5毫米，聚焦线圈3在X轴方向的宽度Fp为7.2毫米，在磁路的中心与可移动部的重心G在X轴方向上的安装位置误差dx有0.5毫米的情况下，永久磁体105的安装间距P，与在聚焦线圈3发生的总聚焦驱动力的发生中心Fc与可移动部的重心G在X轴方向上的偏离量d的关系。
在图4中，在永久磁体105的安装间距P为2.5毫米(曲线数据的左端)的情况下，成一对的两个永久磁体105之间不存在间距，也就是说，与已有的例子等效。在该情况下，聚焦驱动力的发生中心Fc与可移动部的重心G在X轴方向上的位置偏离量d为0.5毫米，与可移动部在X轴方向上的安装位置误差dx大致相等。另一方面，成一对的两个永久磁体105之间存在间距的结构，与不存在间距的结构相比，聚焦驱动力的发生中心Fc与可移动部的重心G之间在X轴方向的位置偏离量d明显减小。而在永久磁体105的安装间距P与聚焦线圈3的有效宽度Fp相等(即P＝Fp)的情况下，聚焦驱动力的发生中心Fc与可移动部的重心G的偏离量d为零。而如果永久磁体105的安装间距P比聚焦线圈3的有效宽度Fp大，则聚焦驱动力的发生中心Fc与可移动部的重心G在X方向上的位置偏离量d在负方向上变大，但是其绝对值比间距P为2.5毫米时要小。
如上所述，第1实施形态的物镜驱动装置把在X轴方向上隔开间距的一对永久磁体105配置得与聚焦线圈3的平行于X轴方向的边相对，因此，能够用单个聚焦线圈3抑制在聚焦线圈3上发生的绕Y轴的转矩。其结果是，磁路与聚焦线圈3的位置误差允许值、即公差可以较大。
第2实施形态
图5是本发明第2实施形态的物镜驱动装置的结构的立体图。图6是该物镜驱动装置关键部分的顶视图。图7表示本发明物镜驱动装置中电磁回路的模拟结果。而且，在图5与图6，具有与图23～图26所示的已有例相同功能的构件标以相同符号，其说明省略。
参看图5与图6，物镜1用粘接等方法固定于液晶聚合物、PPS等树脂成型的透镜支架2。用具有弹性的金属板(例如磷青铜板)做成的弹性支持构件7的一端用钎焊固定于印刷电路板10，将透镜支架2可移动地支持于聚焦方向(Z轴方向)与循迹方向(X轴方向)上。背轭6a及相向轭6b一起形成磁轭，与永久磁体105一起形成磁路。聚焦线圈3以Z轴为中心绕在透镜支架2的侧面。循迹线圈4以X轴为中心绕在透镜支架2的侧面。支持构件固定部8将支持构件固定基板9加以固定。支持构件固定基板9上用钎焊固定着弹性支持构件7的另一端。
这里，永久磁体105，与第1实施形态的情况相同，与聚焦线圈3的、与X轴方向平行的两个侧面相对地配置，对着各侧面分别配置一对。与聚焦线圈3的同一侧面相对的两个永久磁体(即构成一对的两个磁体)105在X轴方向上隔开间距配置，而对着聚焦线圈3的磁极的方向是相同的，从而，如图6所示，在贯穿聚焦线圈3的磁通密度的分布上存在着两个磁通密度最大的点。
而且，在第2实施形态，各构件的配置使得循迹线圈4大X轴方向上的安装间距Tp及其绕组宽度Tw、循迹的可移动范围Td、永磁磁体105在X轴方向上的宽度W及其安装间距P的关系满足下式(1)。
Tp+Tw+Td≤P+W ……(1)
与背轭6a和相向轭6b一起形成磁轭的磁轭基座6，在固定支持构件固定部8的同时，被固定在支持图22所示的半导体激光器111、光束分离器222及光检测器666的光学基台(未图示)上。
下面对为了修正由于光盘E的翘曲引起的上下运动产生的聚焦偏差，和偏心等原因产生的循迹偏差而在聚焦方向和循迹方向的两条轴上驱动物镜1的动作加以说明。
向聚焦方向的驱动力由将聚焦线圈3配置于安装在由磁轭基座6的永久磁体105、背轭6a及相向轭6b构成的磁路的空隙中的电磁驱动电路产生。由于所产生的指向聚焦方向的驱动力的作用，通过弹性支持构件7使透镜支架2向聚焦方向平动。
指向循迹方向的驱动力由将循迹线圈4配置于由安装在磁轭基座6的永久磁体105、背轭6a及相向轭6b构成的磁路的空隙中的电磁驱动回路产生。由所产生的指向循迹方向的驱动力的作用，通过弹性支持构件7使透镜支架2向循迹方向平动。
这里，在循迹线圈4中作为主要驱动力发生源的、与Z轴方向平行的部分，由于接近永久磁体105，其发生的驱动力受到与永久磁体105的位置关系的影响。在图6中，如果循迹线圈4比永久磁体105更向X轴方向偏出，则在循迹线圈4发生的驱动力将变得很差。即一旦在循迹的可移动范围Td内循迹线圈4比永久磁体105更向X轴方向偏出，则在循迹线圈4发生的驱动力变得极差，不能保证其线性。
如上所述，第2实施形态的物镜驱动装置中，按照永久磁体105的安装间距P与永久磁体105在X轴方向的宽度W的和，比循迹线圈4在X轴方向的安装间距Tp与该绕组的宽度Tw及跟踪的可移动范围Td的和大，也就是使上述式(1)的关系成立的要求配置各构件。因此，和透镜支架2移动循迹的可移动范围Td，循迹线圈4的一侧也没有偏到永久磁体105的外侧。
又，在永久磁体105的安装间距P5永久磁体105在X轴方向上的宽度W的差，比循迹线圈4在X轴方向上的安装间距Tp减去其绕组宽度Tw和循迹的可移动范围Td的值还小的情况下，也就是下式(2)的关系成立的情况下，透镜支架2只移动循迹的可移动范围Td的情况下，循迹线圈4的一侧不会偏出永久磁体105的内侧。
Tp-Tw-Td≥P-W ……(2)
如上所述，如果满足式(1)及/或(2)的关系，在循迹的可移动范围Td内，循迹线圈4发生的驱动力不会急剧减小。
图7表示在永久磁体105在X轴方向的宽度W＝2.5毫米、循迹线圈4在X轴方向的安装间距Tp＝6.0毫米、循迹线圈4在X轴方向的绕组宽度Tw＝0.5毫米、循迹的可移动范围Td＝0.5毫米的条件下模拟上述关系的结果。如图7所示，在永久磁体105的安装间距P大于5.5毫米而小于7.5毫米时，循迹驱动力大致不变，而在这范围之外，则会变得极差。
还有，第2实施形态的抑制聚焦线圈3的绕Y轴的转矩的机制与上述第一实施形态相同，因此这里省略其说明。
如上所述，第2实施形态的物镜驱动装置在支持物镜1的透镜支架2的侧面缠绕聚焦线圈3及循迹线圈4，把聚焦线圈3的与X轴方向平行的两面相对、并且在X方向隔开间距的永久磁体105对着各面逐对配置，循迹线圈4在X轴方向的安装间距Tp及其绕组宽度Tw、循迹的可移动范围Td、永久磁体105的X轴方向上的宽度W，以及永久磁体的安装间距P以满足上述式(1)及/或式(2)的关系构成，这样，除了有第1实施形态的效果外，即使是用共同的磁路构成聚焦驱动和循迹驱动的情况下还能够提高循迹驱动灵敏度，同时降低电力消耗。
第3实施形态
图8是本发明第3实施形态的物镜驱动装置的立体图。图9是同一物镜驱动装置的电磁回路要部的侧视图。在图8和图9中，与图5及图6所示的第2实施形态具有相同功能的构件上标以相同的记号，省略其说明。
在图5及图6所示的第2实施形态中，循迹线圈4以X轴为中心缠绕在透镜支架2的侧面上。与此相对，在图8及图9所示的第3实施形态中，循迹线圈104以Y轴为中心缠绕。又，循迹线圈104在透镜支架2的沿X轴方向延伸的两个侧面上分别设一组。各组循迹线圈104分别具有不同线圈芯的两个绕组，各绕组以在X轴方向上隔开间距配置的一对永久磁体105的对称轴为中心，配置于左右对称的位置上。第3实施形态的其他结构与图5及图6所示的第2实施形态相同。
这里，在循迹线圈104的、缠绕方向具有与聚焦方向(Z轴方向)平行的成分的边当中，相向的边之间的安装间距Tp及绕组宽度Tw、循迹的可移动范围Td、永久磁体105在X轴方向上的宽度W，和安装间距P的关系有下式(3)及/或(4)所示的关系。
Tp+Tw+Td≤P+W ……(3)
Tp-Tw-Td≥P-W ……(4)
此外，对第3实施形态的动作及聚焦线圈3的绕Y轴的转矩的抑制机制、由于与第1及第2实施形态相同，故省略其说明。
第3实施形态具有如上所述的构成，因此，不仅能够得到与第1及第2实施形态相同的效果，而且循迹线圈104可以自由设定线圈芯，因此，循迹线圈104的不需要的缠绕部分的长度可以缩短，可以减小电阻。
还有，在第3实施形态中，用绕线线圈构成循迹线圈104，但是在印刷电路板乃至于可挠性基板上设置印刷电路图案式的循迹线圈104当然也能得到同样的效果。
第4实施形态
图10是表示本发明第4实施形态的物镜驱动装置的结构的立体图。图11是该物镜驱动装置要部的顶视图。图12是该物镜驱动装置要部的侧视图。在图10～图12中，与图5及图6所示的第2实施形态具有相同功能的构件标以相同的记号，省略其说明。
图10～图12所示的第4实施形态与图5及图6所示的第2实施形态的不同点在于，与永久磁体105一起形成磁路的背轭6a及相向磁轭6b的各上端部(接近光盘E的一侧的端部)设置沿着Y轴方向(与光盘E平行的方向)延伸，并且由铁等强磁体构成的盖轭20。
这里，循迹线圈4在X轴方向上的安装间距Tp及其绕组宽度Tw、循迹的可移动范围Td和盖轭20在X方向上的宽度Wy满足下述(5)的关系。
Wy≥Tp+Tw+Td ……(5)
下面对第4实施形态中由循迹线圈4引起的绕Y轴的转矩的抑制机构加以说明。
在图12中，一旦驱动电流It流入循迹线圈4，循迹线圈4当中，在与Z轴平行的两边上产生朝X轴正方向的Ft0，而在与Y轴平行的两边，磁通指向聚焦方向(Z轴方向)，因此，产生指向X轴的负方向的驱动力Ft1，Ft2。这里，一旦驱动力Ft1和Ft2存在差异，即发生绕Y轴的转矩。
在第4实施形态中，由于设置盖轭20，Z轴方向的磁阻相对于永久磁体105成对称，在循迹线圈4的与Y轴平行的两边上穿过等量的磁通。也就是说，驱动力Ft1与Ft2的大小相等，不发生绕Y轴的转矩。而由于满足上述式(5)，在循迹的可移动范围Td内驱动力Ft1与Ft2相等，可以使循迹线圈4产生的绕Y轴的转矩减小。
第4实施形态的其他动作及聚焦线圈3引起的绕Y轴的转矩的抑制机制与第1实施形态相同，因此，这里省略其说明。
第4实施例的物镜驱动装置，由于具有上述结构，除了具有第1及第2实施形态的效果外，还能够减小由循迹线圈4产生的绕Y轴的转矩，可以使光轴的倾斜更小。
第5实施形态
图13是表示本发明第5实施形态的物镜驱动装置的结构的立体图。与图10～图12所示的第4实施形态有相同功能的构件标以相同的记号，省略其说明。
图13所示的第5实施形态与图10～图12所示的图4实施形态的不同点在于，设置具有中央凸部106的背轭6a′代替平板状背轭。也就是说，在背轭6a′，与永久磁体105相接触的面的大约中央的地方形成在Z轴方向上延伸的中央凸部106。
下面对把永久磁体105安装在背轭6a′上的方法加以说明。使成一对的两个永久磁体105的背面顶住背轭6a′的平面部分(中央凸部106以外的部分)，使该两个永久磁体105的内侧面分别顶住中央凸部106的侧面，以决定永久磁体105在X轴方向上的位置。因此，成一对的永久磁体105的磁性吸引力在背轭6a′的平面部分和中央凸部106之间起作用，其位置稳定。
关于第5实施形态的其他动作及绕Y轴的转矩的抑制机制，由于与第4实施形态相同，这里省略其说明。
第5实施形态由于具有上面所述的结构，除了具有第4实施形态的效果外，成一对的永久磁体105的定位容易且位置稳定，质量提高。
第6实施形态
图14是表示本发明第6实施形态的物镜驱动装置的结构立体图。在图14中，具有与图10～图12所示的第4实施形态相同功能的构件标以相同的记号，省略其详细说明。
图14所示的第6实施形态与图10～图12所示的第4实施形态的不同点在于，设置具有外侧凸部206的背轭6a″代替平板状的背轭6a。也就是说，在背轭6a″，与永久磁体105相接触的面的外侧两端部形成在Z轴方向上延伸的外侧凸部206。
下面对将永久磁体105安装到背轭6a″上的安装方法加以说明。使成对的两个永久磁体105的背面抵住背轭6a″的平面部分(外侧凸部206以外的部分)，使该两个永久磁体105的外侧面分别抵住外侧凸部206的侧面，以决定永匀磁体105在X轴方向上的位置。这里，在成对的两个永久磁体105的内侧面之间作用着排斥力。因此，如果成对的两个永久磁体105的安装间距取得小，该两个永久磁体105趋向于互相分离。从而，在第4实施例，成对的两个永久磁体105的安装间隔有必要取得大。但是，在第6实施形态中，由于在背轭6a″设置着外侧凸部206，即使成对的两个永久磁体105之间产生排斥力，永久磁体105的移动受到外侧凸部206的侧面的限制，不能超越外侧凸部的侧面更向外侧移动。也就是说，永久磁体105自我调整地得以定位，X轴方向的位置不发生偏差。因此，在第6实施例，成对的两个磁体105的安装间距可以取得小。
还有，关于第6实施形态的其他动作及绕Y轴转矩的抑制机制，由于与第4实施例相同，这里省略其说明。
第6实施形态由于具有如上所述的结构，除了具有第4及第5实施形态的效果，成对的两个永久磁体105的安装间距可以取得小，其结果是，可以使物镜驱动装置小型化。
第7实施形态。
图15是表示本发明第7实施形态的物镜驱动装置的结构的立体图。图16是该物镜驱动装置的电磁回路要部的顶视图。在图15及图16中，与图5及图6所示的第2实施形态具有相同功能的构件标以相同记号，省略其说明。
参照图15及图16，在第7实施形态，设置分割轭6c取代图5及图6所示的第2实施形态的背轭6a及相向轭6b，设置永久磁体205取代永久磁体105。
分割轭6c，与聚焦线圈3的与X轴方向平行的两个侧面相对地、对各侧面分别配置两个。成对的两个分割轭(向着聚焦线圈3的同一面的两个分割轭(6c在X轴方向上隔开间距配置。在分割轭6c的里面(对着聚焦线圈3的面的反面)固定着永久磁体205。
这里，在第7实施形态中，分割轭6c在X轴方向上的宽度Wc及其所设间距Pc的具有下述(6)的关系。
Pc-Wc＞0 ……(6)
又，在第7实施形态，循迹线圈4在X轴方向上的安装间距Tp及其绕组宽度Tw、循迹的可移动范围Td、分割轭6c在X轴方向上的宽度Wc及其设置的间距Pc之间的关系满足下式(7)及/或(8)。
Tp+Tw+Td≤Pc+Wc ……(7)
Tp-Tw-Td≥Pc-Wc ……(8)
下面参照图16对第7实施形态的磁路中的磁力线加以说明。永久磁体205的磁极的方向指向Y轴方向。在没有设置分割轭6c的情况下，像已有的物镜驱动装置那样，磁通密度分布为中央附近高(参照图26)。与此相反，在第7实施形态，磁通被分割轭6c所分散，一部分通过分割轭6c，回到永久磁体205，其余部分向着聚焦线圈3和循迹线圈4形成均匀的磁通密度分布。
第7实施形态的其他动作及绕Y轴的转距的抑制机制与第2实施形态相同，因此，这里省略其说明。
第7实施形态具有如上所述的结构，因此，除了有第2实施形态的效果外，另一方面，还可以只配置单个永久磁体205，零部件数目可以减少，从而可以降低价格。
第8实施形态
图17是表示本发明第8实施形态的物镜驱动装置的结构的立体图。图18是该物镜驱动装置的电磁回路要部的顶视图。在图17及图18中，与图10～图12所示的第4实施形态具有相同功能的构件标以相同的记号，省略其详细说明。
参照图17及图18，在第8实施形态中，设置永久磁体305代替图10～图12所示的永久磁体105，并且新增加中间轭306。
中间轭306，在其X轴方向的两端具有一对凸部，在Y轴方向上与聚焦线圈3及循迹线圈4相向。在中间轭306的背面(与聚焦线圈3相对的面的反面)固定着永久磁体305。背轭6a设置为在Y轴方向上把永久磁体305夹在它和中间轭306之间。
这里，在第8实施形态中，中间轭305的凸部在X轴方向上的宽度Wb及间距Pb的关系满足下面的关系式(9)。
Pb-Wb＞0 ……(9)
又，在第8实施形态中，循迹线圈4在X轴方向上的安装间距Tp及其绕组宽度Tw、循迹的可移动范围Td、中间轭306的凸部在X轴方向的宽度Wb及间距Pb之间的关系满足下式(10)及(11)。
Tp+Tw+Td≤Pb+Wb ……(10)
Tb-Tw-Td≥Pb-Wb ……(11)
下面参照图18对第8实施形态的磁力线加以说明。永久磁体305的磁极向着Y轴方向，磁通流向中间轭306。中间轭的全部磁通向着聚焦线圈3以及循迹线圈4流动，间隙中的磁通密度分布大致均匀。然后，该磁通流向相向轭6b，流经磁轭基座6(成盖轭20)、背轭6a，回到永久磁体305。
关于第8实施形态的其他动作及绕Y轴的转矩的抑制机制，由于与第4实施形态相同，这里省略其说明。
第8实施形态由于具有如上所述的结构，除了有第4实施例的效果外，还有可能提高磁通的利用效率、提高驱动灵敏度，甚至使磁体小型化，可以实现物镜驱动装置的小型化和降低耗电量。
第9实施形态
图19是表示本发明第9实施形态的物镜驱动装置的结构的立体图。图20是该物镜驱动装置的要部的顶视图。而且，在图19及图20中，与图10及图11所示的第4实施形态具有相同功能的构件上标以相同的标号，省略其说明。
图9的实施形态与图10及图11所示的第4实施形态的不同点在于，使单个永久磁体405对着聚焦线圈3的与X轴方向平行的两个面分别配置，以及对着聚焦线圈3的与Y轴平行的两个面各设置2个板状的强磁性体片30。
弹性支持构件7可在聚焦方向(Z轴方向)与循迹方向(X轴方向)移动地支持透镜支架2，同时，能向聚焦线圈3及循迹线圈4通电。磁轭基座6、背轭6a，相向轭6b及盖轭20均为磁轭，与固定在背轭6a上的永久磁体405一起形成磁路。
对于为修正光盘E的翘曲引起的上下运动产生的聚焦偏差和偏心等产生的循迹偏差而采取的、在聚焦方向和循迹方向的两条轴上驱动物镜1的动作，由于与图23～图26所示的已有例相同，故省略其说明。
下面参照图20对在第9实施形态中聚焦线圈3的绕Y轴的转矩的抑制机制加以说明。聚焦线圈3的与X轴平行的边上由于Y轴方向的磁通贯穿过、与聚焦驱动电流If发生的电磁相互作用，产生向光盘E接近的驱动力Ef0。另一方面，在聚焦线圈3的与Y轴平行的两边上，贯穿聚焦线圈3的与X轴平行的边的磁通通向Z轴方向，集中于强磁体片30。而由于与聚焦驱动电流If的电磁相互作用，聚焦线圈3的与Y轴平行的两边中，在X轴负侧的边上产生驱动力Ff1，在X轴的正侧的边上产生驱动力Ff2，这些驱动力的方向都是从光盘E离开的方向。
在聚焦线圈3的中心与磁路的中心一致的情况下，驱动力Ff0的发生中心，与物镜1、物镜支架2、聚焦线圈3、循迹线圈4、印刷电路板10以及强磁体片30构成的可移动部的重心G一致。在这种情况下，在聚焦线圈3的与X轴平行的边上不会发生绕Y轴的转矩。而在聚焦线圈3的与Y轴平行的两边上，由于磁通均匀通过，驱动力Ff1、Ff2相等。也就是说，聚焦线圈3的与Y轴平行的两边当中，X轴负侧的边和X轴正侧的边上，使绕Y轴的转矩互相抵消。从而，在整个聚焦线圈3也不发生绕Y轴的转矩。
下面对磁路的中心与聚焦线圈的中心不同的情况加以说明。在可移动部向例如X轴正向移动的情况下，在聚焦线圈3的与X轴平行部分，驱动力Ff0的发生中心是磁路的中心，比可移动部的重心G更偏向X轴负侧。因此，发生顺时针方向的绕Y轴的转矩。另一方面，穿过与Y轴平行的两边的磁通也不平均。因此，在这两边上产生的远离光盘的驱动力Ff1、Ff2也产生差异。亦即，在X轴负侧的边上，由于强磁体片30靠近永久磁体405，在X方向穿过的磁通密度高，那里发生的驱动力Ff1比在X轴正侧的边上发生的驱动力Ff2大。因此，发生绕Y轴反时针方向的转矩。其结果是，在聚焦线圈3的与X轴平行的边和与Y轴平行的两条边上，可以使绕Y轴的转矩互相抵消。
如上所述，在第9实施形态中，对着聚焦线圈3的与X轴平行的两边，虽然分别配置单个的永久磁体405，也可以抑制绕Y轴的转矩。因此，应该配置的永久磁体在X轴方向上的宽度可以做得小，物镜驱动装置在X轴方向的宽度可以做得小。从而，除以有第4实施形态的效果外，还可以缩小光拾波器在X轴方向上的宽度，可以加大使光盘E旋转的电动机的直径。
第10实施形态
图21是表示本发明第10实施形态的物镜驱动装置的结构的立体图。在图21中，与图19及图20所示的第9实施形态具有相同功能的构件标以相同的记号，其说明被省略。
在图11中，透镜支架2是液晶聚合物、PPS等成型的树脂成型件，聚焦线圈403以作为聚焦方向的Z轴为中心缠绕，被固定于透镜支架2的与X轴方向平行的两个侧面上。循迹线圈404，与示于图8及图9的循迹线圈104一样，以Y轴方向为中心缠绕，在透镜支架2的与X轴方向平行的两个侧面上分别固定一对。强磁体片40具有弹性及导电性，用例如含铁的不锈钢板构成。弹性支持部17用板金工的压力加工方法等与强磁体片40成一整体形成。而强磁体片40用嵌入法与透镜支架2做成一体，聚焦线圈403循迹线圈404的端部用钎焊固定。
在图21，与图19与图20所示的第9实施形态的不同点在于，在透镜支架2的与Y轴方向平行的两个侧面上以嵌镶固定成一整体地形成以具有弹性和导电性的材料做成的弹性支持部17的强磁体片40。
还有，在第10实施形态，关于其他动作及绕Y轴旋转的转矩的抑制机制，由于与第9实施形态相同，故省略其说明。
如上所述，第10实施形态的物镜驱动装置把以Z轴为中心缠绕的聚焦线圈403和以Y轴为中心缠绕的循迹线圈404固定在透镜支架2的与X轴方向平行的两个侧面上，在透镜支架2的与Y轴平行的两个侧面上，将把由具有弹性及导电性的材料构成的弹性支持部17成一整体形成的强磁体片40用嵌镶方法与透镜支架做成一体，由于聚焦线圈403与循迹线圈404的端部被钎焊固定于强磁体片40上，不仅不需要在透镜架2的侧面设置印刷电路板，而且可以减少组装工时，除了有第9实施形态的效果外，还可以降低价格。
还有，在第10实施形态，聚焦线圈403固定于透镜支架2，但是，也可以在透镜支架2的整个侧面上以Z轴为中心缠绕，将强磁体片40固定于透镜支架2的与Y轴方向平行的侧面上。而且，当然也可以把循迹线圈404以X轴为中心在透镜支架2的侧面缠绕。
又，在第10实施形态中，聚焦线圈403和循迹线圈404被固定于透镜支架2，但是，也可以与强磁体片40一样，用嵌镶成形方法与透镜支架2做成一体。
还有，上述各实施形态中，穿过聚焦线圈的一边的磁通的密度分布有两个最大值点，从而使得磁通密度的分布变得平坦，但是，对于聚焦线圈的一边，磁通密度产生三个以上最大值点也可以。该情况下，只要对着聚焦线圈的与X轴平行的边设置3个以上的永久磁体或分割轭，或中间轭具有3个凸部。
Claims (34)
1.一种物镜驱动装置，是在至少是与信息记录媒体垂直的聚焦方向上驱动将相干光聚光于信息记录媒体上的信息径迹上的物镜用的装置，其特征在于，具备
支持所述物镜的透镜支架、
缠绕或固定在所述透镜支架侧面的聚焦线圈、
与所述聚焦线圈相对配置的多个磁通发生部、以及
至少在聚焦方向可移动地支持所述透镜支架的弹性支持部；
各所述磁通发生部发生磁通，并且使贯通相对的所述聚焦线圈的边的磁通的密度分布有两个以上磁通密度最大的点，
其中，各磁通发生部在与所述相对的所述聚焦线圈的边平行的方向上彼此间隔设置。
2.根据权利要求1所述的物镜驱动装置，其特征在于，
各所述磁通发生部发生磁通，使贯通相对的聚焦线圈的边的磁通的密度分布区域比该聚焦线圈的边的长度还宽。
3.根据权利要求2所述的物镜驱动装置，其特征在于，各所述磁通发生部相对于相向的聚焦线圈的边，其磁极的方向相同，并且在与相对的聚焦线圈的边平行的方向上分别包含隔开配置的多个永久磁体。
4.根据权利要求3所述的物镜驱动装置，其特征在于，
各所述磁通发生部分别包含的多个永久磁体为两个；
相对的所述聚焦线圈的边的边长Fp和所述两个永久磁体的安装间距P存在下式(a)的关系，
P＝Fp…………(a)。
5.根据权利要求3所述的物镜驱动装置，其特征在于，各所述磁通发生部还分别包含
将所述聚焦线圈夹在中间，与所述多个永久磁体相对配置的相向轭，以及
配置得与多个永久磁体的、与背着聚焦线圈的面相贴的背轭；
所述多个永久磁体、所述相向轭及所述背轭一起构成磁路，
其中所述相向轭置于所述永久磁体之间的间隙中。
6.根据权利要求5所述的物镜驱动装置，其特征在于，
各所述磁通发生部分别包含的所述多个永久磁体为两个；
在所述背轭的中央部，形成在所述聚焦方向延伸，并且对所述的两个永久磁体进行定位的中央凸部。
7.根据权利要求5所述的物镜驱动装置，其特征在于，
各所述磁通发生部分别包含的所述多个永久磁体为两个；
在所述背轭的两端，形成在所述聚焦方向延伸，并且对所述的两个永久磁体进行定位的两个外侧凸部。
8.根据权利要求2所述的物镜驱动装置，其特征在于，各所述磁体发生部还分别包含
与所述聚焦线圈相对，并且在与相对的聚焦线圈的边平行的方向上隔开配置的多个分割轭，以及
与各分割轭的背着所述聚焦线圈的面相贴地配置的单个永久磁体。
9.根据权利要求8所述的物镜驱动装置，其特征在于，
各所述磁通发生部分别包含的多个分割轭为两个；
所述两个分割轭的宽度Wc和竖立设置的间距Pc存在下式(b)的关系，
Pc-Wc＞0…………(b).
10.根据权利要求2所述的物镜驱动装置，其特征在于，各所述磁通发生部分别包含
与所述聚焦线圈相对，并且具有在与相对的聚焦线圈的边平行的方向上隔开距离形成的多个凸部的中间轭、
与所述中间轭的背着所述聚焦线圈的面相贴地配置的单个的永久磁体，以及
将所述永久磁体夹在它和中间轭之间而设立的背轭。
11.根据权利要求10所述的物镜驱动装置，其特征在于，
在所述中间轭形成的多个凸部为两个；
所述中间轭的2个凸部的宽度Wb和间距Pb具有下式(c)所示的关系，
Pb-Wb＞0…………(c)。
12.根据权利要求2所述的物镜驱动装置，其特征在于，
在所述透镜支架，与所述磁通发生部相对的侧面成垂直的侧面上，整体成形形成强磁体片。
13.根据权利要求12所述的物镜驱动装置，其特征在于，
所述强磁体片用具有导电性的构件构成，对所述聚焦线圈的供电通过该强磁体片进行。
14.根据权利要求13所述的物镜驱动装置，其特征在于，
所述弹性支持部整体形成于强磁体片上。
15.一种物镜驱动装置，是在与信息记录媒体垂直的聚焦方向上以及与信息记录媒体平行并且与信息径迹垂直的循迹方向上，驱动将相干光聚光于信息记录媒体上的信息径迹上的物镜用的装置，其特征在于，具备
支持所述物镜的透镜支架、
缠绕或固定在所述透镜支架侧面的聚焦线圈、
缠绕或固定在所述透镜支架侧面的循迹线圈、
向着与所述信息径迹平行的方向，与所述聚焦线圈和所述循迹线圈相对地配置的两个磁通发生部、以及
在所述聚焦方向和所述循迹方向可移动地支持透镜支架的弹性支持部；
各所述磁通发生部发生磁通，并且使贯通相对的所述聚焦线圈的边的磁通的密度分布有两个以上的磁通密度最大的点，
其中，各磁通发生部在与所述相对的所述聚焦线圈的边平行的方向上彼此间隔设置。
16.根据权利要求15所述的物镜驱动装置，其特征在于，
各所述磁通发生部发生磁通，使贯通相对的所述聚焦线圈的边的磁通的密度分布区域比该聚焦线圈的边长还宽。
17.根据权利要求16所述的物镜驱动装置，其特征在于，
各所述磁通发生部相对于相向的所述聚焦线圈的边，其磁极的方向相同，并且分别包含在所述循迹方向上隔开配置的多个永久磁体。
18.根据权利要求17所述的物镜驱动装置，其特征在于，
所述循迹线圈包含，以与所述循迹方向平行的轴为中心，缠绕或固定在所述透镜支架的朝循迹方向一侧面上的第1循迹线圈，和以与所述循迹方向平行的轴为中心，缠绕或固定在所述透镜支架的朝循迹方向的另一侧面的第2循迹线圈，
各所述磁通发生部分别包含的所述多个永久磁体为两个；
第1及第2循迹线圈在所述循迹方向上的安装间距Tp及各绕组宽度Tw、所述透镜支架在循迹方向的可移动范围Td，和两个永久磁体在循迹方向的安装间距P及各磁体的宽度W具有下式(d)和/或(e)所示的关系，
Tp+Tw+Td≤P+W…………(d)
Tp-Tw-Td≥P-W…………(e)。
19.根据权利要求17所述的物镜驱动装置，其特征在于，
各所述磁体发生部分别包含的多个永久磁体，即第1和第2永久磁体，
所述循迹线圈包含，缠绕或固定在所述透镜支架的与信息径迹平行的方向上的侧面上的第1循迹线圈，和缠绕或固定在所述透镜支架的与所述信息径迹平行的方向上的另一侧面的第2循迹线圈；
各所述循迹线圈包含所述以与信息径迹平行的方向的轴为中心，缠绕成螺旋形，并且相互连接的第1线圈和第2线圈，
所述第1线圈和第2线圈分别与所述第1和第2永久磁体相对配置成左右对称，
所述第1和第2线圈的缠绕方向具有与所述聚焦方向平行的成份的边当中，相向的边之间的安装间距Tp和线圈宽度Tw、所述透镜支架在所述循迹方向上的可移动范围Td，以及所述第1和第2永久磁体在所述循迹方向的安装间距P和它们的宽度W满足如下的关系式(f)和/或(g)，
Tp+Tw+Td≤P+W…………(f)
Tp-Tw-Td≥P-W…………(g)
20.根据权利要求19所述的物镜驱动装置，其特征在于，
所述第1和第2循迹线圈分别预先形成于印刷电路板上，该印刷电路板被固定于所述透镜支架的侧面。
21.根据权利要求17所述的物镜驱动装置，其特征在于，各磁通发生部还分别包含
将所述聚焦线圈夹在中间，与所述多个永久磁体相对配置的相向轭，以及
配置得与所述多个永久磁体的、背着聚焦线圈的面相贴的背轭；
所述多个永久磁体、所述相向轭及所述背轭一起构成磁路，
其中所述相向轭置于所述永久磁体之间的间隙中。
22.根据权利要求21所述的物镜驱动装置，其特征在于，
各所述磁通发生部还包含
由强磁体构成的，架在所述相向轭和所述背轭的接近所述信息记录媒体的一侧的端面上、与所述信息记录媒体平行配置的盖轭。
23.根据权利要求22所述的物镜驱动装置，其特征在于，所述循迹线圈包含
以与所述循迹方向平行的轴为中心，在所述透镜支架的循迹方向上的一侧缠绕或固定的第1循迹线圈和以与循迹方向平行的轴为中心，在所述透镜支架的循迹方向上的另一侧缠绕或固定的第2循迹线圈；
所述第1和第2循迹线圈在所述循迹方向的安装间距Tp及它们的缠绕宽度Tw、所述透镜支架在循迹方向上的可移动范围Td，以及盖轭在循迹方向的宽度Wy具有下式(h)所示的关系，
Wy≥Tp+Tw+Td…………(h)。
24.根据权利要求17所述的物镜驱动装置，其特征在于，
各所述磁通发生部分别包含的多个永久磁体为两个；
在所述背轭的中央部形成向所述聚焦方向延伸，用于2个所述永久磁体的定位的中央凸部。
25.根据权利要求17所述的物镜驱动装置，其特征在于，
各磁通发生部分别包含的多个永久磁体为两个；
在所述背轭的所述循迹方向两端部，形成用于为所述两个永久磁体定位的、在所述聚焦方向上延伸的外侧凸部。
26.根据权利要求16所述的物镜驱动装置，其特征在于，各所述磁通发生部还分别包含
向着与所述信息径迹平行的方向、与所述聚焦线圈相对，并且在所述循迹方向隔开间距配置的多个分割轭，以及
抵住各所述分割轭的背着所述聚焦线圈的面配置的单个永久磁体。
27.根据权利要求26所述的物镜驱动装置，其特征在于，
各所述磁通发生部还分别包含的多个分割轭为两个；
所述两个分割轭在所述循迹方向的宽度Wc和设置间距Pc具有下式(i)所示的关系。
Pc-Wc＞0…………(i)。
28.根据权利要求27所述的物镜驱动装置，其特征在于，
所述循迹线圈在所述循迹方向上的安装间距Tp和绕组宽度Tw、所述透镜支架在循迹方向上的可移动范围Td、所述分割轭在所述循迹方向的宽度Wc及设置间距Pc满足如下的关系式(j)和/或(k)，
Tp+Tw+Td≤Pc+Wc…………(j)
Tp-Tw-Td≥Pc-Wc…………(k)
29，根据权利要求16所述的物镜驱动装置，其特征在于，各磁通发生部还分别包含
向着与所述信息径迹平行的方向、与所述聚焦线圈相对，并且具有在所述循迹方向隔开间距形成的多个凸部的中间轭、
抵住中间轭的背着聚焦线圈的面配置的单个永久磁体、以及
向着与所述信息径迹平行的方向，设置得将所述永久磁体夹在它和所述中间轭之间的背轭。
30.根据权利要求29所述的物镜驱动装置，其特征在于，
在所述中间轭形成的多个凸部为两个；
所述中间轭的两个凸部在所述循迹方向上的宽度Wb和间距Pb具有下式(m)所示的关系。
Pb-Wb＞0…………(m)
31.根据权利要求30所述的物镜驱动装置，其特征在于，
所述循迹线圈在所述循迹方向上的安装间距Tp和绕组宽度Tw、所述透镜支架在循迹方向上的可移动范围Td、所述中间轭的两个凸部在循迹方向的宽度Wb及间距Pb具有下式(n)和/或(o)所示的关系。
Tp+Tw+Td≤Pb+Wb…………(n)
Tp-Tw-Td≥Pb-Wb…………(o)
32.根据权利要求16所述的物镜驱动装置，其特征在于，
在所述透镜支架的所述循迹方向一侧的面上成一体地形成强磁体片。
33.根据权利要求32所述的物镜驱动装置，其特征在于，
所述强磁体片用具有导电性的构件构成，通过该强磁体片对所述聚焦线圈和所述循迹线圈供电。
34.根据权利要求33所述的物镜驱动装置，其特征在于，所述弹性支持部一体形成于所述强磁性体片上。
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