CN115132948A - 显示面板和电子装置 - Google Patents
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Abstract
本申请提供一种显示面板和电子装置，该显示面板包括像素区以及位于像素区之间的透明区，显示面板还包括设置在衬底基板上的第一叠层和第二叠层，在对应透明区的第二叠层上设置有开孔，开孔贯穿第二叠层以及第一叠层，并至少贯穿部分衬底基板。本申请通过在透明区设置开孔，以去除透明区内的第一叠层，以提高透明区的穿透率，以缓解现有透明显示屏穿透率不佳的问题。
Description
技术领域
本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板和电子装置。
背景技术
随着显示技术的发展，透明显示屏(Transparent Display)的出现大大扩展了显示应用的场景和范围。透明显示屏是指显示屏本身具有一定程度的穿透性，能够清楚地显示面板后方的背景。透明显示屏适用于建筑物窗户、汽车车窗与商店橱窗等多种应用场景，除了原有的透明显示功能以外，还具有未来可能作为信息显示器的发展潜力，因而备受市场关注。然而透明显示屏同样包括由不同的材料形成的多个绝缘层和导电层，这些膜层的存在势必会影响透明显示屏的穿透率。
发明内容
本申请提供一种显示面板和电子装置，以缓解现有透明显示屏穿透率不佳的技术问题。
为解决上述问题，本申请提供的技术方案如下：
本申请实施例提供一种显示面板，其包括像素区以及位于所述像素区之间的透明区，所述显示面板还包括：
衬底基板；
第一叠层，设置于所述衬底基板上；
第二叠层，设置在所述第一叠层远离所述衬底基板的一侧；
其中，在对应所述透明区的所述第二叠层上设置有开孔，所述开孔贯穿所述第二叠层以及所述第一叠层，并贯穿至少部分所述衬底基板。
在本申请实施例提供的显示面板中，所述开孔包括相互贯通的第一子孔、第二子孔以及第三子孔，所述第一子孔贯穿所述第二叠层，所述第二子孔贯穿所述第一叠层，所述第三子孔贯穿至少部分所述衬底基板。
在本申请实施例提供的显示面板中，所述第三子孔靠近所述第一叠层侧的开口的开口大小大于所述第二子孔靠近所述衬底基板侧的开口的开口大小。
在本申请实施例提供的显示面板中，所述第一子孔靠近所述第二子孔侧的开口的开口大小大于所述第二子孔靠近所述第一子孔侧的开口的开口大小。
在本申请实施例提供的显示面板中，所述衬底基板包括靠近所述第一叠层设置的第一衬底，所述第一叠层设置在所述第一衬底上，所述第三子孔贯穿部分所述第一衬底。
在本申请实施例提供的显示面板中，所述衬底基板包括第一衬底和第二衬底，所述第一叠层设置在所述第一衬底上，所述第二衬底位于所述第一衬底远离所述第一叠层的一侧，所述第三子孔贯穿所述第一衬底并暴露出部分所述第二衬底。
在本申请实施例提供的显示面板中，所述衬底基板还包括位于所述第一衬底和第二衬底之间的第一阻挡层，所述第三子孔贯穿所述第一衬底并暴露出部分所述第一阻挡层。
在本申请实施例提供的显示面板中，所述第二叠层包括位于所述第一叠层上方的平坦化层，以及位于所述平坦化层远离所述第一叠层一侧的像素定义层，在对应所述像素区的所述像素定义层上设置有像素开口；
所述显示面板还包括位于所述像素开口内的发光层以及位于所述发光层靠近所述平坦化层一侧的有机辅助层，所述有机辅助层还延伸至所述透明区的所述开孔内，并在所述第三子孔和所述第二子孔之间断开。
在本申请实施例提供的显示面板中，所述显示面板还包括：
第一电极，位于所述像素区的所述平坦化层上，所述像素开口暴露出部分所述第一电极；
第二电极，位于所述发光层远离所述第一电极的一侧，且所述第二电极延伸至所述透明区，并在对应所述开孔的位置设置有缺口；
封装层，设置在所述第二电极远离所述发光层的一侧。
在本申请实施例提供的显示面板中，所述封装层包括层叠设置的第一子封装层和第二子封装层，其中所述第一子封装层延伸至所述开孔内，并覆于所述有机辅助层上，所述第二子封装层填充于所述开孔。
在本申请实施例提供的显示面板中，所述显示面板还包括填充于所述开孔的透明填料，所述封装层覆于所述透明填料上。
本申请实施例还提供一种电子装置，其包括前述实施例其中之一的显示面板。
本申请的有益效果为：本申请提供的显示面板和电子装置中，所述显示面板包括像素区以及位于所述像素区之间的透明区，所述显示面板还包括设置在衬底基板上的第一叠层和第二叠层，在对应所述透明区的所述第二叠层上设置有开孔，所述开孔贯穿所述第二叠层以及所述第一叠层，并至少贯穿部分所述衬底基板。本申请通过在透明区设置开孔，以去除透明区内的第一叠层，以提高透明区的穿透率，解决了现有透明显示屏穿透率不佳的问题。
附图说明
为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本申请实施例提供的显示面板的俯视结构示意图。
图2为本申请实施例提供的显示面板的一种剖面结构示意图。
图3为本申请实施例提供的开孔的细节结构示意图。
图4为本申请实施例提供的显示面板的另一种剖面结构示意图。
图5为本申请实施例提供的显示面板的又一种剖面结构示意图。
具体实施方式
以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本申请可用以实施的特定实施例。本申请所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本申请，而非用以限制本申请。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。在附图中，为了清晰理解和便于描述，夸大了一些层和区域的厚度。即附图中示出的每个组件的尺寸和厚度是任意示出的，但是本申请不限于此。
请结合参照图1至图3，图1为本申请实施例提供的显示面板的俯视结构示意图，图2为本申请实施例提供的显示面板的一种剖面结构示意图，图3为本申请实施例提供的开孔的细节结构示意图。所述显示面板100包括像素区PA以及位于所述像素区PA之间的透明区TA，每个所述像素区PA包括至少三个不同颜色的子像素，比如红色子像素R、绿色子像素G以及蓝色子像素B。所述透明区TA位于所述像素区PA之间，外部环境光能够从所述透明区TA穿过，以实现所述显示面板100的透明显示。当然地，所述显示面板100还包括走线区LA，所述走线区LA设置有用于连接所述像素区PA各子像素的栅极扫描线、数据线、电源线等信号线。所述透明区TA具体设置在除了所述像素区PA和所述走线区LA之外的区域，使所述透明区TA避让所述走线区LA和所述像素区PA。
具体地，所述显示面板100还包括衬底基板10、设置于所述衬底基板10上的第一叠层20和第二叠层30，所述第二叠层30设置在所述第一叠层20远离所述衬底基板10的一侧。其中，在对应所述透明区TA的所述第二叠层30上设置有开孔31，所述开孔31贯穿所述第二叠层30以及所述第一叠层20，并贯穿至少部分所述衬底基板10。其中所述第一叠层20为无机叠层，所述第二叠层30为有机叠层。
通过在所述透明区TA设置所述开孔31，以去除所述透明区TA内的所述第一叠层20，提高了所述透明区TA的穿透率，进而解决了现有透明显示屏穿透率不佳的问题。需要说明的是，所述开孔31贯穿至少部分所述衬底基板10是指所述开孔31贯穿所述衬底基板10靠近所述第一叠层20一侧的表面，并延伸至所述衬底基板10内，但未贯穿所述衬底基板10远离所述第一叠层20一侧的表面，也即所述开孔31并未穿透所述衬底基板10。
下面将具体阐述所述显示面板100具体的膜层结构以及所述开孔31的结构：
参照图2，所述显示面板100包括设置在衬底基板10上的第一叠层20和第二叠层30，其中在所述像素区PA的所述衬底基板10上设置有晶体管40和发光单元，而在所述透明区TA设置有贯穿所述第二叠层30、所述第一叠层20以及部分所述衬底基板10的所述开孔31。所述晶体管40用于驱动所述发光单元发光。所述发光单元包括第一电极51、第二电极54以及夹设在所述第一电极51和所述第二电极54之间的发光层52以及有机辅助层53。需要说明的，图2仅示意出所述像素区PA的一个子像素以及该一个子像素的一个晶体管40，但本申请不限于此，本申请的一个子像素可包括至少两个晶体管，比如一个开关晶体管和一个驱动晶体管。
具体地，所述晶体管40和所述第一叠层20均设置在所述衬底基板10上，所述衬底基板10包括靠近所述第一叠层20设置的第一衬底11。可选地，所述第一衬底11的材料包括聚酰亚胺(Polyimide，PI)等柔性薄膜材料。而为了进一步提高所述透明区TA的穿透率，所述第一衬底11的材料还可为透明聚酰亚胺(Clear Polyimide，CPI)等高透过性的柔性薄膜材料。
所述晶体管40包括有源层41、栅极42、漏极44和漏极44。所述第一叠层20包括层叠设置的第二阻挡层21、栅极绝缘层22以及层间绝缘层23。所述第二阻挡层21位于所述第一衬底11上，所述晶体管40的所述有源层41位于所述第二阻挡层21上。所述第二阻挡层21可防止不期望的杂质或污染物(例如湿气、氧气等)从所述第一衬底11扩散至可能因这些杂质或污染物而受损的器件中。可选地，所述第二阻挡层21的材料包括氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)、氮氧化硅(SiON)等无机材料。
可选地，所述第二阻挡层21和所述有源层41之间还可设置缓冲层24，所述缓冲层24可进一步避免不期望的杂质或污染物(例如湿气、氧气等)从所述第一衬底11扩散至可能因这些杂质或污染物而受损的器件中，且所述缓冲层24还可提供平坦的顶表面。所述缓冲层24的材料可与所述第二阻挡层21的材料相同，比如均为氧化硅、氮化硅、氮氧化硅等无机材料。
所述有源层41设置在所述缓冲层24上，所述有源层41包括沟道以及位于所述沟道两侧的源区和漏区。可选地，所述有源层41的材料包括例如氧化铟镓锌(IGZO)、氧化锌锡(ZTO)或氧化铟锡锌(ITZO)等的氧化物半导体材料。
所述栅极绝缘层22覆于所述有源层41以及所述第二阻挡层21上，当然地，当所述第一叠层20还包括缓冲层24时，所述栅极绝缘层22覆于所述有源层41和所述缓冲层24上。可选地，所述栅极绝缘层22的材料也可包括氧化硅、氮化硅、氮氧化硅等无机材料。
所述晶体管40的所述栅极42位于所述栅极绝缘层22上，所述栅极42对应所述有源层41的所述沟道设置。当然地，在形成所述栅极42的同时，还可形成与所述栅极42同层设置的栅极扫描线等其他信号线，所述栅极扫描线即位于所述走线区LA。其中所述栅极42与所述栅极扫描线电连接。
需要说明的是，本申请中的“同层设置”是指在制备工艺中，将相同材料形成的膜层进行图案化处理得到至少两个不同的特征，则所述至少两个不同的特征同层设置。比如，本实施例的所述栅极42与所述栅极扫描线由同一导电膜层进行图案化处理后得到，则所述栅极42与所述栅极扫描线同层设置。
所述层间绝缘层23覆于所述栅极42以及所述栅极绝缘层22上，所述晶体管40的所述源极43和所述漏极44位于所述层间绝缘层23上。所述层间绝缘层23的材料也可包括氧化硅、氮化硅、氮氧化硅等无机材料。
所述晶体管40的所述源极43与所述有源层41的所述源区电连接，所述晶体管40的所述漏极44与所述有源层41的所述漏区电连接。当然地，在形成所述源极43和所述漏极44的同时，还可形成与所述源极43和所述漏极44同层设置的数据线以及电源线(如VDD等)等信号线，所述数据线以及所述电源线也位于所述走线区LA。其中所述数据线可与所述晶体管40的源极43电连接。
所述第二叠层30和所述发光单元位于所述第一叠层20和所述晶体管40上方。所述第二叠层30包括位于所述第一叠层20上方的平坦化层32，以及位于所述平坦化层32远离所述第一叠层20一侧的像素定义层33，在对应所述像素区PA的所述像素定义层33上设置有像素开口331，所述发光单元位于所述像素开口331内。
具体地，所述平坦化层32覆于所述源极43、所述漏极44以及所述层间绝缘层23上，所述平坦化层32具有基本平坦或水平的顶表面。可选地，所述平坦化层32的材料包括聚酰亚胺、环氧类树脂、丙烯酰类树脂或聚酯等的有机材料。
所述发光单元的所述第一电极51设置在所述平坦化层32上，所述第一电极51通过所述平坦化层32的过孔与所述晶体管40的漏极44电连接。所述第一电极51对应所述像素开口331，所述像素开口331暴露出部分所述第一电极51。
可选地，所述第一电极51可以是透明电极或反射电极，如果所述第一电极51是透明电极，则所述第一电极51可以由例如氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、ZnO或In2O3形成。如果所述第一电极51是反射电极，则所述第一电极51例如可以包括由Ag、Mg、Al、Pt、Pd、Au、Ni、Nd、Ir、Cr或它们的组合形成的反射层以及由ITO、IZO、ZnO或In2O3形成的层。然而，第一电极51不限于此，第一电极51可以由各种材料形成，并且也可以形成为单层或多层结构。
所述像素定义层33覆于所述平坦化层32以及所述第一电极51上，所述像素定义层33在对应所述第一电极51的位置设置有所述像素开口331，所述像素开口331暴露出部分所述第一电极51。可选地，所述像素定义层33的材料可包括聚酰亚胺或丙烯酰类树脂的透明有机材料。
在所述像素区PA的所述像素定义层33上形成所述像素开口331的同时，在所述透明区TA的所述像素定义层33上形成所述开孔31，所述开孔31依次贯穿所述第二叠层30、所述第一叠层20以及部分所述第一衬底11。可以理解的是，在沿垂直于所述衬底基板10所在平面的方向上，由于所述像素开口331的深度远小于所述开孔31的深度，使得在形成所述开孔31时，需要更多的工艺步骤。其中所述衬底基板10所在平面是指所述衬底基板10面向所述第一叠层20的表面所在的平面。
具体而言，所述开孔31包括相互贯通的第一子孔311、第二子孔312以及第三子孔313，所述第一子孔311贯穿所述第二叠层30，所述第二子孔312贯穿所述第一叠层20，所述第三子孔313至少贯穿部分所述衬底基板10。更具体地，所述第一子孔311依次贯穿所述像素定义层33和所述平坦化层32。所述第二子孔312依次贯穿所述层间绝缘层23、所述栅极绝缘层22、所述缓冲层24以及所述第二阻挡层21。所述第三子孔313贯穿部分所述第一衬底11。
可选地，参照图3，在垂直于所述衬底基板10所在平面的方向上，所述第一子孔311和所述第二子孔312的截面形状包括倒梯形，所述第三子孔313的截面形状包括矩形，但所述第三子孔313的截面形状不限于此。通过设置倒梯形的所述第一子孔311和所述第二子孔312，将有利于后续在所述开孔31内制备膜层的爬坡。
所述第一子孔311靠近所述第二子孔312侧的开口的开口大小D1大于所述第二子孔312靠近所述第一子孔311侧的开口的开口大小D2，以简化工艺。可以理解的是，在相同的工艺条件下，有机膜层的蚀刻相较于无机膜层的蚀刻较为容易，而使所述第一子孔311的开口与所述第二子孔312的开口差异化设计，即可采用相同的工艺条件，从而可简化工艺。其中各子孔(以所述第一子孔311为例)的所述开口的开口大小是指沿平行于所述衬底基板10所在平面的方向上各子孔的开口的最大长度，比如当各子孔的开口的形状为圆形时，所述开口的开口大小可为圆形的直径；当各子孔的开口的形状为方形时，所述开口的开口大小可为方形的对角线的长度。
进一步地，所述第三子孔313靠近所述第一叠层20侧的开口的开口大小D4大于所述第二子孔312靠近所述衬底基板10侧的开口的开口大小D3，使得所述开孔31在所述第一叠层20和所述衬底基板10之间形成底切结构。同样地，所述第二子孔312由蚀刻所述第一叠层20形成，所述第三子孔313由蚀刻所述第一衬底11形成，而所述第一衬底11由有机材料形成。如此，通过调整干刻蚀刻工艺，利用有机膜层和无机膜层蚀刻速率差异形成所述第二子孔312和所述第三子孔313，以形成具有底切结构的所述开孔31。
所述开孔31的底切结构能够使所述发光单元内的有机辅助层53在底切结构处断开，从而切断水氧通过所述发光单元的有机辅助层53进入所述发光单元的路径，以保护所述发光单元中的发光层52，避免被水氧入侵而导致失效。
具体地，所述发光层52位于所述像素开口331内，所述发光层52是由打印在所述像素开口331内的发光材料形成，不同颜色的发光材料形成不同颜色的发光层52。比如发光层52可以包括由红色发光材料形成的红色发光层，由绿色发光材料形成的绿色发光层，由蓝色发光材料形成的蓝色发光层，红色发光层发出红光，绿色发光层发出绿光，蓝色发光层发出蓝光。
当然地，要实现所述发光单元的发光，还需要与所述第一电极51相对的第二电极54。所述第二电极54位于所述发光层52远离所述第一电极51的一侧，具体而言，所述第二电极54覆于所述发光层52以及所述像素定义层33上，并延伸到所述透明区TA，且在对应所述开孔31的位置设置有缺口，以进一步提高所述透明区TA的穿透率。所述发光层52在所述第一电极51和所述第二电极54的共同作用下发光，不同颜色的所述发光层52发射不同颜色的光，进而实现所述显示面板100的彩色显示。其中本申请实施例的所述第一电极51为阳极，所述第二电极54为阴极，当然地，本申请不限于此，本申请的所述第一电极51也可为阴极，而相应地，所述第二电极54为阳极。
所述有机辅助层53位于所述发光层52靠近所述平坦化层32的一侧，具体而言，所述有机辅助层53位于所述发光层52和所述第一电极51之间。所述有机辅助层53覆于所述第一电极51以及所述像素定义层33上，且还延伸至所述透明区TA的所述开孔31内，并在所述第一叠层20和所述衬底基板10之间断开，也即所述有机辅助层53在所述开孔31的底切结构处断开。
可选地，所述有机辅助层53包括空穴传输层(HTL)或者空穴注入层(HIL)与空穴传输层(HTL)的叠层。当然地，所述有机辅助层53还可包括位于所述发光层52和所述第二电极54之间的电子注入层(EIL)、电子传输层(ETL)。空穴注入层接收第一电极51传输的空穴，空穴经由空穴传输层传输至发光层52，电子注入层接收第二电极54传输的电子，电子经由电子传输层传输至发光层52，空穴和电子在发光层52位置结合后产生激子，激子由激发态跃迁至基态释放能量并发光。
进一步地，为了避免所述发光层52被水氧入侵导致失效，所述显示面板100还包括设置于所述发光单元远离所述衬底基板10一侧的封装层60。所述封装层60包括层叠设置的第一子封装层61和第二子封装层62，其中所述第一子封装层61为无机封装层，所述第二子封装层62为有机封装层，所述第一子封装层61延伸至所述开孔31内，并覆于所述有机辅助层53上，所述第二子封装层62填充于所述开孔31。当然地，为了提高所述封装层60的封装效果，所述封装层60还可包括更多的封装子层，比如所述封装层60还可包括第三子封装层63，所述第三子封装层63覆于所述第二子封装层62上，所述第三子封装层63为无机封装层。
在所述开孔31内，所述第一子封装层61覆于所述有机辅助层53上，并填充在所述有机辅助层53在所述开孔31内断开的位置，使位于所述第一子孔311和所述第二子孔312内的所述有机辅助层53在所述衬底基板10和所述第一叠层20之间断开，避免所述衬底基板10内的水氧或透过所述衬底基板10的外界水氧通过所述有机辅助层53进入所述发光单元内，导致所述发光单元失效。
而所述第二子封装层62覆于所述第一子封装层61上，并填充在所述开孔31内。所述第二子封装层62的透光性大于所述第二叠层30以及所述第一叠层20的透光性，通过在所述透明区TA设置所述开孔31以去除所述第二叠层30、所述第一叠层20以及部分所述第一衬底11，并在所述开孔31内填充所述第二子封装层62，从而可使得所述透明区TA具有较好的透光性，进而提高了所述透明区TA的穿透率。
在一种实施例中，请参照图1至图4，图4为本申请实施例提供的显示面板的另一种剖面结构示意图。与上述实施例不同的是，在本实施例的显示面板101中，所述衬底基板10包括第一衬底11和第二衬底12，所述第一叠层20设置在所述第一衬底11上，所述第二衬底12位于所述第一衬底11远离所述第一叠层20的一侧，所述第三子孔313贯穿所述第一衬底11并暴露出部分所述第二衬底12，如此在提高所述透明区TA的同时，还可设置深度更深的所述第三子孔313，将有利于所述第一子封装层61在所述开孔31内的设置。而且采用双层衬底，还可提高对所述第一叠层20和所述第二叠层30的支撑性能。可选地，所述第二衬底12的材料与所述第一衬底11的材料相同。
在一种实施例中，所述衬底基板10还包括位于所述第一衬底11和第二衬底12之间的第一阻挡层13，所述第三子孔313贯穿所述第一衬底11并暴露出部分所述第一阻挡层13。所述第一阻挡层13可防止不期望的杂质或污染物(例如湿气、氧气等)从所述第二衬底12扩散至可能因这些杂质或污染物而受损的器件中。可选地，所述第一阻挡层13的材料与所述第二阻挡层21的材料相同，比如可包括氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)、氮氧化硅(SiON)等无机材料。
另外，与上述实施例不同的还有所述晶体管40的结构，本实施例的晶体管40采用双栅结构。具体而言，所述栅极42包括第一栅极42-1和第二栅极42-2，相对应地，所述栅极绝缘层22也包括第一栅极绝缘层22-1和第二栅极绝缘层22-2。所述第一栅极绝缘层22-1覆于所述有源层41以及所述缓冲层24上，所述第一栅极42-1设置在所述第一栅极绝缘层22-1上，并与所述有源层41的沟道对应设置。所述第二栅极绝缘层22-2覆于所述第一栅极42-1以及所述第一栅极绝缘层22-1上，所述第二栅极42-2设置在所述第二栅极绝缘层22-2上，并与所述第一栅极42-1对应设置。所述层间绝缘层23覆于所述第二栅极42-2以及所述第二栅极绝缘层22-2上。需要说明的是，本申请的所述晶体管40结构不限于上述实施例示例的，比如本申请的所述晶体管40还可采用底栅结构等。其他说明请参照上述实施例，在此不再赘述。
在一种实施例中，请参照图1至图5，图5为本申请实施例提供的显示面板的又一种剖面结构示意图。与上述实施例不同的是，所述显示面板102还包括填充于所述开孔31的透明填料70，所述封装层60覆于所述透明填料70上。具体而言，所述第一子封装层61还覆于所述开孔31内的所述有机辅助层53上，以切断所述有机辅助层53的水氧入侵路径，所述透明填料70填充在所述开孔31内并覆于所述开孔31内的所述第一子封装层61上。所述第二子封装层62覆于所述第一子封装层61以及所述透明填料70上，所述第三子封装层63覆于所述第二子封装层62上。其中所述透明填料70的透光性大于所述第一叠层20以及所述第二叠层30，可选地，所述透明填料70包括OCA光学胶等透明材料。通过在所述透明区TA设置所述开孔31，并在所述开孔31内填充所述透明填料70，提高了所述透明区TA的穿透率。其他说明请参照上述实施例，在此不再赘述。
基于同一发明构思，本申请实施例还提供一种电子装置，所述电子装置包括上述实施例其中之一的显示面板，以实现透明显示。所述电子装置包括电视等电子产品，可应用汽车车窗显示、玻璃幕墙等场景。
根据上述实施例可知：
本申请提供一种显示面板和电子装置，所述显示面板包括像素区以及位于所述像素区之间的透明区，所述显示面板还包括设置在衬底基板上的第一叠层和第二叠层，在对应所述透明区的所述第二叠层上设置有开孔，所述开孔贯穿所述第二叠层以及所述第一叠层，并至少贯穿部分所述衬底基板。本申请通过在透明区设置开孔，以去除透明区内的第一叠层，以提高透明区的穿透率，解决了现有透明显示屏穿透率不佳的问题。
在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。
以上对本申请实施例进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案的范围。
Claims (12)
1.一种显示面板，其特征在于，包括像素区以及位于所述像素区之间的透明区，所述显示面板还包括：
衬底基板；
第一叠层，设置于所述衬底基板上；
第二叠层，设置在所述第一叠层远离所述衬底基板的一侧；
其中，在对应所述透明区的所述第二叠层上设置有开孔，所述开孔贯穿所述第二叠层以及所述第一叠层，并贯穿至少部分所述衬底基板。
2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述开孔包括相互贯通的第一子孔、第二子孔以及第三子孔，所述第一子孔贯穿所述第二叠层，所述第二子孔贯穿所述第一叠层，所述第三子孔贯穿至少部分所述衬底基板。
3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第三子孔靠近所述第一叠层侧的开口的开口大小大于所述第二子孔靠近所述衬底基板侧的开口的开口大小。
4.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第一子孔靠近所述第二子孔侧的开口的开口大小大于所述第二子孔靠近所述第一子孔侧的开口的开口大小。
5.根据权利要求2至4中任一项所述的显示面板，其特征在于，所述衬底基板包括靠近所述第一叠层设置的第一衬底，所述第一叠层设置在所述第一衬底上，所述第三子孔至少贯穿部分所述第一衬底。
6.根据权利要求2至4中任一项所述的显示面板，其特征在于，所述衬底基板包括第一衬底和第二衬底，所述第一叠层设置在所述第一衬底上，所述第二衬底位于所述第一衬底远离所述第一叠层的一侧，所述第三子孔贯穿所述第一衬底并暴露出部分所述第二衬底。
7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述衬底基板还包括位于所述第一衬底和第二衬底之间的第一阻挡层，所述第三子孔贯穿所述第一衬底并暴露出部分所述第一阻挡层。
8.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述第二叠层包括位于所述第一叠层上方的平坦化层，以及位于所述平坦化层远离所述第一叠层一侧的像素定义层，在对应所述像素区的所述像素定义层上设置有像素开口；
所述显示面板还包括位于所述像素开口内的发光层以及位于所述发光层靠近所述平坦化层一侧的有机辅助层，所述有机辅助层还延伸至所述透明区的所述开孔内，并在所述第一叠层和所述衬底基板之间断开。
9.根据权利要求8所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括：
第一电极，位于所述像素区的所述平坦化层上，所述像素开口暴露出部分所述第一电极；
第二电极，位于所述发光层远离所述第一电极的一侧，且所述第二电极延伸至所述透明区，并在对应所述开孔的位置设置有缺口；
封装层，设置在所述第二电极远离所述发光层的一侧。
10.根据权利要求9所述的显示面板，其特征在于，所述封装层包括层叠设置的第一子封装层和第二子封装层，其中所述第一子封装层延伸至所述开孔内，并覆于所述有机辅助层上，所述第二子封装层填充于所述开孔。
11.根据权利要求9所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括填充于所述开孔的透明填料，所述封装层覆于所述透明填料上。
12.一种电子装置，其特征在于，包括如权利要求1至11中任一项所述的显示面板。
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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| GR01 | Patent grant | ||
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